JPS6113496B2 - - Google Patents
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- JPS6113496B2 JPS6113496B2 JP55140070A JP14007080A JPS6113496B2 JP S6113496 B2 JPS6113496 B2 JP S6113496B2 JP 55140070 A JP55140070 A JP 55140070A JP 14007080 A JP14007080 A JP 14007080A JP S6113496 B2 JPS6113496 B2 JP S6113496B2
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- JP
- Japan
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- film
- photosensitive
- carbon atoms
- spiropyran
- light
- Prior art date
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はフオトクロミツク感光性組成物に関す
る。
る。
常温の暗所では無色であるが、紫外線照射によ
り発色し、暗所に放置するか加熱すると再び無色
に戻る化合物は、フオトクロミツク化合物として
有機、無機いずれも数多く存在している。これら
のフオトクロミツク化合物のうち特に有効なもの
としてスピロピラン化合物が知られている。
り発色し、暗所に放置するか加熱すると再び無色
に戻る化合物は、フオトクロミツク化合物として
有機、無機いずれも数多く存在している。これら
のフオトクロミツク化合物のうち特に有効なもの
としてスピロピラン化合物が知られている。
本発明のスピロピラン化合物は、上述の如き通
常のフオトクロミズムとは逆に通常は発色状態に
あり、これに光照射することにより消色し、この
消色状態が熱的に再び元の発色状態に戻るという
“逆フオトクロミズム”を示すものである。
常のフオトクロミズムとは逆に通常は発色状態に
あり、これに光照射することにより消色し、この
消色状態が熱的に再び元の発色状態に戻るという
“逆フオトクロミズム”を示すものである。
通常のフオトクロミツク化合物を用いて画像を
得るには紫外線を用いなければならないが、紫外
線による発色−消色のサイクルを繰返すと次第に
発色しなくなる。これは、紫外線によつてフオト
クロミツク化合物の分解が起るためと考えられ
る。そして、前記サイクルはスピロピラン化合物
の場合、その種類、使用状態により若干異なるが
せいぜい30回程度である。一方、逆フオトクロミ
ツク化合物の場合には紫外線を用いなくてもよ
く、画像を得るには可視光を利用でき、消色−発
色のサイクル寿命をフオトクロミツク化合物に比
べ飛躍的に伸ばすことができるのが特徴である。
得るには紫外線を用いなければならないが、紫外
線による発色−消色のサイクルを繰返すと次第に
発色しなくなる。これは、紫外線によつてフオト
クロミツク化合物の分解が起るためと考えられ
る。そして、前記サイクルはスピロピラン化合物
の場合、その種類、使用状態により若干異なるが
せいぜい30回程度である。一方、逆フオトクロミ
ツク化合物の場合には紫外線を用いなくてもよ
く、画像を得るには可視光を利用でき、消色−発
色のサイクル寿命をフオトクロミツク化合物に比
べ飛躍的に伸ばすことができるのが特徴である。
このような逆フオトクロミツク化合物として、
スピロピラン類では、下記式で示されるような
8′−カルボン酸誘導体が知られている（特開昭48
−89179号、48−89180号）。
スピロピラン類では、下記式で示されるような
8′−カルボン酸誘導体が知られている（特開昭48
−89179号、48−89180号）。
しかし、このスピロピラン化合物は水溶性であ
るから、このスピロピラン化合物を有効成分とす
るフオトクロミツク感光性組成物は、水や湿気に
弱いという欠点があつた。
るから、このスピロピラン化合物を有効成分とす
るフオトクロミツク感光性組成物は、水や湿気に
弱いという欠点があつた。
又、他の公知のスピロピラン化合物は水に不溶
性の化合物であるが、有機溶媒やバインダーであ
る高分子物質に対する相溶性及び溶解度が低いた
めに、フオトクロミツク感光性組成物の性能が不
十分であつた。即ち、媒体との相溶性が低いため
に感光層中のスピロピラン濃度が低くなり、発色
画像濃度が低く、コントラストが十分に得られな
かつた。又、コントラストを上げるために感光層
の厚みを厚くすると解像力が低くなるという欠点
もあつた。
性の化合物であるが、有機溶媒やバインダーであ
る高分子物質に対する相溶性及び溶解度が低いた
めに、フオトクロミツク感光性組成物の性能が不
十分であつた。即ち、媒体との相溶性が低いため
に感光層中のスピロピラン濃度が低くなり、発色
画像濃度が低く、コントラストが十分に得られな
かつた。又、コントラストを上げるために感光層
の厚みを厚くすると解像力が低くなるという欠点
もあつた。
本発明はこれらの従来の欠点を解決するもので
あり、高コントラスト、高解像性、高光感度を有
し、消色−発色サイクルの寿命の長いフオトクロ
ミツク材料を提供するものである。更に本発明の
組成物の特徴とするところは、光刺激で消色した
状態が比較的安定であり、常温暗所に保存する限
り、半月程度鮮明な画像を保持することができ
る。
あり、高コントラスト、高解像性、高光感度を有
し、消色−発色サイクルの寿命の長いフオトクロ
ミツク材料を提供するものである。更に本発明の
組成物の特徴とするところは、光刺激で消色した
状態が比較的安定であり、常温暗所に保存する限
り、半月程度鮮明な画像を保持することができ
る。
本発明は、次の一般式で示される化合物を高分
子物質中に分散したことを特徴とするフオトクロ
ミツク感光性組成物である。
子物質中に分散したことを特徴とするフオトクロ
ミツク感光性組成物である。
（ここで、R1は炭素数12〜30個のアルキル
基；R2は水素原子、炭素数１〜５個のアルキル
基、炭素数１〜５個のアルコキシ基、炭素数２〜
６個のアルコキシカルボニル基又はハロゲン原子
を示す。） 即ち、本発明は、6′，8′−ジニトロインドリノ
ベンゾピリリルスピランのＮ−位を炭素数大なる
アルキル基R1で置換したことにより、従来の欠
点であつた溶媒、媒体に対する低相溶性及び低溶
解度を改善することに成功したものである。この
アルキル基の炭素数は12〜30であることが不可欠
である。12未満では相溶性が劣化し、30を越える
と融点が低下して結晶性が悪くなる。
基；R2は水素原子、炭素数１〜５個のアルキル
基、炭素数１〜５個のアルコキシ基、炭素数２〜
６個のアルコキシカルボニル基又はハロゲン原子
を示す。） 即ち、本発明は、6′，8′−ジニトロインドリノ
ベンゾピリリルスピランのＮ−位を炭素数大なる
アルキル基R1で置換したことにより、従来の欠
点であつた溶媒、媒体に対する低相溶性及び低溶
解度を改善することに成功したものである。この
アルキル基の炭素数は12〜30であることが不可欠
である。12未満では相溶性が劣化し、30を越える
と融点が低下して結晶性が悪くなる。
なお、上記一般式の構造は、該スピロピラン化
合物の消色時の構造式と考えられ、発色時の安定
な構造は以下のように書けるものと考えられる。
合物の消色時の構造式と考えられ、発色時の安定
な構造は以下のように書けるものと考えられる。
上記一般式で示されるスピロピラン化合物は、
１−長鎖アルキル−３，３−ジメチル−２−メチ
レンインドリン誘導体と３，５−ジニトロサルチ
ルアルデヒドとの脱水縮合反応によるか、或いは
１−長鎖アルキル、−２，３，３−トリメチルイ
ンドレニウム−Ｐ−トルエンスルホン酸塩又はそ
のＰ−クロルベンゼンスルホン酸塩と３，５−ジ
ニトロサルチルアルデヒドとのアミン存在下での
反応により容易に合成することができる。
１−長鎖アルキル−３，３−ジメチル−２−メチ
レンインドリン誘導体と３，５−ジニトロサルチ
ルアルデヒドとの脱水縮合反応によるか、或いは
１−長鎖アルキル、−２，３，３−トリメチルイ
ンドレニウム−Ｐ−トルエンスルホン酸塩又はそ
のＰ−クロルベンゼンスルホン酸塩と３，５−ジ
ニトロサルチルアルデヒドとのアミン存在下での
反応により容易に合成することができる。
上記化合物は、メタノール、エタノール、イソ
プロピルアルコールなどのアルコール類、アセト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メ
チルイソブチルケトンなどのケトン類、エチルエ
ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどの
エーテル類、酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチルなど
のエステル類、更にベンゼン、トルエン、キシレ
ン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、クロロホルムなどの各種溶
媒及びこれらの混合溶媒に溶解する。
プロピルアルコールなどのアルコール類、アセト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メ
チルイソブチルケトンなどのケトン類、エチルエ
ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどの
エーテル類、酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチルなど
のエステル類、更にベンゼン、トルエン、キシレ
ン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、クロロホルムなどの各種溶
媒及びこれらの混合溶媒に溶解する。
上記化合物をフオトクロミツク感光性組成物と
して用いるには、上記溶媒に高分子物質と共に上
記化合物を溶解し、製膜するか或いは支持体に塗
布乾燥してよく、また溶媒を用いずに高分子物質
に上記化合物を混練溶解し、製膜して用いること
もできる。
して用いるには、上記溶媒に高分子物質と共に上
記化合物を溶解し、製膜するか或いは支持体に塗
布乾燥してよく、また溶媒を用いずに高分子物質
に上記化合物を混練溶解し、製膜して用いること
もできる。
この場合、本発明のフオトクロミツク感光性組
成物において、感光層の厚さ数ミクロンから１ミ
クロンそれ以下で十分な高感度、高コントラスト
を得るには、仕込みのスピロピラン濃度をバイン
ダーである高分子物質に対してスピロピラン化合
物を溶解する限りできるだけ多くする方法がよい
が、あまりスピロピラン化合物が多くなると相対
的にバインダーが少なくなり、製膜性が悪くなる
ことから、20〜60％の範囲の量で用いられる。ま
た、このスピロピラン化合物の添加量は、高分子
物質に対する割合では２〜20PHR（PHRは、高
分子物質100重量部当りの重量部を示す）であ
る。つまり、2PHR未満ではコントラストが悪く
なり、20PHRを越えると溶媒に溶解し難くなつ
て製膜性が劣化する。
成物において、感光層の厚さ数ミクロンから１ミ
クロンそれ以下で十分な高感度、高コントラスト
を得るには、仕込みのスピロピラン濃度をバイン
ダーである高分子物質に対してスピロピラン化合
物を溶解する限りできるだけ多くする方法がよい
が、あまりスピロピラン化合物が多くなると相対
的にバインダーが少なくなり、製膜性が悪くなる
ことから、20〜60％の範囲の量で用いられる。ま
た、このスピロピラン化合物の添加量は、高分子
物質に対する割合では２〜20PHR（PHRは、高
分子物質100重量部当りの重量部を示す）であ
る。つまり、2PHR未満ではコントラストが悪く
なり、20PHRを越えると溶媒に溶解し難くなつ
て製膜性が劣化する。
本発明に使用する上記高分子物質としては、ス
ピロピランとの相溶性がよくかつフイルム形成能
の優れたものであればよく、例えばポリメタクリ
ル酸メチル、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポ
リビニルブチラール、酢酸セルロース、ポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリプロピレン、
ポリエチレン、ポリアクリロニトリル、ウレタン
樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステルなどがあ
る。
ピロピランとの相溶性がよくかつフイルム形成能
の優れたものであればよく、例えばポリメタクリ
ル酸メチル、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポ
リビニルブチラール、酢酸セルロース、ポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリプロピレン、
ポリエチレン、ポリアクリロニトリル、ウレタン
樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステルなどがあ
る。
本発明に使用される支持体としては、通常の
紙、バライタ紙、セルロースアセテート、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリ
イミド、ガラス、金属等がある。
紙、バライタ紙、セルロースアセテート、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリ
イミド、ガラス、金属等がある。
本発明の組成物は通常の状態では500〜600mmの
可視部に安定な吸収を有し、マゼンタ色に強く着
色している。可視光或いは紫外光の照射を行なう
と直ちに消色し、またこの状態で60℃以上に加熱
すると元の有色状態に戻り、これらの変化を繰返
す特性を有する。こうした特性を有する本発明の
組成物は広範囲の分野に利用できるもので、その
一例を挙げると、銀塩感光材料に代る各種の記録
記憶材料、複写材料、印刷用感光体、CRT記録
材料、レーザー用感光材料、ホログラフイー用感
光材料、写真植字用感光材料などの種々の記録材
料として利用できる。又、光学フイルター、デイ
スプレー材料、マスキング用材料、光量計、装飾
などの材料としても利用できる。
可視部に安定な吸収を有し、マゼンタ色に強く着
色している。可視光或いは紫外光の照射を行なう
と直ちに消色し、またこの状態で60℃以上に加熱
すると元の有色状態に戻り、これらの変化を繰返
す特性を有する。こうした特性を有する本発明の
組成物は広範囲の分野に利用できるもので、その
一例を挙げると、銀塩感光材料に代る各種の記録
記憶材料、複写材料、印刷用感光体、CRT記録
材料、レーザー用感光材料、ホログラフイー用感
光材料、写真植字用感光材料などの種々の記録材
料として利用できる。又、光学フイルター、デイ
スプレー材料、マスキング用材料、光量計、装飾
などの材料としても利用できる。
なお、本発明の感光性組成物を用いて画像形成
する方法としては、本発明の感光性組成物の感光
層に可視光線又は紫外線を照射して全面脱色せし
めた後、画像状に加熱して着色画像を得る方法が
ある。また別の方法として、感光層に可視光線又
は紫外線による光像を照射して露光部を脱色せし
めて画像を得る方法がある。又、本発明の組成物
の感光層上に可視又は紫外レーザー光を走査さ
せ、露光部を脱色せしめて画像形成する方法も利
用できる。
する方法としては、本発明の感光性組成物の感光
層に可視光線又は紫外線を照射して全面脱色せし
めた後、画像状に加熱して着色画像を得る方法が
ある。また別の方法として、感光層に可視光線又
は紫外線による光像を照射して露光部を脱色せし
めて画像を得る方法がある。又、本発明の組成物
の感光層上に可視又は紫外レーザー光を走査さ
せ、露光部を脱色せしめて画像形成する方法も利
用できる。
以下、本発明を実施例について更に詳述する。
実施例 １
２，３，３−トリメチルインドレニンと１−オ
クタデシルヨウダイドをクロロホルムを溶媒とし
て封管中で24時間還流して、１−オクタデシル−
２，３，３−トリメチルインドレニウムヨウダイ
ドを合成した。これを水酸化ナトリウムで処理し
て１−オクタデシル−３，３−ジメチル−２−メ
チレンインドリンを得た。かくして合成した１−
オクタデシル−３，３−ジメチル−２−メチレン
インドリン４ｇと３，５−ジニトロサルチルアル
デヒド２ｇをエチルアルコール100mlに溶解して
３時間還流した。反応後にエチルアルコールを留
去し、冷却すると茶褐色の結晶が析出してきた。
これを取してエチルアルコールで洗い、乾燥
後、エチルアルコールから再結晶して4.5ｇの
6′，8′−ジニトロ−１−オクタデシル−３，３−
ジメチルスピロ〔インドリン−２，2′−ベンゾピ
ラン〕の結晶を得た。
クタデシルヨウダイドをクロロホルムを溶媒とし
て封管中で24時間還流して、１−オクタデシル−
２，３，３−トリメチルインドレニウムヨウダイ
ドを合成した。これを水酸化ナトリウムで処理し
て１−オクタデシル−３，３−ジメチル−２−メ
チレンインドリンを得た。かくして合成した１−
オクタデシル−３，３−ジメチル−２−メチレン
インドリン４ｇと３，５−ジニトロサルチルアル
デヒド２ｇをエチルアルコール100mlに溶解して
３時間還流した。反応後にエチルアルコールを留
去し、冷却すると茶褐色の結晶が析出してきた。
これを取してエチルアルコールで洗い、乾燥
後、エチルアルコールから再結晶して4.5ｇの
6′，8′−ジニトロ−１−オクタデシル−３，３−
ジメチルスピロ〔インドリン−２，2′−ベンゾピ
ラン〕の結晶を得た。
かくして得られたスピロピラン化合物を用い、
ポリスチレンをバインダーとして次のような組成
の感光性フイルムを作製した。
ポリスチレンをバインダーとして次のような組成
の感光性フイルムを作製した。
スピロピラン 0.05ｇ
ポリスチレン 0.95ｇ
トルエン 10ml
まず、上記組成物（トルエン溶液）を調製し、
ポリエステルフイルム上に塗布乾燥させて、感光
層の厚さ10ミクロンの均一な感光性フイルムを作
製した。このフイルムは可視部波長550mmに光学
密度2.6の吸収を有しており、マゼンタ色に強く
着色していた。この感光性フイルムに、超高圧水
銀灯（ウシオ電機製500W）を用いてフイルター
（東芝ガラス製Ｇ−53S）を通して530nm付近の可
視光を１分間照射した。直ちに光学密度が0.13に
まで消色した。60℃以上に加熱すると完全に元の
光学密度にまで回復した。第１図にこのフイルム
の露光前（図中の１）、露光後（図中の２）の吸
収スペクタルを示した。
ポリエステルフイルム上に塗布乾燥させて、感光
層の厚さ10ミクロンの均一な感光性フイルムを作
製した。このフイルムは可視部波長550mmに光学
密度2.6の吸収を有しており、マゼンタ色に強く
着色していた。この感光性フイルムに、超高圧水
銀灯（ウシオ電機製500W）を用いてフイルター
（東芝ガラス製Ｇ−53S）を通して530nm付近の可
視光を１分間照射した。直ちに光学密度が0.13に
まで消色した。60℃以上に加熱すると完全に元の
光学密度にまで回復した。第１図にこのフイルム
の露光前（図中の１）、露光後（図中の２）の吸
収スペクタルを示した。
なお、比較のために、6′，8′−ジニトロ−１，
３，３−トリメチルスピロ〔インドリン−２，
2′−ベンゾピラン〕を用い、上と全く同様の操作
を行なつて感光性フイルムを作製しようとした
が、このスピロピラン化合物はトルエンに対して
全く溶解せず、着色フイルムは得られなかつた。
３，３−トリメチルスピロ〔インドリン−２，
2′−ベンゾピラン〕を用い、上と全く同様の操作
を行なつて感光性フイルムを作製しようとした
が、このスピロピラン化合物はトルエンに対して
全く溶解せず、着色フイルムは得られなかつた。
実施例 ２
6′，8′−ジニトロ−１−オクタデシル−３，３
−ジメチルスピロ〔インドリン−２，2′−ベンゾ
ピラン〕をポリ塩化ビニリデンをバインダーとし
て次の組成で溶液に調製した。
−ジメチルスピロ〔インドリン−２，2′−ベンゾ
ピラン〕をポリ塩化ビニリデンをバインダーとし
て次の組成で溶液に調製した。
スピロピラン 0.05ｇ
ポリ塩化ビニリデン 0.95ｇ
テトラヒドロフラン−シクロヘキサノン
10 ml （１：１）混合溶媒 この溶液をポリエステルフイルム上に塗布乾燥
して、厚さ５ミクロンの感光性フイルムを作製し
た。このフイルムは波長540nmに光学密度1.6の
可視部を吸収を有しており、深紅色に着色してい
た。これに、キセノンランプ（ウシオ電機製
500W）を用いて熱線吸収フイルター介存下で光
照射すると、約15秒で完全に消色した。第２図に
このフイルムの露光前（図中の１）、露光後（図
中の２）の吸収スペクトルを示す。
10 ml （１：１）混合溶媒 この溶液をポリエステルフイルム上に塗布乾燥
して、厚さ５ミクロンの感光性フイルムを作製し
た。このフイルムは波長540nmに光学密度1.6の
可視部を吸収を有しており、深紅色に着色してい
た。これに、キセノンランプ（ウシオ電機製
500W）を用いて熱線吸収フイルター介存下で光
照射すると、約15秒で完全に消色した。第２図に
このフイルムの露光前（図中の１）、露光後（図
中の２）の吸収スペクトルを示す。
この感光フイルム上に、石英ガラス基板上に金
属蒸着膜の画像を有するマスクを密着させ、キセ
ノンランプで光照射すると、このマスクパターン
がフイルム上に正確に複写されたポジ画像が得ら
れた。この画像を22℃で暗所に保存しておくと、
半月程度鮮明な形でこの画像を保持することがで
きた。
属蒸着膜の画像を有するマスクを密着させ、キセ
ノンランプで光照射すると、このマスクパターン
がフイルム上に正確に複写されたポジ画像が得ら
れた。この画像を22℃で暗所に保存しておくと、
半月程度鮮明な形でこの画像を保持することがで
きた。
実施例 ３
実施例１と同様の方法で合成した6′，8′−ジニ
トロ−１−ドデシル−３，３−ジメチルスピロ
〔インドリン−２，2′−ベンゾピラン〕（融点142
〜143℃）を用い、次の組成の溶液を調製した。
トロ−１−ドデシル−３，３−ジメチルスピロ
〔インドリン−２，2′−ベンゾピラン〕（融点142
〜143℃）を用い、次の組成の溶液を調製した。
スピロピラン 0.05ｇ
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 0.95ｇ
（UCC社製のVYHH）
メチルエチルケトン−シクロヘキサン10 ｇ
（７：３）混合溶媒
この溶液をポリエステルフイルム上に塗布乾燥
後、感光層の厚さ7.5ミクロンの感光性フイルム
を得た。この感光性フイルムは可視部の波長
550nmに光学密度2.78の吸収を有し、500Wのキ
セノンランプ（ウシオ電機（株）製）を用いて熱
線吸収フイルター介在下で光照射すると、約30秒
で光学密度0.1まで消色した。これを80℃以上に
加熱すると、完全に元の光学密度まで回復した。
後、感光層の厚さ7.5ミクロンの感光性フイルム
を得た。この感光性フイルムは可視部の波長
550nmに光学密度2.78の吸収を有し、500Wのキ
セノンランプ（ウシオ電機（株）製）を用いて熱
線吸収フイルター介在下で光照射すると、約30秒
で光学密度0.1まで消色した。これを80℃以上に
加熱すると、完全に元の光学密度まで回復した。
実施例 ４
実施例１と同様の方法で合成した6′，8′−ジニ
トロ−１−ヘキサデシル−３，３−ジメチルスピ
ロ〔インドリン−２，2′−ベンゾピラン〕（融点
144〜145℃を用い、次の組成の溶液を調製した。
トロ−１−ヘキサデシル−３，３−ジメチルスピ
ロ〔インドリン−２，2′−ベンゾピラン〕（融点
144〜145℃を用い、次の組成の溶液を調製した。
スピロピラン 0.05ｇ
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール
0.95ｇ 共重合体 （UCC社製のVAGH） メチルエチルケトン−シクロヘキサン10 ｇ （８：２）混合溶媒 この溶液をポリエステルフイルム上に塗布乾燥
後、感光層の厚さ８ミクロンの感光性フイルムを
得た。このフイルムは可視部の波長540nmに光学
密度2.6の吸収を有し、深紅色に着色していた。
このフイルムの感光層上に、表面に金属蒸着膜の
画像を有する石英ガラスからなるマスクを密着さ
せ、マスク側からキセノンランプで光照射する
と、このマスクパターンがフイルム上に正確に複
写されたポジ画像が得られた。この画像は常温暗
所で２週間程度鮮明な形で保持することができ
た。
0.95ｇ 共重合体 （UCC社製のVAGH） メチルエチルケトン−シクロヘキサン10 ｇ （８：２）混合溶媒 この溶液をポリエステルフイルム上に塗布乾燥
後、感光層の厚さ８ミクロンの感光性フイルムを
得た。このフイルムは可視部の波長540nmに光学
密度2.6の吸収を有し、深紅色に着色していた。
このフイルムの感光層上に、表面に金属蒸着膜の
画像を有する石英ガラスからなるマスクを密着さ
せ、マスク側からキセノンランプで光照射する
と、このマスクパターンがフイルム上に正確に複
写されたポジ画像が得られた。この画像は常温暗
所で２週間程度鮮明な形で保持することができ
た。
第１図及び第２図は本発明の実施例によるフオ
トクロミツク感光性組成物を用いたフオトクロミ
ツク材料の可視部吸収スペクトルを夫々示し、図
中の１は露光前の吸収スペクトル、図中の２は露
光後の吸収スペクトルである。
トクロミツク感光性組成物を用いたフオトクロミ
ツク材料の可視部吸収スペクトルを夫々示し、図
中の１は露光前の吸収スペクトル、図中の２は露
光後の吸収スペクトルである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下記の一般式で示される化合物を高分子物質
中に高分子物質100重量部当り２〜20重量部の割
合で分散せしめてなることを特徴とするフオトク
ロミツク感光性組成物。 （ここで、R1は炭素数12〜30個のアルキル
基；R2は水素原子、炭素数１〜５個のアルキル
基、炭素数１〜５個のアルコキシ基、炭素数２〜
６個のアルコキシカルボニル基又はハロゲン原子
を示す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55140070A JPS5765753A (en) | 1980-10-07 | 1980-10-07 | Photochromic photosensitive composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55140070A JPS5765753A (en) | 1980-10-07 | 1980-10-07 | Photochromic photosensitive composition |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5765753A JPS5765753A (en) | 1982-04-21 |
| JPS6113496B2 true JPS6113496B2 (ja) | 1986-04-14 |
Family
ID=15260264
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55140070A Granted JPS5765753A (en) | 1980-10-07 | 1980-10-07 | Photochromic photosensitive composition |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5765753A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2003218801A1 (en) * | 2003-03-27 | 2004-10-18 | Sun Bow Co., Ltd. | Production and usage of photochromic resin molded articles |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5228690B2 (ja) * | 1973-05-02 | 1977-07-28 |
-
1980
- 1980-10-07 JP JP55140070A patent/JPS5765753A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5765753A (en) | 1982-04-21 |
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