JPS61173444A - イオン源用絶縁碍子 - Google Patents
イオン源用絶縁碍子Info
- Publication number
- JPS61173444A JPS61173444A JP60012407A JP1240785A JPS61173444A JP S61173444 A JPS61173444 A JP S61173444A JP 60012407 A JP60012407 A JP 60012407A JP 1240785 A JP1240785 A JP 1240785A JP S61173444 A JPS61173444 A JP S61173444A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulator
- shield ring
- ion source
- ion
- spring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はイオン源用絶縁碍子に係り、特に高電圧、大電
流用のイオン打込装置用のイオン源に用いるに好適な絶
縁碍子の内面構造に関する。
流用のイオン打込装置用のイオン源に用いるに好適な絶
縁碍子の内面構造に関する。
大電流出力（例えば、１０ｍＡ以上）を目的とするイオ
ン打込装置に用いられるイオン源等の荷電粒子を扱う部
分の絶縁材（碍子）はチーシアツブ防止や絶縁性の劣化
を防止するため導体で覆うことが従来より行われている
。導体で覆うとは、例えば１円筒状碍子の内面にイオン
源の電極部分の周囲をとり巻くようにシールドリングを
設ける等の手法が用いられている。しかし、碍子の全面
を完全に覆うことは構造的に現実には困難である。
ン打込装置に用いられるイオン源等の荷電粒子を扱う部
分の絶縁材（碍子）はチーシアツブ防止や絶縁性の劣化
を防止するため導体で覆うことが従来より行われている
。導体で覆うとは、例えば１円筒状碍子の内面にイオン
源の電極部分の周囲をとり巻くようにシールドリングを
設ける等の手法が用いられている。しかし、碍子の全面
を完全に覆うことは構造的に現実には困難である。
一方、このシールドリングを設けた状態において碍子に
加わる電圧に変動がしばしば起こる０発明者等は実験の
結果、この電位変動の原因はシールドリングの電界の強
い部分に放電の跡があることを確認し、特に、シールド
リングと碍子内壁との接する位置に微少放電が連続的に
発生していることを確認した。
加わる電圧に変動がしばしば起こる０発明者等は実験の
結果、この電位変動の原因はシールドリングの電界の強
い部分に放電の跡があることを確認し、特に、シールド
リングと碍子内壁との接する位置に微少放電が連続的に
発生していることを確認した。
本発明は上述した問題点を解決すべく、大電流用イオン
打込装置のイオン源において、内部放電を極力減少させ
安定性のよいイオン源を提供することを目的とする。
打込装置のイオン源において、内部放電を極力減少させ
安定性のよいイオン源を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明は、電極部の周囲を覆
うべく碍子の内面に接地電位もしくは特定電位を有する
リング状の導体が設けられてなるイオン源において、前
記碍子内面とリングとの空隙間に碍子内面とリングとに
同時に電気的に接し得る導電部材を配置したことを特徴
とするものである。
うべく碍子の内面に接地電位もしくは特定電位を有する
リング状の導体が設けられてなるイオン源において、前
記碍子内面とリングとの空隙間に碍子内面とリングとに
同時に電気的に接し得る導電部材を配置したことを特徴
とするものである。
次に、本発明の実施例を図面に基づいて説明する０図は
イオン打込機に使用するマイクロ波イオン源の概要を示
す断面図である。ガス導入口１からイオン化箱６に導入
された原料ガスは、マイクロ波導入口１１から導入され
るマイクロ波と励磁コイル５で発生する磁場によりイオ
ン化箱６内にプラズマを発生せしめ、加速電極７に加え
られている加速電圧と引出し電極８に加えられている電
圧によりイオンビームとして引き出される。
イオン打込機に使用するマイクロ波イオン源の概要を示
す断面図である。ガス導入口１からイオン化箱６に導入
された原料ガスは、マイクロ波導入口１１から導入され
るマイクロ波と励磁コイル５で発生する磁場によりイオ
ン化箱６内にプラズマを発生せしめ、加速電極７に加え
られている加速電圧と引出し電極８に加えられている電
圧によりイオンビームとして引き出される。
３は絶縁碍子であり、加速電圧を接地から絶縁するとと
もに真空容器も兼ねている。このように真空容器を兼ね
る円筒状の絶縁碍子３で絶縁材がイオン発生源に近い場
合には碍子内面のチャージアップ防止や汚れの防止の目
的で９のシールドリングを図のように配置することは従
来よりよく行われていることは先に述べた通りである。
もに真空容器も兼ねている。このように真空容器を兼ね
る円筒状の絶縁碍子３で絶縁材がイオン発生源に近い場
合には碍子内面のチャージアップ防止や汚れの防止の目
的で９のシールドリングを図のように配置することは従
来よりよく行われていることは先に述べた通りである。
絶縁碍子３の内壁とシールドリング９の外壁とを全面密
着させることは構造上困難であり、空隙を生ずる。
着させることは構造上困難であり、空隙を生ずる。
一方、イオン源を運転してみると、絶縁碍子３の内面の
絶縁度の状態によりイオンビームの安定性に差があるこ
とが確認さ九、微少放電が連続的に発生する場合がある
。
絶縁度の状態によりイオンビームの安定性に差があるこ
とが確認さ九、微少放電が連続的に発生する場合がある
。
放電が発明した後のイオン源内を点検してみるとシール
ドリング９の端部の絶縁碍子３の内面に対向する部分に
放電跡がみられ、その部分の電位が不安定になっている
ことがわかる。これは碍子３の内面に帯電した電荷がシ
ールドリングに放電していると考えられる１本発明では
こし碍子３の内面とシールドリング９間の放電を止める
手段として、碍子３の内壁とシールドリング９が電気的
に接触し得るように空隙にスプリング１０を配置したも
のである。このスプリング１０は碍子３の内壁およびシ
ールドリング９に同時に接するので空隙を完全に電気的
に接続することができる。碍子３の内面の電位がチャー
ジアップ等により上昇しても放電することなくスプリン
グを通ってシールドリングに流れ込むのでイオン源から
は安定したビームを得ることができる。
ドリング９の端部の絶縁碍子３の内面に対向する部分に
放電跡がみられ、その部分の電位が不安定になっている
ことがわかる。これは碍子３の内面に帯電した電荷がシ
ールドリングに放電していると考えられる１本発明では
こし碍子３の内面とシールドリング９間の放電を止める
手段として、碍子３の内壁とシールドリング９が電気的
に接触し得るように空隙にスプリング１０を配置したも
のである。このスプリング１０は碍子３の内壁およびシ
ールドリング９に同時に接するので空隙を完全に電気的
に接続することができる。碍子３の内面の電位がチャー
ジアップ等により上昇しても放電することなくスプリン
グを通ってシールドリングに流れ込むのでイオン源から
は安定したビームを得ることができる。
本発明によればイオン源の絶縁碍子内面に帯電した電荷
はシールドリングとの空隙で放電することなくスプリン
グを通してシールドリングに流れ込むので安定なイオン
ビームを生成するイオン源を提供することができる。
はシールドリングとの空隙で放電することなくスプリン
グを通してシールドリングに流れ込むので安定なイオン
ビームを生成するイオン源を提供することができる。
図は本発明によるイオン源の実施例を示す断面図である
。 １・・・ガス導入口、２・・・イオン源フランジ、３・
・・絶縁碍子、４・・・接地電極、５・・・励磁コイル
、６・・・イオン箱、７・・・加速電極、８・・・引出
し電極、９・・・シールドリング、１０・・・スプリン
グ、１１・・・マイクロ波導入口。
。 １・・・ガス導入口、２・・・イオン源フランジ、３・
・・絶縁碍子、４・・・接地電極、５・・・励磁コイル
、６・・・イオン箱、７・・・加速電極、８・・・引出
し電極、９・・・シールドリング、１０・・・スプリン
グ、１１・・・マイクロ波導入口。
Claims (1)
- １、電極部の周囲を覆うべく碍子の内面に接地電位もし
くは特定電位を有するリング状の導体が設けられてなる
イオン源において、前記碍子内面とリングとの空隙に碍
子内面とリングとに同時に電気的に接し得る導電部材を
配置したことを特徴とするイオン源用絶縁碍子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60012407A JPS61173444A (ja) | 1985-01-28 | 1985-01-28 | イオン源用絶縁碍子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60012407A JPS61173444A (ja) | 1985-01-28 | 1985-01-28 | イオン源用絶縁碍子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61173444A true JPS61173444A (ja) | 1986-08-05 |
Family
ID=11804405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60012407A Pending JPS61173444A (ja) | 1985-01-28 | 1985-01-28 | イオン源用絶縁碍子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61173444A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63158730A (ja) * | 1986-12-22 | 1988-07-01 | Fuji Electric Co Ltd | イオンビ−ム装置 |
-
1985
- 1985-01-28 JP JP60012407A patent/JPS61173444A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63158730A (ja) * | 1986-12-22 | 1988-07-01 | Fuji Electric Co Ltd | イオンビ−ム装置 |
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