JPS61168663A - 耐光性の改善された高分子材料組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、安定化された高分子材料組成物、詳しくは、
ヒンダードアミン系光安定剤及び特定のセミカルバジド
化合物を金＠ｌ、−を舎市叫の々暮された高分子材料組
成物に関する。

〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題点〕ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ＡＢＳ樹脂、ポリ塩化ビニ
ル樹脂等の合成樹脂は紫外線に対して敏感であり、その
作用により色の悪化、機械的強度の低下等を引き起こし
、長期の使用に耐えないことが知られている。

これらの害作用を防止するために、これまでにベンゾフ
ェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、ピ
ペリジン系等の化合物が用いられてきたが、これらの化
合物は樹脂に着色を与えるものが多く、またその効果も
不充分であり、更に改良が望まれていた。

これらの化合物の中でもピペリジン系の化合物は非着色
性であり、また光安定化効果も比較的大きいので近年特
に注目されている。

しかしながら、ピペリジン系化合物に代表されるヒンダ
ードアミン化合物は比較的優れた光安定剤であるが、単
独使用による効果は未だ不充分なものであった。このた
め、ピペリジン系の化合物と、ベンゾフェノン系、ベン
ゾトリアゾール系、フェニルサリシレート系、シュウ酸
ジアミド系等の紫外線吸収剤と併用することが提案され
ているが、これらの併用による効果は相加的なものに過
ぎず、実用上は満足し得るものではなかった。

また、置換セミカルバジド類をポリアミノアクリレート
の着色防止剤として使用することも特開昭５３−１４４
９４９号公報に提案されているが、その効果は不充分で
あり、満足し得るものではなかった。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者等は、斯る現状に鑑み、鋭意検討を重ねた結果
、ヒンダードアミン系光安定剤と特定のセミカルバジド
化合物を併用して高分子材料に配合すると、それらをそ
れぞれ単独使用した場合よりもその効果が著しく優れて
いることを見い出し、本発明に到達した。

即ち、本発明は、高分子材料１００重量部に、＋ａｌヒ
ンダードアミン系光安定剤の少なくとも一種０．００１
〜５重量部及び（ｂ１次の一般式（Ｉ）で表００１〜５
重量部を配合してなる、耐光性の改善された高分子材料
組成物を提供するものである。

ＲＲ （式中、Ｒはメチル基、エチル基又はフェニル基を示し
、Ｒ１は二価の炭化水素基を示す。）以下、本発明の高
分子材料組成物について詳述する。

本発明で用いられるヒンダードアミン余光安定具体的に
は次に示すようなものがあげられる。

ｔｌｋｌ　　４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−
チトラメチルピペリジン Ｎａ２ｌ−（３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシ
クエニルブロビオニルオキシエチル）−４−（３，５−
ジー第３ブチル−４−ヒドロキシフエニルブロピオニル
オキシ）−２，２，６，６−テトラメチルビペリジン Ｎａ３４−（β−３′　、５°−ジー第３ブチル−４′
−オキシフェニル−プロピオニルオキシ）−２，２，６
，６−チトラメチルピペリジン 阻４　ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）セパセード 丸５　ビス（Ｉ，２，２，６，６−ベンタメチルー４−
ピペリジル）セパセード ｈｈ６　　ビス（Ｉ，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジー第
３ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート 凪７　ビス（Ｉ−アクリロイル−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）−２゜２−ビス　（３，５
−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネー
ト 階８　ビス（９−アザーａ、ｓ、ｉｏ、ｉｏ−テトラメ
チル−３−エチル−１，５−ジオキサスピロ（５，５）
−３−ウンデシルメチル）メチルイミノジアセテート 階９　ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル−１−オキシル）セパセード迎１０トリス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）シトレー
ト 阻１１　　）リス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）ニトリロトリアセテートＮａ１２　　）
リス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル
）ブタントリカルボキシレート 阻１３トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）トリメリテート 磁１４　　テトラ（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）ピロメリテート １１ｋＬ１５　　テトラ（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）−１，３−ビス（アミノメチ゛ル
）シクロヘキサンテトラアセテート磁１６　　テトラ（
２，２，６，６−テトラメチルー４−ピペリジル）　−
１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート １１ｈ１７　　トリス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）・モノ　（イソトリデシル）−１，
２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート 陽１８　　テトラ（Ｉ，２，２，６，６−ベンタメチル
ー４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカ
ルボキシレート １’＆１１９　１−リス（Ｉ，２，２，６，６−ベンタ
メチルー４−ピペリジル）・モノ　（イソトリデシル）
−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート 阻２０　　ビス（Ｉ，２，２，６，６−ベンタメチルー
４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４
−ブタンテトラカルボキシレート 魔２１　　ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）　・ジ（トリデシル）−１゜２．３．４−
ブタンテトラカルホキシレー階２２　　ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−１＝オキシルー４−ピペリジル
）・ジ（トリデシル）−−１，２，３，４−ブタンテト
ラカルボキシレート 阻２３　　モノ　（Ｉ，２，２，６，６−ベンタメチル
ー４−ピペリジル）・モノメチルセバケート 阻２４３．９−ビス　〔１，１−ジメチル−２−〔トリ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオ
キシカルボニル）ブチルカルボニルオキシフエチル）−
２，４，８゜ｌＯ−テトラオキサスピロ（５，５）ウン
デカン 臘２５３．９−ビス　〔１，１−ジメチル−２−〔トリ
ス（Ｉ，２，２，６，６−ベンタメチルー４−ピペリジ
ルオキシカルボニル）ブチルカルボニルオキシフエチル
）−２，４゜８、ＩＯ−テトラオキサスピロ（５，５）
ウンデカン 寛２６２．４．６−）リス　（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジルオキシ）　−Ｓ−トリアジン 阻２７２−ブチルアミノ−４，６−ビス　（９−アザ−
８，８，１０，１０−テトラメチル−３−エチル−１，
５−ジオキサスピロ〔５゜５〕−３−ウンデシルメトキ
シ）−ｓ−トリアジン 阻２８　　Ｎ、　　Ｎ’−ビス　〔４，６−ビス　（９
−アザ−８，８，１０，１０−テトラメチル−３−エチ
ル−１，５−ジオキサスピロ〔５゜５〕−３−ウンデシ
ルメトキシ）−３−トリアジン−２−イルコピペラジン 隘２９　１，５，８．１２−テトラキス（４，６−ビス
（Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ブチルアミノ〕−１゜３．５−）リアジン−２−イ
ル）　−１，５゜８．１２−テトラアザドデカン 魚３０　　ビス（９−アザ−８，８，１０，１０−テト
ラメチル−３−エチル−１，５−ジオキサスピロ（５，
５）−３−ウンデシルメチル）カーボネート 隠３１　　ビス（９−アザ−８，８，１０，１０−テト
ラメチル−３−エチル−１，５−ジオキサスピロ〔５，
５〕−３−ウンデシルメチル）・水添ビスフェノールＡ
・ジカーボネート 陽３２　　ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）・ペンタエリスリトール・ジホスファイト 陳３３　　ビス（９−アザ−８，８，１０，１０−テト
ラメチル−３−エチル−１，５−ジオキサスピロ（５，
５）−３−ウンデシルメチル）・ペンタエリスリトール
・ジホスファイト １１ｈ３４　　テトラ　（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）・ビスフェノールＡ・ジホスファ
イト 隘３５３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）ホスホネート１１ｈ３６　１−（２−ヒドロキシ
エチル−２，２，６゜６−テトラメチル−４−ピペリジ
ツール／コハク酸ジメチル重縮合物 Ｎ１３７　２−第３オクチルアミノ−４，６−ジクロロ
−ｓ　−トリアジン／Ｎ、Ｎ’−ビス（２゜２．６．６
−テトラメチル−４−ピペリジル）へキサメチレンジア
ミン重縮合物 １１ｋＬ３８１．６−ビス　（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／ジブロムエ
タン重縮合物 １１ｈ３９　　ビス（９−アザ−８，８，１０，１０−
テトラメチル−３−ヒドロキシメチル−１゜５−ジオキ
サスピロ（５，５３−３−ウンデシルメチル）エーテル 漱４０３−グリシジル−８−メチル−７，７，９゜９−
テトラメチル−１，３，８−）ジアザスピロ（４，５３
デカン−２，４−ジオン隘４１３−ドデシル−８−アセ
チル−？、７．９゜９−テトラメチル−１，３，８−）
ジアザスピロ（４，５）デカン−２，４−ジオンｔｋ４
２　３−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１
，３，８−）ジアザスピロ〔４゜５〕デカン−２，４−
ジオン 嵐４３　２，２，４．４−テトラメチル−７−オキサ−
３，２０−ジアザジスピロ（５，１゜１１．２）ヘンエ
イコサン−２１−オン患４４３−ドデシル−１−（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−２，５
−ピロリジンジオン 本発明で用いられる前記一般式（Ｉ）で表されるセミカ
ルバジド化合物は、ジメチル（又はジエチル）ヒドラジ
ン又はメチル・フェニルヒドラジンと２．４−）リレン
ジイソシアネート、２．６−トリジンジイソシアネート
、４，４゛−ジフェニルメタンジイソシアネート、トリ
ジンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、
１，５−ナフチレンジイソシアネート、イソホロンジイ
ソシアネート、トリフェニルメタンジイソシアネート、
リジンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、ダイマージイソシアネート、フェニレンジイソシ
アネート、ジフェニルエーテルジイソシアネート、ジア
ニシジンジイソシアネート、ビス（イソシアナトメチル
）シクロヘキサン、ジシクロヘキシルメタンジイソシア
ネートなどのポリイソシアネートとを反応させることに
より容易に製造できる。

従って、本発明で用いられる前記一般式（Ｉ）で表され
るセミカルバジド化合物としては、例えば次に示す化合
物があげられる。

５Ｃ−１へキサメチレンビス（ジメチルセミカルバジド
） ＳＣ−２へキサメチレンビス（ジエチルセミカルバジド
） ＳＣ−３へキサメチレンビス（メチル・フェニルセミカ
ルバジド） ＳＣ−４１−リレンビス（ジメチルセミカルバジド） ＳＣ−５キシリレンビス（ジメチルセミカルバジド） ＳＣ−６メチレン−ジーＰ−フェニレンビス（ジメチル
セミカルバジド） ＳＣ−７メチレン−ジーＰ−シクロヘキシレンビス（ジ
メチルセミカルバジド） ＳＣ−８イソホロンビス（ジメチルセミカルバジド） 前記一般式（りで表されるセミカルバジド化合物の添加
量は、高分子材料１００重量部に対し０．００１〜５重
量部、好ましくは０．０１〜３重量部である。

本発明における安定性改善の対象となる高分子材料とし
ては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリ−３−メチルブテン等のα−オレフィン重合
体又はエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロ
ピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重合
体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリフッ化ビニルデン、臭素化ポリエ
チレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピレ
ン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニ
ル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデ
ン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三
元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリル
共重合体、塩化ビニル−ブタジェン共重合体、塩化ビニ
ル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素化フロピレ
ン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル
三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合
体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビ
ニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−ア
クリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビニル等
の含ハロいノ合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリ
スチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリアクリ
ロニトリル、スチレンと他の単量体（例えば無水マレイ
ン酸、ブタジェン、アクリロニトリル等）との共重合体
、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体、
アクリル酸エステルエステル−ブタジェン−スチレン共
重合体、ポリメチルメタクリレート等のメタクリレート
樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、
ポリビニルブチラール、直鎖ポリエステル、ポリフェニ
レンオキシド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリア
セタール、ポリウレタン、繊維素系樹脂、或いはフェノ
ール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、
不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等をあげるこ
とができる。更に、イソプレンゴム、ブタジェンゴム、
アクリロニトリル−ブタジェン共重合ゴム、スチレン−
ブタジェン共重合ゴム等のゴム類やこれらの樹脂のブレ
ンド品であってもよい。

また、過酸化物或いは放射線等によって架橋させた架橋
ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡剤によって発泡さ
せた発泡ポリスチレン等の発泡重合体も包含される。

本発明の組成物に更に周知のフェノール系の抗酸化剤を
添加することによってその酸化安定性を一層改善するこ
とができる。このフェノール系抗酸化剤としては例えば
、２，６−ジー第３ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−
ジフェニル−４−オクトキシフェノール、ステアリル−
（３，５−ジ−メチル−４−ヒドロキシベンジル）チオ
グリコレート、ステアリル−β−（４−ヒドロキシ−３
゜５−ジー第３ブチルフエニル）プロピオネート、ジス
テアリル−３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルホスホネート、２．４．６−トリス　（３“　、
５゛−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベンジルチオ）
１，３．５．−）リアジン、ジステアリル（４−ヒドロ
キシ−３−メチル−５−第３ブチル）ペンジルマロネー
）、２．２’−メチレンビス（４−メチル−６−第３ブ
チルフエノール）、４．４°−メチレンビス（２，６−
ジー第３ブチルフエノール）、２．２’−メチレンビス
（６−（Ｉ−メチルシクロヘキシル）ｐ−クレゾール〕
、ビス〔３，５−ビス（４−ヒドロキシ−３−第３ブチ
ルフエニル）ブチリンクアシドコグリコールエステル、
４．４”−ブチルデンビス（６−第３ブチル−ｍ−クレ
ゾール）、２．２゛−エチリデンビス（４，６−ジー第
３ブチルフエノール）、２．２°−エチリデンビス（４
−第２ブチル−６−第３ブチルフエノール）、ｌ、１゜
３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第３ブ
チルフエニル）ブタン、ビス〔２−第３ブチル−４−メ
チル−６−（２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−５−メ
チルベンジル）フェニル〕テレフタレート、１，３．５
−）リス（２，６−シメチルー３−ヒドロキシ−４−第
３ブチル）ベンジルイソシアヌレート、１，３．５−ト
リス（３゜５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）＝２．４．６−ドリメチルベンゼン、テトラキス〔
メチレン−３−（３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネートコメタン、１．３．５−
）リス（３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）イソシアヌレート、１゜３．５−トリス　（（３
，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、２−オクチ
ルチオ−４゜６−ジ（４−ヒドロキン−３，５−ジー第
３ブチル）フェノキシ−１，３，５−トリアジン、４゜
４“−チオビス（６−第３ブチル−ｍ−クレゾール）等
のフェノール類及び４，４°−ブチリデンビス（２−第
３ブチル−５−メチルフェノール）の炭酸オリゴエステ
ル（例えば重合度２，３，４゜５．６，７，８，９．１
０等）の多価フェノール炭酸オリゴエステル類があげら
れる。

本発明の組成物に更に硫黄系の抗酸化剤を加えてその酸
化安定性の改善をはかることもできる。

この硫黄系抗酸化剤としては、例えば、ジラウリル−、
シミリスチル−、ジステアリル−等のジアルキルチオジ
プロピオネート及びブチル−、オクチル−、ラウリル−
、ステアリル−等のアルキルチオプロピオン酸の多価ア
ルコール（例えばグリセリン、トリメチロールエタン、
トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリ
スヒドロキシエチルイソシアヌレート）のエステル（例
えばペンタエリスリトールテトララウリルチオプロピオ
ネート）があげられる。

ン化合物を添加することによってその耐光性及び耐熱性
を一層改善することができる。この含リン化合物として
は、例えば、トリオクチルホスファイト、トリラウリル
ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチル−ジ
フェニルホスファイト、トリス（２，４−ジー第３ブチ
ルフエニル）ホスファイト、トリフェニルホスファイト
、トリス（ブトキシエチル）ホスファイト、トリス（ノ
ニルフェニル）ホスファイト、ジステアリンペンタエリ
スリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）　−
１，１，３−１−リス　（２−メチル−５−第３ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）ブタンジホスファイト、テ
トラ（ＣＩ２〜ｌｓ混合アルキル）−４，４°−イソプ
ロピリデンジフェニルジホスファイト、テトラ（トリデ
シル）−４，４°−ブチリデンビス（３−メチル−６−
第３ブチルフエノール）ジホスファイト、トリス（３，
５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ホスフ
ァイト、トリス（モノ・ジ混合ノニルフェニル）ホスフ
ァイト、水素化−４，４“−イソプロピリデンジフェノ
ールポリホスファイト、ビス（オクチルフェニル）・ビ
ス（，４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−第
３ブチルフエノール）〕　・１゜６−ヘキサンジオール
ジホスファイト、フェニル・４．４”−イソプロピリデ
ンジフェノール・ペンタエリスリトールジホスファイト
、ビス（２゜４−ジー第３ブチルフエニル）ペンタエリ
スリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジー第３ブ
チル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホ
スファイト、トリス［４，４’−イソプロピリデンビス
（２−第３ブチルフエノール）〕ホスファイト、フェニ
ル・ジイソデシルホスファイト、ジ（ノニルフェニル）
ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス（Ｉ，３
−ジ−ステアロイルオキシイソプロビル）ホスファイト
、４．４°−イソプロピリデンビス（２−第３ブチルフ
エノール）・ジ（ノニルフェニル）ホスファイト、９、
１０−ジ−ハイドロ−９−オキサ−１０−フォスファフ
ェナンスレンー１０−オキサイド、テトラキス（２，４
−ジー第３ブチルフエニル）−４，４″−ビフエニレン
ジホスホナイト等があげられる。

本発明の組成物に他の光安定剤を添加することによって
その耐光性を一層改善することができる。

この光安定剤としては、例えば、２−ヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オ
クトキシベンゾフェノン、２，２゛−ジ−ヒドロキシ−
４−メトキシベンゾフェノン、２．４−ジヒドロキシベ
ンゾフェノン等のヒドロキシベンゾフェノン類、２−（
２°−ヒドロキシ−３°−ｔ−ブチル−５°−メチルフ
ェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’
−ヒドロキシ−３’　、５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル
）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２゜−ヒド
ロキシ−５゛−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２°−ヒドロキシ−３゛　５゛−ジ−ｔ−アミル
フェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール
類、フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニル号
すシレート、２゜４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５
−ジー【＝ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキ
サデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンゾエート等のベンゾエート類、２，２゛−チオビス（
４−ｔ−オクチルフェノール）Ｎｉ塩、〔２，２′−チ
オビス（４−ｔ−オクチルフェノラート）〕−〕ｎ−ブ
チルアミンＮｉ、　（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）ホスホン酸モノエチルエステルＮｉ
塩等のニッケル化合物類、α−シアノ−β−メチル−β
−（ｐ−メトキシフェニル）アクリル類メチル等の置換
アクリロニトリルｉ及びＮ−２−エチルフェニル−Ｎ’
−２−エトキシ−５−第３ブチルフエニルシユウ酸ジア
ミド、Ｎ−２−エチルフェニル−Ｎｏ−２−エトキシフ
ェニルシュウ酸ジアミド等のシュウ酸ジアニリド類があ
げられる。

その他必要に応じて、本発明の組成物には重金属不活性
化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、可塑剤、エ
ポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤、滑剤、加工助剤等を本発明によって安定化された
高分子材料は極めて多様な形で、例えばフィルム、繊維
、テープ、シート、各種成型品として使用でき、また、
塗料、ラッカー用結合剤、接着剤、パテ及び写真材料に
おける基材としても用いることができる。

次に本発明を実施例によって具体的に説明する。

しかしながら、本発明はこれらの実施例によって曜定さ
れるものではない。

実施例１ 〈配　合〉 ポリプロピレン　　　　　　１００　　重量部ステアリ
ン酸カルシウム　　　　０．２エニルプロピオネート）
。

上記配合にて厚さ０．３　ｍｍのプレスシートを作成し
、このシートについて高圧水銀ランプを用いての耐光性
試験を行った。その結果を表−１に示す。

表−１ 阻　　ヒンダードアミン系光　耐　光　性安定剤 比較例　　　　　　　　　　　　　　　時間ｉ−ｔ＊１
２８０ １−２＊２３２０ 実施例 １−１　　　阻ｌ化合物　　　　　　４６０１−２　　
隘４化合物　　　　　　４８０１−３　　−５化合物　
　　　　　４７０１、−４　　　阻１６化合物　　　　
　５１０１−５　　階２０化合物　　　　　４５０１−
６１１ｈ２５化合物　　　　　５４０１−７　　　阻２
７化合物　　　　　４３０１−８　　隘３１化合物　　
　　　４５０１−９Ｎ１３６化合物　　　　　５１０１
−−１０　　　Ｎａ３７化合物　　　　　５２０１−１
１　　　ＮＬＬ３８化合物　　　　　５５０註〕＊ｌ；
なしく但し、５ｃ−ｉ化合物０．２部使用）＊２：Ｎｋ
Ｌ１化合物０．２部使用（但し、５Ｃ−１化合物なし） 実施例２ く配　合〉 ポリエチレン　　　　　　　　１００　重量部Ｃａ−ス
テアレート　　　　　　　　　１．０ビオネート〕メタ
ン ジステアリルチオジプロピオネート０．３ルポキシレー
ト（Ｎ１１１６化合物） 上記配合物を混練後プレスして厚さ０．５ｍｍのシート
を作成した。このシートを用いてウエザオフ−ター中で
耐光性を測定し、脆化するまでの時間を測定した。その
結果を表−２に示す。

表−２ 実施例３ 〈配　合〉 ポリ塩化ビニル　　　　　　　　１００重量部ジオクチ
ルフタレート４８ エポキシ化大豆油　　　　　　　　　２トリスノニルフ
エニルホスフアイト　０．２Ｃａ−ステアレート１．０ Ｚｎ−ステアレート　　　　　　　　　　０３ｌ（ＳＣ
−１化合物） ヒンダードアミン系光安定剤　　　　０．１（表−３参
照） 上記配合物を混練ロール上で混練し、厚さｌｌ１ｌｌｌ
のシートを作成した。このシートを用いウェザオフ−タ
ー中での耐光性試験を行った。その結果を表−３に示す
。

表−３ 実施例４ 〈配　合〉 ＡＢＳ樹脂　　　　　　　　　１００　　重量部４．４
′−ブチリデンビス（２−第　　　０．１３ブチル−悄
−クレゾール） （ＳＣ−１化合物） ヒンダードアミン系光安定剤　　　０．１５（表−４参
照） 上記配合物をロール練り後プレスして厚さ３１ＩｌｌＩ
＋のシートを作成した。このシートを用いウエザオメー
ターで８００時間照射後の抗張力残率を測定した。その
結果を表−４に示す。

表−４ 実施例５ 〈配　合〉 ポリウレタン樹脂　　　　　　１００　重量部（旭電化
製ｕ−１００） Ｂａ−ステアレート　　　　　　　　　０．７Ｚロース
テアレート　　　　　　　　　０．３２．６−ジー第３
ブチル−ｐ−クレゾール０．１（ＳＣ−１化合物） 上記配合物を７０℃で５分間ロール上で混練し、１２０
℃で５分間プレスして厚さ０．５　ｍｍのシートを作成
した。このシートを用いフェードメーターにて５０時間
照射後の伸び残率を測定した。その結果を表−５に示す
。

表−５ 実施例６ 本発明の化合物（安定剤成分）は塗料用の光安定剤とし
ても有用である。本実施例においては金属顔料を含有す
るベースコート及び透明なトップコートからなる二層金
属光沢塗料についてその効果をみた。

ａ）ベースコート塗料 メタクリル酸メチル１００ｇ、アクリル酸ｎ−ブチル６
６ｇ２メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル３０ｇ、メ
タクリル酸４ｇ１キシレン８０ｇ及びｎ−ブタノール２
０ｇをとり、１１０℃に加熱攪拌しながらアゾビスイソ
ブチロニトリル２ｇ、ドデシルメルカプタン０．５ｇ、
キシレン８０ｇ及びｎ−ブタノール２０ｇからなる溶液
を３時間で滴下した。その後同温度で２時間攪拌し、樹
脂固形分５０％のアクリル樹脂溶液を調製した。

上記アクリル樹脂溶液１２重量部、ブトキシ化メチロー
ルメラミン（三井東圧社製；ニーパン２０３Ｅ６０；樹
脂固形分６０％）２．５重量部、セルロースアセテート
ブチレート樹脂（２０％酢酸ブチルｒｇ／＆）５０重量
部、アルミニウム顔料（東洋アルミニウム社製；アルペ
ースト１１２３Ｎ＞５．５重量部、キシレン１０重量部
、酢酸ブチル２０重量部及び銅フタロシアニンブルー０
．２重１部をとりベースコート塗料とした。

ｂ）トップコート塗料 上記アクリル樹脂溶液４８重量部、ブトキシ化メチロー
ルメラミン１０重量部、キシレン１０重量部、ブチルグ
リコールアセテート４重量部、５Ｃ−１化合物０．１重
量部及びヒンダードアミン系光安定剤（表−６参照）０
．０５重量部をとり、トップコート塗料とした。

プライマー処理した鋼板にベースコート塗料を乾燥膜厚
が２０μになるようにスプレーし、ｌＯ分間放置後トッ
プコート塗料を乾燥膜厚が３０μになるようにスプレー
した。１５分間放放置後４０℃で３０分間焼付し試片と
した。

上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワレの発生す
るまでの時間を測定した。その結果を表−６に示す。

表−６

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 高分子材料１００重量部に、（ａ）ヒンダードアミン系
   光安定剤の少なくとも一種０．００１〜５重量部及び（
   ｂ）次の一般式（ I ）で表されるセミカルバジド化合
   物の少なくとも一種０．００１〜５重量部を配合してな
   る、耐光性の改善された高分子材料組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒはメチル基、エチル基又はフェニル基を示し
   、Ｒ＿１は二価の炭化水素基を示す。）