JPS611678A - スチレンオキシド類の製造法 - Google Patents
スチレンオキシド類の製造法Info
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- JPS611678A JPS611678A JP12267184A JP12267184A JPS611678A JP S611678 A JPS611678 A JP S611678A JP 12267184 A JP12267184 A JP 12267184A JP 12267184 A JP12267184 A JP 12267184A JP S611678 A JPS611678 A JP S611678A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/04—Compounds containing oxirane rings containing only hydrogen and carbon atoms in addition to the ring oxygen atoms
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- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の分野
本発明は、スチレンオキシド類の製造法に関するもので
ある。更に詳しくは、エポキシ化触媒とホウ素化合物の
共存下、スチレン類と有機過酸(E物とを反応させるこ
とを特徴とする、スチレンオキシド類の製造法に関する
ものである。
ある。更に詳しくは、エポキシ化触媒とホウ素化合物の
共存下、スチレン類と有機過酸(E物とを反応させるこ
とを特徴とする、スチレンオキシド類の製造法に関する
ものである。
発明の背景
スチレンオキシド類は、高分子安定剤、紫外線吸収剤、
医薬、香料、溶剤の安定剤あるいは食品添加剤の原料等
として有用なものである。特に香料M料でhる2−フェ
ニルエチルアルコールや、アミノ酸のフェニルアラ風ン
の原料として重要な亀のである。 □ 従来から、エポキシ化触媒の存在下、スチレンと有機過
酸化物とを反応させて、スチレンオキシドを製造する方
法は公知であった。
医薬、香料、溶剤の安定剤あるいは食品添加剤の原料等
として有用なものである。特に香料M料でhる2−フェ
ニルエチルアルコールや、アミノ酸のフェニルアラ風ン
の原料として重要な亀のである。 □ 従来から、エポキシ化触媒の存在下、スチレンと有機過
酸化物とを反応させて、スチレンオキシドを製造する方
法は公知であった。
しかしながら公知方法□は、反応中に有機過酸化物が一
部熱分解して生じるラジカルのため、スチレンのラジカ
ル型番が併発し、スチレンに対するスチレンオキシドの
選択率が低下するといったことや、有機過酸化物の転化
率が十分高められないため、彼処理工a−精製工穆が複
雑化するといった欠点があった。
□これらの欠点を解決する方法として、脂肪
族または脂環族モノアミンとエポキシ化触媒共存下で反
応を実施する方法(特公昭57−8106号公報)や、
有機アミン系化合物と一ポキン化触媒共存下で実施する
方法(41開昭56−133.279号公報)が提案さ
れている。
部熱分解して生じるラジカルのため、スチレンのラジカ
ル型番が併発し、スチレンに対するスチレンオキシドの
選択率が低下するといったことや、有機過酸化物の転化
率が十分高められないため、彼処理工a−精製工穆が複
雑化するといった欠点があった。
□これらの欠点を解決する方法として、脂肪
族または脂環族モノアミンとエポキシ化触媒共存下で反
応を実施する方法(特公昭57−8106号公報)や、
有機アミン系化合物と一ポキン化触媒共存下で実施する
方法(41開昭56−133.279号公報)が提案さ
れている。
、これらの方法は、アミン系化合物を用いる点で共通し
ているが、スチレンオキシドのスチレンに対する選択率
や有機過酸化物の転化率はまだ十分高くなく、工業的に
有利な方法とは言いがたかった。
ているが、スチレンオキシドのスチレンに対する選択率
や有機過酸化物の転化率はまだ十分高くなく、工業的に
有利な方法とは言いがたかった。
本発明の概要
本発明者らは、上記した方法の欠点を改良し、工業的に
有利な方法で、かつ収率よ〈目的とするスチレンオキシ
ト類を製造する方法を鋭意検討した結果、本発明に到達
した。
有利な方法で、かつ収率よ〈目的とするスチレンオキシ
ト類を製造する方法を鋭意検討した結果、本発明に到達
した。
本発明の方法は、
(1)スチレンオキシド類のスチレン類に対する選択率
が高い、 (2)有機過酸化物の転化率が高く、更に、エポキシ化
速度も高い、 といったすぐれた特徴をもつ。
が高い、 (2)有機過酸化物の転化率が高く、更に、エポキシ化
速度も高い、 といったすぐれた特徴をもつ。
即ち、本発明は、スチレン類と有機過酸化物とを反応さ
せてスチレンオキシド類を製造する方法において、該反
応をエポキシ化触媒及びホウ素化合物の存在下に行わせ
ることを特徴とするスチレンオキシド類の製造法を提供
するものである。
せてスチレンオキシド類を製造する方法において、該反
応をエポキシ化触媒及びホウ素化合物の存在下に行わせ
ることを特徴とするスチレンオキシド類の製造法を提供
するものである。
発明の詳細な説明
(エポキシ化触媒)
本発明で用いられるエポキシ化触媒は、オレフィンのエ
ポキシ化触媒として知られているモリブデン、バナジウ
ムおよびチタンから選ばれる金属の化合物であり、これ
らの金属の酸化物、ハロゲン化物、ナフチ−ト、ステア
レート、オクトエート、カルボニル錯体、アセチルアセ
トナートなどがある。
ポキシ化触媒として知られているモリブデン、バナジウ
ムおよびチタンから選ばれる金属の化合物であり、これ
らの金属の酸化物、ハロゲン化物、ナフチ−ト、ステア
レート、オクトエート、カルボニル錯体、アセチルアセ
トナートなどがある。
具体的にこれらを例示すると、モリブデンの化合物とし
ては、モリブデン酸ナトリウム、酸化モリブデン、硫化
モリブデン、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナト
リウム、酸化モリブデンアセチルアセトナート、モリブ
デンアセチルアセトナート、モリブデンヘキサカルボニ
ル、五塩化モリブデン、モリブデン酸アンモン、バラモ
リブデン酸アンモン、ケイモリブデン酸、ナフテン酸モ
リブデン、ステアリン酸モリブデン、オクチル酸モリブ
デンなどであり、バナジウムの化合物としてはバナジン
酸ナトリウム、酸化バナジウム、オキシ三塩化バナジウ
ム、酸化バナジウムアセチルアセトナートなどであり、
チタン化合物としては、三塩化チタン、酸化チタンなど
である。
ては、モリブデン酸ナトリウム、酸化モリブデン、硫化
モリブデン、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナト
リウム、酸化モリブデンアセチルアセトナート、モリブ
デンアセチルアセトナート、モリブデンヘキサカルボニ
ル、五塩化モリブデン、モリブデン酸アンモン、バラモ
リブデン酸アンモン、ケイモリブデン酸、ナフテン酸モ
リブデン、ステアリン酸モリブデン、オクチル酸モリブ
デンなどであり、バナジウムの化合物としてはバナジン
酸ナトリウム、酸化バナジウム、オキシ三塩化バナジウ
ム、酸化バナジウムアセチルアセトナートなどであり、
チタン化合物としては、三塩化チタン、酸化チタンなど
である。
これらの中でもモリブデンの化合物が好ましく、特に有
機溶媒に可溶な酸化モリブデンアセチルアセトナート、
モリブデンヘキサカルボニル、ナフテン酸モリブデンな
どが特に好ましい。
機溶媒に可溶な酸化モリブデンアセチルアセトナート、
モリブデンヘキサカルボニル、ナフテン酸モリブデンな
どが特に好ましい。
エポキシ化触媒の使用量は、有機過酸化物1モルに対し
て0.00001〜0.1倍モル、より好ましくは帆0
001〜0.O1倍モルである。
て0.00001〜0.1倍モル、より好ましくは帆0
001〜0.O1倍モルである。
(ホウ素化合物)
ホウ素化合物としては、ホウ酸エステル、メタホウ酸エ
ステルが好ましい。ホウ酸エステルとしては、B (O
R’ ) aの構造をもち、卯が炭素数1〜10のアル
キル基またはアリール基であるものが好ましい。
ステルが好ましい。ホウ酸エステルとしては、B (O
R’ ) aの構造をもち、卯が炭素数1〜10のアル
キル基またはアリール基であるものが好ましい。
具体的には、ホウ酸トリメチルエステル、ホウ酸トリエ
チルエステル、ホウ酸トリプロピルエステル、ホウ酸ト
リブチルエステルもしくはホウ酸トリフェニルエステル
などである。
チルエステル、ホウ酸トリプロピルエステル、ホウ酸ト
リブチルエステルもしくはホウ酸トリフェニルエステル
などである。
メタホウ酸エステルとしては、
R2
R20OR”
の構造をもち、R2は炭素数1〜10のアルキル基また
はアリール基が好ましい。
はアリール基が好ましい。
具体的には、シクロヘキシルメタボレートもしくハフェ
ニルメタボレートである。
ニルメタボレートである。
ホウ素化合物の使用量は特に制限はないが、エポキシ化
触媒1モルに対して10〜100倍モル、より好ましく
は30〜80倍モルである。
触媒1モルに対して10〜100倍モル、より好ましく
は30〜80倍モルである。
(スチレン類)
スチレン類としては、下式で表わされるものである。
R,8
(式中11 Wおよび1は同じでも異なっていてもよく
、水素、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜15
のアリール基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数
6〜15のフェノキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲンおよ
びアミノ基を表わす)これらのスチレン類は、 (1)対応するエチルベンゼン類の脱水素反応、(2]
対応するアセトフェノン類の還元反応および脱水反
応、 などにより容易に一人手可能である。またスチレン類の
純度は、本反応に影響を及ぼさない範凹でよいが、80
チ以上のものが好ましい。具体的にこれらを例示すると
、スチレン、メトキシスチレン、メチルスチレン、ジメ
チルスチレン、イソブチルスチレン、ビニルフェノール
、3−クロロ−4−アリロキシスチレン、クロロスチレ
ン1.ブロモスチレン、ビニルビフェニル、L4,5−
) ’Jメトキシスチレン、フェノキシスチレンおよ
びジメチルアミノスチレンなどがあげられる。
、水素、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜15
のアリール基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数
6〜15のフェノキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲンおよ
びアミノ基を表わす)これらのスチレン類は、 (1)対応するエチルベンゼン類の脱水素反応、(2]
対応するアセトフェノン類の還元反応および脱水反
応、 などにより容易に一人手可能である。またスチレン類の
純度は、本反応に影響を及ぼさない範凹でよいが、80
チ以上のものが好ましい。具体的にこれらを例示すると
、スチレン、メトキシスチレン、メチルスチレン、ジメ
チルスチレン、イソブチルスチレン、ビニルフェノール
、3−クロロ−4−アリロキシスチレン、クロロスチレ
ン1.ブロモスチレン、ビニルビフェニル、L4,5−
) ’Jメトキシスチレン、フェノキシスチレンおよ
びジメチルアミノスチレンなどがあげられる。
(有機過酸化物)
有機過酸化物としては、R”が炭素数1〜15のアルキ
ル基またはアラルキル基である一般式R’OOHで表わ
される化合物が用いられる。
ル基またはアラルキル基である一般式R’OOHで表わ
される化合物が用いられる。
8体的には、エチルベンゼンノ・イドロバ−オキサイド
、キュメンハイドロパーオキサイド、メンタンハイドロ
パーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンモノハイドロ
パーオキサイド、ジイソプロビルベンゼンジハイドロパ
ーオキサイド、テトラリンハイドロパーオキサイド、シ
クロペンチルハイドロパーオキサイド、シクロヘキシル
ノ1イドロバーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオ
キサイドなどがあげられる。
、キュメンハイドロパーオキサイド、メンタンハイドロ
パーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンモノハイドロ
パーオキサイド、ジイソプロビルベンゼンジハイドロパ
ーオキサイド、テトラリンハイドロパーオキサイド、シ
クロペンチルハイドロパーオキサイド、シクロヘキシル
ノ1イドロバーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオ
キサイドなどがあげられる。
有機過酸化物は、高純度のままで用いてもよく、溶媒で
希釈したものを用いてもよい。有機過酸化物1モルに対
してスチレン類の使用量は1〜30倍モル、好ましくは
1〜10倍モルである。
希釈したものを用いてもよい。有機過酸化物1モルに対
してスチレン類の使用量は1〜30倍モル、好ましくは
1〜10倍モルである。
(上記以外の添加剤)
、本発明の方法においては、スチレン類と有機過酸化物
とを前記エポキシ化触媒及びホウ゛素化合物を製造する
ことができるが、この反応系には上記以外の添加剤とし
て館の様な化合物を、本発明の目的に悪影響を及埋さな
い□範囲で、例えばエポキシ化触媒1モルに対して5〜
50倍モル、好ましくは10〜40倍モル添加すること
ができる。
とを前記エポキシ化触媒及びホウ゛素化合物を製造する
ことができるが、この反応系には上記以外の添加剤とし
て館の様な化合物を、本発明の目的に悪影響を及埋さな
い□範囲で、例えばエポキシ化触媒1モルに対して5〜
50倍モル、好ましくは10〜40倍モル添加すること
ができる。
具体的に添加できる化合物としては、ブチルアミン、オ
クチルアミン、ノニルアミン、ジエチルアミン、トリエ
チルアミン、エチレンジアミン、アニリン、N、N−ジ
メチルアニリン、ピリジンおよびピコリンなどの有機ア
ミン系化合物、ハイドロキノン、t−ブチルカテコール
、ジt−ブチルハイドロキシトルエンなどのフェノール
系化合物、N−ニトロソジフェニルアミン、ニトロソベ
ンゼン、N−ニトロソジエチルアニリンなどの有機ニト
ロソ系化合物および酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢
酸リチウム、炭酸水素ナトリウムおよびアセチルアセト
ナートナトリウム塩などのアルカリ金属塩などがあげら
れる。
クチルアミン、ノニルアミン、ジエチルアミン、トリエ
チルアミン、エチレンジアミン、アニリン、N、N−ジ
メチルアニリン、ピリジンおよびピコリンなどの有機ア
ミン系化合物、ハイドロキノン、t−ブチルカテコール
、ジt−ブチルハイドロキシトルエンなどのフェノール
系化合物、N−ニトロソジフェニルアミン、ニトロソベ
ンゼン、N−ニトロソジエチルアニリンなどの有機ニト
ロソ系化合物および酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢
酸リチウム、炭酸水素ナトリウムおよびアセチルアセト
ナートナトリウム塩などのアルカリ金属塩などがあげら
れる。
(反応)
本発明の方法は、無溶媒でも実施できるが有機過酸化物
の熱分解反応が発熱反応である丸め、暴走反応とスチレ
ンの重合反応の抑制に溶媒を使用するのが好ましい。
の熱分解反応が発熱反応である丸め、暴走反応とスチレ
ンの重合反応の抑制に溶媒を使用するのが好ましい。
□この溶媒としては、反応に不活性なものなら特瞥制限
はないが、−えばベンゼン、トルエン、エチルベンゼン
、キュメンなどの芳香族炭化水素、↑キサン、ヘプタン
、オクタンなどの脂肪族炭化水素、シクロヘキサン、シ
クロドデカンなどの脂環族炭化水素が好ましい、溶媒の
使用量は、特に制限はないが、経済性、分離精製のしや
すさの点などから、有機過酸化物の濃度が反応液に対し
て5〜60重量%、より好ましくは5〜40重量−であ
る。
はないが、−えばベンゼン、トルエン、エチルベンゼン
、キュメンなどの芳香族炭化水素、↑キサン、ヘプタン
、オクタンなどの脂肪族炭化水素、シクロヘキサン、シ
クロドデカンなどの脂環族炭化水素が好ましい、溶媒の
使用量は、特に制限はないが、経済性、分離精製のしや
すさの点などから、有機過酸化物の濃度が反応液に対し
て5〜60重量%、より好ましくは5〜40重量−であ
る。
−レンオキシドのスチレンに対する高い選択率および有
機過酸化物の高い軟化率を達成するために1V、!: 間・〜30分である。
機過酸化物の高い軟化率を達成するために1V、!: 間・〜30分である。
本発明は、回分式および連続式のいずれの方法によるこ
とも可能である。発熱反応であるため、反応温度が高く
反応時間が短い条件を選ぶ場合は連続式の方が好ましい
。
とも可能である。発熱反応であるため、反応温度が高く
反応時間が短い条件を選ぶ場合は連続式の方が好ましい
。
この場合、上記反応時間は反応管を反応液が通過する時
間であられすものとする。液供給速度がAm11分の場
合、反応管の容積をBmzとすれば、反応時間はB/A
分である。
間であられすものとする。液供給速度がAm11分の場
合、反応管の容積をBmzとすれば、反応時間はB/A
分である。
本発明の方法による反応生成物は、スチレンオキサイド
類および使用した有機過酸化物に相当する水酸基を有す
る化合物である。たとえば、クメンハイドロパーオキサ
イドを用いた場合はクミルアルコール、エチルベンゼン
ハイドロパーオキサイドを用いた場合は1−フェニルエ
チルアルコール、t−ブチルハイドロパーオキサイドを
用いた場合はt−ブチルアルコールがスチレンオキシド
類と共にそれぞれ生成する。
類および使用した有機過酸化物に相当する水酸基を有す
る化合物である。たとえば、クメンハイドロパーオキサ
イドを用いた場合はクミルアルコール、エチルベンゼン
ハイドロパーオキサイドを用いた場合は1−フェニルエ
チルアルコール、t−ブチルハイドロパーオキサイドを
用いた場合はt−ブチルアルコールがスチレンオキシド
類と共にそれぞれ生成する。
上記クミルアルコール、1−フェニルエチルアルコール
およびt−ブチルアルコールはそれ自体有用であるが、
脱水して得られるα−メチルスチレン、スチレンおよび
インブチレンもまた有用な化合物である。
およびt−ブチルアルコールはそれ自体有用であるが、
脱水して得られるα−メチルスチレン、スチレンおよび
インブチレンもまた有用な化合物である。
これらの反応生成物は、蒸留により分離精製される。
実験例
次に実験例を示して本発明を更に詳細に説明するが、例
中の転化率及び選択率は、それぞれ次式に従って定義し
た。
中の転化率及び選択率は、それぞれ次式に従って定義し
た。
有機過酸化物転化率@)
対スチレン類選択率(チ)
対有機過酸化物選択率部)
実施例1
温度計、攪拌機および還流冷却器を備えた内容積100
CCの三つ口平底フラスコに、酸化モリブデンアセチル
アセトナート0.007 f (0,02mmol)、
ホウ酸トリメチル0.117f(1,13mmol)、
811クメンハイドロパーオキサイド4.4f (23
,5mmol )、スチレン4.7f(45,3mmo
! )およびエチルベンゼン35CCを仕込ミ、窒素坏
囲気下、125℃で30分間加熱攪拌した。
CCの三つ口平底フラスコに、酸化モリブデンアセチル
アセトナート0.007 f (0,02mmol)、
ホウ酸トリメチル0.117f(1,13mmol)、
811クメンハイドロパーオキサイド4.4f (23
,5mmol )、スチレン4.7f(45,3mmo
! )およびエチルベンゼン35CCを仕込ミ、窒素坏
囲気下、125℃で30分間加熱攪拌した。
反応終了後反応液を冷却し、ヨードメトリーによりクメ
ンハイドロパーオキサイドの軟化率を求め、未反応のス
チレンおよび反応生成物をガスクロマトグラフィーによ
り定量した。
ンハイドロパーオキサイドの軟化率を求め、未反応のス
チレンおよび反応生成物をガスクロマトグラフィーによ
り定量した。
その結果クメンハイドロパーオキサイドの軟化率d98
.0 qbであり、スチレンオキシドの対スチレン選択
率F1100%、対クメンハイドロパーオキサイド選択
率は74.01であった。
.0 qbであり、スチレンオキシドの対スチレン選択
率F1100%、対クメンハイドロパーオキサイド選択
率は74.01であった。
比較例1〜3
実施例1においてホウ素化合物を添加する代りに、表1
に示す添加物をそれぞれ用いた他は実施例1と同様に反
応を実施した。結果を表1に示す。
に示す添加物をそれぞれ用いた他は実施例1と同様に反
応を実施した。結果を表1に示す。
比較例4
酸化モリブデンアセチルアセトナートを用いなかったこ
と以外は、実施例1と同様に反応を実施した。クメンハ
イドロパーオキサイドの転化率は10.8 fi、スチ
レンオキシドの対スチレン選択率1−i6.9%、対ク
メンハイドロパーオキサイド選択率は18.8チであっ
た。
と以外は、実施例1と同様に反応を実施した。クメンハ
イドロパーオキサイドの転化率は10.8 fi、スチ
レンオキシドの対スチレン選択率1−i6.9%、対ク
メンハイドロパーオキサイド選択率は18.8チであっ
た。
実施例2〜4
実施例1において、反応時間を10分間とし、ホウ酸ト
リメチルの代りに表2に示すホウ素化合物をそれぞれ用
いた他は、実施例1と同様に反応を行った。結果を表2
に示す。
リメチルの代りに表2に示すホウ素化合物をそれぞれ用
いた他は、実施例1と同様に反応を行った。結果を表2
に示す。
(以下余白)
実施例5
実施例1においてエチルベンゼンの量ヲ14acとし、
更に反応温度を115℃とした以外は実施例1と同様に
反応を実施した。
更に反応温度を115℃とした以外は実施例1と同様に
反応を実施した。
その結果、クメンハイドロパーオキサイドの転化率は9
5.0%、スチレンオキシドの対メチ9フ選択率はi
o O%、対クメンハイドロパーオキサイド選択率は7
4.31であった。
5.0%、スチレンオキシドの対メチ9フ選択率はi
o O%、対クメンハイドロパーオキサイド選択率は7
4.31であった。
実施例6
実施例5において酸化モリブデンアセチルアセトナート
の代9に、モリブデンナフチネートを使用した以外は実
施例5と同様に反応を実施した。
の代9に、モリブデンナフチネートを使用した以外は実
施例5と同様に反応を実施した。
その結果、クメンハイドロパーオキサイドの転化率は9
6.1%、スチレンオキシドの対スチレン選択率は99
.3%、対クメンハイドロパーオキサイド選択率は73
.896であった。
6.1%、スチレンオキシドの対スチレン選択率は99
.3%、対クメンハイドロパーオキサイド選択率は73
.896であった。
実施例7
実施例5においてクメンハイドロパーオキサイドの代す
忙、エチルベンゼンハイドロパーオキサイドを用いた以
外は実施例5と同様に反応を実施した。
忙、エチルベンゼンハイドロパーオキサイドを用いた以
外は実施例5と同様に反応を実施した。
その結果、エチルベンゼンハイドロパーオキサイドの転
化率は9a−t*sスチレンオキシドの対スチレン選択
率は1005g、対エチルベンゼン/1イドロバーオキ
サイド選択率は74.1−であった。
化率は9a−t*sスチレンオキシドの対スチレン選択
率は1005g、対エチルベンゼン/1イドロバーオキ
サイド選択率は74.1−であった。
実施例8
スチレン2.13 m mol / f、 80 ’1
6クメンハイドロパーオキサイドi、i 2 m mo
l / f %酸化モリブデンアセチルアセトナート1
.12 X 10 mmol/fおよびホウ酸トリメ
チk 6.27 X 10 mmol/lのキュメン
溶液を内径3.2ms、内容積25CCのガラス管に、
反応温度115℃、滞留時間10分で流通させた。
6クメンハイドロパーオキサイドi、i 2 m mo
l / f %酸化モリブデンアセチルアセトナート1
.12 X 10 mmol/fおよびホウ酸トリメ
チk 6.27 X 10 mmol/lのキュメン
溶液を内径3.2ms、内容積25CCのガラス管に、
反応温度115℃、滞留時間10分で流通させた。
その結果、クメンハイドロパーオキサイドの転化率97
.8 %、スチレンオキシドの対スチレン選択率9 t
、s %、対クメンハイドロパーオキサイド選択率87
.9−であった。
.8 %、スチレンオキシドの対スチレン選択率9 t
、s %、対クメンハイドロパーオキサイド選択率87
.9−であった。
実施例9
た以外は実施例2と同様に反応を実施した。その結果、
クメンハイドロパーオキサイドの転化率は97.3 %
、スチレンオキシドの対スチレン選択率はtoo%、対
クメンハイドロパーオキサイド選択率は74.3%であ
った。
クメンハイドロパーオキサイドの転化率は97.3 %
、スチレンオキシドの対スチレン選択率はtoo%、対
クメンハイドロパーオキサイド選択率は74.3%であ
った。
実施例10
実施例2において、ホウ素化合物の他に更にノニルアミ
ン0.05 f (0,38mmol )を添加した以
外は実施例2と同様に反応を実施した。その結果、クメ
ンハイドロパーオキサイドの転化率は9 B、3 s、
スチレンオキシドの対スチレン選択率は100%、対ク
メンハイドロパーオキサイド選択率&i75.3チであ
った。
ン0.05 f (0,38mmol )を添加した以
外は実施例2と同様に反応を実施した。その結果、クメ
ンハイドロパーオキサイドの転化率は9 B、3 s、
スチレンオキシドの対スチレン選択率は100%、対ク
メンハイドロパーオキサイド選択率&i75.3チであ
った。
実施例11
実施例2において、スチレンの代りに4−メチルスチレ
ン5.5 f (45,3mmol )を用いた以外は
実施例2と同様に反応を実施した。その結果、クメンハ
イドロパーオキサイドの転化率は、98.7チであり、
4−メチルスチレンオキシドの対4−メチルスチレン選
択率は1ooL対クメンハイドロパ一オキサイド選択率
は76.3 %であった。
ン5.5 f (45,3mmol )を用いた以外は
実施例2と同様に反応を実施した。その結果、クメンハ
イドロパーオキサイドの転化率は、98.7チであり、
4−メチルスチレンオキシドの対4−メチルスチレン選
択率は1ooL対クメンハイドロパ一オキサイド選択率
は76.3 %であった。
Claims (1)
- (1)スチレン類と有機過酸化物とを反応させてスチレ
ンオキシド類を製造する方法において、該反応をエポキ
シ化触媒及びホウ素化合物の存在下に行わせることを特
徴とするスチレンオキシド類の製造法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12267184A JPS611678A (ja) | 1984-06-14 | 1984-06-14 | スチレンオキシド類の製造法 |
| EP19850107431 EP0170836B1 (en) | 1984-06-14 | 1985-06-14 | Method for preparation of styrene oxides |
| DE8585107431T DE3568429D1 (en) | 1984-06-14 | 1985-06-14 | Method for preparation of styrene oxides |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12267184A JPS611678A (ja) | 1984-06-14 | 1984-06-14 | スチレンオキシド類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS611678A true JPS611678A (ja) | 1986-01-07 |
| JPH0528232B2 JPH0528232B2 (ja) | 1993-04-23 |
Family
ID=14841754
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12267184A Granted JPS611678A (ja) | 1984-06-14 | 1984-06-14 | スチレンオキシド類の製造法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0170836B1 (ja) |
| JP (1) | JPS611678A (ja) |
| DE (1) | DE3568429D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001151764A (ja) * | 1999-11-19 | 2001-06-05 | Nof Corp | エポキシ化合物の製造方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1589267A (zh) * | 2001-09-21 | 2005-03-02 | 住友化学工业株式会社 | 环氧丙烷的制造方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL301649A (ja) * | 1962-12-31 | |||
| NL130301C (ja) * | 1965-06-01 | |||
| US3832363A (en) * | 1965-09-07 | 1974-08-27 | Shell Oil Co | Method of epoxidizing olefinic compounds using an oxyboron catalyst |
| CA967973A (en) * | 1970-04-20 | 1975-05-20 | The Dow Chemical Company | Epoxidation process |
| US3843694A (en) * | 1971-08-19 | 1974-10-22 | Petro Tex Chem Corp | Catalytic epoxidation of olefins |
-
1984
- 1984-06-14 JP JP12267184A patent/JPS611678A/ja active Granted
-
1985
- 1985-06-14 EP EP19850107431 patent/EP0170836B1/en not_active Expired
- 1985-06-14 DE DE8585107431T patent/DE3568429D1/de not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001151764A (ja) * | 1999-11-19 | 2001-06-05 | Nof Corp | エポキシ化合物の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0170836B1 (en) | 1989-03-01 |
| EP0170836A1 (en) | 1986-02-12 |
| JPH0528232B2 (ja) | 1993-04-23 |
| DE3568429D1 (en) | 1989-04-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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