JPS61124952A - 電子写真感光体の製造方法 - Google Patents
電子写真感光体の製造方法Info
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- JPS61124952A JPS61124952A JP24589484A JP24589484A JPS61124952A JP S61124952 A JPS61124952 A JP S61124952A JP 24589484 A JP24589484 A JP 24589484A JP 24589484 A JP24589484 A JP 24589484A JP S61124952 A JPS61124952 A JP S61124952A
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- JP
- Japan
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- resin
- layer
- substrate
- undercoat layer
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/10—Bases for charge-receiving or other layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/10—Bases for charge-receiving or other layers
- G03G5/102—Bases for charge-receiving or other layers consisting of or comprising metals
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は導電性基体と感光層との間に下引き層を設けた
電子写真感光体に関する。
電子写真感光体に関する。
電子写真感光体においては、基体と感光層の接着性改良
、感光層の塗工性向上、基体の保護、基体上の欠陥の被
覆、感光層の電気的破壊に対する保護、基体から感光層
への電荷注入性改良などのために、基体と感光層の中間
に下引き層をもうけることが有効である。
、感光層の塗工性向上、基体の保護、基体上の欠陥の被
覆、感光層の電気的破壊に対する保護、基体から感光層
への電荷注入性改良などのために、基体と感光層の中間
に下引き層をもうけることが有効である。
下引き層に要求される特性として、まず第一に電気的特
性が挙げられる。電子写真感光体に用いるもｃｍである
から、電子写真特性に影響を与えないことが重要で、こ
のためには電気抵抗が低いことが必要である。電気抵抗
が高いと、下引き層に帯ｔ′ｆＬ位が印加され、いわゆ
る残留電位として、画像にかぶりが発生する。
性が挙げられる。電子写真感光体に用いるもｃｍである
から、電子写真特性に影響を与えないことが重要で、こ
のためには電気抵抗が低いことが必要である。電気抵抗
が高いと、下引き層に帯ｔ′ｆＬ位が印加され、いわゆ
る残留電位として、画像にかぶりが発生する。
さらに電気抵抗が、外部環境の変化、特に大気中の湿度
の変化によって影響を受けないことも必要である。例え
ば、低湿度になって電気抵抗が上昇すると、かぶりを生
ずるようになる。
の変化によって影響を受けないことも必要である。例え
ば、低湿度になって電気抵抗が上昇すると、かぶりを生
ずるようになる。
下引き層として従来よりポリビニルアルコール、ポリビ
ニルメチルエーテル、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、
エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アク
リル酸コポリマー、カゼイン、ゼラチン、ポリアミド等
が用いられている。下引き層として単一の樹脂層では上
記の如き電気特性を満足させることは困難であり、その
ため樹脂層の膜厚を非常に薄くして用いられてきた。し
かしこの場合下引き層のもう一つの大きな目的である基
体上の欠陥やきすを被覆して画質を向上させる効果が著
しく低下するという欠点がある。
ニルメチルエーテル、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、
エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アク
リル酸コポリマー、カゼイン、ゼラチン、ポリアミド等
が用いられている。下引き層として単一の樹脂層では上
記の如き電気特性を満足させることは困難であり、その
ため樹脂層の膜厚を非常に薄くして用いられてきた。し
かしこの場合下引き層のもう一つの大きな目的である基
体上の欠陥やきすを被覆して画質を向上させる効果が著
しく低下するという欠点がある。
そこで前記の電気的特性を満足させ乍ら基体の欠陥を隠
ぺいする方法として導電性顔料粉体を分散させた樹脂層
を下引き層として用いることが提案された。しかし乍ら
、顔料粉体を単に樹脂に配合して下引き層として塗布し
た場合、その粉体の種類、粒径によっては下引き層の感
光層側（基体側ではなく）の表面の平滑性が不充分であ
るため画質が低下したり、あるいは下引き層塗膜中の空
隙にその上層として積層させた感光層が浸透するという
問題があった。
ぺいする方法として導電性顔料粉体を分散させた樹脂層
を下引き層として用いることが提案された。しかし乍ら
、顔料粉体を単に樹脂に配合して下引き層として塗布し
た場合、その粉体の種類、粒径によっては下引き層の感
光層側（基体側ではなく）の表面の平滑性が不充分であ
るため画質が低下したり、あるいは下引き層塗膜中の空
隙にその上層として積層させた感光層が浸透するという
問題があった。
本発明の目的は基体上の欠陥やきすを実用的に充分なレ
ベルまで隠ぺいし、かつ感光層側の表面の平滑性を向上
させた下引き層を設けた電子写真感光体を製造すること
Ｋある。
ベルまで隠ぺいし、かつ感光層側の表面の平滑性を向上
させた下引き層を設けた電子写真感光体を製造すること
Ｋある。
本発明に従って、導電性基体表面と感光層の間に下引き
層を設けた電子写真感光体において該下引き層として導
電性で磁性を有する粉体を分散ｊせた樹脂層を基体上に
施し、該樹脂層がまだ指触乾燥状態に至たらない間に基
体内部から磁場を印加することを特徴とする電子写真感
光体の製造方法が提供される。
層を設けた電子写真感光体において該下引き層として導
電性で磁性を有する粉体を分散ｊせた樹脂層を基体上に
施し、該樹脂層がまだ指触乾燥状態に至たらない間に基
体内部から磁場を印加することを特徴とする電子写真感
光体の製造方法が提供される。
本発明で用いる導電性で磁性を有する粉体としては例え
ば微粉体状の鉄、二、ケル、マダネタイトなどが挙げら
れる。かかる顔料粉体の粒径は１次粒子で１．０μ以下
、２次粒子で１．０〜５．０μの範囲が好ましい。また
顔料粉体の抵抗値として圧力１００１７ｃｍ”の粉体圧
縮法で１０７０・（７）以下であり塗膜にした場合の抵
抗が１０５〜１０１０Ω・画の範囲が好ましい。これは
下引き層として充分に低い値である。また粉体は下引き
層中の樹脂１００重量部当り５０〜２００重量部の割合
で分散されることが望ましい。
ば微粉体状の鉄、二、ケル、マダネタイトなどが挙げら
れる。かかる顔料粉体の粒径は１次粒子で１．０μ以下
、２次粒子で１．０〜５．０μの範囲が好ましい。また
顔料粉体の抵抗値として圧力１００１７ｃｍ”の粉体圧
縮法で１０７０・（７）以下であり塗膜にした場合の抵
抗が１０５〜１０１０Ω・画の範囲が好ましい。これは
下引き層として充分に低い値である。また粉体は下引き
層中の樹脂１００重量部当り５０〜２００重量部の割合
で分散されることが望ましい。
下引き層に用いられる樹脂としては、例えばポリエステ
ル樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合樹脂等の熱可塑性樹脂又はアルキド樹
脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリ
コーン樹脂、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂のいずれ
でもよく、基体との密着性や顔料の分散性などを考慮し
て選択される・これらの中でも、耐溶剤性の点から見て
、熱硬化性樹脂の方がより好ましい。
ル樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合樹脂等の熱可塑性樹脂又はアルキド樹
脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリ
コーン樹脂、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂のいずれ
でもよく、基体との密着性や顔料の分散性などを考慮し
て選択される・これらの中でも、耐溶剤性の点から見て
、熱硬化性樹脂の方がより好ましい。
又、下引き層を形成する際に用いる塗工液には、各種有
機溶剤を含有させることができる。使用する有機溶剤は
、樹脂のｅＪ類によって異なるが、一般的には、メタノ
ール、エタノール、インプロノ臂ノール、ブタノールな
どのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、シ
クロヘキサノンなどのケトン類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド
類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類、テト
ラヒドロ７ラン、ジオキサン、エチレングリコールモノ
メチルエーテルなどのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エ
チルなどのエステル類ζクロロホルム、塩化メチレン、
ジクロルエチレン、四塩化炭素、トリクロルエチレンな
どの脂肪族ハロダン化炭化水素類するいはペンゼ／、ト
ルエン、キシレン、リフロイン、モノクロルベンゼン、
ジクロルベンゼンなどの芳香族類などをあげることがで
きる。とくにブタノール、シクロヘキサノン、エチレン
グリコールモノメチルエーテルが好ましい。更に塗工液
には必要に応じてシリコンオイルなどの界面活性剤、各
種のシランカ、ｆリング剤を添加することもできる。
機溶剤を含有させることができる。使用する有機溶剤は
、樹脂のｅＪ類によって異なるが、一般的には、メタノ
ール、エタノール、インプロノ臂ノール、ブタノールな
どのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、シ
クロヘキサノンなどのケトン類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド
類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類、テト
ラヒドロ７ラン、ジオキサン、エチレングリコールモノ
メチルエーテルなどのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エ
チルなどのエステル類ζクロロホルム、塩化メチレン、
ジクロルエチレン、四塩化炭素、トリクロルエチレンな
どの脂肪族ハロダン化炭化水素類するいはペンゼ／、ト
ルエン、キシレン、リフロイン、モノクロルベンゼン、
ジクロルベンゼンなどの芳香族類などをあげることがで
きる。とくにブタノール、シクロヘキサノン、エチレン
グリコールモノメチルエーテルが好ましい。更に塗工液
には必要に応じてシリコンオイルなどの界面活性剤、各
種のシランカ、ｆリング剤を添加することもできる。
下引き層の形成手段としては、たとえば上記の塗工液に
基体を浸漬する方法、塗工液を基体にスゲレイする方法
などが用いられる。
基体を浸漬する方法、塗工液を基体にスゲレイする方法
などが用いられる。
本発明においては、上記の如くして顔料粉体を分散させ
た樹脂を基体上に施した後、該樹脂塗膜が朱だ指触乾燥
に至たらない間に基体内部から磁場を印加することが重
要である。この場合、磁場による磁性粒子の″穂立ち”
を防止し表面をより滑らかにするため、磁場を回転させ
乍ら印加することが好ましい。
た樹脂を基体上に施した後、該樹脂塗膜が朱だ指触乾燥
に至たらない間に基体内部から磁場を印加することが重
要である。この場合、磁場による磁性粒子の″穂立ち”
を防止し表面をより滑らかにするため、磁場を回転させ
乍ら印加することが好ましい。
印加する磁場としては５００〜５０００ガウス程度で３
０秒〜１０分間程度が好ましい。磁場印加後の下引き層
内の顔料粉体／樹脂分布が基体側で顔料の比率が高く、
感光層側で樹脂の比率が高くなるように磁場が印加され
る。かくして基体の欠陥がほぼ完全に隠ぺいされ、感光
体側の下引き層表面が非常に平滑であるので、感光層を
この下引き層に直接積層して得られた感光体を用いて良
好な電子写真の画像が得られる。また下引き層上に更に
導電性粉体を含有しない樹脂層を設けることもできる。
０秒〜１０分間程度が好ましい。磁場印加後の下引き層
内の顔料粉体／樹脂分布が基体側で顔料の比率が高く、
感光層側で樹脂の比率が高くなるように磁場が印加され
る。かくして基体の欠陥がほぼ完全に隠ぺいされ、感光
体側の下引き層表面が非常に平滑であるので、感光層を
この下引き層に直接積層して得られた感光体を用いて良
好な電子写真の画像が得られる。また下引き層上に更に
導電性粉体を含有しない樹脂層を設けることもできる。
下引き層の膜厚は５〜３０μ、とくに１０〜２０μが好
ましい。その上に設ける樹脂層（導電性粉体を含まない
）は０．１〜５μ、好ましくは０．２〜１．０μである
。
ましい。その上に設ける樹脂層（導電性粉体を含まない
）は０．１〜５μ、好ましくは０．２〜１．０μである
。
本発明の電子写真感光体について更に詳しく説明すると
、まず基体は、アルミニウム、黄銅、ステンレスなどの
金属：またはポリエチレンテレフタレート、Ｉリグチレ
ンテレフタレート、フェノール樹脂、ポリプロピレン、
ナイロン、ポリスチレンなどの高分子材料、硬質紙等の
材料を円面状に成型するか、フィルムや箔にして用いら
れる。
、まず基体は、アルミニウム、黄銅、ステンレスなどの
金属：またはポリエチレンテレフタレート、Ｉリグチレ
ンテレフタレート、フェノール樹脂、ポリプロピレン、
ナイロン、ポリスチレンなどの高分子材料、硬質紙等の
材料を円面状に成型するか、フィルムや箔にして用いら
れる。
絶縁体の場合には、導電処理をする必要があるが、それ
には導電性物質の含浸、金属箔のラミネート、金属の蒸
着などの方法がある。
には導電性物質の含浸、金属箔のラミネート、金属の蒸
着などの方法がある。
感光層は、たとえば色素増感された酸化亜鉛、セレン粉
体、無定形シリコン粉体、ポリビニルカルバゾール、７
タロシアニン顔料、オキサゾアゾール顔料等を必要に応
じて結着剤樹脂と共に基体上に塗布形成される。
体、無定形シリコン粉体、ポリビニルカルバゾール、７
タロシアニン顔料、オキサゾアゾール顔料等を必要に応
じて結着剤樹脂と共に基体上に塗布形成される。
また、有機光導電物質を用いる場合、特性の向上のため
の効果的な方法として、露光により電荷担体を発生する
電荷発生層と、発生した電荷担体を移動させる能力を持
つ電荷輸送層を組み合わせることもある。
の効果的な方法として、露光により電荷担体を発生する
電荷発生層と、発生した電荷担体を移動させる能力を持
つ電荷輸送層を組み合わせることもある。
゛電荷発生層は、たとえばスーダンレッド、ダイアンブ
ルー、ツェナスゲリーンＢなどのアゾ顔料、アルゴール
イエロー、ピレンキノン、インダンスレンブリリアント
バイオレットＲＲＰなどのキノン顔料、キノシアニン顔
料、ペリレン顔料、インジゴ、チオインジゴ等のインジ
ゴ顔料、インド７アーストオレンジトナーなどのビスペ
ンゾイミタ゛ゾールＭｎ、８７タロシアニンナトの７タ
ロシアニン顔料、キナクリドン顔料、ピリリウム系染料
等の電荷発生物質を、ポリエステル、ポリスチレン、ポ
リ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、
ポリビニルピロリドン、メチルセルロース、ヒドロキシ
グロビルメチルセルロース、セルロースエステル類など
の結着剤樹脂に分散して形成される。また、蒸着などに
よって形成することもできる。電荷発生層の厚さは０．
０５〜０．２μ程度である。
ルー、ツェナスゲリーンＢなどのアゾ顔料、アルゴール
イエロー、ピレンキノン、インダンスレンブリリアント
バイオレットＲＲＰなどのキノン顔料、キノシアニン顔
料、ペリレン顔料、インジゴ、チオインジゴ等のインジ
ゴ顔料、インド７アーストオレンジトナーなどのビスペ
ンゾイミタ゛ゾールＭｎ、８７タロシアニンナトの７タ
ロシアニン顔料、キナクリドン顔料、ピリリウム系染料
等の電荷発生物質を、ポリエステル、ポリスチレン、ポ
リ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、
ポリビニルピロリドン、メチルセルロース、ヒドロキシ
グロビルメチルセルロース、セルロースエステル類など
の結着剤樹脂に分散して形成される。また、蒸着などに
よって形成することもできる。電荷発生層の厚さは０．
０５〜０．２μ程度である。
また、電荷輸送層はたとえば主鎖又は側鎖にアントラセ
ン、ピレン、７エナントレン、コロネンなどの多環芳香
族化合物又はインドール、カルバゾール、オキサゾール
、インオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラ
ゾール、オキサノアゾール、ピラゾリン、チアジアゾー
ル、トリアゾールなどの含窒素環式化合物を有する化合
物、ヒドラゾン化合物等の正孔輸送性物質を成膜性のあ
る樹脂に溶解させて形成される。これは電荷輸送性物質
が一般的に低分子量で、それ自身では成膜性に乏しいた
めである。そのような樹脂としては、ポリカーボネート
、ボリアリレート、ポリスチレン、ポリメタクリル酸エ
ステル類、スチレン−メタクリル酸メチルコポリマー、
ポリエステル、スチレンーアクリロニトリルコホリマー
、ＪＩＪサルホン等が挙げられる。電荷輸送層の厚さは
５〜２０μ程度である。
ン、ピレン、７エナントレン、コロネンなどの多環芳香
族化合物又はインドール、カルバゾール、オキサゾール
、インオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラ
ゾール、オキサノアゾール、ピラゾリン、チアジアゾー
ル、トリアゾールなどの含窒素環式化合物を有する化合
物、ヒドラゾン化合物等の正孔輸送性物質を成膜性のあ
る樹脂に溶解させて形成される。これは電荷輸送性物質
が一般的に低分子量で、それ自身では成膜性に乏しいた
めである。そのような樹脂としては、ポリカーボネート
、ボリアリレート、ポリスチレン、ポリメタクリル酸エ
ステル類、スチレン−メタクリル酸メチルコポリマー、
ポリエステル、スチレンーアクリロニトリルコホリマー
、ＪＩＪサルホン等が挙げられる。電荷輸送層の厚さは
５〜２０μ程度である。
本発明においては下引き層は、磁力で強制的に顔料／樹
脂分布が基体側では顔料リッチであるので基体上の欠陥
やきすが充分に隠ぺいされ、また感光層側では樹脂リッ
チとなっているのでその表面が良好な平滑性を備えてい
る。
脂分布が基体側では顔料リッチであるので基体上の欠陥
やきすが充分に隠ぺいされ、また感光層側では樹脂リッ
チとなっているのでその表面が良好な平滑性を備えてい
る。
以下、本発明が実施例によって具体的に説明される。
実施例１
１次粒径０．５μ、２次粒径２μを有するマグネタイト
粉末（戸田工業製）１００重量部、レゾール型フェノー
ル樹脂（大日本インキ（株）製プライオーフェンＪ−３
２５）を固型分に換算して１００重量部、エチレングリ
コールモノメチルエーテル（キシダ化学、特級）４０重
量部をサンドミルにて６時間にわたり分散した。この分
散液を用いて、表面に深さ２μ〜５μ及び巾１０μ〜５
０μのきすを有する８０φＸ３００ｍのアルミニウムシ
リンダーに、浸漬法で塗布し、厚さ２０μの下引き層を
形成し、塗膜が指触乾燥する前に図２、（至）に示すよ
うに１０００ガウスの磁場を持つ６０φの円柱状磁石を
上記シリンダー内部に入れ、１０ ｒｐｍで回転させ５
分間その状態で保持した。円柱状磁石の内部構造を図３
に示す。塗膜が指触乾燥した後１５０℃で３０分間加熱
硬化した。冷却後、シリンダー上のきすがあった部分を
粗さ測定してみると粗さ０．４〜０．８μ程度であり、
きすのなかった部分とほとんど同じであった。
粉末（戸田工業製）１００重量部、レゾール型フェノー
ル樹脂（大日本インキ（株）製プライオーフェンＪ−３
２５）を固型分に換算して１００重量部、エチレングリ
コールモノメチルエーテル（キシダ化学、特級）４０重
量部をサンドミルにて６時間にわたり分散した。この分
散液を用いて、表面に深さ２μ〜５μ及び巾１０μ〜５
０μのきすを有する８０φＸ３００ｍのアルミニウムシ
リンダーに、浸漬法で塗布し、厚さ２０μの下引き層を
形成し、塗膜が指触乾燥する前に図２、（至）に示すよ
うに１０００ガウスの磁場を持つ６０φの円柱状磁石を
上記シリンダー内部に入れ、１０ ｒｐｍで回転させ５
分間その状態で保持した。円柱状磁石の内部構造を図３
に示す。塗膜が指触乾燥した後１５０℃で３０分間加熱
硬化した。冷却後、シリンダー上のきすがあった部分を
粗さ測定してみると粗さ０．４〜０．８μ程度であり、
きすのなかった部分とほとんど同じであった。
次に下記構造式のソスアゾ顔料を１０部、酢酸酪酸セル
ロース樹脂（商品名：ＣＡＢ −３８１；イーストマン
化学展）６部およびシクロヘキサノン６０部を１φゴラ
スピーズを用いたサンドミル装置で２０時間分散した。
ロース樹脂（商品名：ＣＡＢ −３８１；イーストマン
化学展）６部およびシクロヘキサノン６０部を１φゴラ
スピーズを用いたサンドミル装置で２０時間分散した。
この分散液にメチルエチルケトン１００部を加えて、上
記下引層上に浸漬塗布し、１００℃で１０分間の加熱乾
燥をして、０、 Ｉ Ｊｉｌ／ｍ３の塗布量の電荷発生
層をもうけだ。
記下引層上に浸漬塗布し、１００℃で１０分間の加熱乾
燥をして、０、 Ｉ Ｊｉｌ／ｍ３の塗布量の電荷発生
層をもうけだ。
次いで、下記構造式のヒドラゾン化合物を１０部
およびスチレン−メタクリル酸メチル共重合樹脂（商品
名：ＭＳ−２００、製鉄化学■製）１２部をトルエン７
０部に溶解し、この溶液を電荷発生層上に塗布して１０
０℃で６０分間の乾燥をして１６μ厚の電荷輸送層を形
成した。
名：ＭＳ−２００、製鉄化学■製）１２部をトルエン７
０部に溶解し、この溶液を電荷発生層上に塗布して１０
０℃で６０分間の乾燥をして１６μ厚の電荷輸送層を形
成した。
こうして製造した感光ドラムを常法によｊＤ −５，５
ｋＶ帯電１画像露光、乾式トナー現像、普通紙への転写
、次いで厚さ１簡の硬度、７０’のウレタンゴムブレー
ドを角度３０°、圧力４，１ｉｌｙ、７ｍで押し当てる
ブレードクリーニングされる複写機に用いた。
ｋＶ帯電１画像露光、乾式トナー現像、普通紙への転写
、次いで厚さ１簡の硬度、７０’のウレタンゴムブレー
ドを角度３０°、圧力４，１ｉｌｙ、７ｍで押し当てる
ブレードクリーニングされる複写機に用いた。
コピー画像をとってみると、高温高湿、常温常湿。
低温低湿いずれの環境でも、ペタ黒画像、ハークトーン
画像、ペタ自画像とも良質な画像が得られた。
画像、ペタ自画像とも良質な画像が得られた。
第１図は本発明による電子写真感光体の積層構造の断面
図、第２図は本発明方法のフローシートを、第３図は円
柱状磁石の内部構造を示す。 １：欠陥を有する基体 ２：下引き層 ３：顔料を含まない樹脂層 ４：電荷発生層 ５：電荷輸送層 Ｉ：欠陥を有するアルミニウムシリンダー■：下引き層
塗布直後 ■＝円柱状磁石によシ磁場印加 ■：下引き層乾燥後 代理人 弁理士 山 下 積 平 第１図 第２図 ■ 第３図
図、第２図は本発明方法のフローシートを、第３図は円
柱状磁石の内部構造を示す。 １：欠陥を有する基体 ２：下引き層 ３：顔料を含まない樹脂層 ４：電荷発生層 ５：電荷輸送層 Ｉ：欠陥を有するアルミニウムシリンダー■：下引き層
塗布直後 ■＝円柱状磁石によシ磁場印加 ■：下引き層乾燥後 代理人 弁理士 山 下 積 平 第１図 第２図 ■ 第３図
Claims (4)
- （１）導電性基体表面と感光層の間に下引き層を設けた
電子写真感光体において該下引き層として導電性で磁性
を有する粉体を分散させた樹脂層を基体上に施し、該樹
脂層がまだ指触乾燥状態に至たらない間に基体内部から
磁場を印加することを特徴とする電子写真感光体の製造
方法。 - （２）上記磁場印加後下引き層内の粉体／樹脂分布が基
体側で粉体の比率が高く感光層側で樹脂の比率が高くな
る如く磁場を印加する特許請求の範囲第１項記載の製造
方法。 - （３）上記未乾燥状態にある樹脂塗膜に磁場を回転させ
乍ら印加する特許請求の範囲第１項記載の製造方法。 - （４）上記粉体の抵抗値が圧力１００ｇ／ｃｍ＾２の粉
体圧縮法で１０＾７Ω・ｃｍ以下で塗膜形成時の抵抗が
１０＾５〜１０＾１＾０Ω・ｃｍである特許請求の範囲
第１項の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24589484A JPS61124952A (ja) | 1984-11-22 | 1984-11-22 | 電子写真感光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24589484A JPS61124952A (ja) | 1984-11-22 | 1984-11-22 | 電子写真感光体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61124952A true JPS61124952A (ja) | 1986-06-12 |
Family
ID=17140394
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24589484A Pending JPS61124952A (ja) | 1984-11-22 | 1984-11-22 | 電子写真感光体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61124952A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7955768B2 (en) | 2006-09-11 | 2011-06-07 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor and method for producing the same, image forming apparatus, and process cartridge |
-
1984
- 1984-11-22 JP JP24589484A patent/JPS61124952A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7955768B2 (en) | 2006-09-11 | 2011-06-07 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor and method for producing the same, image forming apparatus, and process cartridge |
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