JPS61143384A - ピロロ−１，４−ベンゾジアゼピン類の合成法および新規ベンゾジアゼピン化合物 - Google Patents
ピロロ−１，４−ベンゾジアゼピン類の合成法および新規ベンゾジアゼピン化合物Info
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- JPS61143384A JPS61143384A JP26537984A JP26537984A JPS61143384A JP S61143384 A JPS61143384 A JP S61143384A JP 26537984 A JP26537984 A JP 26537984A JP 26537984 A JP26537984 A JP 26537984A JP S61143384 A JPS61143384 A JP S61143384A
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- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は制癌剤として、又、アンスラマイシン系抗生物
質合成時の原料として有用なピロロ−１，４−ベンゾジ
アゼピン類の製造法及び新規ベンゾジアゼピン類に関す
る。
質合成時の原料として有用なピロロ−１，４−ベンゾジ
アゼピン類の製造法及び新規ベンゾジアゼピン類に関す
る。
ピロロ−１，４−ベンゾジアゼピン類ハアンスラマイシ
ン系抗生物質の基本骨格として知られている。この骨格
の合成法として従来、例えば式 Ｆｉ換させながら環化する方法（例えば特開昭５８−４
１８７８号）が知られている。
ン系抗生物質の基本骨格として知られている。この骨格
の合成法として従来、例えば式 Ｆｉ換させながら環化する方法（例えば特開昭５８−４
１８７８号）が知られている。
アンスラマイシン系抗生物質は、そのベンゼン環、ビロ
ール環上に種々の置換基をもち、その種類によって、生
物活性にちがいがあることが知られているが、従来の合
成法では、最終段階に還元工程を含むため、これら置換
基の種類によっては、この工程で変化をうけるものもあ
り、制約をうけるという欠点がある。
ール環上に種々の置換基をもち、その種類によって、生
物活性にちがいがあることが知られているが、従来の合
成法では、最終段階に還元工程を含むため、これら置換
基の種類によっては、この工程で変化をうけるものもあ
り、制約をうけるという欠点がある。
そこで本発明者らは還元工程を含まないピロロ−１，４
−ベンゾジアゼピン類の製造法につき種々検討した結果
１式（１） 〔式中、フェニル核は置換基を有していてもよい〕で表
わされるアンスラニル酸誘導体を原料とし、これに式■ 〔式中Ｘは水素又は置換基を示す〕 で表わされる化合物を塩基の存在下で縮合させて式（Ｉ
［Ｄ 〔式中Ｘ、フェニル核は前記と同じ〕で表わせる化合物
を得１次いでこれを酸性条件下で環化し、所望によりア
ルコールで処理することにより還元工程を経ることなく
式（ＩＶ）す 〔式中Ｘ、フェニル核は前記と同じ、Ｒは水素又はアル
キル基を示す。〕で表わされるピロ０−１．４−ベンゾ
ジアゼピン類が得られることを見い出した。
−ベンゾジアゼピン類の製造法につき種々検討した結果
１式（１） 〔式中、フェニル核は置換基を有していてもよい〕で表
わされるアンスラニル酸誘導体を原料とし、これに式■ 〔式中Ｘは水素又は置換基を示す〕 で表わされる化合物を塩基の存在下で縮合させて式（Ｉ
［Ｄ 〔式中Ｘ、フェニル核は前記と同じ〕で表わせる化合物
を得１次いでこれを酸性条件下で環化し、所望によりア
ルコールで処理することにより還元工程を経ることなく
式（ＩＶ）す 〔式中Ｘ、フェニル核は前記と同じ、Ｒは水素又はアル
キル基を示す。〕で表わされるピロ０−１．４−ベンゾ
ジアゼピン類が得られることを見い出した。
本発明は上記知見により完成されたものである。
上記式中のフェニル核の置換基としては反応に関与しな
いものなら特に制限はなく、例えば水酸基、メトキシ、
エトキシなどの低級アルコギシ基、メチル５エチルなど
の低級アルキル基などがあげられる。
いものなら特に制限はなく、例えば水酸基、メトキシ、
エトキシなどの低級アルコギシ基、メチル５エチルなど
の低級アルキル基などがあげられる。
又、Ｘの置換基としては例えば水酸基、メトキシ、エト
キシなどの低級アルコキシ基、ジメチルアミノエトキシ
、ジメチルアミンプロポキシなどの低級アルキルアミノ
アルコキシ基、メチルスルフィノエトキシなどの低級ア
ルキルスルフィノアルコキシ基、ジメチルスルホニオエ
トキシなどがあげられる。
キシなどの低級アルコキシ基、ジメチルアミノエトキシ
、ジメチルアミンプロポキシなどの低級アルキルアミノ
アルコキシ基、メチルスルフィノエトキシなどの低級ア
ルキルスルフィノアルコキシ基、ジメチルスルホニオエ
トキシなどがあげられる。
又、凡のアルキル基としては例えばメチル、エチルなど
の低級アルキル基があげられる。
の低級アルキル基があげられる。
本発明は、次の工程より構成される。
Ｕ
（ｍ） （ＩＶ、 ）υ
（ＩＶ２）
〔式中Ｘ、フェニル核は前記と同じ、Ｒはアルキル基〕
すなわち、第１ステツプでアンスラニル酸の活性誘導体
（Ｉｌを■の化合物と塩基の存在下で縮合、中間体（ｍ
）となし、第２ステツプで（ｍ）を酸処理することによ
り、目的化合物（ＩＶ、）を得る。これをさらにアルコ
ールで処理すると目的化合物（■２）を得る。
すなわち、第１ステツプでアンスラニル酸の活性誘導体
（Ｉｌを■の化合物と塩基の存在下で縮合、中間体（ｍ
）となし、第２ステツプで（ｍ）を酸処理することによ
り、目的化合物（ＩＶ、）を得る。これをさらにアルコ
ールで処理すると目的化合物（■２）を得る。
第１ステツプの反応では、溶媒は、反応に影辱しないも
のであれば何でも良いが、通常、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、酢酸エチル。
のであれば何でも良いが、通常、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、酢酸エチル。
ジクロルメタンなどが用いられる。
反応温度は０〜６０℃、好ましくは０〜３０℃が良い、
化合物（ＩＪと（２）の割合は特に制限はないが、通常
等モルづつ用いる。塩基としては、通常、トリエチルア
ミン、Ｎ−メチルモルホリンなどが用いられる。反応時
間は、２〜１８時離することなく、次ステツプに移行し
ても良い。
化合物（ＩＪと（２）の割合は特に制限はないが、通常
等モルづつ用いる。塩基としては、通常、トリエチルア
ミン、Ｎ−メチルモルホリンなどが用いられる。反応時
間は、２〜１８時離することなく、次ステツプに移行し
ても良い。
第２ステツプの反応では、化合物（ｍ）を例えば、酢酸
エチル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどに溶かす
か、あるいは水に分散させ、酸を加えて反応させる。酸
としては、無機酸、有機酸どちらも使え、例えば、塩酸
では０．５〜２規定にして、硫酸では５〜２０％にして
パラトルエンスルホン酸では、触媒量から化合物（Ｉ［
［）と等モル用いられる。温度は、０〜８０℃好ましく
は１０〜５０℃、反応時間は４〜８時間が良い。
エチル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどに溶かす
か、あるいは水に分散させ、酸を加えて反応させる。酸
としては、無機酸、有機酸どちらも使え、例えば、塩酸
では０．５〜２規定にして、硫酸では５〜２０％にして
パラトルエンスルホン酸では、触媒量から化合物（Ｉ［
［）と等モル用いられる。温度は、０〜８０℃好ましく
は１０〜５０℃、反応時間は４〜８時間が良い。
反応後、目的化合物ＧＶ、）は、抽出、カラムクロマト
グラフィーなどの方法で単離される。又化合物（［Ｖ）
の単離をアルコールを用いておこなうと目的化合物ａ′
ｖ２）が得られる。
グラフィーなどの方法で単離される。又化合物（［Ｖ）
の単離をアルコールを用いておこなうと目的化合物ａ′
ｖ２）が得られる。
本発明方法で得られる化合物のうち、下記一般式
ロキシ基、または置換基を有してもよい低級アルコキシ
基を示す。〕 で表わされる新規ベンゾジアゼピン類は本発明者らによ
り始めて合成されたものである。
基を示す。〕 で表わされる新規ベンゾジアゼピン類は本発明者らによ
り始めて合成されたものである。
本発明方法により得られる化合物としては、例えば次の
化合物があげられる。
化合物があげられる。
１、 ２（ＦＯ，１１ａ（Ｓｔ−１，２，３，１０，１
１，１１ａ−ヘキサヒドロ−１１−メトキシ−５−オキ
ソ−５Ｈ−ピロロ［２，１−Ｃ］ ［１，４）ベンゾジ
アゼピン ２、 ２（Ｒ１，１ｌａ（Ｓｔ−１，２，３，１０，１
１，１ｌａ−ヘキサヒドロ−２，１１−ジヒドロキシ−
５−オキソ−５Ｈ−ピロロ［２，１−Ｃ〕Ｃ１，４］ベ
ンゾジアゼピン ３、２（Ｒ１，１ｌａ（８１−１，２，３，１０，１１
，１ｌａ−ヘキサヒドロ−２，１１−ジメトキシ−５−
オキソ−５Ｈ−ピロロ（２，１−Ｃ〕Ｃ１，４）ベンゾ
ジアゼピン ４、 ２（ＲＪ、 １ｌａ（８１−１，２，３，１０，
１１，１ｌａ−ヘキサヒドロ−２−（２’−ジメチルア
ミノエトキシ）−１１−メトキシ−５−オキソ−５Ｈ−
ピロロ［２，１−Ｃ］ ［ｔ、４ 〕ベンゾジアゼピン
５、２ （Ｒ１、１１ａ （８１−１，２，３，１０，
１１，１１ａ−へキサヒドロ−２−（３’−ジメチルア
ミノプロポキシ）−１１−メトキシ−５−オキソ−５Ｈ
−ピロロＣ２，１−Ｃ］ ＣＩ、４ ：］ベンゾジアゼ
ピン６、 ２（Ｒ１，１ｌａ（ＳＬ −１，２，３，１
０，１１，１ｌａ−ヘキサヒドロ−２−（２’−メチル
スルフィノエトキシ）−１１−ヒドロキシ−５−オキソ
−５Ｈ−ピロロ［２，１−Ｃ］ ［１，４］ベンゾジア
ゼピン ７、 ２（Ｒ１，１ｌａ（８１−１，２，３，１０，１
１，，１ｌａ−ヘキサヒトロー２−（２’−ジメチルス
ルホニオエトキシ）−１１−ヒドロキシ−５−オキソ−
５Ｈ−ピロロＣ２，１−Ｃ：］ ［１，４］ベンゾジア
ゼピン これらの化合物の抗Ｈｅ１ａ細胞活性を表１に示す。
１，１１ａ−ヘキサヒドロ−１１−メトキシ−５−オキ
ソ−５Ｈ−ピロロ［２，１−Ｃ］ ［１，４）ベンゾジ
アゼピン ２、 ２（Ｒ１，１ｌａ（Ｓｔ−１，２，３，１０，１
１，１ｌａ−ヘキサヒドロ−２，１１−ジヒドロキシ−
５−オキソ−５Ｈ−ピロロ［２，１−Ｃ〕Ｃ１，４］ベ
ンゾジアゼピン ３、２（Ｒ１，１ｌａ（８１−１，２，３，１０，１１
，１ｌａ−ヘキサヒドロ−２，１１−ジメトキシ−５−
オキソ−５Ｈ−ピロロ（２，１−Ｃ〕Ｃ１，４）ベンゾ
ジアゼピン ４、 ２（ＲＪ、 １ｌａ（８１−１，２，３，１０，
１１，１ｌａ−ヘキサヒドロ−２−（２’−ジメチルア
ミノエトキシ）−１１−メトキシ−５−オキソ−５Ｈ−
ピロロ［２，１−Ｃ］ ［ｔ、４ 〕ベンゾジアゼピン
５、２ （Ｒ１、１１ａ （８１−１，２，３，１０，
１１，１１ａ−へキサヒドロ−２−（３’−ジメチルア
ミノプロポキシ）−１１−メトキシ−５−オキソ−５Ｈ
−ピロロＣ２，１−Ｃ］ ＣＩ、４ ：］ベンゾジアゼ
ピン６、 ２（Ｒ１，１ｌａ（ＳＬ −１，２，３，１
０，１１，１ｌａ−ヘキサヒドロ−２−（２’−メチル
スルフィノエトキシ）−１１−ヒドロキシ−５−オキソ
−５Ｈ−ピロロ［２，１−Ｃ］ ［１，４］ベンゾジア
ゼピン ７、 ２（Ｒ１，１ｌａ（８１−１，２，３，１０，１
１，，１ｌａ−ヘキサヒトロー２−（２’−ジメチルス
ルホニオエトキシ）−１１−ヒドロキシ−５−オキソ−
５Ｈ−ピロロＣ２，１−Ｃ：］ ［１，４］ベンゾジア
ゼピン これらの化合物の抗Ｈｅ１ａ細胞活性を表１に示す。
表１゜
化合物ＮＩ ＲＸ ＩＣｓ。
ｉ ＣＨ３Ｈ−
２ＨＯＨ１０，５
３ＣＨ３０ＣＨ３１４
６Ｈ０ＣＨ２ＣＨ２Ｓ ＣＨ３５，１
７Ｈ０ＣＨ２ＣＨｚ８＋／Ｃ）′１３３３．３〜１００
＼Ｃ）（３ 抗Ｈｅ１ａ細胞、活性は次のようにして測定した。
＼Ｃ）（３ 抗Ｈｅ１ａ細胞、活性は次のようにして測定した。
プラスチック・シャーレの培養基（１０％仔牛血清添加
ＭＥＭ）にＨｅＬａ５ｇ細胞を接種し、２日後に本発明
化合物類を添加した。さらに３日間培養を続けた後、細
胞数を測定した。増殖阻害率は次式 ％式％（） 〔式中、Ａは被験試料添加後３日目の最終細胞数、Ｂは
被験試料を添加しない対照における最終細胞数、Ｃは被
験試料添加時の細胞数を表わす。〕を用いて算出した。
ＭＥＭ）にＨｅＬａ５ｇ細胞を接種し、２日後に本発明
化合物類を添加した。さらに３日間培養を続けた後、細
胞数を測定した。増殖阻害率は次式 ％式％（） 〔式中、Ａは被験試料添加後３日目の最終細胞数、Ｂは
被験試料を添加しない対照における最終細胞数、Ｃは被
験試料添加時の細胞数を表わす。〕を用いて算出した。
試料濃度と阻止率のグラフから、ＩＣ１，ｏ値（５０％
阻害のための濃度）を求めた。
阻害のための濃度）を求めた。
なお１本発明で使用する原料化合物（１）は既知化合物
であり、アンスラニル酸より合成される。
であり、アンスラニル酸より合成される。
（Ｊ−Ａｍ、Ｃｈｅｍ−８６ｃ、 ９９．２３０６ （
１９７７） ）合成される。
１９７７） ）合成される。
すなわち、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−４−ヒドロキ
シ−プロリナールエチレンアセタールの水酸基に１例え
ばノ・ロゲン化アルキルを塩基性下で反応させアルキル
化を行なう。最後に酸処理を行ない、ｔ−ブトキシカル
ボニル基を脱離させることにより得ることができる。
シ−プロリナールエチレンアセタールの水酸基に１例え
ばノ・ロゲン化アルキルを塩基性下で反応させアルキル
化を行なう。最後に酸処理を行ない、ｔ−ブトキシカル
ボニル基を脱離させることにより得ることができる。
本発明方法によると還元工程を必要としないので、例え
ば、隘４〜７の化合物のように還元工程を経ると得られ
ないような化合物も得ることができる。
ば、隘４〜７の化合物のように還元工程を経ると得られ
ないような化合物も得ることができる。
次に本発明を実施例により説明する。
なお、実施例中ＢＯＣはベンジルオキシカルボニルの意
である。
である。
実施例１．化合物１の合成
（１１Ｂ ＯＣ−７’ロリナールエチレンアセチール１
．９９４ ！１ｌ−（８，２０ｍｍｏｌ）にジエチルエ
ーテル２ｒｎｌを加えて希釈し、これを水浴で冷却した
後。
．９９４ ！１ｌ−（８，２０ｍｍｏｌ）にジエチルエ
ーテル２ｒｎｌを加えて希釈し、これを水浴で冷却した
後。
トリフロロ酢酸４ｍ７！を加えてふりまぜる。５分子ｆ
ｌｃ！−１！Ｊ−エバポレータで濃縮し、脱ＢＯＣ体を
得る。得られた脱ＢＯＣ体をＴＨＦ３０ｍ６に溶解し、
０℃に冷却した後、かきまぜながら原料化合物（ａｌ
１．５８ Ｐ（８，６３ｍｍｏｌ）のＴＨＦｌ ５ｍｌ
溶液を加える。続いてトリエチルアミン８ＭとＴ ＨＦ
８ ｍｌの混合溶液を滴下する。３０分抜水浴を除き
、室温で５時間かきまぜる。終了後酢酸エチル抽出し、
酢酸エチル層を脱水後、濃縮して粗生成物を得る。これ
をシリカゲルカラムク゛ロマトグラフィー（展開液：酢
酸エチル二石油エーテル＝３：１）に付す。所要のフラ
クションを集めて濃縮し、Ｎ−（２’−アミノベンゾイ
ル）−プロリナールエチレンアセタール１．１１９１（
Ｙ：５２％）を得る。
ｌｃ！−１！Ｊ−エバポレータで濃縮し、脱ＢＯＣ体を
得る。得られた脱ＢＯＣ体をＴＨＦ３０ｍ６に溶解し、
０℃に冷却した後、かきまぜながら原料化合物（ａｌ
１．５８ Ｐ（８，６３ｍｍｏｌ）のＴＨＦｌ ５ｍｌ
溶液を加える。続いてトリエチルアミン８ＭとＴ ＨＦ
８ ｍｌの混合溶液を滴下する。３０分抜水浴を除き
、室温で５時間かきまぜる。終了後酢酸エチル抽出し、
酢酸エチル層を脱水後、濃縮して粗生成物を得る。これ
をシリカゲルカラムク゛ロマトグラフィー（展開液：酢
酸エチル二石油エーテル＝３：１）に付す。所要のフラ
クションを集めて濃縮し、Ｎ−（２’−アミノベンゾイ
ル）−プロリナールエチレンアセタール１．１１９１（
Ｙ：５２％）を得る。
’ＨＮＭＲ（６０ＭＨｚ、 ＣＤＣｌ３．δ）１．５〜
２．２ （ｍ、 ４ Ｈ） ３、：３〜３．７ （ｍ、 ２Ｈ） ３．８〜４．２ （ｍ、 Ｌ Ｈ） ３．８７ （ｄ、 １．２Ｈｚ、 ４Ｈ）４．５４ （
ｂｒ、 ｓ、 ２Ｈ） ５．２０ （ｄ、 ２．６ Ｈｚ、 Ｉ Ｈ）６．４〜
６．８ （ｍ、 ２Ｈ） ６．９〜７．３ （ｍ、 ２Ｈ） Ｉ Ｒ（ｆｉｌｍ、 ｃｍ ） （２３Ｎ−（２’−アミノベンゾイル）−プロリナール
エチレンアセタール ５２２Ｉｎｇ（１，９９ｍｍｏｌ ）をジオキサン５．
２ ｍｇに溶解し、この溶液を０．６Ｎ−塩酸５２Ｉｎ
ｌに分散させ、４０℃で８時間かきまぜる。終了後、水
溶で冷却し、炭酸水素ナトリウム粉末を少量ずつ加えて
中和し、さらに食塩を加えて飽和とした後、酢酸エチル
抽出する。
２．２ （ｍ、 ４ Ｈ） ３、：３〜３．７ （ｍ、 ２Ｈ） ３．８〜４．２ （ｍ、 Ｌ Ｈ） ３．８７ （ｄ、 １．２Ｈｚ、 ４Ｈ）４．５４ （
ｂｒ、 ｓ、 ２Ｈ） ５．２０ （ｄ、 ２．６ Ｈｚ、 Ｉ Ｈ）６．４〜
６．８ （ｍ、 ２Ｈ） ６．９〜７．３ （ｍ、 ２Ｈ） Ｉ Ｒ（ｆｉｌｍ、 ｃｍ ） （２３Ｎ−（２’−アミノベンゾイル）−プロリナール
エチレンアセタール ５２２Ｉｎｇ（１，９９ｍｍｏｌ ）をジオキサン５．
２ ｍｇに溶解し、この溶液を０．６Ｎ−塩酸５２Ｉｎ
ｌに分散させ、４０℃で８時間かきまぜる。終了後、水
溶で冷却し、炭酸水素ナトリウム粉末を少量ずつ加えて
中和し、さらに食塩を加えて飽和とした後、酢酸エチル
抽出する。
酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで脱水後濃縮し、
残分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液ク
ロロホルム：メタノール＝１００：１）に付す。所要フ
ラクションを集めて濃縮し、化合物１ ２４６ｒｎｇ（
Ｙ ： ５３％）を得た。
残分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液ク
ロロホルム：メタノール＝１００：１）に付す。所要フ
ラクションを集めて濃縮し、化合物１ ２４６ｒｎｇ（
Ｙ ： ５３％）を得た。
’ＨＮＭ Ｒ（６０Ｍｚ、 ＣＤ ＣＩａ、δ）１．５
〜２．４ （ｍ、 ４Ｈ） ３．２３ （ｓ、 ３Ｈ） ３．４０ （ｓ、 ３Ｈ） ３．４〜４．０（ｍ、３Ｈ） ４．４５ （ｄ、 Ｊ ＝６．４Ｈｚ、 ＬＨ）４．６
３ （ｄ、 Ｊ＝８．８Ｈｚ、 ＩＨ）４゜８６ （ｂ
ｒ−ｓ、 １）（） ６．０３ （ｂｒ、 ｄ、 Ｊ＝６．４Ｈｚ、 ＩＨ）
６．５〜８．１ （ｍ、 ４Ｈ） ＩＲ（ｆｉｌｍ、 ｃｍ ） 実施例２．化合物４の合成 （１＋ ＢＯＣ−４−（ジメチルアミノエトキシ）−
プロリナールエチレンアセタール５５０〜１ｇ（１，６
６ｍｍｏｌ）にジエチルエーテル０．５コを加えて希釈
し、これを水浴で冷却した後、トリフロロ酢酸５ ｎｌ
ｌを加えてふりまぜる。５分後、ロータリーエバポレー
ターで濃縮し、脱ＢＯＣ体を得る。得られた脱ＢＯＣ体
をＴＨＦｌｏ−に溶解し、０℃に冷却した後、かきまぜ
ながら原料化合物（ａ１３１９〜（１，７４ｍｍｏｌ
）のＴＨＦ５ｍ／＋溶液を７１０ 、する。続いて、ト
リエチルアミン３ ｒｎｌとＴＨＦ ３ｍｌの混合溶
液を滴下する。１５分後、水浴を除き、室温で１８時間
かきまぜる。終了後、水で２倍に希釈し、冷却下２０％
ＮａＯＨを滴下してｐｉ−＋ １２とし、さらに食塩を
加えて飽和とした後エーテル抽出する。エーテル層を脱
水後、濃縮して粗生成物を得る。これをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開液：４％ＮＨ，水飽和ＣＨ
Ｃ１ａ 二ＭｅＯＨ＝ ２０ ： １ ）に付し、所要
フラクションを集めてａ縮し、Ｎ−（２’−アミノベン
ゾイル）−４−（ジメチルアミノエトキシ）−プロリナ
ールエチレンアセタール２５３ｍ９（Ｙ：４４％）を得
る。
〜２．４ （ｍ、 ４Ｈ） ３．２３ （ｓ、 ３Ｈ） ３．４０ （ｓ、 ３Ｈ） ３．４〜４．０（ｍ、３Ｈ） ４．４５ （ｄ、 Ｊ ＝６．４Ｈｚ、 ＬＨ）４．６
３ （ｄ、 Ｊ＝８．８Ｈｚ、 ＩＨ）４゜８６ （ｂ
ｒ−ｓ、 １）（） ６．０３ （ｂｒ、 ｄ、 Ｊ＝６．４Ｈｚ、 ＩＨ）
６．５〜８．１ （ｍ、 ４Ｈ） ＩＲ（ｆｉｌｍ、 ｃｍ ） 実施例２．化合物４の合成 （１＋ ＢＯＣ−４−（ジメチルアミノエトキシ）−
プロリナールエチレンアセタール５５０〜１ｇ（１，６
６ｍｍｏｌ）にジエチルエーテル０．５コを加えて希釈
し、これを水浴で冷却した後、トリフロロ酢酸５ ｎｌ
ｌを加えてふりまぜる。５分後、ロータリーエバポレー
ターで濃縮し、脱ＢＯＣ体を得る。得られた脱ＢＯＣ体
をＴＨＦｌｏ−に溶解し、０℃に冷却した後、かきまぜ
ながら原料化合物（ａ１３１９〜（１，７４ｍｍｏｌ
）のＴＨＦ５ｍ／＋溶液を７１０ 、する。続いて、ト
リエチルアミン３ ｒｎｌとＴＨＦ ３ｍｌの混合溶
液を滴下する。１５分後、水浴を除き、室温で１８時間
かきまぜる。終了後、水で２倍に希釈し、冷却下２０％
ＮａＯＨを滴下してｐｉ−＋ １２とし、さらに食塩を
加えて飽和とした後エーテル抽出する。エーテル層を脱
水後、濃縮して粗生成物を得る。これをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開液：４％ＮＨ，水飽和ＣＨ
Ｃ１ａ 二ＭｅＯＨ＝ ２０ ： １ ）に付し、所要
フラクションを集めてａ縮し、Ｎ−（２’−アミノベン
ゾイル）−４−（ジメチルアミノエトキシ）−プロリナ
ールエチレンアセタール２５３ｍ９（Ｙ：４４％）を得
る。
”ＨＮＭＲ（６０ＭＨ２，ＣＤＣｌ３．δ）１、．９〜
２．２ （ｍ、 ２Ｈ） ４．５〜４．９ （ｍ、
ＩＨ）２．１９ （ｓ、 ６Ｈ） ５．１８ （
ｂｒ、ｓ、 ＩＨ）２．４１ （ｔ、 ５．８Ｈｚ、
２Ｈ） ６．４〜６．８ （ｍ、 ２Ｈ）３．４０
（ｔ、 ５．８Ｈｚ、 ２Ｈ） ６．９〜７．３ （
ｍ、 ２Ｈ）３．５〜３．７ （ｍ、 ２Ｈ） ３．８９ （ｂｒ、ｓ、 ４Ｈ） ３．７〜４．４ （ｍ、 ３ Ｈ） ＩＲ（ｆｉｌｍ、 ｏｎ ） （２） Ｎ−（２’−アミノベンゾイル）−４−Ｃジ
メチルアミノエトキシ）−プロリナールエチレンアセタ
ール１８１１Ｖ（０，５１８ｒｎｍｏｌ）を１０％硫酸
１８ｍ１に溶解し、４０℃で８時間かぎまぜる。
２．２ （ｍ、 ２Ｈ） ４．５〜４．９ （ｍ、
ＩＨ）２．１９ （ｓ、 ６Ｈ） ５．１８ （
ｂｒ、ｓ、 ＩＨ）２．４１ （ｔ、 ５．８Ｈｚ、
２Ｈ） ６．４〜６．８ （ｍ、 ２Ｈ）３．４０
（ｔ、 ５．８Ｈｚ、 ２Ｈ） ６．９〜７．３ （
ｍ、 ２Ｈ）３．５〜３．７ （ｍ、 ２Ｈ） ３．８９ （ｂｒ、ｓ、 ４Ｈ） ３．７〜４．４ （ｍ、 ３ Ｈ） ＩＲ（ｆｉｌｍ、 ｏｎ ） （２） Ｎ−（２’−アミノベンゾイル）−４−Ｃジ
メチルアミノエトキシ）−プロリナールエチレンアセタ
ール１８１１Ｖ（０，５１８ｒｎｍｏｌ）を１０％硫酸
１８ｍ１に溶解し、４０℃で８時間かぎまぜる。
終了後、水浴で冷却し、２５％水酸化ナトリウムを滴下
しｐＨ１２とする。食塩を加えて飽和とした後、酢酸エ
チル抽出する。酢酸エチル層を分離し、濃縮後、残分を
メタノールに溶かして一夜放置する。メタノールを留去
し、残分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
液４％ＮＨ，水飽和ＣＨＣｌ３： ＭｅＯＨ＝ ９ ：
１ ）に付す。
しｐＨ１２とする。食塩を加えて飽和とした後、酢酸エ
チル抽出する。酢酸エチル層を分離し、濃縮後、残分を
メタノールに溶かして一夜放置する。メタノールを留去
し、残分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
液４％ＮＨ，水飽和ＣＨＣｌ３： ＭｅＯＨ＝ ９ ：
１ ）に付す。
所要フラクションを集めて濃縮し化合物４９０ｍｇ （
Ｙ ： ５４％）を得る。
Ｙ ： ５４％）を得る。
”Ｈ−Ｎ Ｍ Ｒ（６０ＭＨｚ、 ＣＤＣｌ３．δ）２
．１〜２．４ （ｍ、 ２Ｈ） ２．２２（Ｓ、６Ｈ） ２．２６ （Ｓ、 ６Ｈ） ２．４５ （ｔ、 Ｊ ＝５．８Ｈｚ、 ２Ｈ）３．２
５ （Ｓ、 ３Ｈ） ３．４１ （ｓ、 ３Ｈ） ３．５０ （ｔ、 Ｊ ＝５．８Ｈｚ、 ２Ｈ）３．５
５ （ｔ、 Ｊ＝５．８Ｈｚ、 ２Ｈ）３．５〜３．９
（ｍ、２Ｈ） ３．９〜４．２ （ｍ、 ＩＨ）＋（ＩＨ）４．３〜４
．６ （ｍ、 Ｉ Ｈ） ４．４２ （ｄ、Ｊ＝６．６Ｈｚ、ＩＨ）４．７６ （
ｄ、Ｊ＝９．０Ｈｚ、ＩＨ）５．５３ （ｂｒ、 ｄ、
Ｊ＝６．６Ｈｚ、 ＩＨ）６．５〜７．４ （ｍ、３
Ｈ） ７．６９ （ｄｄ、 Ｊ ＝ ７．４Ｈｚ、 １．６
Ｈｚ ）７．９１ （ｄｄ、 Ｊ ＝ ７．４Ｈｚ、
１．６Ｈｚ、 Ｉ Ｈ）Ｉ Ｒ（ｆｉｌｍ、 ｃｍ−’
） 実施例３．化合物５の合成 （１１ＢＯＣ−４−（ジメチルアミノプロポキシ）−プ
ロリナールエチレンアセタールＬ３７Ｐ（３，９３ｍｍ
ｏｌ ）にジエチルエーテＡ／１．４ ｍｌを加えて希
釈し、これを水浴で冷却した後、トリフロロ酢酸３ ｍ
ｌを加えてふりまぜる。５分波ロータリーエバポレータ
ーで濃縮し、脱ＢＯＣ体を得る。
．１〜２．４ （ｍ、 ２Ｈ） ２．２２（Ｓ、６Ｈ） ２．２６ （Ｓ、 ６Ｈ） ２．４５ （ｔ、 Ｊ ＝５．８Ｈｚ、 ２Ｈ）３．２
５ （Ｓ、 ３Ｈ） ３．４１ （ｓ、 ３Ｈ） ３．５０ （ｔ、 Ｊ ＝５．８Ｈｚ、 ２Ｈ）３．５
５ （ｔ、 Ｊ＝５．８Ｈｚ、 ２Ｈ）３．５〜３．９
（ｍ、２Ｈ） ３．９〜４．２ （ｍ、 ＩＨ）＋（ＩＨ）４．３〜４
．６ （ｍ、 Ｉ Ｈ） ４．４２ （ｄ、Ｊ＝６．６Ｈｚ、ＩＨ）４．７６ （
ｄ、Ｊ＝９．０Ｈｚ、ＩＨ）５．５３ （ｂｒ、 ｄ、
Ｊ＝６．６Ｈｚ、 ＩＨ）６．５〜７．４ （ｍ、３
Ｈ） ７．６９ （ｄｄ、 Ｊ ＝ ７．４Ｈｚ、 １．６
Ｈｚ ）７．９１ （ｄｄ、 Ｊ ＝ ７．４Ｈｚ、
１．６Ｈｚ、 Ｉ Ｈ）Ｉ Ｒ（ｆｉｌｍ、 ｃｍ−’
） 実施例３．化合物５の合成 （１１ＢＯＣ−４−（ジメチルアミノプロポキシ）−プ
ロリナールエチレンアセタールＬ３７Ｐ（３，９３ｍｍ
ｏｌ ）にジエチルエーテＡ／１．４ ｍｌを加えて希
釈し、これを水浴で冷却した後、トリフロロ酢酸３ ｍ
ｌを加えてふりまぜる。５分波ロータリーエバポレータ
ーで濃縮し、脱ＢＯＣ体を得る。
得られた脱ＢＯＣ体をＴＨＦ２０ｍｌに溶解し、０°Ｃ
に冷却した後、かきまぜながら、原料化合物（ａ１８０
２ｍ９（４，３８ｍｍｏｌ ）のＴＨＦ５ｍｌ溶液を加
える。
に冷却した後、かきまぜながら、原料化合物（ａ１８０
２ｍ９（４，３８ｍｍｏｌ ）のＴＨＦ５ｍｌ溶液を加
える。
続いて、トリエチルアミン６罰を滴下する。
１５分後、水浴を除き、室温で１８時間かきまぜる。終
了後、水で約２倍に希釈し、冷却下２０％ＮａＯＨを滴
下してｐＨ１２とし、さらに食塩を加えて飽和とした後
、エーテル抽出する。
了後、水で約２倍に希釈し、冷却下２０％ＮａＯＨを滴
下してｐＨ１２とし、さらに食塩を加えて飽和とした後
、エーテル抽出する。
エーテル層を脱水後、濃縮して、粗生成物を得る。これ
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液、４％
ＮＨ３水飽相ＣＨＣｌ３ ： ＭｅＯＨ＝２０：ｌ）に
付し、所要フラクションを集めて濃縮し％Ｎ−（２’−
アミノベンゾイル）−４−ジメチルアミノプロポキシ−
プロリナールエチレンアセタール１．０６９Ｐ（Ｙニア
４％）を得る。
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液、４％
ＮＨ３水飽相ＣＨＣｌ３ ： ＭｅＯＨ＝２０：ｌ）に
付し、所要フラクションを集めて濃縮し％Ｎ−（２’−
アミノベンゾイル）−４−ジメチルアミノプロポキシ−
プロリナールエチレンアセタール１．０６９Ｐ（Ｙニア
４％）を得る。
’ＨＮＭＲ（６０ＭＨｚ、 ＣＤＣｌ３．δ）ｌ、４〜
１．９（ｍ、２Ｈ） ３．７〜４．２（ｍ、ＩＨ
）１．９〜２．５ （ｍ、 ４Ｈ） ４．５ （
ｂｒ、ｓ、 ２Ｈ）２．１６ （ｓ、 ６Ｈ）
４．５〜４．９ （ｍ、 ＩＨ）３．３２ （ｔ、
６．４Ｈｚ、 ２Ｈ） ５．１８ （ｂｒ、ｓ、 Ｌ
Ｈ）３．５〜３．７（ｍ、２Ｈ） ６．４〜６．
８（ｍ、２Ｈ）３．８８ （ｂｒ、ｓ、 ４Ｈ）
６．９−７．３ （ｍ、 ２Ｈ）Ｉ Ｒ（、ｆｉｌｍ
、 ｃｍ−’ ） （２１Ｎ−（２’−アミノベンゾイル）−４−（ジメチ
ルアミノプロポキシ）−プロリナールエチレンアセター
ル５２４ｍ９（１，４４ｍｍｏｌ）を１０％硫酸５２ｍ
１に溶解し、４０℃で８時間かきまぜる。
１．９（ｍ、２Ｈ） ３．７〜４．２（ｍ、ＩＨ
）１．９〜２．５ （ｍ、 ４Ｈ） ４．５ （
ｂｒ、ｓ、 ２Ｈ）２．１６ （ｓ、 ６Ｈ）
４．５〜４．９ （ｍ、 ＩＨ）３．３２ （ｔ、
６．４Ｈｚ、 ２Ｈ） ５．１８ （ｂｒ、ｓ、 Ｌ
Ｈ）３．５〜３．７（ｍ、２Ｈ） ６．４〜６．
８（ｍ、２Ｈ）３．８８ （ｂｒ、ｓ、 ４Ｈ）
６．９−７．３ （ｍ、 ２Ｈ）Ｉ Ｒ（、ｆｉｌｍ
、 ｃｍ−’ ） （２１Ｎ−（２’−アミノベンゾイル）−４−（ジメチ
ルアミノプロポキシ）−プロリナールエチレンアセター
ル５２４ｍ９（１，４４ｍｍｏｌ）を１０％硫酸５２ｍ
１に溶解し、４０℃で８時間かきまぜる。
終了後、水浴で冷却し、２０％水酸化ナトリウムを滴下
しｐＨ１２とする。食塩を加えて飽和とした後、酢酸エ
チル抽出する。酢酸エチル層を分離し、濃縮後、残分を
メタノールに溶かして一夜放置する。メタノールを留去
し、残分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
液４％ＮＨ３水飽和ＣＨＣｌ３ ： ＭｅＯＨ＝ ９
： １ ）に付す。
しｐＨ１２とする。食塩を加えて飽和とした後、酢酸エ
チル抽出する。酢酸エチル層を分離し、濃縮後、残分を
メタノールに溶かして一夜放置する。メタノールを留去
し、残分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
液４％ＮＨ３水飽和ＣＨＣｌ３ ： ＭｅＯＨ＝ ９
： １ ）に付す。
所畳フラクションを集めて濃縮し、化合物５２７８〜（
Ｙ：５８％）を得る。
Ｙ：５８％）を得る。
’Ｈ−ＮＭＲ（６０ＭＨｚ、δ）
１．５〜２．０ （ｍ、 ２Ｈ）
２．１〜２．５ （ｍ、 ４Ｈ）
２．２０ （ｓ、 ６Ｈ）
２．２２ （ｓ、 ６Ｈ）
３．２７ （ｓ、 ３Ｈ）
３．４１ （５，３Ｈ）
３．４３ （ｔ、 Ｊ＝６．０Ｈｚ、 ２Ｈ）３．４
８ （ｔ、 Ｊ＝６．０Ｈｚ、 ２Ｈ）３、５〜３゜９
（ｍ、２Ｈ） ３．９〜４．３ （ｍ、 ２Ｈ） ＋（ＩＨ）４．４５
（ｄ、Ｊ＝６．０Ｈｚ、ＩＨ）４．７６ （ｄ、Ｊ＝
９．０Ｈｚ、ＩＨ）５．５５ （ｂｒ、ｄ、 Ｊ＝６．
０Ｈｚ、 ＬＨ）６．５〜７．４（ｍ、３Ｈ） ７．６９ （ｄｄ、 Ｊ＝７．４Ｈｚ、 １．８Ｈｚ、
Ｉ Ｈ）７．９５ （ｂｒ、 ｄ、 Ｊ ＝７．４Ｈ
ｚ＋ １．８Ｈｚ、 Ｉ Ｈ）ＩＲ（ｆｊｌｍ、 ｃｍ
） 実施例４．化合物６の合成 （１） ＢＯＣ−４−（メチルスルフィノエトキシ）−
プロリナールエチレンアセタール１８４Ｉｎ９（０，５
５２ｍｍｏｌ ）にジエチ、ＩＩ／ｚ−テ＃０．１８ｍ
１を加えて希釈し、これを水浴で冷却した後、トリフロ
ロ酢酸１祷を加えてふりまぜる。５抜水ロータリーエバ
ポレーターで濃縮し、脱ＢＯＣ体を得る。得られた脱Ｂ
ＯＣ体をＴＨＦｌｍｌに溶解し０℃に冷却した後、かき
まぜながら原料化合物（ａｔ １１１ ｍｑ（０，６０
６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ１ｍｌ溶液を篩下する。続いてト
リエチルアミンＱ、 ７ ｍｌ：を滴下する。１０分抜
水浴を除き、室温で４時間かきまぜる。終了後、エーテ
ル抽出し、エーテル層を脱水後、ａ縮して粗生成物を得
る。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
液；石油エーテル：酢酸エチル＝１：１）に付す。
８ （ｔ、 Ｊ＝６．０Ｈｚ、 ２Ｈ）３、５〜３゜９
（ｍ、２Ｈ） ３．９〜４．３ （ｍ、 ２Ｈ） ＋（ＩＨ）４．４５
（ｄ、Ｊ＝６．０Ｈｚ、ＩＨ）４．７６ （ｄ、Ｊ＝
９．０Ｈｚ、ＩＨ）５．５５ （ｂｒ、ｄ、 Ｊ＝６．
０Ｈｚ、 ＬＨ）６．５〜７．４（ｍ、３Ｈ） ７．６９ （ｄｄ、 Ｊ＝７．４Ｈｚ、 １．８Ｈｚ、
Ｉ Ｈ）７．９５ （ｂｒ、 ｄ、 Ｊ ＝７．４Ｈ
ｚ＋ １．８Ｈｚ、 Ｉ Ｈ）ＩＲ（ｆｊｌｍ、 ｃｍ
） 実施例４．化合物６の合成 （１） ＢＯＣ−４−（メチルスルフィノエトキシ）−
プロリナールエチレンアセタール１８４Ｉｎ９（０，５
５２ｍｍｏｌ ）にジエチ、ＩＩ／ｚ−テ＃０．１８ｍ
１を加えて希釈し、これを水浴で冷却した後、トリフロ
ロ酢酸１祷を加えてふりまぜる。５抜水ロータリーエバ
ポレーターで濃縮し、脱ＢＯＣ体を得る。得られた脱Ｂ
ＯＣ体をＴＨＦｌｍｌに溶解し０℃に冷却した後、かき
まぜながら原料化合物（ａｔ １１１ ｍｑ（０，６０
６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ１ｍｌ溶液を篩下する。続いてト
リエチルアミンＱ、 ７ ｍｌ：を滴下する。１０分抜
水浴を除き、室温で４時間かきまぜる。終了後、エーテ
ル抽出し、エーテル層を脱水後、ａ縮して粗生成物を得
る。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
液；石油エーテル：酢酸エチル＝１：１）に付す。
所要のフラクションを集めて濃縮し、Ｎ−（２−アミノ
ベンゾイル）−４−（メチルスルフィノエトキシ）−プ
ロリナールエチレンアセタール１３２Ｉｎｇ（６８％）
を得る。
ベンゾイル）−４−（メチルスルフィノエトキシ）−プ
ロリナールエチレンアセタール１３２Ｉｎｇ（６８％）
を得る。
”Ｈ−ＮＭＲ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣＩａ、δ）１．９〜
２．２（ｍ、２Ｈ） ２．０４ （Ｓ、３Ｈ） ２．５５ （ｔ、Ｊ＝６．４Ｈｚ、２Ｈ）３．４６ （
ｔ、 Ｊ 〜６．４Ｈｚ、 ２Ｈ）３．７〜３．５（ｍ
、 ２Ｈ） ３．８７ （ｂｒ、ｓ、 ４Ｈ） ３．１３−４．２ （ｍ、 Ｉ Ｈ）４．４２ （ｂ
ｒ、ｓ、 ２Ｈ） ４．５〜４．９ （ｍ、。ＩＨ） ５．１７ （ｂｒ、ｓ、 ＩＨ） ６．４〜６．８ （ｍ、 ２１−Ｉ ）６．９〜７．
３（ｍ、２Ｈ） Ｉ Ｒ（ｆｉｌｍ、 ｃｍ−’ ） （２ｊＮ−（２’−アミノベンゾイル）−４−（メチル
スルフィノエトキシ）−プロリナールエチレンアセター
ル１０２ ｍｌ （０，２８９ｍｍｏｆ）を酢酸エチル
１ ｍｌに溶解し、この溶液を０．６Ｎ−塩酸１０属に
分散させ、４０℃で３０時間かきまぜる。終了後、水浴
で冷却し、炭酸水素ナトリウム粉末を少量ずつ加えて中
和し、さらに食塩を加えて飽和とした後、酢酸エチル抽
出する。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで脱水後
、濃縮し、残分なシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開液：酢酸エチル二石油エーテル＝４：１）Ｋ付す
。所要フラクションを集めて濃縮し、化合物６ ２４ヤ
（Ｙ：２７％）を得る。
２．２（ｍ、２Ｈ） ２．０４ （Ｓ、３Ｈ） ２．５５ （ｔ、Ｊ＝６．４Ｈｚ、２Ｈ）３．４６ （
ｔ、 Ｊ 〜６．４Ｈｚ、 ２Ｈ）３．７〜３．５（ｍ
、 ２Ｈ） ３．８７ （ｂｒ、ｓ、 ４Ｈ） ３．１３−４．２ （ｍ、 Ｉ Ｈ）４．４２ （ｂ
ｒ、ｓ、 ２Ｈ） ４．５〜４．９ （ｍ、。ＩＨ） ５．１７ （ｂｒ、ｓ、 ＩＨ） ６．４〜６．８ （ｍ、 ２１−Ｉ ）６．９〜７．
３（ｍ、２Ｈ） Ｉ Ｒ（ｆｉｌｍ、 ｃｍ−’ ） （２ｊＮ−（２’−アミノベンゾイル）−４−（メチル
スルフィノエトキシ）−プロリナールエチレンアセター
ル１０２ ｍｌ （０，２８９ｍｍｏｆ）を酢酸エチル
１ ｍｌに溶解し、この溶液を０．６Ｎ−塩酸１０属に
分散させ、４０℃で３０時間かきまぜる。終了後、水浴
で冷却し、炭酸水素ナトリウム粉末を少量ずつ加えて中
和し、さらに食塩を加えて飽和とした後、酢酸エチル抽
出する。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで脱水後
、濃縮し、残分なシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開液：酢酸エチル二石油エーテル＝４：１）Ｋ付す
。所要フラクションを集めて濃縮し、化合物６ ２４ヤ
（Ｙ：２７％）を得る。
”ＨＮＭ Ｒ（６０ＭＨｌ、 ＣＤＣＪ３．δ）２．１
０（Ｓ、３Ｈ） ２．１２ （Ｓ、 ３Ｈ） ２．３〜２．８（ｍ、 ２Ｈ） ２．６３ （ｔ、 Ｊ＝６．４Ｈ２，２Ｈ）２．６７
（ｔ、 Ｊ＝＝６．４Ｈｚ、 ２Ｈ）３．６５ （ｔ、
Ｊ ＝６．４Ｈｚ、 ２Ｈ）３．６６ （ｔ、 Ｊ
＝６．４Ｈｚ、 ２Ｈ）３．４〜４．３ （ｍ、４Ｈ） ６．５〜８．１ （ｍ、 ４Ｈ） Ｉ Ｒ（ＣＨＣｌ３． Ｃｍ ） 参考例 ＢＯＣ−ヒドロキシプロリナールエチレンアセタール１
．２３２ ｔ （４，７５ｍｍｏｌ） Ｋ、β−ジメチ
ルアミノエチルクロリド２．０８ ｔ （１９，３ｍｍ
ｏｌ）、５０％水酸化ナトリウム２ｄ、テトラ−ｎ−ブ
チルアンモニウムプロミド４６〜（０，１４３ｍｍｏｌ
）を加え６５℃で５時間かきまぜる。終了後、水を加
えて希釈した後、食塩を加えて飽和とした後、エーテル
抽出する。エーテル層を脱水後、濃縮し、残分なシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（展開液；４％ＮＨ３水
飽和ＣＨＣｌ３ ： ＭｅＯＨ＝ ９ ： １ ）に付
す。
０（Ｓ、３Ｈ） ２．１２ （Ｓ、 ３Ｈ） ２．３〜２．８（ｍ、 ２Ｈ） ２．６３ （ｔ、 Ｊ＝６．４Ｈ２，２Ｈ）２．６７
（ｔ、 Ｊ＝＝６．４Ｈｚ、 ２Ｈ）３．６５ （ｔ、
Ｊ ＝６．４Ｈｚ、 ２Ｈ）３．６６ （ｔ、 Ｊ
＝６．４Ｈｚ、 ２Ｈ）３．４〜４．３ （ｍ、４Ｈ） ６．５〜８．１ （ｍ、 ４Ｈ） Ｉ Ｒ（ＣＨＣｌ３． Ｃｍ ） 参考例 ＢＯＣ−ヒドロキシプロリナールエチレンアセタール１
．２３２ ｔ （４，７５ｍｍｏｌ） Ｋ、β−ジメチ
ルアミノエチルクロリド２．０８ ｔ （１９，３ｍｍ
ｏｌ）、５０％水酸化ナトリウム２ｄ、テトラ−ｎ−ブ
チルアンモニウムプロミド４６〜（０，１４３ｍｍｏｌ
）を加え６５℃で５時間かきまぜる。終了後、水を加
えて希釈した後、食塩を加えて飽和とした後、エーテル
抽出する。エーテル層を脱水後、濃縮し、残分なシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（展開液；４％ＮＨ３水
飽和ＣＨＣｌ３ ： ＭｅＯＨ＝ ９ ： １ ）に付
す。
所要フラクションを集めて濃縮し、ＢＯＣ−４−（ジメ
チルアミノエトキシ）−プロリナールエチレンアセター
ル１．１７５ｇ−（Ｙニア５％）を得る。
チルアミノエトキシ）−プロリナールエチレンアセター
ル１．１７５ｇ−（Ｙニア５％）を得る。
’ＨＮＭＲ（６０ＭＨｚ、 ＣＤＣＩａ、δ）１．４３
（ｓ、 ９Ｈ） １．６〜２．２ （ｍ、 ２Ｈ） ２．４５ （ｔ、 Ｊ＝５．６Ｈｚｅ ２Ｈ）３．３〜
３．６（ｍ、２Ｈ） ３．４９ （ｔ、 Ｊ＝５．６Ｈｚ、 ２Ｈ）３．８９
（ｂｒ、ｓ、 ４Ｈ） ３．９〜４．３（ｍ、 ２Ｈ） ５．０６ （ｄ、 Ｊ ＝ １．８Ｈｚ＋ Ｌ Ｈ）Ｉ
Ｒ（ｆｉｌｍ、 ｃｍ ） 同様にして、 ＢＯＣ−ヒドロキシプロリナールエチレンアセタールと
、３−ジメチルアミノプロピルクロリド又は、β−メチ
ルスルフィノエチルクロリド又は、β−ジメチルスルホ
ニオエチルクロリドを反応させ、それぞれＢＯＣ−４−
（３−ジメチルアミノプロポキシ）−プロリナールエチ
レンアセタール、ＢＯＣ−４−（β−メチルスルフィノ
エトキシ）−プロリナールエチレンアセターＡ／、ＢＯ
Ｃ−４−（β−ジメチルスルホニオエトキシ）−プロリ
ナールエチレンアセタールを得た。
（ｓ、 ９Ｈ） １．６〜２．２ （ｍ、 ２Ｈ） ２．４５ （ｔ、 Ｊ＝５．６Ｈｚｅ ２Ｈ）３．３〜
３．６（ｍ、２Ｈ） ３．４９ （ｔ、 Ｊ＝５．６Ｈｚ、 ２Ｈ）３．８９
（ｂｒ、ｓ、 ４Ｈ） ３．９〜４．３（ｍ、 ２Ｈ） ５．０６ （ｄ、 Ｊ ＝ １．８Ｈｚ＋ Ｌ Ｈ）Ｉ
Ｒ（ｆｉｌｍ、 ｃｍ ） 同様にして、 ＢＯＣ−ヒドロキシプロリナールエチレンアセタールと
、３−ジメチルアミノプロピルクロリド又は、β−メチ
ルスルフィノエチルクロリド又は、β−ジメチルスルホ
ニオエチルクロリドを反応させ、それぞれＢＯＣ−４−
（３−ジメチルアミノプロポキシ）−プロリナールエチ
レンアセタール、ＢＯＣ−４−（β−メチルスルフィノ
エトキシ）−プロリナールエチレンアセターＡ／、ＢＯ
Ｃ−４−（β−ジメチルスルホニオエトキシ）−プロリ
ナールエチレンアセタールを得た。
それらの化合物の物性値を以下に示す。
ＢＯＣ−４−（３−ジメチルアミノプロポキシ）−”ｊ
Ｏすｆ−ルエチレンアセタール ’ＨＮＭＲ（６０ＭＨ２，ＣＤＣｌ３−δ）１．４５（
ｓ）、 ９ Ｈ １，６〜２．５ （ｍ）、 ６Ｈ２，２０（３１
，６Ｈ ３，３〜３．６ （ｍ）、 ２Ｈ ３．４２ （ｔ、 Ｊ ＝６．２Ｈｚ ） ２Ｈ３，
８９（ｂｒ、ｓ ） ４Ｈ ３，９〜４．３ （ｍ ） ２Ｈ ５，０８（ｄ、 Ｊ＝１．８Ｈｚ ）ＩＲ（ｆｉｌｍ
、 ｃｍ ） ２８９０ １３９５ １０７５ ８４．５
ＢＯＣ−４−（β−メチルスルフィノエトキシ）−プロ
リナールエチレンアセタール ”ＨＮＭＲ（６０ＭＨ２，ＣＤＣｌ３．δ）１．４４（
Ｓｌ ９Ｈ １，７〜２．４ （、ｍ ） ２Ｈ ２，１２（Ｓ）３Ｈ ２，６３（ｔ、 Ｊ＝６．６Ｈｚ）２Ｈ３，３−３，６
（ｍ）、２Ｈ ３，５９（ｔ、 Ｊ＝６．６Ｈｚ ） ２Ｈ３，９０（
ｂｒ、ｓ ） ４Ｈ ３，９〜４．４ （ｍ ） ２Ｈ ５，０８（ｄ、 Ｊ＝１．６Ｈｚ ） ＩＨＩ Ｒ（ｆ
ｉｌｍ、 ｃｎ ） １４１０ １１２、
Ｏすｆ−ルエチレンアセタール ’ＨＮＭＲ（６０ＭＨ２，ＣＤＣｌ３−δ）１．４５（
ｓ）、 ９ Ｈ １，６〜２．５ （ｍ）、 ６Ｈ２，２０（３１
，６Ｈ ３，３〜３．６ （ｍ）、 ２Ｈ ３．４２ （ｔ、 Ｊ ＝６．２Ｈｚ ） ２Ｈ３，
８９（ｂｒ、ｓ ） ４Ｈ ３，９〜４．３ （ｍ ） ２Ｈ ５，０８（ｄ、 Ｊ＝１．８Ｈｚ ）ＩＲ（ｆｉｌｍ
、 ｃｍ ） ２８９０ １３９５ １０７５ ８４．５
ＢＯＣ−４−（β−メチルスルフィノエトキシ）−プロ
リナールエチレンアセタール ”ＨＮＭＲ（６０ＭＨ２，ＣＤＣｌ３．δ）１．４４（
Ｓｌ ９Ｈ １，７〜２．４ （、ｍ ） ２Ｈ ２，１２（Ｓ）３Ｈ ２，６３（ｔ、 Ｊ＝６．６Ｈｚ）２Ｈ３，３−３，６
（ｍ）、２Ｈ ３，５９（ｔ、 Ｊ＝６．６Ｈｚ ） ２Ｈ３，９０（
ｂｒ、ｓ ） ４Ｈ ３，９〜４．４ （ｍ ） ２Ｈ ５，０８（ｄ、 Ｊ＝１．６Ｈｚ ） ＩＨＩ Ｒ（ｆ
ｉｌｍ、 ｃｎ ） １４１０ １１２、
Claims (2)
- （１）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、フェニル核は置換基を有していて もよい〕で表わされるアンスラニル酸誘導体と式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは水素又は置換基を示す〕 で表わされる化合物を塩基の存在下で縮合させて式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘ、フェニル核は前記と同じ〕 で表わされる化合物を得、次いでこの化合物を酸性条件
下で環化し、所望により１１位の水酸基をアルコキシ化
することを特徴とする式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｘ、フェニル核は前記と同じＲは水 素又はアルキル基を示す〕で表わされるピロロ−１，４
−ベンゾジアゼピン類の合成法。 - （２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒは水素又はアルキル基を、Ｘはヒ ドロキシ基または置換基を有してもよい低級アルコキシ
基を示す。〕 で表わされる新規ベンゾジアゼピン化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26537984A JPS61143384A (ja) | 1984-12-18 | 1984-12-18 | ピロロ−１，４−ベンゾジアゼピン類の合成法および新規ベンゾジアゼピン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26537984A JPS61143384A (ja) | 1984-12-18 | 1984-12-18 | ピロロ−１，４−ベンゾジアゼピン類の合成法および新規ベンゾジアゼピン化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61143384A true JPS61143384A (ja) | 1986-07-01 |
Family
ID=17416361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26537984A Pending JPS61143384A (ja) | 1984-12-18 | 1984-12-18 | ピロロ−１，４−ベンゾジアゼピン類の合成法および新規ベンゾジアゼピン化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61143384A (ja) |
-
1984
- 1984-12-18 JP JP26537984A patent/JPS61143384A/ja active Pending
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