JPS6116757B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6116757B2
JPS6116757B2 JP8675978A JP8675978A JPS6116757B2 JP S6116757 B2 JPS6116757 B2 JP S6116757B2 JP 8675978 A JP8675978 A JP 8675978A JP 8675978 A JP8675978 A JP 8675978A JP S6116757 B2 JPS6116757 B2 JP S6116757B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
single crystal
crucible
lithium tantalate
crystal
tantalate single
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP8675978A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5515939A (en
Inventor
Tsuguo Fukuda
Toshiharu Ito
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP8675978A priority Critical patent/JPS5515939A/ja
Publication of JPS5515939A publication Critical patent/JPS5515939A/ja
Publication of JPS6116757B2 publication Critical patent/JPS6116757B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
この発明はタンタル酸リチウム(LiTaO3)単結
晶の製造方法に関する。 従来引上げ法によるとLiTaO3単結晶の製造方
法ではるつぼ直径(2rc)に対する引上げ結晶直
径(2r0)の比率r0/rcは、0.5以下が最も多く、
また0.5以上になると良質結晶が得難いとされて
きた。 この場合引上げ速度fp〔mm/h〕に対する平
均の結晶成長速度f〔mm/h〕の比(f/fp
は〜1.5以下が多く、従つて引上げた結晶は育成
中に製造結晶の大部分がルツボの上部にくるのが
極く一般的方法とされてきた。このため、結晶は
育成中又は育成後クラツク、双晶或は歪が入り高
品質結晶が得られないことがしばしばであつた。
これに対する対策として従来通常アフターヒータ
ー或は保温筒をルツボ上部におき、ルツボ上部の
温度分布の改善を行つていた。 上記のような対策のないときは、良質な引上げ
結晶は得難い。又、冷却中熱気を出来るだけ少く
するため冷却速度を著しく遅くしなければならな
い。 また上記のような対策を行つたときは、特別な
工夫をしなければならないので、炉構造が複雑に
なる。しばしば再現性が悪くなる。 さらに炉内上部の温度勾配をアフターヒーター
等で特別に工夫し、熱放散が大きくなるようにし
ないと育成結晶が曲がり、所望する長尺結晶が得
られない等の種々の問題があつた。 本発明は上記点に鑑みなされたもので簡便に、
高品質な長尺結晶が高効率に得られるLiTaO3
結晶の製造方法を提供するものである。 即ちf/fp値を2以上の速度で成長させ、成
長した単結晶を該単結晶の長さの40%以上がルツ
ボ内に位置する状態で冷却することにより、曲が
らない良質のLiTaO3単結晶を成長させる方法を
得るものである。 TV PIFフイタター用のLiTaO3単結晶の引上
げを例にとり説明する。ルツボ半径rcのルツボ
に入つた融液から半径rpの結晶をfp(mm/h)
で引上げ作成すると、結晶が引上げ作成されるに
従つて、ルツボ中の融液のレベルが低下するの
で、作成されるに従つて、ルツボ中の融液のレベ
ルが低下するので、作成される結晶の平均の成長
速度f(mm/h)は f=f /d −d 従つて LiTaO3単結晶では、ds=7.45g/cm3、dr=5.74
g/cm3であるので
【式】となる。r/rとf/rとの 関係は第1図のようになる。通常r0/rcは0.5以
下でないと結晶は割れ易くなり、結晶歩留りは著
しく低下すると報告されているが、固液界面の温
度勾配をゆるくし、ルツボ上部の温度分布を作成
結晶熱放散に適した分布にすると、次のような実
験事実が明らかになつた。 良質結晶はr0/rcの値いかんにかかわらず
得られるが、r0/rc値を大きく0.5以上にし、
f/fp≧2.0の条件で作成した結晶は、結晶育
成後の冷却速度を従来の条件f/fp〓1.5以下
で、作成結晶の冷却速度の10倍以上の高速に冷
却期間を短縮しても本発明方法による引上げ結
晶は良質のまま得られた。 LiTaO3単結晶は通常長く引上げると結晶が
曲つてくる現象がみられるが、r0/rc値を大
きくし、f/fp≧2.0の条件で作成した結晶
は、曲がらずにルツボ内のチヤージの8割位ま
で融液を引上げられたが、従来の条件f/fp
〓1.5以下ではルツボ内チヤージの約30〜50%
で曲がり始めた。 については、f/fp≧2.0即ち融液面上に引
上げ成長させるよりも液面低下により最初の液面
より下方に成長させる方を多くして結晶を製造
し、かつ、作成した結晶の約半分がルツボ内にあ
るため、育成後の冷却時にはルツボ自身がアフタ
ーヒーターの役目をなすため、冷却速度を従来の
1/10以下に出来たものと考えられる。実際結晶は
作成後ルツボの上部にもち来たし、冷却速度を早
くするとクラツクが入り易い傾向を示した。従つ
て、作成後の結晶は融液から切り離した後、出来
るだけルツボ内に残し、少なくとも製造した結晶
長の40%以上がルツボ内に位置するのが良いこと
が判つた。 の理由・原因については明確には判らない
が、一つには、r0/rcが大きくf/fpが≧2.0
以上になると、作成時のルツボ温度が下がり育成
結晶から熱放散させ易くなるためと考えられる。 次に第2図を参照して本発明方法の実施例を説
明する。 大きさ直径100mmφ、高さ100mm、厚さ3mmのロ
ジウムを30%含む白金ルツボ1を用いる。このル
ツボ1中にLiTaO3焼結体4Kgを入れて融解して
溶液2を形成する。このようなルツボ1は石英管
3内に収容し、ルツボ1の外周にはバブルアルミ
ナを設け、バブルアルミナ4の上面にアルミナリ
ング5を設け、このアルミナリング5にドーム状
アフターヒーター用熱反射板6を取着して図のよ
うに配置されている。このように構成した炉体1
0の周囲には高周波加熱コイル7が設けられてい
る。この融液2に5×5×90mmの種結晶8をつ
け、N2雰囲気中でLiTaO3単結晶9を引上げ作成
した。この単結晶の径は68mmφの大口径が引上げ
られた。この時の単結晶9の引上げ速度は2.3
mm/hで作成したところ、成長速度としては6.0
mm/hでf/fpは2.6であつた。 即ち融液2面下方への単結晶成長速度3.9mm/
hは引上げ速度より大きかつた。単結晶の長さを
100mm作成した後、10mm持上げて切り離し、単
結晶の長さの粉以上の単結晶をルツボ1上部ふち
よりも下に設置したまま、1650℃から約3時間か
けて室温近傍まで冷却した。その結果68φ×100
の結晶の高品質結晶が得られた。この時のr0 rc
0.68で0.5以上の値である。 上記と同じ炉条件でr0 rc=0.4の単結晶径40mmφ
の結晶を引上げ速度2.3mm/hで作成した。この
ときf/fpは2以下の約1.2で液面下方への成長
速度は0.46mm/hで小さかつた。この場合の単結
晶は70で曲がつてしまつた。作成後融液2面か
ら10mm切り離したところルツボ1上部端より結晶
が大半出てしまい、ルツボ1内には約25%しか残
つていなかつた。室温までの冷却速度は24時間で
は割れなかつたが、15時間以下に短縮すると良品
の歩留りが著しく落ち、3時間では殆んど割れて
しまつた。 これに対して上記実施例によれば、次のような
効果が得られる。 結晶育成後の冷却速度が大巾に短縮できた。
LiTaO3結晶では1/10以下に短縮出来た。こ
れは工業上極めて望ましいことである。 冷却時間短縮のための特別な工夫例えばアフ
ターヒーター設置或いは保温筒の設置などをは
ぶくことができる。 育成結晶の曲がり等の欠陥の発生が従来の方
法より10〜50%少くなつた。 r0/rc値が大きく出来ることは、小さいル
ツボで大きい結晶があるので、従来に比べて非
常に効率がよい。特にLiTaO3単結晶のように
融点が1650℃という高温のものでは、ルツボが
高価であり、工業上利用価値大なる効果であ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法のLiTaO3単結晶作成の実
施例の引上げ速度fpと平均の結晶成長速度fの
比(f/fp)に対するr0/rcとの関係を示す曲
線図、第2図は本発明方法の実施例を説明するた
めの炉内構造図である。 1……ルツボ、2……融液、3……石英管、4
……バブルアルミナ、5……アルミナリング、6
……アフターヒーター用熱反射板、7……ワーク
コイル、8……種子結晶。9……LiTaO3単結
晶。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ルツボに収容された溶融液に種結晶を接触さ
    せ、その種結晶を引上げてタンタル酸リチウム単
    結晶を成長させるに際し、引上げ速度fp〔mm/
    h〕に対する平均の結晶成長速度f〔mm/h〕の
    比(f/fp値)が2以上に設定して単結晶を成
    長させる工程と、この成長させたタンタル酸リチ
    ウム単結晶長の40%以上がルツボ内に位置する状
    態で前記タンタル酸リチウム単結晶を室温近傍ま
    で冷却する工程とを具備してなることを特徴とす
    るタンタル酸リチウム単結晶の製造方法。 2 ルツボの半径rcに対する引上げられるタン
    タル酸リチウム単結晶の半径rpの比(r0/rc
    が0.5以上で成長させることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載のタンタル酸リチウム単結晶
    の製造方法。 3 窒素雰囲気で成長を行うことを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載のタンタル酸リチウム単
    結晶の製造方法。 4 ルツボはロジウムを20〜40重量パーセント含
    む白金ルツボである特許請求の範囲第1項記載の
    タンタル酸リチウム単結晶の製造方法。 5 ルツボ上方にはアフターヒータ用反射板が設
    けられていることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載のタンタル酸リチウム単結晶の製造方
    法。 6 平均の結晶成長速度fは下式から導き出され
    るものであることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載のタンタル酸リチウム単結晶の製造方
    法。 記 f=fpL /dLr2 c−dsr2o dL:溶融液密度(g/cm3〕 ds:結晶密度〔g/cm3〕 rc:ルツボ半径 rp:単結晶半径 fp:引上げ速度〔mm/h〕
JP8675978A 1978-07-18 1978-07-18 Production of single crystal Granted JPS5515939A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8675978A JPS5515939A (en) 1978-07-18 1978-07-18 Production of single crystal

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8675978A JPS5515939A (en) 1978-07-18 1978-07-18 Production of single crystal

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5515939A JPS5515939A (en) 1980-02-04
JPS6116757B2 true JPS6116757B2 (ja) 1986-05-01

Family

ID=13895664

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8675978A Granted JPS5515939A (en) 1978-07-18 1978-07-18 Production of single crystal

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5515939A (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201350632A (zh) * 2012-06-12 2013-12-16 Wcube Co Ltd 藍寶石製造裝置及鏡頭保護玻璃
CN110241456A (zh) * 2019-07-11 2019-09-17 北方民族大学 助溶剂法生长均匀近化学计量比钽酸锂晶体的方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5515939A (en) 1980-02-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4944925A (en) Apparatus for producing single crystals
JPS6116757B2 (ja)
JP3465853B2 (ja) ZnSeバルク単結晶の製造方法
JPH07187880A (ja) 酸化物単結晶の製造方法
JP2868204B2 (ja) 四ほう酸リチウム単結晶の製造装置
JP2024528341A (ja) 単結晶シリコンロッドの製造デバイスおよび製造方法
CN115558994A (zh) 一种卤化物的提纯方法
JPH0616926Y2 (ja) 単結晶引き上げ用石英ガラスルツボ
JPS6126519B2 (ja)
JP2700145B2 (ja) 化合物半導体単結晶の製造方法
JP2733898B2 (ja) 化合物半導体単結晶の製造方法
JP2855408B2 (ja) 単結晶成長装置
JP2809364B2 (ja) 四ほう酸リチウム単結晶の製造方法
JPH0258239B2 (ja)
JPH11274537A (ja) 大粒径多結晶シリコンの製造法
JPH04187585A (ja) 結晶成長装置
JP2739554B2 (ja) 四硼酸リチウム結晶の製造方法
JP3651855B2 (ja) CdTe結晶の製造方法
JPS63270385A (ja) 酸化物単結晶の製造方法
JPH061692A (ja) 化合物半導体単結晶の製造装置
JPH05262596A (ja) 四ホウ酸リチウム単結晶の製造方法
JPH01167295A (ja) 化合物半導体単結晶成長用るつぼ
JPH0346433B2 (ja)
JPS5997591A (ja) 単結晶育成法および装置
JPH05246798A (ja) 四ほう酸リチウム単結晶の製造方法