JPS61170568A - 連続真空処理装置 - Google Patents

連続真空処理装置

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Publication number
JPS61170568A
JPS61170568A JP1164685A JP1164685A JPS61170568A JP S61170568 A JPS61170568 A JP S61170568A JP 1164685 A JP1164685 A JP 1164685A JP 1164685 A JP1164685 A JP 1164685A JP S61170568 A JPS61170568 A JP S61170568A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chambers
vacuum treatment
treated
chamber
clean room
Prior art date
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Pending
Application number
JP1164685A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeo Itano
板野　重夫
Tetsuyoshi Wada
哲義 和田
Akira Kato
昭 加藤
Muneo Moriya
守屋　胸男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS61170568A publication Critical patent/JPS61170568A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は光ディスク、磁気ディスク、光磁気ディスクな
どを連続的に製造するための連続真空処理装置に関する
ものである。
〈従来、の技術〉 これらのディスクは薄膜蒸着前の基板表面に非常なりリ
ーン度を要求されるため、これに用いる真空処理装置は
クリーンルーム内に設ける必要がある。しかろ゛（、生
産性の点からこれらの装置は連続式若しくは、半連続式
であシ、従って、大きな容積を占める装置とならざるを
得ない。
〈発明が解決しようとする問題点〉 このような大きな真空処理装置を収めるだめのクリーン
ルームは大きくならざるを得す、設備費が犬となってし
まう。
〈問題点を解決するだめの手段〉 本発明はこのような従来の問題点を排除するために提案
するもので、開閉可能な可動用シール隔壁を介して複数
個の真空処理室を円形状に連結したことを特徴とする連
続真空処理装置である。
く実　施　例〉 以下、本発明を第１図によシ詳細に説明する。第１図に
おいて、１は被処理物の搬出入室、２はその搬出大扉、
３〜７は真空処理室である。例えば、光磁気ディスクを
製造する場合には、３は基板の表面の前処理（活性化処
理など）を行う部屋、４は誘電膜を施こす部屋、５．６
は磁性膜を施こす部屋、７は保護膜を施こすだめの部屋
となる。これらの各機能を有する真空処理室を円形状に
連結せしめ、連続的に所望の膜を形成できるようにしで
ある。
なお■は、各室と排気装置１４との間を継ぐ排気用配管
８〜１３に設けた、排気量調節用ならびに仕切用の弁で
ある。各室の排気到達レベルが相当具なる場合には排気
装置１４は複数組設置するのがよい。１８は各室に設け
られた被処理物搬送装置で、例えば、異径ロールなどを
使用するとよい。Ｓは、各室間に設けた可動用シール隔
壁である。
また、被処理物の振出人室１はクリーンルーム外エフに
出せるので各機器のメンテナンスが容易となる。なお、
各真空処理室に監視窓Ｗを設けておき、この窓にモニタ
ー用のテレビカメラを設け、１ケ所で監視することもで
きる。
〈作　　用〉 このように、円形状に各真空処理室を配列することによ
り装置全体をコンパクトにまとめることができるのであ
る。即ち、ドーナツ状の真空処理室の中心スペースに排
気装置１４及びこれらの排気用配管８〜１３を設置する
ことにより、スペースを有効利用でき、装置全体として
のスペースをコンパクトにすることができる。
また、真空処理室全体として形を円形（ドーナツ）状に
配置することの他の利点として、被処理物（ディスク基
板、成品ディスクなど）の真空処理室への搬入、搬出を
１ケ所、即ち、搬出大扉２のみで行うことができるので
、この搬出大扉２のみをクリーンルーム１６に隔壁１５
にて収納するようにしておけば、クリーンな雰囲気で被
処理物の基板等を取扱うことができ、ホコリのない所望
の蒸着成品を得ることができる。その上、クリーンルー
ム１６ヲ非常にコンパクトにすることができるので、こ
のだめの費用も軽減できる。
〈発明の効果〉 以上のように、本発明の装置はメンテナンスが容易で、
しかも、コンパクトな装置なので、工業実施上、甚だ有
利なものである。
【図面の簡単な説明】
第１図は、本発明の一実施態様を示す装置の平面図であ
る。 Ｓ・・・可動用シール隔壁、３〜７・・・真空処索１閃

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 開閉可能な可動用シール隔壁を介して複数個の真空処理
    室を円形状に連結したことを特徴とする連続真空処理装
    置。
JP1164685A 1985-01-24 1985-01-24 連続真空処理装置 Pending JPS61170568A (ja)

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