JPH079335Y2 - 放電トリガ− - Google Patents
放電トリガ−Info
- Publication number
- JPH079335Y2 JPH079335Y2 JP1983157081U JP15708183U JPH079335Y2 JP H079335 Y2 JPH079335 Y2 JP H079335Y2 JP 1983157081 U JP1983157081 U JP 1983157081U JP 15708183 U JP15708183 U JP 15708183U JP H079335 Y2 JPH079335 Y2 JP H079335Y2
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- JP
- Japan
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- electrode
- rod
- vacuum
- shaped electrode
- discharge trigger
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Links
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 本考案はスパッタリング，スパッタエッチング，プラズ
マCVD,イオンプレーティング等真空中でプラズマを発生
させて薄膜処理を行う装置において，主電極の放電を開
始を容易にせしめるための補助電極の構造に関するもの
である。第１図は本考案の使用される装置の実施例を示
すRFスパッタエッチング装置の構成である。真空容器10
の内部にRF電極組立20が設けられている。真空容器には
導入バルブ12を経て矢印12′の方向にガスが供給され，
このガスは更に排気管11を経て矢印11′の方向に排気さ
れる。RF電極21の上に石英製エッチングテーブル22が載
せられ，更にその上にエッチングすべき試料23が載せら
れている。RF電極のエッチングテーブルに接しない面は
シールド24に囲われている。またRF電極は絶縁体25によ
りアース電位にある真空容器から電気的に絶縁されかつ
RF電源26と接続されている。真空容器には更に補助電極
30が設けられている。補助電極に電圧を印加して，次い
で主電極であるRF電極に電力を供給すると主電極におけ
る放電が安定かつ確実に開始する。
マCVD,イオンプレーティング等真空中でプラズマを発生
させて薄膜処理を行う装置において，主電極の放電を開
始を容易にせしめるための補助電極の構造に関するもの
である。第１図は本考案の使用される装置の実施例を示
すRFスパッタエッチング装置の構成である。真空容器10
の内部にRF電極組立20が設けられている。真空容器には
導入バルブ12を経て矢印12′の方向にガスが供給され，
このガスは更に排気管11を経て矢印11′の方向に排気さ
れる。RF電極21の上に石英製エッチングテーブル22が載
せられ，更にその上にエッチングすべき試料23が載せら
れている。RF電極のエッチングテーブルに接しない面は
シールド24に囲われている。またRF電極は絶縁体25によ
りアース電位にある真空容器から電気的に絶縁されかつ
RF電源26と接続されている。真空容器には更に補助電極
30が設けられている。補助電極に電圧を印加して，次い
で主電極であるRF電極に電力を供給すると主電極におけ
る放電が安定かつ確実に開始する。
第２図は従来使用されていた補助電極を示す。図におい
て絶縁碍子31により絶縁されかつ真空シールされた高圧
棒状電極32が真空容器壁13に取付けられている。高圧電
極32の根部外周に，電気的には高圧電極32から絶縁され
た永久磁石33が設けられている。高圧電極32の大気側は
危険防止のため安全カバー34で囲われる。高圧電極32に
は外部のイグニッションコイルその他の高圧電源35から
給電線351を経由して高電圧が供給されて放電が行われ
る。このような従来の構造の補助電極は永久磁石が真空
中に設けられており磁石からのガス放出が生ずるので，
特に不純物ガスを抑制しなければならない場合には好ま
しくない。また放電開始を確実にするためにいは永久磁
石33によって高圧電極の近傍の空間によって発生させる
磁界の強さを充分強くすることが必要であり，これは永
久磁石33の容積は大きい方がより容易に達成できるが補
助電極があまり大きくなることは本来の装置としては好
ましいことではない。更に永久磁石33と棒状電極32の間
の絶縁を確保する上でも両者の間の隔隙は充分大きくす
ることが必要で補助電極を装置全体に比較して小さくす
ることは限度があった。
て絶縁碍子31により絶縁されかつ真空シールされた高圧
棒状電極32が真空容器壁13に取付けられている。高圧電
極32の根部外周に，電気的には高圧電極32から絶縁され
た永久磁石33が設けられている。高圧電極32の大気側は
危険防止のため安全カバー34で囲われる。高圧電極32に
は外部のイグニッションコイルその他の高圧電源35から
給電線351を経由して高電圧が供給されて放電が行われ
る。このような従来の構造の補助電極は永久磁石が真空
中に設けられており磁石からのガス放出が生ずるので，
特に不純物ガスを抑制しなければならない場合には好ま
しくない。また放電開始を確実にするためにいは永久磁
石33によって高圧電極の近傍の空間によって発生させる
磁界の強さを充分強くすることが必要であり，これは永
久磁石33の容積は大きい方がより容易に達成できるが補
助電極があまり大きくなることは本来の装置としては好
ましいことではない。更に永久磁石33と棒状電極32の間
の絶縁を確保する上でも両者の間の隔隙は充分大きくす
ることが必要で補助電極を装置全体に比較して小さくす
ることは限度があった。
本考案の目的は第１に不純物ガスの放出の恐れのない補
助電極の構造を与えることである。本考案の第２の目的
は装置全体に比較して非常に小型の補助電極の構造を与
えることである。特に補助電極部分の真空容積を小さく
するような構造を与えることである。本考案の第３の目
的は放電開始を確実でかつ容易にするような磁界を発生
させるための簡潔な構造の磁石配置を与えるものであ
る。
助電極の構造を与えることである。本考案の第２の目的
は装置全体に比較して非常に小型の補助電極の構造を与
えることである。特に補助電極部分の真空容積を小さく
するような構造を与えることである。本考案の第３の目
的は放電開始を確実でかつ容易にするような磁界を発生
させるための簡潔な構造の磁石配置を与えるものであ
る。
以下実施例によって本考案の放電トリガーを説明する。
第３図は本考案による補助電極の構造の実施例を示す。
図において２個の環状の永久磁石33は真空外部に棒状電
極32をはさむように対向して配置されている。この一対
の永久磁石の対向する磁極面は同極であり磁化軸が棒状
電極の中心軸321に対して垂直になるように設けられ，
磁極面から発した磁力線331が，棒状電極の周辺の空間
に強い湾曲した磁界を励起している。
図において２個の環状の永久磁石33は真空外部に棒状電
極32をはさむように対向して配置されている。この一対
の永久磁石の対向する磁極面は同極であり磁化軸が棒状
電極の中心軸321に対して垂直になるように設けられ，
磁極面から発した磁力線331が，棒状電極の周辺の空間
に強い湾曲した磁界を励起している。
第４図は第３図の矢印Ａ−Ａ面における断面図を示す。
この構造の補助電極によって次の効果が得られる。
永久磁石が真空容器外部に設けられているので磁石
からのガス放出による真空容器内の不純物ガスが増大し
てエッチング特性に悪影響を及ぼす恐れは全くない。
からのガス放出による真空容器内の不純物ガスが増大し
てエッチング特性に悪影響を及ぼす恐れは全くない。
第２図の従来の構造とくらべて永久磁石の寸法に厳
しい制約がないので磁石だけを大きくして棒状電極近傍
の空間に強い磁界を励起することができる。この結果全
体として補助電極の容積を小さくして放電開始を確実か
つ容易にすることができる。
しい制約がないので磁石だけを大きくして棒状電極近傍
の空間に強い磁界を励起することができる。この結果全
体として補助電極の容積を小さくして放電開始を確実か
つ容易にすることができる。
相対向する永久磁石が棒状電極の周辺の近傍の放電
トリガー空間に複雑に湾曲した高密度の磁力線を発生し
ているため第２図の従来の比較的均一な磁力線の場合よ
りも放電開始が極めて容易にできる。
トリガー空間に複雑に湾曲した高密度の磁力線を発生し
ているため第２図の従来の比較的均一な磁力線の場合よ
りも放電開始が極めて容易にできる。
簡単で廉価な構造によって上記の如き顕著な効果をもた
らす本考案の工業的価値は極めて高い。
らす本考案の工業的価値は極めて高い。
第１図は本考案の放電トリガーが使用されるスパッタエ
ッチング装置の構成例を示す。第２図は従来の補助電極
の構成，第３図は本考案による補助電極の断面構成，第
４図は第３図の矢印Ａ−Ａ面の断面を示す。図において
10は真空容器,20は主電極,30は補助電極,31は絶縁碍子,
32は棒状高圧電極,33は永久磁石,34は高圧安全保護カバ
ー,35は高圧電源,321は棒状電極の中心軸,331は磁力線,
351は高圧電極と棒状電極の間の電気配線を示す。
ッチング装置の構成例を示す。第２図は従来の補助電極
の構成，第３図は本考案による補助電極の断面構成，第
４図は第３図の矢印Ａ−Ａ面の断面を示す。図において
10は真空容器,20は主電極,30は補助電極,31は絶縁碍子,
32は棒状高圧電極,33は永久磁石,34は高圧安全保護カバ
ー,35は高圧電源,321は棒状電極の中心軸,331は磁力線,
351は高圧電極と棒状電極の間の電気配線を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭53−9993（ＪＰ，Ａ) 実公 昭58−35649（ＪＰ，Ｙ２)
Claims (1)
- 【請求項１】真空中でプラズマを発生させてスパッタリ
ングその他の薄膜処理を行なう装置に設けられる放電ト
リガーであって、該装置の真空容器の外部の高圧電源に
連なる棒状電極と、該真空容器外にあって該棒状電極の
中心軸に対して垂直な磁化軸をもちかつ該棒状電極をは
さんで相互に同極が相対向するように配置された永久磁
石とを、該装置の真空容器の主電極近傍に組み込んでな
ることを特徴とする放電トリガー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1983157081U JPH079335Y2 (ja) | 1983-10-11 | 1983-10-11 | 放電トリガ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1983157081U JPH079335Y2 (ja) | 1983-10-11 | 1983-10-11 | 放電トリガ− |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6064558U JPS6064558U (ja) | 1985-05-08 |
| JPH079335Y2 true JPH079335Y2 (ja) | 1995-03-06 |
Family
ID=30346428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1983157081U Expired - Lifetime JPH079335Y2 (ja) | 1983-10-11 | 1983-10-11 | 放電トリガ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH079335Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS539993A (en) * | 1976-07-15 | 1978-01-28 | Toshiba Corp | Ion producing device |
-
1983
- 1983-10-11 JP JP1983157081U patent/JPH079335Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6064558U (ja) | 1985-05-08 |
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