JPS61168663A - High-molecular material composition having improved light resistance - Google Patents
High-molecular material composition having improved light resistanceInfo
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- JPS61168663A JPS61168663A JP864785A JP864785A JPS61168663A JP S61168663 A JPS61168663 A JP S61168663A JP 864785 A JP864785 A JP 864785A JP 864785 A JP864785 A JP 864785A JP S61168663 A JPS61168663 A JP S61168663A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、安定化された高分子材料組成物、詳しくは、
ヒンダードアミン系光安定剤及び特定のセミカルバジド
化合物を金@l、−を舎市叫の々暮された高分子材料組
成物に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a stabilized polymeric material composition, in particular:
The present invention relates to a polymeric material composition in which a hindered amine light stabilizer and a specific semicarbazide compound are used.
〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題点〕ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ABS樹脂、ポリ塩化ビニ
ル樹脂等の合成樹脂は紫外線に対して敏感であり、その
作用により色の悪化、機械的強度の低下等を引き起こし
、長期の使用に耐えないことが知られている。[Prior art and problems to be solved by the invention] Synthetic resins such as polyethylene, polypropylene, ABS resin, and polyvinyl chloride resin are sensitive to ultraviolet rays, and the effects of this can cause deterioration of color and reduction of mechanical strength. It is known that it causes such problems and cannot withstand long-term use.
これらの害作用を防止するために、これまでにベンゾフ
ェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、ピ
ペリジン系等の化合物が用いられてきたが、これらの化
合物は樹脂に着色を与えるものが多く、またその効果も
不充分であり、更に改良が望まれていた。To prevent these harmful effects, compounds such as benzophenone, benzotriazole, benzoate, and piperidine have been used, but many of these compounds color the resin, and The effect was also insufficient, and further improvements were desired.
これらの化合物の中でもピペリジン系の化合物は非着色
性であり、また光安定化効果も比較的大きいので近年特
に注目されている。Among these compounds, piperidine-based compounds have attracted particular attention in recent years because they are non-coloring and have a relatively large photostabilizing effect.
しかしながら、ピペリジン系化合物に代表されるヒンダ
ードアミン化合物は比較的優れた光安定剤であるが、単
独使用による効果は未だ不充分なものであった。このた
め、ピペリジン系の化合物と、ベンゾフェノン系、ベン
ゾトリアゾール系、フェニルサリシレート系、シュウ酸
ジアミド系等の紫外線吸収剤と併用することが提案され
ているが、これらの併用による効果は相加的なものに過
ぎず、実用上は満足し得るものではなかった。However, although hindered amine compounds such as piperidine compounds are relatively excellent light stabilizers, their effects when used alone are still insufficient. For this reason, it has been proposed to use piperidine-based compounds in combination with UV absorbers such as benzophenone-based, benzotriazole-based, phenylsalicylate-based, and oxalic diamide-based agents, but the effects of these combinations are additive. However, it was not practical and satisfactory.
また、置換セミカルバジド類をポリアミノアクリレート
の着色防止剤として使用することも特開昭53−144
949号公報に提案されているが、その効果は不充分で
あり、満足し得るものではなかった。In addition, the use of substituted semicarbazides as a coloring preventive agent for polyaminoacrylate has also been reported in Japanese Patent Application Laid-Open No. 53-144.
Although it was proposed in Japanese Patent No. 949, the effect was insufficient and unsatisfactory.
本発明者等は、斯る現状に鑑み、鋭意検討を重ねた結果
、ヒンダードアミン系光安定剤と特定のセミカルバジド
化合物を併用して高分子材料に配合すると、それらをそ
れぞれ単独使用した場合よりもその効果が著しく優れて
いることを見い出し、本発明に到達した。In view of the current situation, the present inventors have conducted intensive studies and found that when a hindered amine light stabilizer and a specific semicarbazide compound are combined in a polymeric material, the effect is higher than when each of them is used alone. It was discovered that the effect is significantly superior, and the present invention was achieved.
即ち、本発明は、高分子材料100重量部に、+alヒ
ンダードアミン系光安定剤の少なくとも一種0.001
〜5重量部及び(b1次の一般式(I)で表001〜5
重量部を配合してなる、耐光性の改善された高分子材料
組成物を提供するものである。That is, in the present invention, 0.001 parts by weight of at least one type of +al hindered amine light stabilizer is added to 100 parts by weight of the polymeric material.
~5 parts by weight and (b1) Tables 001 to 5 with the following general formula (I)
The object of the present invention is to provide a polymeric material composition with improved light resistance, which contains the following parts by weight.
RR
(式中、Rはメチル基、エチル基又はフェニル基を示し
、R1は二価の炭化水素基を示す。)以下、本発明の高
分子材料組成物について詳述する。RR (In the formula, R represents a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group, and R1 represents a divalent hydrocarbon group.) The polymer material composition of the present invention will be described in detail below.
本発明で用いられるヒンダードアミン余光安定具体的に
は次に示すようなものがあげられる。Specific examples of the hindered amine afterglow stability used in the present invention include the following.
tlkl 4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−
チトラメチルピペリジン
Na2l−(3,5−ジー第3ブチル−4−ヒドロキシ
クエニルブロビオニルオキシエチル)−4−(3,5−
ジー第3ブチル−4−ヒドロキシフエニルブロピオニル
オキシ)−2,2,6,6−テトラメチルビペリジン
Na34−(β−3′ 、5°−ジー第3ブチル−4′
−オキシフェニル−プロピオニルオキシ)−2,2,6
,6−チトラメチルピペリジン
阻4 ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)セパセード
丸5 ビス(I,2,2,6,6−ベンタメチルー4−
ピペリジル)セパセード
hh6 ビス(I,2,2,6,6−ペンタメチル−
4−ピペリジル)−2−ブチル−2−(3,5−ジー第
3ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート
凪7 ビス(I−アクリロイル−2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)−2゜2−ビス (3,5
−ジー第3ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネー
ト
階8 ビス(9−アザーa、s、io、io−テトラメ
チル−3−エチル−1,5−ジオキサスピロ(5,5)
−3−ウンデシルメチル)メチルイミノジアセテート
階9 ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル−1−オキシル)セパセード迎10トリス(2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)シトレー
ト
阻11 )リス(2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジル)ニトリロトリアセテートNa12 )
リス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル
)ブタントリカルボキシレート
阻13トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピ
ペリジル)トリメリテート
磁14 テトラ(2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジル)ピロメリテート
11kL15 テトラ(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)−1,3−ビス(アミノメチ゛ル
)シクロヘキサンテトラアセテート磁16 テトラ(
2,2,6,6−テトラメチルー4−ピペリジル) −
1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート
11h17 トリス(2,2,6,6−テトラメチル
−4−ピペリジル)・モノ (イソトリデシル)−1,
2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート
陽18 テトラ(I,2,2,6,6−ベンタメチル
ー4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカ
ルボキシレート
1’&119 1−リス(I,2,2,6,6−ベンタ
メチルー4−ピペリジル)・モノ (イソトリデシル)
−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート
阻20 ビス(I,2,2,6,6−ベンタメチルー
4−ピペリジル)・ジ(トリデシル)−1,2,3,4
−ブタンテトラカルボキシレート
魔21 ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル) ・ジ(トリデシル)−1゜2.3.4−
ブタンテトラカルホキシレー階22 ビス(2,2,
6,6−テトラメチル−1=オキシルー4−ピペリジル
)・ジ(トリデシル)−−1,2,3,4−ブタンテト
ラカルボキシレート
阻23 モノ (I,2,2,6,6−ベンタメチル
ー4−ピペリジル)・モノメチルセバケート
阻243.9−ビス 〔1,1−ジメチル−2−〔トリ
ス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルオ
キシカルボニル)ブチルカルボニルオキシフエチル)−
2,4,8゜lO−テトラオキサスピロ(5,5)ウン
デカン
臘253.9−ビス 〔1,1−ジメチル−2−〔トリ
ス(I,2,2,6,6−ベンタメチルー4−ピペリジ
ルオキシカルボニル)ブチルカルボニルオキシフエチル
)−2,4゜8、IO−テトラオキサスピロ(5,5)
ウンデカン
寛262.4.6−)リス (2,2,6,6−テトラ
メチル−4−ピペリジルオキシ) −S−トリアジン
阻272−ブチルアミノ−4,6−ビス (9−アザ−
8,8,10,10−テトラメチル−3−エチル−1,
5−ジオキサスピロ〔5゜5〕−3−ウンデシルメトキ
シ)−s−トリアジン
阻28 N、 N’−ビス 〔4,6−ビス (9
−アザ−8,8,10,10−テトラメチル−3−エチ
ル−1,5−ジオキサスピロ〔5゜5〕−3−ウンデシ
ルメトキシ)−3−トリアジン−2−イルコピペラジン
隘29 1,5,8.12−テトラキス(4,6−ビス
(N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)ブチルアミノ〕−1゜3.5−)リアジン−2−イ
ル) −1,5゜8.12−テトラアザドデカン
魚30 ビス(9−アザ−8,8,10,10−テト
ラメチル−3−エチル−1,5−ジオキサスピロ(5,
5)−3−ウンデシルメチル)カーボネート
隠31 ビス(9−アザ−8,8,10,10−テト
ラメチル−3−エチル−1,5−ジオキサスピロ〔5,
5〕−3−ウンデシルメチル)・水添ビスフェノールA
・ジカーボネート
陽32 ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)・ペンタエリスリトール・ジホスファイト
陳33 ビス(9−アザ−8,8,10,10−テト
ラメチル−3−エチル−1,5−ジオキサスピロ(5,
5)−3−ウンデシルメチル)・ペンタエリスリトール
・ジホスファイト
11h34 テトラ (2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)・ビスフェノールA・ジホスファ
イト
隘353,5−ジー第3ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル)ホスホネート11h36 1−(2−ヒドロキシ
エチル−2,2,6゜6−テトラメチル−4−ピペリジ
ツール/コハク酸ジメチル重縮合物
N137 2−第3オクチルアミノ−4,6−ジクロロ
−s −トリアジン/N、N’−ビス(2゜2.6.6
−テトラメチル−4−ピペリジル)へキサメチレンジア
ミン重縮合物
11kL381.6−ビス (2,2,6,6−テトラ
メチル−4−ピペリジルアミノ)ヘキサン/ジブロムエ
タン重縮合物
11h39 ビス(9−アザ−8,8,10,10−
テトラメチル−3−ヒドロキシメチル−1゜5−ジオキ
サスピロ(5,53−3−ウンデシルメチル)エーテル
漱403−グリシジル−8−メチル−7,7,9゜9−
テトラメチル−1,3,8−)ジアザスピロ(4,53
デカン−2,4−ジオン隘413−ドデシル−8−アセ
チル−?、7.9゜9−テトラメチル−1,3,8−)
ジアザスピロ(4,5)デカン−2,4−ジオンtk4
2 3−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル−1
,3,8−)ジアザスピロ〔4゜5〕デカン−2,4−
ジオン
嵐43 2,2,4.4−テトラメチル−7−オキサ−
3,20−ジアザジスピロ(5,1゜11.2)ヘンエ
イコサン−21−オン患443−ドデシル−1−(2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−2,5
−ピロリジンジオン
本発明で用いられる前記一般式(I)で表されるセミカ
ルバジド化合物は、ジメチル(又はジエチル)ヒドラジ
ン又はメチル・フェニルヒドラジンと2.4−)リレン
ジイソシアネート、2.6−トリジンジイソシアネート
、4,4゛−ジフェニルメタンジイソシアネート、トリ
ジンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、
1,5−ナフチレンジイソシアネート、イソホロンジイ
ソシアネート、トリフェニルメタンジイソシアネート、
リジンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、ダイマージイソシアネート、フェニレンジイソシ
アネート、ジフェニルエーテルジイソシアネート、ジア
ニシジンジイソシアネート、ビス(イソシアナトメチル
)シクロヘキサン、ジシクロヘキシルメタンジイソシア
ネートなどのポリイソシアネートとを反応させることに
より容易に製造できる。tlkl 4-benzoyloxy-2,2,6,6-
Chitramethylpiperidine Na2l-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyquenylbrobionyloxyethyl)-4-(3,5-
Di-tert-butyl-4-hydroxyphenylpropionyloxy)-2,2,6,6-tetramethylbiperidine Na34-(β-3', 5°-di-tert-butyl-4'
-oxyphenyl-propionyloxy)-2,2,6
,6-titramethylpiperidine 4 bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)sepacade round 5 bis(I,2,2,6,6-bentamethyl-4-
piperidyl)sepacade hh6 bis(I,2,2,6,6-pentamethyl-
4-Piperidyl)-2-butyl-2-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)malonate Nagi 7 Bis(I-acryloyl-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -2゜2-bis (3,5
-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)malonate 8 bis(9-aza, s, io, io-tetramethyl-3-ethyl-1,5-dioxaspiro(5,5)
-3-undecylmethyl)methyliminodiacetate 9 bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl-1-oxyl)sepacade 10 tris(2,
2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)citrate 11) Lis(2,2,6,6-tetramethyl-4
-piperidyl)nitrilotriacetate Na12)
Tris(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)butanetricarboxylate 13 Tris(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)trimelitate 14 Tetra(2,2,6 ,6-tetramethyl-4
-Piperidyl)pyromellitate 11kL15 Tetra(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-1,3-bis(aminomethyl)cyclohexanetetraacetate Magnet 16 Tetra(
2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -
1,2,3,4-butanetetracarboxylate 11h17 Tris(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) mono(isotridecyl)-1,
2,3,4-butanetetracarboxylate 18 tetra(I,2,2,6,6-bentamethyl-4-piperidyl)-1,2,3,4-butanetetracarboxylate 1'&119 1-lis ,2,2,6,6-bentamethyl-4-piperidyl) mono (isotridecyl)
-1,2,3,4-butanetetracarboxylate 20 bis(I,2,2,6,6-bentamethyl-4-piperidyl) di(tridecyl)-1,2,3,4
-butanetetracarboxylate 21 bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-
piperidyl) ・di(tridecyl)-1゜2.3.4-
Butanetetracarboxylate 22 bis(2,2,
6,6-tetramethyl-1=oxy-4-piperidyl) di(tridecyl)-1,2,3,4-butanetetracarboxylate 23 mono(I,2,2,6,6-bentamethyl-4- monomethyl sebacate 243.9-bis [1,1-dimethyl-2-[tris(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyloxycarbonyl)butylcarbonyloxyphethyl]-
2,4,8゜O-tetraoxaspiro(5,5)undecane臘253.9-bis[1,1-dimethyl-2-[tris(I,2,2,6,6-bentamethyl-4-piperidyloxy) carbonyl)butylcarbonyloxyphethyl)-2,4゜8, IO-tetraoxaspiro(5,5)
Undecane 262.4.6-) Lis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyloxy) -S-triazine 272-Butylamino-4,6-bis (9-aza-
8,8,10,10-tetramethyl-3-ethyl-1,
5-Dioxaspiro[5゜5]-3-undecylmethoxy)-s-triazine28 N,N'-bis[4,6-bis(9
-Aza-8,8,10,10-tetramethyl-3-ethyl-1,5-dioxaspiro[5゜5]-3-undecylmethoxy)-3-triazin-2-ylcopiperazine 29 1,5 ,8.12-tetrakis(4,6-bis(N-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)butylamino]-1°3.5-)riazin-2-yl) -1 ,5゜8.12-tetraazadodecane fish 30 bis(9-aza-8,8,10,10-tetramethyl-3-ethyl-1,5-dioxaspiro(5,
5) -3-Undecylmethyl) carbonate hidden 31 bis(9-aza-8,8,10,10-tetramethyl-3-ethyl-1,5-dioxaspiro[5,
5]-3-undecylmethyl)/hydrogenated bisphenol A
・Dicarbonate cation 32 bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-
piperidyl)/pentaerythritol/diphosphite Chen 33 Bis(9-aza-8,8,10,10-tetramethyl-3-ethyl-1,5-dioxaspiro(5,
5) -3-Undecylmethyl)・Pentaerythritol・Diphosphite 11h34 Tetra (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)・Bisphenol A・Diphosphite 353,5-di-tert-butyl-4-hydroxy Benzyl-bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)phosphonate 11h36 1-(2-hydroxyethyl-2,2,6°6-tetramethyl-4-piperiditul/dimethyl succinate polycondensate) N137 2-tertiary octylamino-4,6-dichloro-s-triazine/N,N'-bis(2°2.6.6
-tetramethyl-4-piperidyl)hexamethylenediamine polycondensate 11kL381.6-bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidylamino)hexane/dibromoethane polycondensate 11h39 bis(9-aza- 8,8,10,10-
Tetramethyl-3-hydroxymethyl-1゜5-dioxaspiro(5,53-3-undecylmethyl)ether 403-glycidyl-8-methyl-7,7,9゜9-
Tetramethyl-1,3,8-)diazaspiro(4,53
Decane-2,4-dione 413-dodecyl-8-acetyl-? , 7.9°9-tetramethyl-1,3,8-)
Diazaspiro(4,5)decane-2,4-dione tk4
2 3-octyl-7,7,9,9-tetramethyl-1
,3,8-)diazaspiro[4゜5]decane-2,4-
Zeon Arashi 43 2,2,4.4-tetramethyl-7-oxa-
3,20-diazadispiro(5,1゜11.2)heneicosan-21-one 443-dodecyl-1-(2,
2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-2,5
-Pyrrolidinedione The semicarbazide compound represented by the general formula (I) used in the present invention is dimethyl (or diethyl) hydrazine or methyl phenylhydrazine, 2.4-)lylene diisocyanate, 2.6-tolidine diisocyanate, 4 , 4゛-diphenylmethane diisocyanate, toridine diisocyanate, xylylene diisocyanate,
1,5-naphthylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, triphenylmethane diisocyanate,
It can be easily produced by reacting with polyisocyanates such as lysine diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, dimer diisocyanate, phenylene diisocyanate, diphenyl ether diisocyanate, dianisidine diisocyanate, bis(isocyanatomethyl)cyclohexane, and dicyclohexylmethane diisocyanate.
従って、本発明で用いられる前記一般式(I)で表され
るセミカルバジド化合物としては、例えば次に示す化合
物があげられる。Therefore, examples of the semicarbazide compound represented by the general formula (I) used in the present invention include the following compounds.
5C−1へキサメチレンビス(ジメチルセミカルバジド
)
SC−2へキサメチレンビス(ジエチルセミカルバジド
)
SC−3へキサメチレンビス(メチル・フェニルセミカ
ルバジド)
SC−41−リレンビス(ジメチルセミカルバジド)
SC−5キシリレンビス(ジメチルセミカルバジド)
SC−6メチレン−ジーP−フェニレンビス(ジメチル
セミカルバジド)
SC−7メチレン−ジーP−シクロヘキシレンビス(ジ
メチルセミカルバジド)
SC−8イソホロンビス(ジメチルセミカルバジド)
前記一般式(りで表されるセミカルバジド化合物の添加
量は、高分子材料100重量部に対し0.001〜5重
量部、好ましくは0.01〜3重量部である。5C-1 Hexamethylene bis (dimethyl semicarbazide) SC-2 Hexamethylene bis (diethyl semicarbazide) SC-3 Hexamethylene bis (methyl phenyl semicarbazide) SC-41-Rylene bis (dimethyl semicarbazide) SC-5 Xylylene bis (dimethyl (semicarbazide) SC-6 methylene-di-P-phenylene bis (dimethyl semicarbazide) SC-7 methylene-di-p-cyclohexylene bis (dimethyl semicarbazide) SC-8 isophorone bis (dimethyl semicarbazide) Semicarbazide represented by the general formula (ri) The amount of the compound added is 0.001 to 5 parts by weight, preferably 0.01 to 3 parts by weight, per 100 parts by weight of the polymeric material.
本発明における安定性改善の対象となる高分子材料とし
ては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリ−3−メチルブテン等のα−オレフィン重合
体又はエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロ
ピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重合
体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリフッ化ビニルデン、臭素化ポリエ
チレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピレ
ン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニ
ル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデ
ン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三
元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリル
共重合体、塩化ビニル−ブタジェン共重合体、塩化ビニ
ル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素化フロピレ
ン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル
三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合
体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビ
ニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−ア
クリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビニル等
の含ハロいノ合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリ
スチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリアクリ
ロニトリル、スチレンと他の単量体(例えば無水マレイ
ン酸、ブタジェン、アクリロニトリル等)との共重合体
、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体、
アクリル酸エステルエステル−ブタジェン−スチレン共
重合体、ポリメチルメタクリレート等のメタクリレート
樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、
ポリビニルブチラール、直鎖ポリエステル、ポリフェニ
レンオキシド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリア
セタール、ポリウレタン、繊維素系樹脂、或いはフェノ
ール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、
不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等をあげるこ
とができる。更に、イソプレンゴム、ブタジェンゴム、
アクリロニトリル−ブタジェン共重合ゴム、スチレン−
ブタジェン共重合ゴム等のゴム類やこれらの樹脂のブレ
ンド品であってもよい。Examples of polymeric materials whose stability is to be improved in the present invention include α-olefin polymers such as polyethylene, polypropylene, polybutene, and poly-3-methylbutene, ethylene-vinyl acetate copolymers, and ethylene-propylene copolymers. Polyolefins such as polymers and their copolymers, polyvinyl chloride, polyvinyl bromide, polyvinyl fluoride, polyvinylidene chloride, chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene, polyvinyldene fluoride, brominated polyethylene, chlorinated rubber, vinyl chloride vinyl acetate copolymer,
Vinyl chloride-ethylene copolymer, vinyl chloride-propylene copolymer, vinyl chloride-styrene copolymer, vinyl chloride-isobutylene copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-styrene-trimaleic anhydride Original copolymer, vinyl chloride-styrene-acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-butadiene copolymer, vinyl chloride-isoprene copolymer, vinyl chloride-chlorinated propylene copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride-vinyl acetate copolymer Original copolymer, vinyl chloride-acrylic acid ester copolymer, vinyl chloride-maleic acid ester copolymer, vinyl chloride-methacrylic acid ester copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, internally plasticized polyvinyl chloride, etc. Halo-containing synthetic resins, petroleum resins, coumaron resins, polystyrene, polyvinyl acetate, acrylic resins, polyacrylonitrile, copolymers of styrene and other monomers (e.g. maleic anhydride, butadiene, acrylonitrile, etc.), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer,
Acrylic acid ester-butadiene-styrene copolymer, methacrylate resin such as polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, polyvinyl formal,
Polyvinyl butyral, linear polyester, polyphenylene oxide, polyamide, polycarbonate, polyacetal, polyurethane, cellulose resin, or phenol resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin,
Examples include unsaturated polyester resins and silicone resins. Furthermore, isoprene rubber, butadiene rubber,
Acrylonitrile-butadiene copolymer rubber, styrene-
Rubbers such as butadiene copolymer rubber or blends of these resins may also be used.
また、過酸化物或いは放射線等によって架橋させた架橋
ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡剤によって発泡さ
せた発泡ポリスチレン等の発泡重合体も包含される。Also included are crosslinked polymers such as crosslinked polyethylene crosslinked with peroxide or radiation, and foamed polymers such as expanded polystyrene foamed with a foaming agent.
本発明の組成物に更に周知のフェノール系の抗酸化剤を
添加することによってその酸化安定性を一層改善するこ
とができる。このフェノール系抗酸化剤としては例えば
、2,6−ジー第3ブチル−p−クレゾール、2,6−
ジフェニル−4−オクトキシフェノール、ステアリル−
(3,5−ジ−メチル−4−ヒドロキシベンジル)チオ
グリコレート、ステアリル−β−(4−ヒドロキシ−3
゜5−ジー第3ブチルフエニル)プロピオネート、ジス
テアリル−3,5−ジー第3ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジルホスホネート、2.4.6−トリス (3“ 、
5゛−ジー第3ブチル−4−ヒドロキシベンジルチオ)
1,3.5.−)リアジン、ジステアリル(4−ヒドロ
キシ−3−メチル−5−第3ブチル)ペンジルマロネー
)、2.2’−メチレンビス(4−メチル−6−第3ブ
チルフエノール)、4.4°−メチレンビス(2,6−
ジー第3ブチルフエノール)、2.2’−メチレンビス
(6−(I−メチルシクロヘキシル)p−クレゾール〕
、ビス〔3,5−ビス(4−ヒドロキシ−3−第3ブチ
ルフエニル)ブチリンクアシドコグリコールエステル、
4.4”−ブチルデンビス(6−第3ブチル−m−クレ
ゾール)、2.2゛−エチリデンビス(4,6−ジー第
3ブチルフエノール)、2.2°−エチリデンビス(4
−第2ブチル−6−第3ブチルフエノール)、l、1゜
3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−第3ブ
チルフエニル)ブタン、ビス〔2−第3ブチル−4−メ
チル−6−(2−ヒドロキシ−3−第3ブチル−5−メ
チルベンジル)フェニル〕テレフタレート、1,3.5
−)リス(2,6−シメチルー3−ヒドロキシ−4−第
3ブチル)ベンジルイソシアヌレート、1,3.5−ト
リス(3゜5−ジー第3ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)=2.4.6−ドリメチルベンゼン、テトラキス〔
メチレン−3−(3,5−ジー第3ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピオネートコメタン、1.3.5−
)リス(3,5−ジー第3ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)イソシアヌレート、1゜3.5−トリス ((3
,5−ジー第3ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロ
ピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、2−オクチ
ルチオ−4゜6−ジ(4−ヒドロキン−3,5−ジー第
3ブチル)フェノキシ−1,3,5−トリアジン、4゜
4“−チオビス(6−第3ブチル−m−クレゾール)等
のフェノール類及び4,4°−ブチリデンビス(2−第
3ブチル−5−メチルフェノール)の炭酸オリゴエステ
ル(例えば重合度2,3,4゜5.6,7,8,9.1
0等)の多価フェノール炭酸オリゴエステル類があげら
れる。By further adding a well-known phenolic antioxidant to the composition of the present invention, its oxidative stability can be further improved. Examples of the phenolic antioxidant include 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol,
diphenyl-4-octoxyphenol, stearyl-
(3,5-di-methyl-4-hydroxybenzyl)thioglycolate, stearyl-β-(4-hydroxy-3
゜5-di-tert-butyl phenyl) propionate, distearyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl phosphonate, 2.4.6-tris (3",
5゛-di-tert-butyl-4-hydroxybenzylthio)
1, 3.5. -) riazine, distearyl(4-hydroxy-3-methyl-5-tert-butyl)penzylmaloney), 2.2'-methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol), 4.4°-methylenebis( 2,6-
di-tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis(6-(I-methylcyclohexyl) p-cresol)
, bis[3,5-bis(4-hydroxy-3-tert-butylphenyl)butyrin acid coglycol ester,
4.4''-butyldenbis (6-tert-butyl-m-cresol), 2.2゛-ethylidenebis (4,6-di-tert-butylphenol), 2.2°-ethylidenebis (4
-Second-butyl-6-tert-butylphenol), l, 1゜3-tris(2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl)butane, bis[2-tert-butyl-4-methyl-6 -(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylbenzyl)phenyl]terephthalate, 1,3.5
-) Lis(2,6-dimethyl-3-hydroxy-4-tert-butyl)benzyl isocyanurate, 1,3.5-tris(3°5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) = 2.4. 6-Dolimethylbenzene, tetrakis [
Methylene-3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate comethane, 1.3.5-
) Lis(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)isocyanurate, 1°3.5-Tris((3
,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyloxyethyl]isocyanurate, 2-octylthio-4°6-di(4-hydroquine-3,5-di-tert-butyl)phenoxy-1,3,5 - Triazines, phenols such as 4°4"-thiobis(6-tert-butyl-m-cresol), and carbonic acid oligoesters of 4,4°-butylidenebis(2-tert-butyl-5-methylphenol) degrees 2, 3, 4 degrees 5.6, 7, 8, 9.1
Examples include polyhydric phenol carbonate oligoesters such as 0, etc.
本発明の組成物に更に硫黄系の抗酸化剤を加えてその酸
化安定性の改善をはかることもできる。It is also possible to further add a sulfur-based antioxidant to the composition of the present invention to improve its oxidative stability.
この硫黄系抗酸化剤としては、例えば、ジラウリル−、
シミリスチル−、ジステアリル−等のジアルキルチオジ
プロピオネート及びブチル−、オクチル−、ラウリル−
、ステアリル−等のアルキルチオプロピオン酸の多価ア
ルコール(例えばグリセリン、トリメチロールエタン、
トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリ
スヒドロキシエチルイソシアヌレート)のエステル(例
えばペンタエリスリトールテトララウリルチオプロピオ
ネート)があげられる。Examples of the sulfur-based antioxidant include dilauryl,
Dialkyl thiodipropionates such as similystyl, distearyl, and butyl, octyl, lauryl
, alkylthiopropionic acid polyhydric alcohols such as stearyl (e.g. glycerin, trimethylolethane,
trimethylolpropane, pentaerythritol, trishydroxyethyl isocyanurate) (for example, pentaerythritol tetralaurylthiopropionate).
ン化合物を添加することによってその耐光性及び耐熱性
を一層改善することができる。この含リン化合物として
は、例えば、トリオクチルホスファイト、トリラウリル
ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチル−ジ
フェニルホスファイト、トリス(2,4−ジー第3ブチ
ルフエニル)ホスファイト、トリフェニルホスファイト
、トリス(ブトキシエチル)ホスファイト、トリス(ノ
ニルフェニル)ホスファイト、ジステアリンペンタエリ
スリトールジホスファイト、テトラ(トリデシル) −
1,1,3−1−リス (2−メチル−5−第3ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)ブタンジホスファイト、テ
トラ(CI2〜ls混合アルキル)−4,4°−イソプ
ロピリデンジフェニルジホスファイト、テトラ(トリデ
シル)−4,4°−ブチリデンビス(3−メチル−6−
第3ブチルフエノール)ジホスファイト、トリス(3,
5−ジー第3ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ホスフ
ァイト、トリス(モノ・ジ混合ノニルフェニル)ホスフ
ァイト、水素化−4,4“−イソプロピリデンジフェノ
ールポリホスファイト、ビス(オクチルフェニル)・ビ
ス(,4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−第
3ブチルフエノール)〕 ・1゜6−ヘキサンジオール
ジホスファイト、フェニル・4.4”−イソプロピリデ
ンジフェノール・ペンタエリスリトールジホスファイト
、ビス(2゜4−ジー第3ブチルフエニル)ペンタエリ
スリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジー第3ブ
チル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホ
スファイト、トリス[4,4’−イソプロピリデンビス
(2−第3ブチルフエノール)〕ホスファイト、フェニ
ル・ジイソデシルホスファイト、ジ(ノニルフェニル)
ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス(I,3
−ジ−ステアロイルオキシイソプロビル)ホスファイト
、4.4°−イソプロピリデンビス(2−第3ブチルフ
エノール)・ジ(ノニルフェニル)ホスファイト、9、
10−ジ−ハイドロ−9−オキサ−10−フォスファフ
ェナンスレンー10−オキサイド、テトラキス(2,4
−ジー第3ブチルフエニル)−4,4″−ビフエニレン
ジホスホナイト等があげられる。By adding a compound, the light resistance and heat resistance can be further improved. Examples of the phosphorus-containing compound include trioctyl phosphite, trilauryl phosphite, tridecyl phosphite, octyl-diphenyl phosphite, tris(2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, triphenyl phosphite, tris (butoxyethyl) phosphite, tris(nonylphenyl) phosphite, distearinpentaerythritol diphosphite, tetra(tridecyl) −
1,1,3-1-lis (2-methyl-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)butane diphosphite, tetra(CI2~ls mixed alkyl)-4,4°-isopropylidene diphenyl diphosphite , tetra(tridecyl)-4,4°-butylidenebis(3-methyl-6-
tertiary butylphenol) diphosphite, tris(3,
5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) phosphite, tris(mono-di-mixed nonylphenyl) phosphite, hydrogenated-4,4"-isopropylidene diphenol polyphosphite, bis(octylphenyl) bis (,4,4'-butylidene bis(3-methyl-6-tert-butylphenol)] ・1゜6-hexanediol diphosphite, phenyl ・4.4"-isopropylidene diphenol ・pentaerythritol diphosphite, Bis(2゜4-di-tert-butylphenyl)pentaerythritol diphosphite, bis(2,6-di-tert-butyl-4-methylphenyl)pentaerythritol diphosphite, tris[4,4'-isopropylidene bis( 2-tert-butylphenol)] phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, di(nonylphenyl)
Pentaerythritol diphosphite, tris(I,3
-di-stearoyloxyisopropyl) phosphite, 4.4°-isopropylidene bis(2-tert-butylphenol) di(nonylphenyl) phosphite, 9,
10-di-hydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, tetrakis(2,4
-di-tert-butylphenyl)-4,4''-biphenylene diphosphonite, and the like.
本発明の組成物に他の光安定剤を添加することによって
その耐光性を一層改善することができる。By adding other light stabilizers to the composition of the invention, its light resistance can be further improved.
この光安定剤としては、例えば、2−ヒドロキシ−4−
メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オ
クトキシベンゾフェノン、2,2゛−ジ−ヒドロキシ−
4−メトキシベンゾフェノン、2.4−ジヒドロキシベ
ンゾフェノン等のヒドロキシベンゾフェノン類、2−(
2°−ヒドロキシ−3°−t−ブチル−5°−メチルフ
ェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’
−ヒドロキシ−3’ 、5’−ジ−t−ブチルフェニル
)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2゜−ヒド
ロキシ−5゛−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、
2−(2°−ヒドロキシ−3゛ 5゛−ジ−t−アミル
フェニル)ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール
類、フェニルサリシレート、p−t−ブチルフェニル号
すシレート、2゜4−ジ−t−ブチルフェニル−3,5
−ジー【=ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ヘキ
サデシル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベ
ンゾエート等のベンゾエート類、2,2゛−チオビス(
4−t−オクチルフェノール)Ni塩、〔2,2′−チ
オビス(4−t−オクチルフェノラート)〕−〕n−ブ
チルアミンNi、 (3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)ホスホン酸モノエチルエステルNi
塩等のニッケル化合物類、α−シアノ−β−メチル−β
−(p−メトキシフェニル)アクリル類メチル等の置換
アクリロニトリルi及びN−2−エチルフェニル−N’
−2−エトキシ−5−第3ブチルフエニルシユウ酸ジア
ミド、N−2−エチルフェニル−No−2−エトキシフ
ェニルシュウ酸ジアミド等のシュウ酸ジアニリド類があ
げられる。Examples of the light stabilizer include 2-hydroxy-4-
Methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2,2゛-di-hydroxy-
Hydroxybenzophenones such as 4-methoxybenzophenone and 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-(
2°-Hydroxy-3°-t-butyl-5°-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2-(2'
-hydroxy-3',5'-di-t-butylphenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2-(2゜-hydroxy-5゛-methylphenyl)benzotriazole,
Benzotriazoles such as 2-(2°-hydroxy-3゛5゛-di-t-amylphenyl)benzotriazole, phenyl salicylate, pt-butylphenyl sylate, 2゜4-di-t-butyl phenyl-3,5
-di[=butyl-4-hydroxybenzoate, benzoates such as hexadecyl-3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, 2,2゛-thiobis(
4-t-octylphenol)Ni salt, [2,2'-thiobis(4-t-octylphenolate)]-]n-butylamineNi, (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)phosphone acid monoethyl ester Ni
Nickel compounds such as salts, α-cyano-β-methyl-β
Substituted acrylonitrile i such as -(p-methoxyphenyl)acrylic methyl and N-2-ethylphenyl-N'
Examples include oxalic dianilides such as -2-ethoxy-5-tert-butylphenyl oxalic acid diamide and N-2-ethylphenyl-No-2-ethoxyphenyl oxalic acid diamide.
その他必要に応じて、本発明の組成物には重金属不活性
化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、可塑剤、エ
ポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤、滑剤、加工助剤等を本発明によって安定化された
高分子材料は極めて多様な形で、例えばフィルム、繊維
、テープ、シート、各種成型品として使用でき、また、
塗料、ラッカー用結合剤、接着剤、パテ及び写真材料に
おける基材としても用いることができる。In addition, if necessary, the composition of the present invention may contain a heavy metal deactivator, a nucleating agent, a metal soap, an organic tin compound, a plasticizer, an epoxy compound, a pigment, a filler, a blowing agent, an antistatic agent, and a flame retardant. , lubricants, processing aids, etc. The polymeric materials stabilized according to the present invention can be used in a wide variety of forms, such as films, fibers, tapes, sheets, and various molded products;
It can also be used as a base material in paints, binders for lacquers, adhesives, putties and photographic materials.
次に本発明を実施例によって具体的に説明する。Next, the present invention will be specifically explained with reference to Examples.
しかしながら、本発明はこれらの実施例によって曜定さ
れるものではない。However, the present invention is not limited to these examples.
実施例1
〈配 合〉
ポリプロピレン 100 重量部ステアリ
ン酸カルシウム 0.2エニルプロピオネート)
。Example 1 <Blend> Polypropylene 100 parts by weight Calcium stearate 0.2 enylpropionate)
.
上記配合にて厚さ0.3 mmのプレスシートを作成し
、このシートについて高圧水銀ランプを用いての耐光性
試験を行った。その結果を表−1に示す。A press sheet with a thickness of 0.3 mm was prepared using the above formulation, and a light resistance test was conducted on this sheet using a high-pressure mercury lamp. The results are shown in Table-1.
表−1
阻 ヒンダードアミン系光 耐 光 性安定剤
比較例 時間i−t*1
280
1−2*2320
実施例
1−1 阻l化合物 4601−2
隘4化合物 4801−3 −5化合物
4701、−4 阻16化合物
5101−5 階20化合物 4501−
611h25化合物 5401−7 阻2
7化合物 4301−8 隘31化合物
4501−9N136化合物 5101
−−10 Na37化合物 5201−1
1 NLL38化合物 550註〕*l;
なしく但し、5c−i化合物0.2部使用)*2:Nk
L1化合物0.2部使用(但し、5C−1化合物なし)
実施例2
く配 合〉
ポリエチレン 100 重量部Ca−ス
テアレート 1.0ビオネート〕メタ
ン
ジステアリルチオジプロピオネート0.3ルポキシレー
ト(N1116化合物)
上記配合物を混練後プレスして厚さ0.5mmのシート
を作成した。このシートを用いてウエザオフ−ター中で
耐光性を測定し、脆化するまでの時間を測定した。その
結果を表−2に示す。Table-1 Comparative examples of hindered amine-based light resistance stabilizers Time it*1
280 1-2*2320 Example 1-1 Inhibitor compound 4601-2
Compound 4 4801-3 -5 Compound
4701, -4 inhibitor 16 compound
5101-5 Floor 20 compound 4501-
611h25 compound 5401-7 inhibition 2
7 compounds 4301-8 31 compounds
4501-9N136 Compound 5101
--10 Na37 compound 5201-1
1 NLL38 compound 550 notes] *l;
(However, 0.2 part of 5c-i compound is used) *2: Nk
Using 0.2 part of L1 compound (but without 5C-1 compound) Example 2 Blend> Polyethylene 100 parts by weight Ca-stearate 1.0 bionate] Methanedistearyl thiodipropionate 0.3 lupoxylate (N1116 compound ) The above mixture was kneaded and pressed to form a sheet with a thickness of 0.5 mm. Using this sheet, the light resistance was measured in a weather oven, and the time until it became brittle was measured. The results are shown in Table-2.
表−2
実施例3
〈配 合〉
ポリ塩化ビニル 100重量部ジオクチ
ルフタレート48
エポキシ化大豆油 2トリスノニルフ
エニルホスフアイト 0.2Ca−ステアレート1.0
Zn−ステアレート 03l(SC
−1化合物)
ヒンダードアミン系光安定剤 0.1(表−3参
照)
上記配合物を混練ロール上で混練し、厚さll1lll
のシートを作成した。このシートを用いウェザオフ−タ
ー中での耐光性試験を行った。その結果を表−3に示す
。Table 2 Example 3 <Blend> Polyvinyl chloride 100 parts by weight Dioctyl phthalate 48 Epoxidized soybean oil 2 Trisnonylphenyl phosphite 0.2 Ca-stearate 1.0 Zn-stearate 03l (SC
-1 compound) Hindered amine light stabilizer 0.1 (see Table-3) The above compound was kneaded on a kneading roll, and the thickness was llllllll.
I created a sheet. Using this sheet, a light resistance test was conducted in a weather offter. The results are shown in Table-3.
表−3
実施例4
〈配 合〉
ABS樹脂 100 重量部4.4
′−ブチリデンビス(2−第 0.13ブチル−悄
−クレゾール)
(SC−1化合物)
ヒンダードアミン系光安定剤 0.15(表−4参
照)
上記配合物をロール練り後プレスして厚さ31IllI
+のシートを作成した。このシートを用いウエザオメー
ターで800時間照射後の抗張力残率を測定した。その
結果を表−4に示す。Table-3 Example 4 <Formulation> ABS resin 100 parts by weight 4.4
'-Butylidene bis(2-0.13-butyl-cresol) (SC-1 compound) Hindered amine light stabilizer 0.15 (see Table 4) The above mixture was rolled and then pressed to a thickness of 31IllI.
I created a + sheet. Using this sheet, the residual tensile strength after 800 hours of irradiation was measured using a weatherometer. The results are shown in Table-4.
表−4
実施例5
〈配 合〉
ポリウレタン樹脂 100 重量部(旭電化
製u−100)
Ba−ステアレート 0.7Zロース
テアレート 0.32.6−ジー第3
ブチル−p−クレゾール0.1(SC−1化合物)
上記配合物を70℃で5分間ロール上で混練し、120
℃で5分間プレスして厚さ0.5 mmのシートを作成
した。このシートを用いフェードメーターにて50時間
照射後の伸び残率を測定した。その結果を表−5に示す
。Table-4 Example 5 <Formulation> Polyurethane resin 100 parts by weight (Asahi Denka u-100) Ba-stearate 0.7Z low stearate 0.32.6-G 3rd
Butyl-p-cresol 0.1 (SC-1 compound) The above blend was kneaded on a roll at 70°C for 5 minutes,
A sheet with a thickness of 0.5 mm was prepared by pressing at ℃ for 5 minutes. Using this sheet, the residual elongation rate after 50 hours of irradiation was measured using a fade meter. The results are shown in Table-5.
表−5
実施例6
本発明の化合物(安定剤成分)は塗料用の光安定剤とし
ても有用である。本実施例においては金属顔料を含有す
るベースコート及び透明なトップコートからなる二層金
属光沢塗料についてその効果をみた。Table 5 Example 6 The compound (stabilizer component) of the present invention is also useful as a light stabilizer for paints. In this example, the effect of a two-layer metallic luster paint consisting of a base coat containing a metal pigment and a transparent top coat was examined.
a)ベースコート塗料
メタクリル酸メチル100g、アクリル酸n−ブチル6
6g2メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル30g、メ
タクリル酸4g1キシレン80g及びn−ブタノール2
0gをとり、110℃に加熱攪拌しながらアゾビスイソ
ブチロニトリル2g、ドデシルメルカプタン0.5g、
キシレン80g及びn−ブタノール20gからなる溶液
を3時間で滴下した。その後同温度で2時間攪拌し、樹
脂固形分50%のアクリル樹脂溶液を調製した。a) Base coat paint methyl methacrylate 100g, n-butyl acrylate 6
6g2 2-hydroxyethyl methacrylate 30g, 4g methacrylic acid1 xylene 80g and n-butanol2
0g, heated to 110°C while stirring, added 2g of azobisisobutyronitrile, 0.5g of dodecylmercaptan,
A solution consisting of 80 g of xylene and 20 g of n-butanol was added dropwise over 3 hours. Thereafter, the mixture was stirred at the same temperature for 2 hours to prepare an acrylic resin solution with a resin solid content of 50%.
上記アクリル樹脂溶液12重量部、ブトキシ化メチロー
ルメラミン(三井東圧社製;ニーパン203E60;樹
脂固形分60%)2.5重量部、セルロースアセテート
ブチレート樹脂(20%酢酸ブチルrg/&)50重量
部、アルミニウム顔料(東洋アルミニウム社製;アルペ
ースト1123N>5.5重量部、キシレン10重量部
、酢酸ブチル20重量部及び銅フタロシアニンブルー0
.2重1部をとりベースコート塗料とした。12 parts by weight of the above acrylic resin solution, 2.5 parts by weight of butoxylated methylolmelamine (manufactured by Mitsui Toatsu Co., Ltd.; Kneepan 203E60; resin solid content 60%), 50 parts by weight of cellulose acetate butyrate resin (20% butyl acetate rg/&) parts, aluminum pigment (manufactured by Toyo Aluminum Co., Ltd.; Alpaste 1123N>5.5 parts by weight, 10 parts by weight of xylene, 20 parts by weight of butyl acetate, and 0 parts by weight of copper phthalocyanine blue)
.. One part of the double layer was taken and used as a base coat paint.
b)トップコート塗料
上記アクリル樹脂溶液48重量部、ブトキシ化メチロー
ルメラミン10重量部、キシレン10重量部、ブチルグ
リコールアセテート4重量部、5C−1化合物0.1重
量部及びヒンダードアミン系光安定剤(表−6参照)0
.05重量部をとり、トップコート塗料とした。b) Top coat paint 48 parts by weight of the above acrylic resin solution, 10 parts by weight of butoxylated methylolmelamine, 10 parts by weight of xylene, 4 parts by weight of butyl glycol acetate, 0.1 part by weight of 5C-1 compound, and hindered amine light stabilizer (Table 1). -6)0
.. 05 parts by weight was taken and used as a top coat paint.
プライマー処理した鋼板にベースコート塗料を乾燥膜厚
が20μになるようにスプレーし、lO分間放置後トッ
プコート塗料を乾燥膜厚が30μになるようにスプレー
した。15分間放放置後40℃で30分間焼付し試片と
した。A base coat paint was sprayed onto the primed steel plate to give a dry film thickness of 20 μm, and after being left for 10 minutes, a top coat paint was sprayed to a dry film thickness of 30 μm. After leaving it for 15 minutes, it was baked at 40° C. for 30 minutes to obtain a test piece.
上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワレの発生す
るまでの時間を測定した。その結果を表−6に示す。The above sample was placed in a weatherometer and the time until cracking of the coating film appeared was measured. The results are shown in Table-6.
表−6Table-6
Claims (1)
光安定剤の少なくとも一種0.001〜5重量部及び(
b)次の一般式( I )で表されるセミカルバジド化合
物の少なくとも一種0.001〜5重量部を配合してな
る、耐光性の改善された高分子材料組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rはメチル基、エチル基又はフェニル基を示し
、R_1は二価の炭化水素基を示す。)Scope of Claims: 0.001 to 5 parts by weight of at least one of (a) a hindered amine light stabilizer and (
b) A polymer material composition with improved light resistance, which contains 0.001 to 5 parts by weight of at least one semicarbazide compound represented by the following general formula (I). ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) (In the formula, R represents a methyl group, ethyl group, or phenyl group, and R_1 represents a divalent hydrocarbon group.)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP864785A JPS61168663A (en) | 1985-01-21 | 1985-01-21 | High-molecular material composition having improved light resistance |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP864785A JPS61168663A (en) | 1985-01-21 | 1985-01-21 | High-molecular material composition having improved light resistance |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61168663A true JPS61168663A (en) | 1986-07-30 |
| JPH0455463B2 JPH0455463B2 (en) | 1992-09-03 |
Family
ID=11698733
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP864785A Granted JPS61168663A (en) | 1985-01-21 | 1985-01-21 | High-molecular material composition having improved light resistance |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61168663A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6210145A (en) * | 1985-07-05 | 1987-01-19 | Dainippon Ink & Chem Inc | Method of imparting light resistance |
| JPH11172078A (en) * | 1997-12-09 | 1999-06-29 | Terukichi Sakai | Weather-resistant epoxy resin composition |
| WO2007104379A1 (en) * | 2006-03-15 | 2007-09-20 | Baerlocher Gmbh | Stabilizer compositions for halogenated polymers with improved initial color and improved color maintenance |
-
1985
- 1985-01-21 JP JP864785A patent/JPS61168663A/en active Granted
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS6210145A (en) * | 1985-07-05 | 1987-01-19 | Dainippon Ink & Chem Inc | Method of imparting light resistance |
| JPH11172078A (en) * | 1997-12-09 | 1999-06-29 | Terukichi Sakai | Weather-resistant epoxy resin composition |
| WO2007104379A1 (en) * | 2006-03-15 | 2007-09-20 | Baerlocher Gmbh | Stabilizer compositions for halogenated polymers with improved initial color and improved color maintenance |
| DE102006011933B4 (en) * | 2006-03-15 | 2010-04-15 | Baerlocher Gmbh | Stabilizer compositions for halogen-containing polymers having improved initial color and improved color retention, polymer compositions containing them and shaped articles, and methods for stabilizing halogen-containing polymers |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0455463B2 (en) | 1992-09-03 |
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