JPS61165724A - メガネの表面処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、メガネの表面を清浄処理するとともに、防
曇処理するようにしたメガネの表面処理方法に関するも
のである。

（従来の技術） メガネの表面を清浄処理するには、息を吹き付け【軟か
い布で拭き取る方法、又は容器に収納した液状処理剤を
メガネの表面に噴霧したり滴下して布や軟かい布で拭き
取る方法、などが従来から知られている。

（発明が解決しようとする問題点） しかし、息を吹き付け【拭き取る方法は、ある穆度清浄
処琳できるが、充分く清浄できないし、防曇処理を望む
ことかできない。

又、容器の処理剤をメガネの表面に噴霧したり滴下する
方法は、メガネの全面に処理剤を均一に塗布するのが難
かしく、処理斑が生じて視野が悪くなる場合が有る。ま
た、メガネの表面に供給する処理剤が過剰になるので無
駄が多くて実質的な使用回数が少くなり、しかも液状処
理剤を直接容器に収納しであるため容器を複雑な水密構
造にしなければ漏れることがある。

（問題を解決するための手段） 本発明は上記に鑑み提案されたもので、処理剤を含浸保
持する保持部と、該保持部て接触状であってメガネの表
面に塗布する塗布部とを有し、保持部に含浸保持してい
る処理剤を毛細管現象により塗布部に流出させ、塗布部
をメガネの表面に塗擦することにより、メガネの表面を
清浄処理するとともＫ、塗布部の処理剤をメガネの表面
に付着させて処理剤による処理をするよう釦したことを
特徴とするメガネの表習処理方法に係るものである。

（実施例） 以下に本発明の実施例を具体的に説明する。

本発明で使用する処理剤は、メガネのレンズに大気中の
微細な水分が付着して曇るのを防ぐ防曇機能、大気中に
浮遊する微細な塵埃が付着するのを防ぐ汚損防止機能な
どを具備するのが望ましく、その成分としては、例えば
ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル、アニオ
ン活性剤及びアルコールを混合した水溶液を使用するこ
とができる。

上記した処理剤は、保持部に含浸保持させ、この保持部
に接触状であって、保持部に含浸保持している処理剤が
毛細管現象により流出する塗布部に導かせるのである。

上記した保持部及び塗布部は不織布、フェルトなどの繊
維成形部材からなって連続微細空隙を無数に有し、また
繊維成形部材の微細繊維は疎水性が望ましい。そして、
保持部の空隙率が塗布部の空隙率より大きく１例えば保
持部の密度を０．１〜０．６３１！布部の密度を０．３
〜０．９程度のものを用いることができる。

図面は上記した保持部及び塗布部を容器に設げた場合を
示すものである。この容器ｌは一端が開放する偏平なも
ので、この容器／の内部に処理剤を含浸保持させた保持
部２を収納し、容器／の開放端部く口部３を嵌着する。

この口部３は容器／の開放端から内面に沿い嵌着する下
面開放の嵌合部≠と、該嵌合部μから上方に延びる幅狭
な目部分ｊとからなり、目部分ｊには上面が開放する通
路６を形成し、該通路基に塗布部７を挿着する。そして
、塗布部７の基端部分♂を保持部コの端面に接触状にさ
せ、塗布部７の先端である塗布部分りを目部分！から外
方に延出させる。なお１図面では保持部λの先端にＶ字
状の切込部λ′を形成するとともに、塗布部７０基端部
分子Ｖｃｖ字状の先細延長部１０を形成し、切込部λ′
に先細延長部１０を挿着することにより保持部λと塗布
部７とを接触状にし℃ある。

したがって保持部２には、微細空隙に処理剤が含浸保持
されているが、この処理剤は毛細管現象により塗布部７
Ｋまで染み出している。そして、保持部コと塗布部７と
の空隙率の差により、保持部λには充分な処理剤が含浸
し、塗布部７には塗布するのに必要な処理剤が含浸し【
いる。

上記のような処理具によりメガネの表面を処理するＫは
、容器／を握って目部分！を下にし。

塗布部分りをレンズの全面に擦り付ける。これによりメ
ガネの表面に付着する微細な汚損物は拭き取られるし、
塗布部７に含浸している処理剤はレンズ面に塗擦される
ので、レンズ面には処理剤の薄膜が形成する。この薄膜
は防曇機能や、微細な塵埃が付着するのを防ぐ汚損防止
機能がある。

したがって、上記のようくして処理したメガネは、清浄
化と処理剤の機能とを同時にもたらせるものである。

（発明の効果） 以上要するく本発明によれば、処理剤を含浸保持する保
持部と、該保持部に接触状であつズメガネの表面に塗布
する塗布部とを有し、塗布部により処理剤をメガネの表
面〈塗擦するようにしたので、メガネの全面を速やかに
清浄処理と処理剤による処理とを、斑なく行うことがで
きる。

そして処理剤は保持部に含浸保持され、必要な分が毛細
管現象により塗布部に流出するので処理剤の無駄がなく
、長期間使用することができるばかりでなく、容器を水
密構造にする必要がない。また保持部の空隙率が塗布部
の空隙率より大きいので、保持部によって多量の処理剤
を含浸保持させ、塗布部に最少必要量の処理剤のみを含
浸させておくことができる。又、メガネの表面に処理剤
を塗擦した後は軟かい布などで拭く必要がないが、処理
剤の薄膜に斑が生じるようであれば拭く程度でよく、実
用的価値が著しく高いものとなる。

【図面の簡単な説明】

図面は塞発明の方法に使用する処理具の実施例を示す縦
断面図である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）処理剤を含浸保持する保持部と、該保持部に接触
   状であってメガネの表面に塗布する塗布部とを有し、保
   持部に含浸保持している処理剤を毛細管現象により塗布
   部に流出させ、塗布部をメガネの表面に塗擦することに
   より、メガネの表面を清浄処理するとともに、塗布部の
   処理剤をメガネの表面に付着させて処理剤による処理を
   するようにしたことを特徴とするメガネの表面処理方法
   。
2. （２）保持部及び塗布部は連続微細空隙を無数に有する
   繊維成形部材であって、空隙率が塗布部より保持部の方
   が大きい特許請求の範囲第（１）項に記載のメガネの表
   面処理方法。