JPS61168222A - 薄膜作製用合金タ−ゲツト - Google Patents
薄膜作製用合金タ−ゲツトInfo
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- JPS61168222A JPS61168222A JP880485A JP880485A JPS61168222A JP S61168222 A JPS61168222 A JP S61168222A JP 880485 A JP880485 A JP 880485A JP 880485 A JP880485 A JP 880485A JP S61168222 A JPS61168222 A JP S61168222A
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- 229910002070 thin film alloy Inorganic materials 0.000 title 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 21
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 16
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 10
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229910000967 As alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- -1 etc. Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002902 ferrimagnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光磁気記録媒体として用いられる薄膜を作製す
るための合金ターゲットに関するものでスパッタ法によ
りガラスあるいはプラスティック基板上に作製した薄膜
であり、薄部に対して垂直な磁気異方性を有し、レーザ
ー等の加熱により反転磁区を作り情報を記録することが
できる薄膜の作製を目的とした合金ターゲットに関する
。
るための合金ターゲットに関するものでスパッタ法によ
りガラスあるいはプラスティック基板上に作製した薄膜
であり、薄部に対して垂直な磁気異方性を有し、レーザ
ー等の加熱により反転磁区を作り情報を記録することが
できる薄膜の作製を目的とした合金ターゲットに関する
。
従来の光磁気記録媒体は例えば特開昭５７−９４９４８
のように重希土類金属としてＴｂ、Ｇｄ、Ｄｙ等のうち
１種類以上およびＦｅまたはｃ。
のように重希土類金属としてＴｂ、Ｇｄ、Ｄｙ等のうち
１種類以上およびＦｅまたはｃ。
のうち１種類以上からなる非晶質合金薄膜からなるＯ
垂直磁化膜を得るための条件は公知のように、Ｋ ｕ
＞ ２πＭＪ と書きあられされる。但しＫｕは磁気異方性エネルギー
（ａｒｔ／ｃｃ ） 、Ｍ ｓは飽和磁化（瞳ｔ／ｃｃ
）である。Ｔｂ、Ｇｄ、Ｄ７らはＦｅおよびＣｏと非晶
質合金を作るとフェリ磁性体となるため、最も残留磁化
の小さくなる組成、補償組成に近い組成からなる薄膜を
光磁気媒体として用いていた。
＞ ２πＭＪ と書きあられされる。但しＫｕは磁気異方性エネルギー
（ａｒｔ／ｃｃ ） 、Ｍ ｓは飽和磁化（瞳ｔ／ｃｃ
）である。Ｔｂ、Ｇｄ、Ｄ７らはＦｅおよびＣｏと非晶
質合金を作るとフェリ磁性体となるため、最も残留磁化
の小さくなる組成、補償組成に近い組成からなる薄膜を
光磁気媒体として用いていた。
しかし、光磁気記録媒体用薄膜作成の際に用いられるＴ
ｂ 、Ｇｄ 、Ｄｙは補償組成付近で遷移金属と金属間
化合物を作りやすく、それらを溶融し鋳造しただけでは
割れやすいという欠点があり、合金ターゲットを作製す
るには特殊な技術が必要である。
ｂ 、Ｇｄ 、Ｄｙは補償組成付近で遷移金属と金属間
化合物を作りやすく、それらを溶融し鋳造しただけでは
割れやすいという欠点があり、合金ターゲットを作製す
るには特殊な技術が必要である。
従って、スパッタ法で薄膜を作製するには、複合ターゲ
ットが用いられている。複合ターゲツト法では、 ■薄膜の組成制御が困難である。
ットが用いられている。複合ターゲツト法では、 ■薄膜の組成制御が困難である。
■均一な薄膜を得るためにはペレットの配置をくふうす
る等、煩雑な手続きが必要である。
る等、煩雑な手続きが必要である。
という欠点を有する。
そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、そ
の目的とするところは光磁気記録媒体として使用しうる
薄膜を作製するための合金ターゲットを提供するもので
ある。
の目的とするところは光磁気記録媒体として使用しうる
薄膜を作製するための合金ターゲットを提供するもので
ある。
本発明の光磁気記録媒体用薄膜作製用合金ターゲットは
重希土類金属の他に軽希土類金属であるＮ（１を含み、
合金ターゲット作製に際し特殊な技術を必要としないこ
とを特徴とする〇 〔実施例〕 実施例により、本発明の効果について述べる。
重希土類金属の他に軽希土類金属であるＮ（１を含み、
合金ターゲット作製に際し特殊な技術を必要としないこ
とを特徴とする〇 〔実施例〕 実施例により、本発明の効果について述べる。
本実施例ではＮｄ、Ｄｙ、Ｆｅを低周波溶解炉で熔かし
鋳造したものを合金ターゲットとして用いた。薄膜はい
ずれもスパッタ法で作製し、スパッタ条件は初期真空度
約５ Ｘ １０−７Ｔｏｒｒ 、 Ａ ｒ圧１０ｍＴｏ
ｒｒｓ基板バイアスＯｖである□第１図は本発明におけ
るＮ ｄ ｚ 、Ｄｙ、 ＦｅｇＨｚ合金ターゲット
と複合ターゲットから作製した薄膜のカー回転角（以下
ａｋと記す）の組成依存性を示している。合金ターゲッ
トから作製した薄膜のθｋが複合ターゲットから作製し
たものに比べ ′て大きくなっている・光磁気媒体
として使用するときＳ ／ Ｎはθｋに比例するので、
この特性は非常に有利なものとなる。
鋳造したものを合金ターゲットとして用いた。薄膜はい
ずれもスパッタ法で作製し、スパッタ条件は初期真空度
約５ Ｘ １０−７Ｔｏｒｒ 、 Ａ ｒ圧１０ｍＴｏ
ｒｒｓ基板バイアスＯｖである□第１図は本発明におけ
るＮ ｄ ｚ 、Ｄｙ、 ＦｅｇＨｚ合金ターゲット
と複合ターゲットから作製した薄膜のカー回転角（以下
ａｋと記す）の組成依存性を示している。合金ターゲッ
トから作製した薄膜のθｋが複合ターゲットから作製し
たものに比べ ′て大きくなっている・光磁気媒体
として使用するときＳ ／ Ｎはθｋに比例するので、
この特性は非常に有利なものとなる。
第２図は本発明におけるＮ ｄ ｇ Ｆ ｅ、ｏｏ−
ｇ合金ターゲットの組成と合金ターゲットから作製され
た薄膜の関係を示したものである。合金ターゲットの組
成と薄膜の組成とは一致する傾向にある。
ｇ合金ターゲットの組成と合金ターゲットから作製され
た薄膜の関係を示したものである。合金ターゲットの組
成と薄膜の組成とは一致する傾向にある。
合金ターゲットの組成は熔解前の秤量で容易に制御でき
る。一方、図６にＮｄｚＦｅｌｏｏ−π複合ターゲット
の面積比と複合ターゲットから作製された薄膜の関係を
示す。合金ターゲットの場合と比べて一致はよくない。
る。一方、図６にＮｄｚＦｅｌｏｏ−π複合ターゲット
の面積比と複合ターゲットから作製された薄膜の関係を
示す。合金ターゲットの場合と比べて一致はよくない。
上記のように合金ターゲットを用いると複合ターゲット
を用いた場合に比べて、薄膜の組成を狙いどおり制御で
きる。従っである範囲内であれば、薄膜の組成制御が容
易となる。このことは特性のよい光磁気記録媒体を再現
性よく得るうえで有利なことである〇 図４はスパッタ法で作製したＮ ６ ｚ Ｆ’ ｅ、６
６−ｚ非晶質薄膜において任意の３点でθｋを測定しＶ
Σ（θに一〇ｋ）２をθにで規格化したものの組成依存
性を示している。但し、ｒｋはθにの平均値である。θ
には、合金ターゲットから作製された薄膜と複合ターゲ
ットから作製された薄膜とでθにの大きさが明らかに異
なるため、７ｆｋで規格化したＯｆ■ｆｉｘ−ｆＪ＊
）２ ／ （ｊ ｋはθにのばらつきの相対的な目安と
なる。
を用いた場合に比べて、薄膜の組成を狙いどおり制御で
きる。従っである範囲内であれば、薄膜の組成制御が容
易となる。このことは特性のよい光磁気記録媒体を再現
性よく得るうえで有利なことである〇 図４はスパッタ法で作製したＮ ６ ｚ Ｆ’ ｅ、６
６−ｚ非晶質薄膜において任意の３点でθｋを測定しＶ
Σ（θに一〇ｋ）２をθにで規格化したものの組成依存
性を示している。但し、ｒｋはθにの平均値である。θ
には、合金ターゲットから作製された薄膜と複合ターゲ
ットから作製された薄膜とでθにの大きさが明らかに異
なるため、７ｆｋで規格化したＯｆ■ｆｉｘ−ｆＪ＊
）２ ／ （ｊ ｋはθにのばらつきの相対的な目安と
なる。
θにはその測定時にレーザーが照射された領域（スポッ
ト径約５００μ？Ｆ＋）の組成に敏感であるから、θに
のばらつきは組成の不均一さを示している。θにのばら
つきは明らかに合金ターゲットから作製した薄膜の方が
、複合ターゲットから作製した薄膜に比べて小さい。θ
にのばらつきは読み出しの際のノイズ源となるため、こ
の特性は光磁気記録媒体として用いる場合、有利なもの
であるＯ 〔発明の効果〕 以上述べたように本発明によれば、合金ターゲットを容
易に作製できる。その効果として、■θにの増大 ■薄膜の組成制御の容易さ ■薄膜の均一性の向上 が挙げられる。
ト径約５００μ？Ｆ＋）の組成に敏感であるから、θに
のばらつきは組成の不均一さを示している。θにのばら
つきは明らかに合金ターゲットから作製した薄膜の方が
、複合ターゲットから作製した薄膜に比べて小さい。θ
にのばらつきは読み出しの際のノイズ源となるため、こ
の特性は光磁気記録媒体として用いる場合、有利なもの
であるＯ 〔発明の効果〕 以上述べたように本発明によれば、合金ターゲットを容
易に作製できる。その効果として、■θにの増大 ■薄膜の組成制御の容易さ ■薄膜の均一性の向上 が挙げられる。
【図面の簡単な説明】
第１図 Ｎ ｄ Ｚ Ｄ ３’Ｏ，Ｏ！Ｉ ’ ＠ｏ
、ｏｓ−ｅ非晶質薄膜におけるθにの組成依存性を示し
た同 第２図 Ｎｄｇ Ｆｅｌ−Ｚ非晶質薄膜組成の合金タ
ーゲット組成依存性を示した図 第３図 Ｎｄπ Ｆｅ、−２非晶質薄膜組成の複合ター
ゲツト面積比依存性を示した同 第４図 Ｎ ｄ ｚ ＩＦ ｅｌｏｏ−！ｅ非晶質薄
膜における相対ばらつきと組成を示した図 以 上 ｅｋ［／＃１ ）Ｉｄ−ｘ Ｄｙｒ Ｆ６ｆｒ−ｘ ４ｒ晶ｖ％＠
＋： ｐ％プ４ｈｌＡＪ（層、６−／、） 第１図 ０ １０ 迦 ＢＯ４０Ｔ３Ｄ
。 Ｎｄ丁εん９【７−丁゛ットＩζ１１アろＮ献η号（、
原）％）第２図 ０ １０ ２０ ５Ｄ ４０
５０ ６ＯＮｄＦｅ ネｉ合？−丁炒ト１Ｃおり々
Ｎｄ寸レンし呑ｌ責区」 （％）第３図
、ｏｓ−ｅ非晶質薄膜におけるθにの組成依存性を示し
た同 第２図 Ｎｄｇ Ｆｅｌ−Ｚ非晶質薄膜組成の合金タ
ーゲット組成依存性を示した図 第３図 Ｎｄπ Ｆｅ、−２非晶質薄膜組成の複合ター
ゲツト面積比依存性を示した同 第４図 Ｎ ｄ ｚ ＩＦ ｅｌｏｏ−！ｅ非晶質薄
膜における相対ばらつきと組成を示した図 以 上 ｅｋ［／＃１ ）Ｉｄ−ｘ Ｄｙｒ Ｆ６ｆｒ−ｘ ４ｒ晶ｖ％＠
＋： ｐ％プ４ｈｌＡＪ（層、６−／、） 第１図 ０ １０ 迦 ＢＯ４０Ｔ３Ｄ
。 Ｎｄ丁εん９【７−丁゛ットＩζ１１アろＮ献η号（、
原）％）第２図 ０ １０ ２０ ５Ｄ ４０
５０ ６ＯＮｄＦｅ ネｉ合？−丁炒ト１Ｃおり々
Ｎｄ寸レンし呑ｌ責区」 （％）第３図
Claims (1)
- Ｎｄおよび重希土類金属のうち１種類以上の元素および
Ｆｅ、Ｃｏのうち１種類以上と不純物からなり、Ｎｄと
重希土類金属をあわせて原子比で１０ａｔ％から５０ａ
ｔ％となることを特徴とする薄膜作製用合金ターゲット
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60008804A JPH084052B2 (ja) | 1985-01-21 | 1985-01-21 | 薄膜作製用合金ターゲット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60008804A JPH084052B2 (ja) | 1985-01-21 | 1985-01-21 | 薄膜作製用合金ターゲット |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61168222A true JPS61168222A (ja) | 1986-07-29 |
| JPH084052B2 JPH084052B2 (ja) | 1996-01-17 |
Family
ID=11703030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60008804A Expired - Lifetime JPH084052B2 (ja) | 1985-01-21 | 1985-01-21 | 薄膜作製用合金ターゲット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH084052B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63243268A (ja) * | 1987-03-30 | 1988-10-11 | Seiko Epson Corp | スパツタリング・タ−ゲツト |
| US4824481A (en) * | 1988-01-11 | 1989-04-25 | Eaastman Kodak Company | Sputtering targets for magneto-optic films and a method for making |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4942320A (ja) * | 1972-04-08 | 1974-04-20 | ||
| JPS60128606A (ja) * | 1983-12-15 | 1985-07-09 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 光磁気記録媒体 |
-
1985
- 1985-01-21 JP JP60008804A patent/JPH084052B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4942320A (ja) * | 1972-04-08 | 1974-04-20 | ||
| JPS60128606A (ja) * | 1983-12-15 | 1985-07-09 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 光磁気記録媒体 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63243268A (ja) * | 1987-03-30 | 1988-10-11 | Seiko Epson Corp | スパツタリング・タ−ゲツト |
| US4824481A (en) * | 1988-01-11 | 1989-04-25 | Eaastman Kodak Company | Sputtering targets for magneto-optic films and a method for making |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH084052B2 (ja) | 1996-01-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |