JPS6113251Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は極薄の外周刃形ダイヤモンドブレード
（以下単にブレードという）を高周波モータ内蔵
式のエアスピンドルにより高速回転させ、脆性材
料例えば半導体ウエハーに溝入れ加工を行うダイ
シングマシンにおいて、ブレードと半導体ウエハ
ーを載置するテーブルとの相互の間隔を正確に設
定する装置に関するものである。

ダイシングマシンによつて半導体ウエハーに溝
入れ加工すなわちダイシング加工を行なう場合の
概略について第１図により説明する。エアスピン
ドル１はエアベアリング（図示せず）によつてケ
ーシング２と一定の間隔をもつて保持されてお
り、該エアスピンドル１の先端にブレード３がモ
ータ４によつて高速回転可能に取付けられてい
る。テーブル５には半導体ウエハー６が載置され
ており、高速回転するブレード３により半導体ウ
エハー６上の切断線に沿つてダイシング加工され
る。

このようにしてダイシング加工を行う場合に、
半導体ウエハー６上に切込まれた溝深さを一定に
するためにテーブル５の上面を基準面として、そ
こからある所定値分だけブレード３を離した状態
でダイシング加工することが行われているが、ブ
レード３は極薄のため使用によつて摩耗し易く、
常に切込まれた溝深さを一定に保つことが難し
い。そこで、しばしばブレード３とテーブル５の
上面との相互の問隔を一定に保つように修正しな
ければならない。

従来そのために第１図に示すような装置が採用
されている。その第１の方法はエアベアリングで
絶縁されているエアスピンドル１の側面に、ハウ
ジング２に対して絶縁体７を介して挿入されたカ
ーボンブラシ８がスプリング９によつて常時接触
するように構成されている。スプリング９には電
極１０が接続されている。このような構造によつ
てテーブル５が上昇し、ブレード３と接触した瞬
間に電極１０とテーブル５とは導通状態となり、
その導通信号によつてブレード３とテーブル５の
基準位置が設定される。次いでテーブル５はその
位置から所定値分だけ下降してから半導体ウエハ
６のダイシング加工が行われる。

また、従来の第２の方法としては、ハウジング
２の後端にばね板１１をねじ止めしておき、その
先端を常時エアスピンドル１の後端面に接触させ
るように構成されている。ばね板１１には電極１
２が接続されている。このような構造によつて上
記第１の方法と同様にして半導体ウエハー６のダ
イシング加工が行われる。

しかしこれ等従来装置においては次のような欠
点があつた。エアスピンドル１は１分間に数万回
転という高速で回転するため、エアスピンドル１
とカーボンブラシ８あるいはばね板１１との間に
接触不良が生じ、そのため基準位置を設定すると
きの誤動作の原因となつていた。そこで接触不良
を極力少なくするために、カーボンブラシ８ある
いは、ばね板１１を強くエアスピンドル１に圧接
するとエアスピンドル１の回転バランスが崩れ、
精度のよいダイシング加工が期待することができ
なかつた。

本考案は、これ等従来装置の欠点を解決した装
置を提供するものである。以下図面に従つて本考
案を説明する。

第２図、第３図に示すように、ケーシング２の
後端部にエアスピンドル１の後端面からわずかな
隙間（例えば0.1mm〜1.0mm）をもつて永久磁石１
３を取付ける。永久磁石１３は第４図に示すよう
に例えば中央をＮ極、その周囲をＳ極とする構造
とし、その後端面に電極１４がねじ止めされる。

前記したエアスピンドル１と永久磁石１３との
間に形成されたわずかな隙間には磁力によつて吸
着され、かつ電導性を有する磁性流体１５が充填
され、テフロンシール１６でシールされる。

磁性流体１５は油剤の中に酸化鉄粉が混合され
ているもので、市販されているフエローフルイデ
ツクス社製のフエロメテイツク等を適宜使用する
ことができる。

このような構造によれば、エアスピンドル１と
永久磁石１３とはそれぞれ磁性流体１５を介して
面接触しており、エアスピンドル１が高速回転し
ても常に確実に導通状態が形成している。ここで
磁性流体はスピンドルの高速回転によつて誘導さ
れ、遠心力を受けてケーシング外に漏出しようと
する力を受けるのであるが、磁性流体全体が磁力
に吸着された状態で隙間を満たして、排出される
ことがない。

従つてテーブル５が上昇もしくはブレード３が
下降して相手が接触した瞬間に電極１４とテーブ
ル５とは確実に導通状態となり接触不良を起すこ
とがない。そこでその導通信号によつてブレード
３とテーブル５との基準位置が設定され、次いで
テーブル５がその位置から所定値分だけ下降する
かもしくはブレード３がその位置から所定値分だ
け上昇することによつてブレード３とテーブル５
との相互の間隔を正確に設定することができる。

なお上記実施例においては、永久磁石１３をケ
ーシング２の後端部に取付けたが、永久磁石１３
をエアスピンドル１の後端部に取付け、ケーシン
グ２との間に隙間を形成してそこに磁性流体を充
填しても全く功効果は同じである。

さらにまた、第５図に示すように、エアスピン
ル１の後端部に永久磁石１７を取付け、ケーシン
グ２の後端部に永久磁石１８を前記永久磁石１７
の極と反対の極を対応させて取付け、その隙間に
磁性流体１４を充填しても同様の効果を得ること
ができる。

また、以上３つの実施例においては、永久磁石
を使用した場合について説明したが、永久磁石の
代りに電磁石を用いても全く同様の効果を得るこ
とができることは勿論である。

以上詳述したように本考案によれば、エアスピ
ンドルと磁石とは磁性流体を介して面接触をして
おり、エアスピンドルが高速回転しても全く接触
不良を起すことがなく、かつ磁性流体の漏出消耗
がないから、ブレードとテーブルとの相互の間隔
を誤動作なく正確に設定することが可能となつ
た。また磁性流体を介しているため、エアスピン
ドルに対して接触圧力を何ら加える必要がないの
で、精度のよいダイシング加工を行うことが可能
となつた。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来装置の説明図、第２図は本考案の
全体説明図、第３図は本考案の部分拡大説明図、
第４図は永久磁石の形状を示す一実施例説明図、
第５図は本考案の他の実施例説明図。 １……エアスピンドル、２……ケーシング、３
……ブレード、４……モータ、５……テーブル、
６……被加工物、１３，１７，１８……永久磁
石、１４……電極、１５……磁性流体、１６……
テフロンシール。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) ブレードとテーブル上面とが接触したとき導
   通信号によつて相互の基準位置を設定する装置
   において、ブレードの回転軸を構成するエアス
   ピンドルの後端部とケーシングの末端部との間
   に隙間を設けて磁石を配置し、この隙間に磁力
   に吸着され、かつ導電性を有する磁性流体を充
   填したことを特徴とするダイシングマシン。 (2) 請求の範囲第１項の記載において、磁石をケ
   ーシング末端部に設けてなるダイシングマシ
   ン。 (3) 請求の範囲第１項において、磁石をエアスピ
   ンドル端部に設けてなるダイシングマシン。 (4) 請求の範囲第１項において、磁石をケーシン
   グ末端部及びエアスピンドルの後端部の双方に
   設けてなるダイシングマシン。