JPS61171798A - 切削油及びこれを用いる切削加工方法 - Google Patents
切削油及びこれを用いる切削加工方法Info
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- JPS61171798A JPS61171798A JP990185A JP990185A JPS61171798A JP S61171798 A JPS61171798 A JP S61171798A JP 990185 A JP990185 A JP 990185A JP 990185 A JP990185 A JP 990185A JP S61171798 A JPS61171798 A JP S61171798A
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- cutting
- cut
- cutting oil
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は切削油及びこれを用いる切削加工方法に関し、
特に超精密切削加工にも応用でき、とりわけ正確な表面
形状が要求される電気、電子乃至光学デバイスの構成部
材を旋削するのに適した切削油及びこの切削油を用いる
切削加工方法に関する。
特に超精密切削加工にも応用でき、とりわけ正確な表面
形状が要求される電気、電子乃至光学デバイスの構成部
材を旋削するのに適した切削油及びこの切削油を用いる
切削加工方法に関する。
従来より用いられている切削油としては、鉱油に金属へ
の親和性を付与するための油性剤とじて脂肪油を混合し
た混成形切削油、これに極圧剤を添加した極圧形切削油
、鉱油及び水と界面活性剤を添加してエマルジョン化し
たエマルジョン形切削油、及び鉱油に防錆能力を有する
強力界面活性剤を加えたソリュープル形切削油等がある
。
の親和性を付与するための油性剤とじて脂肪油を混合し
た混成形切削油、これに極圧剤を添加した極圧形切削油
、鉱油及び水と界面活性剤を添加してエマルジョン化し
たエマルジョン形切削油、及び鉱油に防錆能力を有する
強力界面活性剤を加えたソリュープル形切削油等がある
。
ところが、これら従来の切削油には種々の問題点があり
、電子写真感光体等の膜体デバイスの基体（支持体）、
コンピューターメモリー用磁気ディスク基板等の精度の
良い表面形状が要求される電気、電子乃至光学デバイス
の構成部材の旋削の際に、特に顕著に現われる。
、電子写真感光体等の膜体デバイスの基体（支持体）、
コンピューターメモリー用磁気ディスク基板等の精度の
良い表面形状が要求される電気、電子乃至光学デバイス
の構成部材の旋削の際に、特に顕著に現われる。
その１つは、従来の切削油が金属体表面に均一に残留し
Ｋくいため、旋削後の洗浄及びこれに引続く塗布、成膜
、メッキ、アルマイト等の後処理工程において、不均一
に残留した切削油の跡が、ときとして処理条件、時間に
応じて微視的なじみとして残留する等の不都合を生ずる
ことである。
Ｋくいため、旋削後の洗浄及びこれに引続く塗布、成膜
、メッキ、アルマイト等の後処理工程において、不均一
に残留した切削油の跡が、ときとして処理条件、時間に
応じて微視的なじみとして残留する等の不都合を生ずる
ことである。
この様な不都合は、例えばアルミニウム合金などを被削
物とする場合、に顕著である。
物とする場合、に顕著である。
このため、例えばラード、植物油等の天然の不乾性油を
油性剤として含む混成形切削油を用いることも考えられ
るが、この場合、これらに含有される硫黄化合物、塩類
、アルカリ金属等が被削物の表面に残留して微視的な錆
、表面異常などの不都合が生ずる。
油性剤として含む混成形切削油を用いることも考えられ
るが、この場合、これらに含有される硫黄化合物、塩類
、アルカリ金属等が被削物の表面に残留して微視的な錆
、表面異常などの不都合が生ずる。
また、極圧形切削油を用いた場合には、旋削後１０分以
内といった短時間のうちに微視的な錆が発生し、被削物
表面に欠陥とし【現われる。この様な欠陥は、特に、被
削物を基体として、光導電膜や半導体膜を形成する場合
などに、製造上の支障を来たし、また膜体の特性にも悪
影響を与える。
内といった短時間のうちに微視的な錆が発生し、被削物
表面に欠陥とし【現われる。この様な欠陥は、特に、被
削物を基体として、光導電膜や半導体膜を形成する場合
などに、製造上の支障を来たし、また膜体の特性にも悪
影響を与える。
とりわけ、鏡面化仕上げやエンデス仕上げ等のための切
削加工を施された金属体表面上にグロー放電成膜法等に
よりアモルファスシリコンの堆積膜を形成する場合や有
機光導電体、ＣｄＳ等の光導電体層を塗布形成する場合
に、前述の様な表面欠陥があると、成膜の不均一や欠陥
部分での膜の異常成長、塗布ムラといった不都合を生じ
、製品の歩留りを低下させ、膜体の光学的、光導的乃至
電気的特性を劣化させるととＫなる。
削加工を施された金属体表面上にグロー放電成膜法等に
よりアモルファスシリコンの堆積膜を形成する場合や有
機光導電体、ＣｄＳ等の光導電体層を塗布形成する場合
に、前述の様な表面欠陥があると、成膜の不均一や欠陥
部分での膜の異常成長、塗布ムラといった不都合を生じ
、製品の歩留りを低下させ、膜体の光学的、光導的乃至
電気的特性を劣化させるととＫなる。
また、エマルジョン形やソリュープル形の切削油を用い
た場合は、不均一な残留、鏡などの不都合を生じ、特に
超精密切削には不向きである。
た場合は、不均一な残留、鏡などの不都合を生じ、特に
超精密切削には不向きである。
本発明の第１の目的は、被削物との親和性に優れ、優れ
た切削性を示し、旋削後にも均−且つ安定な保護膜とし
て作用し得、しかも被削物の分子的レベルでの物理的・
化学的変化を惹起せしめることのない切削油を提供する
ことにある。
た切削性を示し、旋削後にも均−且つ安定な保護膜とし
て作用し得、しかも被削物の分子的レベルでの物理的・
化学的変化を惹起せしめることのない切削油を提供する
ことにある。
本発明の第２の目的は、％に精度が良好で、且つ微視的
、分子的に均一な表面形状を得ることを必要とする超精
密切削加工用として好適な切削油を提供することにある
。
、分子的に均一な表面形状を得ることを必要とする超精
密切削加工用として好適な切削油を提供することにある
。
本発明の第３の目的は、かくして優れた性能を発揮し得
本切削油を用い、とりわけ超精密切削を行なうのに適し
た切削加工方法を提供することＫある。
１１゜前記第１及び第
２の目的は、鉱油と不乾性の化学合成油とを混合して成
ることを特徴とする本発明の切削油によって達成される
。
本切削油を用い、とりわけ超精密切削を行なうのに適し
た切削加工方法を提供することＫある。
１１゜前記第１及び第
２の目的は、鉱油と不乾性の化学合成油とを混合して成
ることを特徴とする本発明の切削油によって達成される
。
前記第３の目的は、前記本発明の切削油を用いることを
特徴とする本発明の切削加工方法によつ【達成される。
特徴とする本発明の切削加工方法によつ【達成される。
本発明で使用する鉱油は、従来より知られているナフテ
ン系及び・母ラフイン系等の鉱油のうちから任意に選択
することができる。例えば軽油、スピンドル油、マシン
油、石油等及びこれらの混合物などが用いられる。
ン系及び・母ラフイン系等の鉱油のうちから任意に選択
することができる。例えば軽油、スピンドル油、マシン
油、石油等及びこれらの混合物などが用いられる。
本発明で使用する不乾性の化学合成油は、例えば、エチ
レン、グロピレン、ブチレンなどのオレフィン系炭化水
素のオリゴマー乃至ポリマーを主剤とするオレフィン重
合油〔市販のものとしては、例えば商品名Ｐａｒａｔｏ
ｎｓ （Ｅｎｊａｙ Ｃｈｅｍｌｃａ１社製）、商品名
ポリプデンＨマ１００、ポリブデンＨマ３５、ポリブデ
ンＨマ３００（何れも日本石油（株）製）などがあり、
オレフィン系炭化水素のオリゴマー乃至プリマーの平均
分子量は、５００〜２５００、更には７５０〜１４００
が好ましい。粘度は２００〜３５０００センチスト−ゲ
ス、更には３０００〜１２０００セｙｆ−ストークス（
１００？）のグレードのものが好ましい、コなどの１つ
又は２つ以上を用いて調製することができる。
レン、グロピレン、ブチレンなどのオレフィン系炭化水
素のオリゴマー乃至ポリマーを主剤とするオレフィン重
合油〔市販のものとしては、例えば商品名Ｐａｒａｔｏ
ｎｓ （Ｅｎｊａｙ Ｃｈｅｍｌｃａ１社製）、商品名
ポリプデンＨマ１００、ポリブデンＨマ３５、ポリブデ
ンＨマ３００（何れも日本石油（株）製）などがあり、
オレフィン系炭化水素のオリゴマー乃至プリマーの平均
分子量は、５００〜２５００、更には７５０〜１４００
が好ましい。粘度は２００〜３５０００センチスト−ゲ
ス、更には３０００〜１２０００セｙｆ−ストークス（
１００？）のグレードのものが好ましい、コなどの１つ
又は２つ以上を用いて調製することができる。
これら鉱油と不乾性油とは任意の比率で混合して用いる
ことができるが、本発明の切削油における混合比率は、
鉱油１００重量部に対して不乾性の化学合成油１〜５０
重量部、更には５〜３０重量部の比率であることが好ま
しい。
ことができるが、本発明の切削油における混合比率は、
鉱油１００重量部に対して不乾性の化学合成油１〜５０
重量部、更には５〜３０重量部の比率であることが好ま
しい。
本発明の切削油には、場合によっては、このほか、本発
明の目的を損わない範囲、具体的には切削油総量の５重
量−以下の範囲で十分に精製した例えば種油、大豆油、
ひまし油、ラード、鯨油等の植物性乃至動物性油脂を添
加することができる。
明の目的を損わない範囲、具体的には切削油総量の５重
量−以下の範囲で十分に精製した例えば種油、大豆油、
ひまし油、ラード、鯨油等の植物性乃至動物性油脂を添
加することができる。
本発明の切削油を用いて切削を行う場合、切削油を層剤
部位に滴下させたり吹付けたりして付着させるのが一般
的であるが、本発明の切削油の場合、このほか、予め層
剤部位の全体に均一に塗布しておき、雄側の際には切削
油を新たに付着させないといった方法を採るもともでき
、これＫより、切削油の付着ムラや浪費を抑えることが
できる。
部位に滴下させたり吹付けたりして付着させるのが一般
的であるが、本発明の切削油の場合、このほか、予め層
剤部位の全体に均一に塗布しておき、雄側の際には切削
油を新たに付着させないといった方法を採るもともでき
、これＫより、切削油の付着ムラや浪費を抑えることが
できる。
本発明の切削油は、広範な金属切削加工に利用すること
ができるが、とりわけ、電子写真感光体等の膜体デバイ
スの基体（支持体）、コンピューターメモリー用磁気デ
ィスク基板、レーザースキャン用のｙｔ？ ＩＪゴンミ
ラー基体等の旋削に好適であり、また従来ダイヤパイ）
Ｋよる鏡面仕上げ、円筒研削仕上げ、う、ピング仕上げ
等の手段を用いＣＲｍｌｌＫ ＝’μｍ以下の表面粗さ
に仕上げられる各種電気、電子乃至光学デバイスの構成
部材に用いる切削油剤（研削液、ラップ液）として有用
である。
ができるが、とりわけ、電子写真感光体等の膜体デバイ
スの基体（支持体）、コンピューターメモリー用磁気デ
ィスク基板、レーザースキャン用のｙｔ？ ＩＪゴンミ
ラー基体等の旋削に好適であり、また従来ダイヤパイ）
Ｋよる鏡面仕上げ、円筒研削仕上げ、う、ピング仕上げ
等の手段を用いＣＲｍｌｌＫ ＝’μｍ以下の表面粗さ
に仕上げられる各種電気、電子乃至光学デバイスの構成
部材に用いる切削油剤（研削液、ラップ液）として有用
である。
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明する。
実施例１
精密切削用のエアダンノー−付旋盤（ＰＮＥＵＭＯＰＲ
ＥＣＩＳＩＯＮ ＩＮＣ，製）ＶＣダイヤモンドノ々イ
ト〔商品名ミラクルバイト、東京ダイヤ製〕を、シリン
ダー中心角に対して５″の負のすくい角を得るようにセ
ットした。
ＥＣＩＳＩＯＮ ＩＮＣ，製）ＶＣダイヤモンドノ々イ
ト〔商品名ミラクルバイト、東京ダイヤ製〕を、シリン
ダー中心角に対して５″の負のすくい角を得るようにセ
ットした。
次にこの旋盤の回転軸フランジに、アルミニウム合金製
シリンダーを真空チャ、りし、付設したノズルから灯油
１００重量部及びポリブテン−１を主剤とする不乾性油
（商品名ポリブテンＨｖ１００、日本石油（株）製）２
０重量部から成る本発明の切削油を噴霧、同じく付設し
た吸引ノズルからの切り粉の吸引を行ないつつ、周速１
０００１％／ｍｔｎ 、送り速度０．０１■／ｒｅマの
条件で、外径が８０籠φとなるよう鏡面切削を施した。
シリンダーを真空チャ、りし、付設したノズルから灯油
１００重量部及びポリブテン−１を主剤とする不乾性油
（商品名ポリブテンＨｖ１００、日本石油（株）製）２
０重量部から成る本発明の切削油を噴霧、同じく付設し
た吸引ノズルからの切り粉の吸引を行ないつつ、周速１
０００１％／ｍｔｎ 、送り速度０．０１■／ｒｅマの
条件で、外径が８０籠φとなるよう鏡面切削を施した。
鏡面加工後の表面状態、切削油膜の形成状態、被削物の
旋削後の物理的・化学的変化の有無を目視及び金属顕微
鏡により検査したところ、切削後の表面が全体均一に、
切削油で被覆され、１２時間放置後にトリエタンにて洗
浄した表面にも微視的なしみもなく、且つ表面粗さく
％ａ３Ｅ ）も０．０３μｍで、アモルファスシリコン
を成膜して電子写真感光体とし、画出しを行ったところ
、画像欠陥がなく良好でありた。
旋削後の物理的・化学的変化の有無を目視及び金属顕微
鏡により検査したところ、切削後の表面が全体均一に、
切削油で被覆され、１２時間放置後にトリエタンにて洗
浄した表面にも微視的なしみもなく、且つ表面粗さく
％ａ３Ｅ ）も０．０３μｍで、アモルファスシリコン
を成膜して電子写真感光体とし、画出しを行ったところ
、画像欠陥がなく良好でありた。
比較例１１゜
ポリブテンを主剤とする不乾性油の代りＫひまし油を用
いた混成形切削油に代えた以外は実施例１と同じ鏡面切
削加工を行なったところ、全体均一に切削油が被覆され
ず、１２時間放置後洗浄したところ、表面に目視できる
じみが発生し、成膜が不能であった。また、表面粗さく
”ｍ＆Ｘ ）も０．０８μｍと大きく、好ましいもの
ではなかった。
いた混成形切削油に代えた以外は実施例１と同じ鏡面切
削加工を行なったところ、全体均一に切削油が被覆され
ず、１２時間放置後洗浄したところ、表面に目視できる
じみが発生し、成膜が不能であった。また、表面粗さく
”ｍ＆Ｘ ）も０．０８μｍと大きく、好ましいもの
ではなかった。
比較例２
ポリブテンを主剤とする不乾性油を用いた切削油の代り
に極圧型切削油（商品名インスカ、ト２１６、東邦化学
（株）製）Ｋ代えた以外は、実施例１と同じ鏡面切削加
工を行なったところ、全体均一切削油が被覆されず、油
滴状となり、６０分放置後洗浄を行なったが、油滴状じ
みが高照度光源下で微視的に存在し、アモルファスシリ
コン感光体成膜あるいは有機光導電体塗布の何れの場合
においても、成膜ムラが発生し、油滴状跡が画出しにお
いても発現した。また表面粗さくＲｍａｘ）も０６０５
μｍと大きかった。
に極圧型切削油（商品名インスカ、ト２１６、東邦化学
（株）製）Ｋ代えた以外は、実施例１と同じ鏡面切削加
工を行なったところ、全体均一切削油が被覆されず、油
滴状となり、６０分放置後洗浄を行なったが、油滴状じ
みが高照度光源下で微視的に存在し、アモルファスシリ
コン感光体成膜あるいは有機光導電体塗布の何れの場合
においても、成膜ムラが発生し、油滴状跡が画出しにお
いても発現した。また表面粗さくＲｍａｘ）も０６０５
μｍと大きかった。
実施例２，３
灯油と／ ＩＪブテンを主剤とする不乾性油との混合比
率を１００：２０から１００：５及び１００：４０に代
えた以外は実施例１と同じ鏡面切削加工を行ったところ
、切削油が付着したまま１２乃至４８時間放置後洗浄し
感光体を作成したが、良好な結果が得られた。これは不
乾性オレフィン重合油による表面保護作用が優れている
ためと考えられる。
率を１００：２０から１００：５及び１００：４０に代
えた以外は実施例１と同じ鏡面切削加工を行ったところ
、切削油が付着したまま１２乃至４８時間放置後洗浄し
感光体を作成したが、良好な結果が得られた。これは不
乾性オレフィン重合油による表面保護作用が優れている
ためと考えられる。
実施例４
本発明の切削油を噴霧する代りに、予めアルミニウム合
金製シリンダー上に厚みｌＯμｍ程度に３ｍ！布してか
ら切削を行なった以外は、実施例１と同じ切削加工を行
ったところ、切削表面粗さくＲｍａｘ）が０．０３μｍ
であり、１２時間放置後洗浄したところ、微視的なしみ
もなく、これを用いてアモルファスシリコン感光体、及
び有機光導電性物質の感光体を作成し、通常の電子写真
法を適用して画像を形成したとζろ１９画像欠陥もなく
、良好であった。
金製シリンダー上に厚みｌＯμｍ程度に３ｍ！布してか
ら切削を行なった以外は、実施例１と同じ切削加工を行
ったところ、切削表面粗さくＲｍａｘ）が０．０３μｍ
であり、１２時間放置後洗浄したところ、微視的なしみ
もなく、これを用いてアモルファスシリコン感光体、及
び有機光導電性物質の感光体を作成し、通常の電子写真
法を適用して画像を形成したとζろ１９画像欠陥もなく
、良好であった。
本発明の切削油は被削物との親和性に優れ、優れた切削
性を示し、旋削後にも均−且つ安定な保護膜として作用
し得る。しかも被削物の物理的・化学的変化を惹起せし
めることがないため、とりわけ、精度が良く、且つ微視
的に均一な表面性状が要求される超精密切削用として有
用である。
性を示し、旋削後にも均−且つ安定な保護膜として作用
し得る。しかも被削物の物理的・化学的変化を惹起せし
めることがないため、とりわけ、精度が良く、且つ微視
的に均一な表面性状が要求される超精密切削用として有
用である。
Claims (3)
- （１）鉱油と不乾性の化学合成油とを混合して成ること
を特徴とする切削油。 - （２）鉱油と不乾性の化学合成油とを混合して成る切削
油を用いることを特徴とする切削加工方法。 - （３）切削油を予め被削物に塗布して切削を行なう特許
請求の範囲第（２）項記載の切削加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP990185A JPS61171798A (ja) | 1985-01-24 | 1985-01-24 | 切削油及びこれを用いる切削加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP990185A JPS61171798A (ja) | 1985-01-24 | 1985-01-24 | 切削油及びこれを用いる切削加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61171798A true JPS61171798A (ja) | 1986-08-02 |
Family
ID=11733012
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP990185A Pending JPS61171798A (ja) | 1985-01-24 | 1985-01-24 | 切削油及びこれを用いる切削加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61171798A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0501498A1 (en) | 1991-02-28 | 1992-09-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for treating substrate for electrophotographic photosensitive member and method for manufacturing electrophotographic photosensitive member making use of said method for treating substrate |
| US5480754A (en) * | 1993-03-23 | 1996-01-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member and method of manufacturing the same |
| US6156472A (en) * | 1997-11-06 | 2000-12-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing electrophotographic photosensitive member |
| US6391394B1 (en) | 1993-12-22 | 2002-05-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing electrophotographic photosensitive member and jig used therein |
-
1985
- 1985-01-24 JP JP990185A patent/JPS61171798A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0501498A1 (en) | 1991-02-28 | 1992-09-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for treating substrate for electrophotographic photosensitive member and method for manufacturing electrophotographic photosensitive member making use of said method for treating substrate |
| US5314780A (en) * | 1991-02-28 | 1994-05-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for treating metal substrate for electro-photographic photosensitive member and method for manufacturing electrophotographic photosensitive member |
| US5480627A (en) * | 1991-02-28 | 1996-01-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for treating substrate for electrophotographic photosensitive member and method for making electrophotographic photosensitive member |
| US5480754A (en) * | 1993-03-23 | 1996-01-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member and method of manufacturing the same |
| US6391394B1 (en) | 1993-12-22 | 2002-05-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing electrophotographic photosensitive member and jig used therein |
| US6156472A (en) * | 1997-11-06 | 2000-12-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing electrophotographic photosensitive member |
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