JPS6115702A - 蒸留塔の成分制御装置 - Google Patents
蒸留塔の成分制御装置Info
- Publication number
- JPS6115702A JPS6115702A JP13595184A JP13595184A JPS6115702A JP S6115702 A JPS6115702 A JP S6115702A JP 13595184 A JP13595184 A JP 13595184A JP 13595184 A JP13595184 A JP 13595184A JP S6115702 A JPS6115702 A JP S6115702A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- amount
- reflux
- target value
- component
- distillation column
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
- Feedback Control In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、蒸留塔の成分制御装置の改良に関する。
一般に、蒸留塔の制御は、原料を蒸留塔内に導入し、こ
の蒸留塔内で温度差をもたせて原料から沸点の異なる複
数種類の成分である半製品を分離して取出し、これを製
品として或いは次のプロセスへ送り出すものである。
の蒸留塔内で温度差をもたせて原料から沸点の異なる複
数種類の成分である半製品を分離して取出し、これを製
品として或いは次のプロセスへ送り出すものである。
従来、かかる蒸留塔の成分制御装置は第“1図のように
構成されている。即ち、この装置は、加熱流体であるI
J 、pイラ量1を再熱器2に送シ、ここで熱交換され
た蒸気を蒸留塔3へ導入し、加熱された原料4と塔下部
から導入された蒸気によって蒸留塔3内で蒸発を生じさ
ぜ、蒸気を塔内に上昇させる。このとき、塔頂から出力
される蒸気は冷却器(図示せず)を介して冷却されてリ
フラックスドラム5に貯蔵され、同ドラム5内で所要の
成分に分離され、その成分の一部はりフラックス量6と
して蒸留塔3内に循環されて塔頂から出る蒸気の温度を
制御し、前記成分の残シの成分は留出量(製品)7とし
て例えば次のプロセスへ送られる。なお、蒸留塔3内で
は上部はど沸点が低く、逆に下部はど沸点が高く、従っ
て蒸留塔3の下部には蒸発しにくい成分がたまシ、この
成分の一部は再熱器2へ、残りは缶出量8として例えば
次のプロセス等へ送られる。蒸留塔3の中間においても
沸点温度の差異に応じて各種の成分が分離抽出されるが
、ここではその説明は省略する。
構成されている。即ち、この装置は、加熱流体であるI
J 、pイラ量1を再熱器2に送シ、ここで熱交換され
た蒸気を蒸留塔3へ導入し、加熱された原料4と塔下部
から導入された蒸気によって蒸留塔3内で蒸発を生じさ
ぜ、蒸気を塔内に上昇させる。このとき、塔頂から出力
される蒸気は冷却器(図示せず)を介して冷却されてリ
フラックスドラム5に貯蔵され、同ドラム5内で所要の
成分に分離され、その成分の一部はりフラックス量6と
して蒸留塔3内に循環されて塔頂から出る蒸気の温度を
制御し、前記成分の残シの成分は留出量(製品)7とし
て例えば次のプロセスへ送られる。なお、蒸留塔3内で
は上部はど沸点が低く、逆に下部はど沸点が高く、従っ
て蒸留塔3の下部には蒸発しにくい成分がたまシ、この
成分の一部は再熱器2へ、残りは缶出量8として例えば
次のプロセス等へ送られる。蒸留塔3の中間においても
沸点温度の差異に応じて各種の成分が分離抽出されるが
、ここではその説明は省略する。
ところで、上記蒸留塔の成分制御装置としては、その制
御の主目的は専ら製品としての留出成分または缶出成分
の制御にある。そこで、従来、かかる成分制御として2
通りの手段がとられていた。その1つは、第1図に示す
ように成分検出計11又は12によって留出成分又は缶
出成分を測定し、この成分測定値と成分目標値Svとを
各調節計13.14で比較し、この比較結果に基づいて
制御用弁15又は16を開度制御するものであり、他の
1つは図示されていないが蒸留塔3内の温度と目標温度
とを比較して制御弁15又は16を開度制御するもので
ある。
御の主目的は専ら製品としての留出成分または缶出成分
の制御にある。そこで、従来、かかる成分制御として2
通りの手段がとられていた。その1つは、第1図に示す
ように成分検出計11又は12によって留出成分又は缶
出成分を測定し、この成分測定値と成分目標値Svとを
各調節計13.14で比較し、この比較結果に基づいて
制御用弁15又は16を開度制御するものであり、他の
1つは図示されていないが蒸留塔3内の温度と目標温度
とを比較して制御弁15又は16を開度制御するもので
ある。
しかし、前者の成分を測定してフィードバック制御を行
なう手段は、成分測定までにかなりの時間がかかシ、こ
のため原料量の変動等による外乱に対する応答性が悪く
、結果的には制御性の非常に悪いものとなってしまう。
なう手段は、成分測定までにかなりの時間がかかシ、こ
のため原料量の変動等による外乱に対する応答性が悪く
、結果的には制御性の非常に悪いものとなってしまう。
また、後者の温度測定によるフィードバック制御は成分
との関係では閉ループであシ、成分と温度との間にずれ
があるので正確な成分制御が期待できない。
との関係では閉ループであシ、成分と温度との間にずれ
があるので正確な成分制御が期待できない。
本発明は以上のよう表欠点を除去するためになされたも
ので、蒸留塔へ導入する原料量の変動に対しても最適な
リフラックス量およびりがイラ量を求めて適切な制御を
行ない、原料量の変動に対する応答性を高め、制御性の
改善を図る蒸留塔の成分制御装置を提供することにある
。
ので、蒸留塔へ導入する原料量の変動に対しても最適な
リフラックス量およびりがイラ量を求めて適切な制御を
行ない、原料量の変動に対する応答性を高め、制御性の
改善を図る蒸留塔の成分制御装置を提供することにある
。
本発明は、蒸留塔への原料量(以下、フィード量と相称
する)と留出量または缶出量の目標成分とを用いて変換
モデル式により最適なりフラックス量及びリポイラ量を
求めてフィードバック制御を行なう蒸留塔の成分制御装
置である。
する)と留出量または缶出量の目標成分とを用いて変換
モデル式により最適なりフラックス量及びリポイラ量を
求めてフィードバック制御を行なう蒸留塔の成分制御装
置である。
以下、本発明の一実施例について第2図及び第3図を参
照して説明する。第2図は装置の全体構成を示し、第3
図は第2図の変換モデル演算部の具体的構成を示す。こ
れらの図において21は蒸留塔であって、これには原料
であるフィード量22が導入されている。この蒸留塔2
1内のフィード量22の一部の成分は塔下部から再熱器
23に送られるが、ここでリボイラ量24を受けて蒸気
化されて蒸留塔2ノ内に導入され、これによシ蒸留塔2
1内では蒸発作用によって温度差が形成され、その温度
差に応じた沸点の異なる複数の成分に分離される。この
り?イラ量24の供給される再熱器23への経路にはり
がイラ量検出器25及び制御弁26が設けられ、これら
はリポイラ調節計27と接続されている。28は蒸留塔
2ノの下部から出力される所定の成分としての缶出量で
ある。
照して説明する。第2図は装置の全体構成を示し、第3
図は第2図の変換モデル演算部の具体的構成を示す。こ
れらの図において21は蒸留塔であって、これには原料
であるフィード量22が導入されている。この蒸留塔2
1内のフィード量22の一部の成分は塔下部から再熱器
23に送られるが、ここでリボイラ量24を受けて蒸気
化されて蒸留塔2ノ内に導入され、これによシ蒸留塔2
1内では蒸発作用によって温度差が形成され、その温度
差に応じた沸点の異なる複数の成分に分離される。この
り?イラ量24の供給される再熱器23への経路にはり
がイラ量検出器25及び制御弁26が設けられ、これら
はリポイラ調節計27と接続されている。28は蒸留塔
2ノの下部から出力される所定の成分としての缶出量で
ある。
この蒸留塔21の制御系としては以上のよう一5=
なリポイラ制御系のほかにリフラックス制御系があ如、
以下、この制御系について説明する。
以下、この制御系について説明する。
このリフラックス制御系は、蒸留塔2ノの塔頂からの蒸
気が冷却器(図示せず)などによって冷却されてリフラ
ックスドラム31に導入され、ここで成分の分離が行な
われる。このリフラックスドラム31の出力端には分離
された成分の一部をリフラックス量32として蒸留塔2
1へ還流させる経路と前記分離成分の残りを留出量33
として次のプロセスへ移送する経路とがあシ、前者の経
路にはりフラックス量検出器34および制御弁35が設
けられ、後者の経路には成分検出計36が設けられてい
る。
気が冷却器(図示せず)などによって冷却されてリフラ
ックスドラム31に導入され、ここで成分の分離が行な
われる。このリフラックスドラム31の出力端には分離
された成分の一部をリフラックス量32として蒸留塔2
1へ還流させる経路と前記分離成分の残りを留出量33
として次のプロセスへ移送する経路とがあシ、前者の経
路にはりフラックス量検出器34および制御弁35が設
けられ、後者の経路には成分検出計36が設けられてい
る。
37はフィード量検出器38で検出されたフィード量2
2と成分目標値SVとを用いて変換モデル式によりすは
イラ量目標値とリフラックス量目標値とを求める変換モ
デル演算部であって、ここで求められたりがイラ量目標
値は前記リボイラ制御系のリカイラ調節計27へ与えら
れ、一方、す7ラツクス量目標値はりフラック6一 ス制御系のリフラックス調節計39に与えられる。この
リフラックス調節計39は、す7ラツクス量検出器34
のリフラックス量検出値とりフラックス量目標値とを比
較しその偏差を小ならしめるように制御弁35に操作出
力を与える。
2と成分目標値SVとを用いて変換モデル式によりすは
イラ量目標値とリフラックス量目標値とを求める変換モ
デル演算部であって、ここで求められたりがイラ量目標
値は前記リボイラ制御系のリカイラ調節計27へ与えら
れ、一方、す7ラツクス量目標値はりフラック6一 ス制御系のリフラックス調節計39に与えられる。この
リフラックス調節計39は、す7ラツクス量検出器34
のリフラックス量検出値とりフラックス量目標値とを比
較しその偏差を小ならしめるように制御弁35に操作出
力を与える。
40は、成分検出計36で検出された成分実測値と成分
目標値SVとの偏差を求める偏差演算部であって、この
偏差を変換モデル演算部37に与えて変換モデル式のパ
ラメータを修正するものである。
目標値SVとの偏差を求める偏差演算部であって、この
偏差を変換モデル演算部37に与えて変換モデル式のパ
ラメータを修正するものである。
前記変換モデル演算部37は、第3図に示すようにフィ
ード量22に前記偏差演算部40の個差に応じて出力さ
れるパラメータ出力部371のパラメータ371を乗算
して留出量計算値りを得る乗算要素372と、成分目標
値SVに応じた還流比信号rを出力する還流比発生要素
373と、留出量計算値と還流比信号rとを乗算してリ
フラックス量目標値DXrを求めるリフラックス量目標
演算要素374と、このリフラックス量目標値DXrに
エンタルピ比を乗算してりがイラ量目標値8V2を得る
りがイラ量目標演算要素375とからなっている。
ード量22に前記偏差演算部40の個差に応じて出力さ
れるパラメータ出力部371のパラメータ371を乗算
して留出量計算値りを得る乗算要素372と、成分目標
値SVに応じた還流比信号rを出力する還流比発生要素
373と、留出量計算値と還流比信号rとを乗算してリ
フラックス量目標値DXrを求めるリフラックス量目標
演算要素374と、このリフラックス量目標値DXrに
エンタルピ比を乗算してりがイラ量目標値8V2を得る
りがイラ量目標演算要素375とからなっている。
次に、以上のように構成された装置の作用を説明する。
蒸留塔21に供給される原料であるフィード量22はフ
ィード量検出器38によって検出され、このフィード量
検出値は変換モデル演算部37に導入される。また、こ
の変換モデル演算部37には成分目標値S■のほか、成
分検出計36による成分実測値と成分目標値との偏差が
偏差演算部40から与えられている。
ィード量検出器38によって検出され、このフィード量
検出値は変換モデル演算部37に導入される。また、こ
の変換モデル演算部37には成分目標値S■のほか、成
分検出計36による成分実測値と成分目標値との偏差が
偏差演算部40から与えられている。
ここで、変換モデル演算部37は、外乱要素となる変動
するフィード量22を乗算要素372に取込んで、この
フィード量22に前記偏差演算部40の偏差に応じたパ
ラメータを乗算して変換モデル式の・ぐラメータを修正
し、留出量計量値りとして出力する。一方、成分目標値
SVは還流比発生要素373で成分目標値SVに応じた
還流比rとして変換出力される。そして、この還流比r
と前記留出量計算値りとが演算要素374にて乗算され
てリフラックス祉目標値8V1として求められ、との目
標値8V1はリフラックス調節計27に与えられる。従
って、このリフラックス調節計27は、このリフラック
ス量目標値S■1とりフラックス量検出器25で検出さ
れたリフラックス量とを比較し、その偏差が零となるよ
うな操作出力を求めて制御弁35に供給し、蒸留塔21
へのリフラックス量を制御する。
するフィード量22を乗算要素372に取込んで、この
フィード量22に前記偏差演算部40の偏差に応じたパ
ラメータを乗算して変換モデル式の・ぐラメータを修正
し、留出量計量値りとして出力する。一方、成分目標値
SVは還流比発生要素373で成分目標値SVに応じた
還流比rとして変換出力される。そして、この還流比r
と前記留出量計算値りとが演算要素374にて乗算され
てリフラックス祉目標値8V1として求められ、との目
標値8V1はリフラックス調節計27に与えられる。従
って、このリフラックス調節計27は、このリフラック
ス量目標値S■1とりフラックス量検出器25で検出さ
れたリフラックス量とを比較し、その偏差が零となるよ
うな操作出力を求めて制御弁35に供給し、蒸留塔21
へのリフラックス量を制御する。
また、リフラックス量目標値は演算要素375なってす
がイラ量目標値8V2を求める。上式においてH8は基
準エンタルピ、HRはリフラックスのエンタルピ、HB
はりPイラのエンタルピであって、何れも定数である。
がイラ量目標値8V2を求める。上式においてH8は基
準エンタルピ、HRはリフラックスのエンタルピ、HB
はりPイラのエンタルピであって、何れも定数である。
そして、以上のようにして求めたりがイラ量目標値8V
2はすがイラ調節計27に与えられ、リボイラ量検出器
25で検出されたりがイラ量検出値と比較してその偏差
が零となるように制御弁26を制御するものである。
2はすがイラ調節計27に与えられ、リボイラ量検出器
25で検出されたりがイラ量検出値と比較してその偏差
が零となるように制御弁26を制御するものである。
従って、以上のような構成によれば、外乱型素となる変
動するフィード量と成分目標値とを用いて変換モデル式
によりIJ 、Ipイラ制御系とりフラックス制御系と
の目標値を求め、この目標値とりはイラ量検出値、リフ
ラックス量検出値とを比較して各制御系を制御するので
、フィード量の変動に応じた最適なリポイラ量およびリ
フラックス量が求められ、これによってフィード量変動
に対する応答性を高めることができる。
動するフィード量と成分目標値とを用いて変換モデル式
によりIJ 、Ipイラ制御系とりフラックス制御系と
の目標値を求め、この目標値とりはイラ量検出値、リフ
ラックス量検出値とを比較して各制御系を制御するので
、フィード量の変動に応じた最適なリポイラ量およびリ
フラックス量が求められ、これによってフィード量変動
に対する応答性を高めることができる。
また、成分実測値と成分目標値とに偏差が生じたとき、
変換モデルのパラメータを修正するようにしたので、よ
り適切な制御を行なうことができる。
変換モデルのパラメータを修正するようにしたので、よ
り適切な制御を行なうことができる。
なお、上記実施例では、変換モデル演算部37の成分目
標値として留出量側の成分目標値を用いたが、缶出量側
の成分目標値を用いてもよい。この場合、偏差演算部4
0において用いる成分実測値は留出量でなく缶出量の成
分実測値が用いられ、さらに変換モデル演算部37の内
容も缶出量に合せて変更するものである。また、上記実
施例は、成分目標値とフィード値から直接リディラ量、
リフラックス量を求めたが、これに代えて塔頂温度及び
塔底温度の目標値を変換モデル演算部37で求めてもよ
い。
標値として留出量側の成分目標値を用いたが、缶出量側
の成分目標値を用いてもよい。この場合、偏差演算部4
0において用いる成分実測値は留出量でなく缶出量の成
分実測値が用いられ、さらに変換モデル演算部37の内
容も缶出量に合せて変更するものである。また、上記実
施例は、成分目標値とフィード値から直接リディラ量、
リフラックス量を求めたが、これに代えて塔頂温度及び
塔底温度の目標値を変換モデル演算部37で求めてもよ
い。
以上詳記したように本発明によれば、フィード量と成分
目標値とから各制御系の目標値を求め、この目標値に基
づいて各制御系を制御するので、フィード量の変動に伴
なう外乱に対して制御系を速やかに対応させることがで
き、制御性の向上を図れる蒸留塔の成分制御装置を提供
できる。
目標値とから各制御系の目標値を求め、この目標値に基
づいて各制御系を制御するので、フィード量の変動に伴
なう外乱に対して制御系を速やかに対応させることがで
き、制御性の向上を図れる蒸留塔の成分制御装置を提供
できる。
第1図は従来装置の構成図、第2図は本発明に係る蒸留
塔の成分制御装置の一実施例を示す全体構成図、第3図
は第2図の変換モデル演算部の一具体例を示す構成図で
ある。 21・・・蒸留塔、22・・・フィード量、24・・・
りがイラ量、25・・・す?イラ量検出器、26・・・
制御弁、27・・・リポイラ調節計、28・・・缶出量
、32・・・リフラックス量、33・・・留出量、34
・・・リフラックス量検出器、35・・・制御弁、36
・・・成分検出計、37・・・変換モデル演算部、38
・・・フィード量検出器、39・・・リフラックス調節
計、40・・・偏差演算部。
塔の成分制御装置の一実施例を示す全体構成図、第3図
は第2図の変換モデル演算部の一具体例を示す構成図で
ある。 21・・・蒸留塔、22・・・フィード量、24・・・
りがイラ量、25・・・す?イラ量検出器、26・・・
制御弁、27・・・リポイラ調節計、28・・・缶出量
、32・・・リフラックス量、33・・・留出量、34
・・・リフラックス量検出器、35・・・制御弁、36
・・・成分検出計、37・・・変換モデル演算部、38
・・・フィード量検出器、39・・・リフラックス調節
計、40・・・偏差演算部。
Claims (1)
- リフラックス制御系およびリボイラ制御系を持った蒸留
塔の成分制御装置において、前記蒸留塔に供給される原
料であるフィード量検出値と前記各制御系の何れか一方
の成分の成分目標値とを用いて変換モデル式により前記
両制御系の目標値を求める変換モデル演算部と、この変
換モデル演算部によって得られた各制御系の目標値と各
制御系の検出値とに基づいてその偏差を零ならしめる制
御を行なうフィードバック制御手段とを備えたことを特
徴とする蒸留塔の成分制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13595184A JPS6115702A (ja) | 1984-06-30 | 1984-06-30 | 蒸留塔の成分制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13595184A JPS6115702A (ja) | 1984-06-30 | 1984-06-30 | 蒸留塔の成分制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6115702A true JPS6115702A (ja) | 1986-01-23 |
Family
ID=15163650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13595184A Pending JPS6115702A (ja) | 1984-06-30 | 1984-06-30 | 蒸留塔の成分制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6115702A (ja) |
-
1984
- 1984-06-30 JP JP13595184A patent/JPS6115702A/ja active Pending
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