JPS6117592A - 過ジユウテリウム化されたメタアクリレ−トの製造方法 - Google Patents
過ジユウテリウム化されたメタアクリレ−トの製造方法Info
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- JPS6117592A JPS6117592A JP60076847A JP7684785A JPS6117592A JP S6117592 A JPS6117592 A JP S6117592A JP 60076847 A JP60076847 A JP 60076847A JP 7684785 A JP7684785 A JP 7684785A JP S6117592 A JPS6117592 A JP S6117592A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高度のシュウチリウム含有率を持つ過シユウ
チリウム化されたメタクリレートの新規な製造方法に関
する。
チリウム化されたメタクリレートの新規な製造方法に関
する。
光ファイバーの製造において、無機ガラス材料に加えて
有機重合体を基材とする材料を得ることが重要性を増し
ている。ポリメタクリレート、特にポリメチルメタクリ
レート(PMMA)はそれらの光学的性質および材料性
質によりこの目的に非常に適することが証明されている
。しかしながら、 PMMAを基材とするファイバーは
現在の要求に対して高すぎる光減衰値を依然として有す
ることが見い出されている。すなわち。
有機重合体を基材とする材料を得ることが重要性を増し
ている。ポリメタクリレート、特にポリメチルメタクリ
レート(PMMA)はそれらの光学的性質および材料性
質によりこの目的に非常に適することが証明されている
。しかしながら、 PMMAを基材とするファイバーは
現在の要求に対して高すぎる光減衰値を依然として有す
ることが見い出されている。すなわち。
この材料からの光ファイバーの光減衰値は650rtm
の光波長で約300dB/kInの領域にある。このよ
うな光減衰値がファイバーの製造にPMMAO代シに相
当するシュウチリウム化された重合体を使用すると劇的
に減少させることができることが最近、見い出された〔
この点については、Appl、 Phys、 Lett
、 41 、第802頁(1982年)および42.第
567頁(’1983年)を参照できる〕。
の光波長で約300dB/kInの領域にある。このよ
うな光減衰値がファイバーの製造にPMMAO代シに相
当するシュウチリウム化された重合体を使用すると劇的
に減少させることができることが最近、見い出された〔
この点については、Appl、 Phys、 Lett
、 41 、第802頁(1982年)および42.第
567頁(’1983年)を参照できる〕。
従って、シュウチリウム化されたメチルメタクリレ−)
(MMA−d8)の重合により入手できる過シユウチリ
ウム化されたポリメチルメタクリレートから、製造され
る光ファイバーの場合に、約20dB/Janの減衰値
を実現することができる。
(MMA−d8)の重合により入手できる過シユウチリ
ウム化されたポリメチルメタクリレートから、製造され
る光ファイバーの場合に、約20dB/Janの減衰値
を実現することができる。
しかしながら、この場合に、過シユウチリウム化された
単量体および重合体ができるだけ純粋であって、かつま
たできるだけシュウチリウム化されていなければならな
いことが重要な要件である。実際に、重合体のシュウチ
リウム含有率とファイバーの光減衰値との間には直接的
関係があり1シユウチリウム含有率ができるだけ高い場
合にだけ光減衰が極めて実質的に減じられる結果が得ら
れることが見い出された。
単量体および重合体ができるだけ純粋であって、かつま
たできるだけシュウチリウム化されていなければならな
いことが重要な要件である。実際に、重合体のシュウチ
リウム含有率とファイバーの光減衰値との間には直接的
関係があり1シユウチリウム含有率ができるだけ高い場
合にだけ光減衰が極めて実質的に減じられる結果が得ら
れることが見い出された。
従って、過シユウチリウム化されたPMMAの製造用の
原料物質としてシュウチリウム含有率が最大である形の
MMA−d8を合成できなければならない。
原料物質としてシュウチリウム含有率が最大である形の
MMA−d8を合成できなければならない。
過シユウチリウム化されたメチルメタクリレートの合成
方法はまたとえば米国特許第4.138,194号から
既知である。この特許の方法では次の反応式 に従い過シユウチリウム化されたアセトン(ヘキサジユ
ウテロアセトン、アセトン−d6)を先ずシアン化水素
と反応させて、相当するシアノヒドリンを生成させる。
方法はまたとえば米国特許第4.138,194号から
既知である。この特許の方法では次の反応式 に従い過シユウチリウム化されたアセトン(ヘキサジユ
ウテロアセトン、アセトン−d6)を先ずシアン化水素
と反応させて、相当するシアノヒドリンを生成させる。
この生成物は次いで濃硫酸および過シユウチリウム化さ
れたメタノールで処理することによジシアノヒドリンの
脱水。
れたメタノールで処理することによジシアノヒドリンの
脱水。
そのニトリル基の加水分解およびエステル化を行なって
、MMA−d8へ直接に変換することができる。
、MMA−d8へ直接に変換することができる。
本出願人自身の研究および文献記載のデ 7・(Mak
romol、 Chem、 ) 182 +第2502
頁(1981年)によシ示されるように、この合成経路
では、生成するMMA −a8のケトン部分のシュウチ
リウム含有率が部分的H/D交換のために原料物質とし
て用いられるアセトン−d6における置換度より10チ
まで低くなる。このH/ D交換によるシュウチリウム
の損失はシアノヒドリン合成工程でHCNの代りにDC
Nを使用する場合にだけ回避できるが、 DCNは極め
て高価である。
romol、 Chem、 ) 182 +第2502
頁(1981年)によシ示されるように、この合成経路
では、生成するMMA −a8のケトン部分のシュウチ
リウム含有率が部分的H/D交換のために原料物質とし
て用いられるアセトン−d6における置換度より10チ
まで低くなる。このH/ D交換によるシュウチリウム
の損失はシアノヒドリン合成工程でHCNの代りにDC
Nを使用する場合にだけ回避できるが、 DCNは極め
て高価である。
従って1本発明の目的は経済的であって、シュウチリウ
ムの損失をできるだけ低くすることができるMMA −
d8の合成方法を発見することにあった。
ムの損失をできるだけ低くすることができるMMA −
d8の合成方法を発見することにあった。
ここに、ケトン部分のシュウチリウム含有率が原料物質
として使用されるヘキサジユウテロアセトンにおける含
有率よシ多くて0.3%低い過シユウチリウム化された
メチルメタクリレートカ、アセトン−d6をトリメチル
シリルシアニドと反応させて1,3−ヘキサジユウテロ
−2−(トリメチルシロキシ)−2−シアノ−プロパン
を生成させ、この中間体から次の工程でトリメチルシリ
ル基を加水分解的に脱離させ1次いでこの方法で生成さ
れたシアノヒドリンを既知の方法により脱水させ、ニト
リル基を加水分解し、次いでエステル化することにより
MMA −d8に変換する場合に得ることができること
カー見い出された。
として使用されるヘキサジユウテロアセトンにおける含
有率よシ多くて0.3%低い過シユウチリウム化された
メチルメタクリレートカ、アセトン−d6をトリメチル
シリルシアニドと反応させて1,3−ヘキサジユウテロ
−2−(トリメチルシロキシ)−2−シアノ−プロパン
を生成させ、この中間体から次の工程でトリメチルシリ
ル基を加水分解的に脱離させ1次いでこの方法で生成さ
れたシアノヒドリンを既知の方法により脱水させ、ニト
リル基を加水分解し、次いでエステル化することにより
MMA −d8に変換する場合に得ることができること
カー見い出された。
従って1本発明はへキサシュウテロアセトンを相当する
シアノヒドリンに変換し1次いで水を脱離させ、シアノ
基を加水分解し5次いで過シユウチリウム化されたアル
カノールでエステル化することによりヘキサジユウテロ
アセトンから過シユウチリウム化されたメタクリレート
を製造する方法であって、ヘキサジユウテロアセトンの
シアノヒドリンへの変換をトリメチルシリルシアニドと
の反応により1,3−ヘキサジユウテロ−2−(トリメ
チルシロキシ)−2−シアノ−プロパンを生成させ、次
いでトリメチルシロキシ基を加水分解的に脱離させるこ
とにより行なう方法に関する。
シアノヒドリンに変換し1次いで水を脱離させ、シアノ
基を加水分解し5次いで過シユウチリウム化されたアル
カノールでエステル化することによりヘキサジユウテロ
アセトンから過シユウチリウム化されたメタクリレート
を製造する方法であって、ヘキサジユウテロアセトンの
シアノヒドリンへの変換をトリメチルシリルシアニドと
の反応により1,3−ヘキサジユウテロ−2−(トリメ
チルシロキシ)−2−シアノ−プロパンを生成させ、次
いでトリメチルシロキシ基を加水分解的に脱離させるこ
とにより行なう方法に関する。
本発明はまた、前記の特徴を有する方法によ製造された
過シユウチリウム化されたメタクリレートを、過シユウ
チリウム化されたポリメタクリレートを基材とする光フ
ァイノ2−の製造に分ける単量体として使用することに
関する。
過シユウチリウム化されたメタクリレートを、過シユウ
チリウム化されたポリメタクリレートを基材とする光フ
ァイノ2−の製造に分ける単量体として使用することに
関する。
さらにまた1本発明は新規化合物として、1,3−ヘキ
サジユウテロ−2−()リメチルシロキシ)−2−シア
ノープロノξンに関スル。
サジユウテロ−2−()リメチルシロキシ)−2−シア
ノープロノξンに関スル。
本発明はまたへキサシュウテロアセトンをトリメチルシ
リルシアニドと反応させることによる1、3−ヘキサジ
ユウテロ−2−(トリメチルシロキシ)−2−シアノー
プロノξンの叛造方法に関する。
リルシアニドと反応させることによる1、3−ヘキサジ
ユウテロ−2−(トリメチルシロキシ)−2−シアノー
プロノξンの叛造方法に関する。
さらにまた1本発明は1,6−ヘキサジユウテロ−2−
()リメチルシロキシ)−2−シアノープロノξンを過
シユウチリウム化されたメタクリレートの中間段階とし
て使用することに関する。
()リメチルシロキシ)−2−シアノープロノξンを過
シユウチリウム化されたメタクリレートの中間段階とし
て使用することに関する。
本発明による方法はアセトン−d6を先ず、第一段階で
トリメチルシリルビアニドと反応させて1,3−ヘキサ
ジユウテロ−2−(トリメチルシロキシ)−2−シアノ
ープロノξンヲ生成すセる方法で実施する。トリメチル
シリルシアニドとカルボニル化合物との反応について慣
用であるように、この反応は酸触媒として無水のルイス
酸を用いて実施する。たとえば三塩化アルミニウム、三
塩化鉄、ヨウ化亜鉛および三フッ化ホウ素エーテレート
のような慣用の全てのルイス酸が酸触媒として適してい
る。本発明の方法の場合には、ヨウ化亜鉛が特に有利で
あること、が証明された。実質的に定量的収率で得られ
る1、3−シュウテロ−2−()リメチルシロキシ)−
2−シアノ−プロ・ξンはたとえば蒸留またパはクロマ
トグラフィーにより純粋な形で製造できる。しかしなが
ら、粗製の未精製の形で後続の合成反応に使用すること
もできる。
トリメチルシリルビアニドと反応させて1,3−ヘキサ
ジユウテロ−2−(トリメチルシロキシ)−2−シアノ
ープロノξンヲ生成すセる方法で実施する。トリメチル
シリルシアニドとカルボニル化合物との反応について慣
用であるように、この反応は酸触媒として無水のルイス
酸を用いて実施する。たとえば三塩化アルミニウム、三
塩化鉄、ヨウ化亜鉛および三フッ化ホウ素エーテレート
のような慣用の全てのルイス酸が酸触媒として適してい
る。本発明の方法の場合には、ヨウ化亜鉛が特に有利で
あること、が証明された。実質的に定量的収率で得られ
る1、3−シュウテロ−2−()リメチルシロキシ)−
2−シアノ−プロ・ξンはたとえば蒸留またパはクロマ
トグラフィーにより純粋な形で製造できる。しかしなが
ら、粗製の未精製の形で後続の合成反応に使用すること
もできる。
この化合物は新規であって1本発明による方法における
価値ある中間体である。この化合物は最重要物質として
、後続の合成反応におけるエステル化に用いられるアル
コールによって変わる種々の数多くの過シユウチリウム
化されたメタクリレートに対する合成経路を開くもので
ある。
価値ある中間体である。この化合物は最重要物質として
、後続の合成反応におけるエステル化に用いられるアル
コールによって変わる種々の数多くの過シユウチリウム
化されたメタクリレートに対する合成経路を開くもので
ある。
本発明による方法によシ製造されるこのアセトン−d6
の「シリル化」シアノヒドリンはそのケトン部分のシュ
ウチリウム含有率が原料の過シユウチリウム化されたア
セトンのシュウチリウム含有率に実質的に相当するか、
または多くても0.5チ低いだけである。従来技術によ
るHCNを用いるシアノヒドリン合成の場合に、シュウ
チリウムの約10チがH/D交換によシ失われるのに比
較して1本発明による方法ではH/D交換は生じない。
の「シリル化」シアノヒドリンはそのケトン部分のシュ
ウチリウム含有率が原料の過シユウチリウム化されたア
セトンのシュウチリウム含有率に実質的に相当するか、
または多くても0.5チ低いだけである。従来技術によ
るHCNを用いるシアノヒドリン合成の場合に、シュウ
チリウムの約10チがH/D交換によシ失われるのに比
較して1本発明による方法ではH/D交換は生じない。
本発明による方法はさらに、極めて有毒のシアン化水素
を取り扱う必要がなく、相当する厳重な安全予防手段を
排除できるという利点を有する。
を取り扱う必要がなく、相当する厳重な安全予防手段を
排除できるという利点を有する。
さらに過シユウチリウム化されたメタクリレートの製造
方法において、1,6−へキサシュウテロ・・−2−(
)リメチルシロキシ)−2−シアノ−プロパンからトリ
メチルシリル基を加水分解的に脱離させ、シュウチリウ
ム化されたアセトン7アノヒドリンを生成させる。この
ためには、前工程で粗製の形で得られた1、3−ヘキサ
ジユウテロ−27()リメチルシロキシ)−2−シアノ
−プロパンを無機酸、好ましくは塩酸または硫酸の水溶
液に単に加える。生成するシアノヒドリン化合物は次い
で塩化メチレンのような有機溶剤で抽出し、場合により
蒸留により精製することにより純粋な形で単離できる。
方法において、1,6−へキサシュウテロ・・−2−(
)リメチルシロキシ)−2−シアノ−プロパンからトリ
メチルシリル基を加水分解的に脱離させ、シュウチリウ
ム化されたアセトン7アノヒドリンを生成させる。この
ためには、前工程で粗製の形で得られた1、3−ヘキサ
ジユウテロ−27()リメチルシロキシ)−2−シアノ
−プロパンを無機酸、好ましくは塩酸または硫酸の水溶
液に単に加える。生成するシアノヒドリン化合物は次い
で塩化メチレンのような有機溶剤で抽出し、場合により
蒸留により精製することにより純粋な形で単離できる。
このような反応に適用しようとする詳細な反応条件およ
び処理方法は当業者の熟知するところである。
び処理方法は当業者の熟知するところである。
このようにして得られた過シユウチリウム化されたシア
ノヒドリンからの過シユウチリウム化されたメタクリレ
ートの製造は従来技術による方法と全く同様の方法で実
施できる。すなわち、それ自体既知の方法で、濃硫酸に
より水を脱離させてメタクリレートリルを得ることがで
き、次いでシアノ基を加水分解してメタクリル酸を生成
させる工程およびこの酸を過シユウチリウム化されたア
ルコールによりエステル化する工程を二つの別個の工程
でまたは一つの組合せた工程で行なうことができる。こ
の方法で選択しようとする詳細な処理および反応条件は
当業者によく知られているか、または従来技術から容易
に選択できることである。原則的に、酸条件下にエステ
ル化される任意のアルコールをこのエステル化工程で使
用でき、これらが過シユウチリウム化さ五ているが2部
分的にシュウチリウム化されているか1またはシュウチ
リウム化されていないかは問題ではない。特に光フアイ
バー用の過シユウチリウム化されたポリメタクリレート
の製造用の単量体として使用するという観点からまたと
えばメタノール−d3−またけ−d4およびエタノール
−d5または−d6のような過シユウチリウム化された
アルカノールまたは少なくともアルキル基が充分にシュ
ウチリウム化されているアルカノールが好適である。メ
タノール−d5およびメタノール−d4が特に好適であ
る。
ノヒドリンからの過シユウチリウム化されたメタクリレ
ートの製造は従来技術による方法と全く同様の方法で実
施できる。すなわち、それ自体既知の方法で、濃硫酸に
より水を脱離させてメタクリレートリルを得ることがで
き、次いでシアノ基を加水分解してメタクリル酸を生成
させる工程およびこの酸を過シユウチリウム化されたア
ルコールによりエステル化する工程を二つの別個の工程
でまたは一つの組合せた工程で行なうことができる。こ
の方法で選択しようとする詳細な処理および反応条件は
当業者によく知られているか、または従来技術から容易
に選択できることである。原則的に、酸条件下にエステ
ル化される任意のアルコールをこのエステル化工程で使
用でき、これらが過シユウチリウム化さ五ているが2部
分的にシュウチリウム化されているか1またはシュウチ
リウム化されていないかは問題ではない。特に光フアイ
バー用の過シユウチリウム化されたポリメタクリレート
の製造用の単量体として使用するという観点からまたと
えばメタノール−d3−またけ−d4およびエタノール
−d5または−d6のような過シユウチリウム化された
アルカノールまたは少なくともアルキル基が充分にシュ
ウチリウム化されているアルカノールが好適である。メ
タノール−d5およびメタノール−d4が特に好適であ
る。
過シユウチリウム化されたメタクリレートを製造するた
めの本発明による方法の特に典麗な形態では、1,3−
ヘキサジユウテロ−2−(トリメチルシロキシ)−2−
シアノ−プロパンを一工程で反応させて、中間体を別に
単離することなく、過シユウチリウム化されたメタクリ
レートを生成させる。この場合には、第1工程により得
られた粗製の「シリル化」シアノヒドリンを濃硫酸で処
理し、トリメチルシリル基の脱離、脱水およびシアノ基
の加水分解は同一容器内の反応で行なう。反応混合物を
次いでエステル化用に包含される過シユウチリウム化さ
れたアルコールと反応させ、生成物を慣用の方法で仕上
げると、所望の過シユウチリウム化されたメタクリレー
トが得られる。
めの本発明による方法の特に典麗な形態では、1,3−
ヘキサジユウテロ−2−(トリメチルシロキシ)−2−
シアノ−プロパンを一工程で反応させて、中間体を別に
単離することなく、過シユウチリウム化されたメタクリ
レートを生成させる。この場合には、第1工程により得
られた粗製の「シリル化」シアノヒドリンを濃硫酸で処
理し、トリメチルシリル基の脱離、脱水およびシアノ基
の加水分解は同一容器内の反応で行なう。反応混合物を
次いでエステル化用に包含される過シユウチリウム化さ
れたアルコールと反応させ、生成物を慣用の方法で仕上
げると、所望の過シユウチリウム化されたメタクリレー
トが得られる。
中間体として機能する1、3−へキサジュウテ0−2−
(トリメチルシリル基)−2−シアノ−プロパンのシュ
ウチリウム含有率に相応して。
(トリメチルシリル基)−2−シアノ−プロパンのシュ
ウチリウム含有率に相応して。
前記変法によシ製造されるメタクリレートは原料物質と
して使用したアセトン−d6における置換度よシも多く
て0,6チ低いケトン部分に訃けるシュウチリウム含有
率を有する。
して使用したアセトン−d6における置換度よシも多く
て0,6チ低いケトン部分に訃けるシュウチリウム含有
率を有する。
それらの高いシュウチリウム含有率の故に。
この方法で製造された過シユウチリウム化されたメタク
リレートは過シユウチリウム化された 。
リレートは過シユウチリウム化された 。
ポリメタクリレートの製造用の単量体として格別に適し
ている。過シユウチリウム化されたポリメタクリレート
はこの単量体から当業者によく知られている重合法によ
シ全く慣用の方法で製造できる。このような過シユウチ
リウム化された重合体材料から、特に低い光減衰値を有
する光ファイバーを非常に有利に製造することができる
。この目的に適当する技法は従来技′術。
ている。過シユウチリウム化されたポリメタクリレート
はこの単量体から当業者によく知られている重合法によ
シ全く慣用の方法で製造できる。このような過シユウチ
リウム化された重合体材料から、特に低い光減衰値を有
する光ファイバーを非常に有利に製造することができる
。この目的に適当する技法は従来技′術。
たとえばInt、 Wire and Cable S
ymp、、 25.第352頁(1977年)から既知
であり1,この場合に、過シユウチリウム化されたポリ
メチルメタクリレートが光ファイバーの製造に特に好適
である。
ymp、、 25.第352頁(1977年)から既知
であり1,この場合に、過シユウチリウム化されたポリ
メチルメタクリレートが光ファイバーの製造に特に好適
である。
例 1
1,3−ヘキサジユウテロ−2−()リメチルシロキシ
)−2−シアノ−プロパンの製造アセトン−d6(シュ
ウチリウム含有率:99.78% ) 52.Q、9を
トリメチルシリルシアニド50.09中のZnI21,
0 gの懸濁液に室温で攪拌しながら滴下して加える。
)−2−シアノ−プロパンの製造アセトン−d6(シュ
ウチリウム含有率:99.78% ) 52.Q、9を
トリメチルシリルシアニド50.09中のZnI21,
0 gの懸濁液に室温で攪拌しながら滴下して加える。
反応を完了させるために、混合物を次いで70℃に約1
時間加熱する。固形Zn12を分離除去した後に、粗製
1,3−へキサシュウテロー2−(トリメチルシロキシ
)−2−シアノ−プロパン7a:lが得られる。この生
成物はさらに精製されていない形で次の工程に用いる。
時間加熱する。固形Zn12を分離除去した後に、粗製
1,3−へキサシュウテロー2−(トリメチルシロキシ
)−2−シアノ−プロパン7a:lが得られる。この生
成物はさらに精製されていない形で次の工程に用いる。
一部分は同定用に蒸留する。沸点:45℃/12mzH
,9,質量スハクトル:163(m)。
,9,質量スハクトル:163(m)。
例 2
メチルメタクリレート−d8の製造
1,3−ヘキサジユウテロ−2−()リメチルシロキ7
)−2−シアノープロノξン65.21を98チ硫酸9
61/に激しく攪拌しながら滴下して加え、ここに銅粉
末0.41を目的生成物の安定化のために加える。反応
温度は必要な場合に冷却して、75〜80℃に維持する
。反応を完了させるために、混合物を125℃に短時間
加熱する。
)−2−シアノープロノξン65.21を98チ硫酸9
61/に激しく攪拌しながら滴下して加え、ここに銅粉
末0.41を目的生成物の安定化のために加える。反応
温度は必要な場合に冷却して、75〜80℃に維持する
。反応を完了させるために、混合物を125℃に短時間
加熱する。
反応混合物を80℃に再び冷却させた後に、メタノール
−d4(ジュウテリウ牟含有率:99.60% )5a
OF、水16.0gおよびハイドo キ/ 72.Cl
3の溶液を滴下して加える。混合物を140℃で8時間
、沸とう還流させ1次いで水蒸気蒸留する。留出液を塩
化メチレンで抽出し、有機相を乾燥させ、溶剤を除去し
、残留物を分別蒸留する。沸点:996℃。
−d4(ジュウテリウ牟含有率:99.60% )5a
OF、水16.0gおよびハイドo キ/ 72.Cl
3の溶液を滴下して加える。混合物を140℃で8時間
、沸とう還流させ1次いで水蒸気蒸留する。留出液を塩
化メチレンで抽出し、有機相を乾燥させ、溶剤を除去し
、残留物を分別蒸留する。沸点:996℃。
外部標準に対してNMRスペクトル分光分析により測定
して、99.60%のシュウチリウム含有率を有するメ
チルメタクリレート−a827.2gが得られる。
して、99.60%のシュウチリウム含有率を有するメ
チルメタクリレート−a827.2gが得られる。
Claims (4)
- (1)1,3−ヘキサジユウテロ−2−(トリメチルシ
ロキシ)−2−シアノ−プロパン。 - (2)1,3−ヘキサジユウテロ−2−(トリメチルシ
ロキシ)−2−シアノ−プロパンの製造方法であつて、
ヘキサジユウテロアセトンとトリメチルシリルシアニド
とを反応させることを特徴とする、1,3−ヘキサジユ
ウテロ−2−(トリメチルシロキシ)−2−シアノ−プ
ロパンの製造方法。 - (3)ヘキサジユウテロアセトンを相当するシアノヒド
リンに変換し、次いで水を脱離させ、シアノ基を加水分
解し、次いで過ジユウテリウム化されたアルカノールで
エステル化することによりヘキサジユウテロアセトンか
ら過ジユウテリウム化されたメタクリレートを製造する
方法であつて、ヘキサジユウテロアセトンの相当するシ
アンヒドリンへの変換をトリメチルシリルシアニドとの
反応により1,3−ヘキサジユウテロ−2−(トリメチ
ルシロキシ)−2−シアノ−プロパンを生成させ、次い
でトリメチルシリル基を加水分解的に脱離させることに
より行なうことを特徴とする、前記過ジユウテリウム化
されたメタクリレートの製造方法。 - (4)ヘキサジユウテロアセトンをトリメチルシリルシ
アニドと反応させて1,3−ヘキサジユウテロ−2−(
トリメチルシロキシ)−2−シアノ−プロパンを生成さ
せ、次いでトリメチルシリル基を加水分解的に脱離させ
て相当するシアノヒドリンを生成させ、水を脱離させ、
シアノ基を加水分解し、次いで過ジユウテリウム化され
たアルカノールでエステル化することにより生成された
過ジユウテリウム化されたメタクリレートの過ジユウテ
リウム化されたポリメタクリレートを基材とする光ファ
イバーの製造における単量体としての使用。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3414150.2 | 1984-04-14 | ||
| DE3414150 | 1984-04-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6117592A true JPS6117592A (ja) | 1986-01-25 |
Family
ID=6233590
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60076847A Pending JPS6117592A (ja) | 1984-04-14 | 1985-04-12 | 過ジユウテリウム化されたメタアクリレ−トの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4645856A (ja) |
| JP (1) | JPS6117592A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005023748A1 (ja) * | 2003-09-04 | 2005-03-17 | Taiyo Nippon Sanso Corporation | 重水素化メタクリル酸メチルの製造方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3639117A1 (de) * | 1986-11-15 | 1988-05-19 | Hoechst Ag | (meth)acrylsaeureester |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3419601A (en) * | 1964-03-03 | 1968-12-31 | Du Pont | Cyclic process for the production of methyl methacrylate |
| US3466320A (en) * | 1967-06-27 | 1969-09-09 | Eastman Kodak Co | Method for the preparation of esters of unsaturated acids from the corresponding nitriles |
| US4138194A (en) * | 1977-10-14 | 1979-02-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Low attenuation optical fiber of deuterated polymer |
| US4529816A (en) * | 1984-02-13 | 1985-07-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for producing alkyl methacrylates |
-
1985
- 1985-04-12 JP JP60076847A patent/JPS6117592A/ja active Pending
- 1985-04-15 US US06/723,116 patent/US4645856A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005023748A1 (ja) * | 2003-09-04 | 2005-03-17 | Taiyo Nippon Sanso Corporation | 重水素化メタクリル酸メチルの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4645856A (en) | 1987-02-24 |
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