JPS6119031B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6119031B2 JPS6119031B2 JP55161716A JP16171680A JPS6119031B2 JP S6119031 B2 JPS6119031 B2 JP S6119031B2 JP 55161716 A JP55161716 A JP 55161716A JP 16171680 A JP16171680 A JP 16171680A JP S6119031 B2 JPS6119031 B2 JP S6119031B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- roller
- contact
- fixed
- rollers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Registering Or Overturning Sheets (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はマスク露光装置の被露光搭載基板を位
置決めする方法の改良に関する。
置決めする方法の改良に関する。
例えば、セラミツクやガラス等にてなる角形基
板上に回路素子や導体パターンなどを膜形成して
なる混成集積回路の作成において、基板上に被着
した金属薄膜や絶縁膜等を光学的及び化学的手段
によつて選択的に除去し、所望の膜パターンを形
成せしめるための装置としてマスク露光装置があ
る。即ち、金属等の膜とフオトレジスト膜とを順
次積層被着した基板は、マスク露光装置のワーク
テーブル上に搭載・固定させたのち、マスクと密
着・露光させることにより該マスクの既成パター
ンと同じ金属等のパターンがエツチング手段で形
成可能にされる。その際、基板上の定位置に各種
パターンを形成せしめ、かつ、異なる工程で形成
される各種パターンの相対的位置関係を所要精度
にするため、マスク露光装置には被露光基板位置
決め機構を具えている。しかし、従来の前記機構
はワークテーブルに３本の位置決め用固定ピンを
具え、載置される基板の一辺が２本の前記固定ピ
ンの外側面に接触するとともに、前記基板の一辺
とほぼ直交する他辺が１本の前記固定ピンの外側
面に接触して位置決めされるように構成してい
た。従つて、各固定ピンの前記接触部は、硬質材
料にてなる基板の搭載・位置決めの都度その端面
で擦すられて局部的に摩耗し、位置決め精度が狂
わされる欠点があつた。
板上に回路素子や導体パターンなどを膜形成して
なる混成集積回路の作成において、基板上に被着
した金属薄膜や絶縁膜等を光学的及び化学的手段
によつて選択的に除去し、所望の膜パターンを形
成せしめるための装置としてマスク露光装置があ
る。即ち、金属等の膜とフオトレジスト膜とを順
次積層被着した基板は、マスク露光装置のワーク
テーブル上に搭載・固定させたのち、マスクと密
着・露光させることにより該マスクの既成パター
ンと同じ金属等のパターンがエツチング手段で形
成可能にされる。その際、基板上の定位置に各種
パターンを形成せしめ、かつ、異なる工程で形成
される各種パターンの相対的位置関係を所要精度
にするため、マスク露光装置には被露光基板位置
決め機構を具えている。しかし、従来の前記機構
はワークテーブルに３本の位置決め用固定ピンを
具え、載置される基板の一辺が２本の前記固定ピ
ンの外側面に接触するとともに、前記基板の一辺
とほぼ直交する他辺が１本の前記固定ピンの外側
面に接触して位置決めされるように構成してい
た。従つて、各固定ピンの前記接触部は、硬質材
料にてなる基板の搭載・位置決めの都度その端面
で擦すられて局部的に摩耗し、位置決め精度が狂
わされる欠点があつた。
本発明の目的は前記欠点を除去することであ
り、この目的は角形基板の一辺が接触する２個の
回動自在な固定ローラと、前記一辺とほぼ直交す
る前記基板の他辺が接触する１個の回動自在な固
定ローラと、前記基板の一辺及び他辺を前記各固
定ローラに接触せしめるために押圧駆動される回
動自在な可動ローラとを具え、前記可動ローラが
くり返し可能に前記基板を押圧することを特徴と
したマスク露光装置の搭載基板位置決め方法を提
供して達成される。
り、この目的は角形基板の一辺が接触する２個の
回動自在な固定ローラと、前記一辺とほぼ直交す
る前記基板の他辺が接触する１個の回動自在な固
定ローラと、前記基板の一辺及び他辺を前記各固
定ローラに接触せしめるために押圧駆動される回
動自在な可動ローラとを具え、前記可動ローラが
くり返し可能に前記基板を押圧することを特徴と
したマスク露光装置の搭載基板位置決め方法を提
供して達成される。
以下、図面を用いて本発明を説明する。
第１図ａ〜ｈは本発明方法の基本構成とその一
動作例を説明するための平面図、第２図は本発明
の一実施例に係わるマスク露光装置のワークテー
ブル断面図、第３図は第２図に示したローラの断
面図である。
動作例を説明するための平面図、第２図は本発明
の一実施例に係わるマスク露光装置のワークテー
ブル断面図、第３図は第２図に示したローラの断
面図である。
第１図において、１〜３はマスク露光装置のワ
ークテーブルに装着された固定ローラ、４〜６は
前記テーブルに装着された可動ローラ、７は前記
テーブル上に載置された長方形基板であり、亀甲
状に配置した各ローラ１〜６は回動自在にされて
いる。とともに、固定ローラ１と２及び可動ロー
ラ４と５はそれぞれ同種のものが対になつて図示
左右方向（矢印Ａ方向と矢印Ｃ方向）へ往復動可
能に構成される反面、固定ローラ３及び可動ロー
ラ６は図示上下方向（矢印Ｂ方向と矢印Ｄ方向）
へ往復動可能に構成されている。以下、基板７の
位置決め操作を順次説明する。
ークテーブルに装着された固定ローラ、４〜６は
前記テーブルに装着された可動ローラ、７は前記
テーブル上に載置された長方形基板であり、亀甲
状に配置した各ローラ１〜６は回動自在にされて
いる。とともに、固定ローラ１と２及び可動ロー
ラ４と５はそれぞれ同種のものが対になつて図示
左右方向（矢印Ａ方向と矢印Ｃ方向）へ往復動可
能に構成される反面、固定ローラ３及び可動ロー
ラ６は図示上下方向（矢印Ｂ方向と矢印Ｄ方向）
へ往復動可能に構成されている。以下、基板７の
位置決め操作を順次説明する。
第１図ａは各ローラ１〜６をそれぞれ外側へ移
動させてその中心部ワークテーブル上に基板７を
載置した状態であり、基板７の各長辺は固定ロー
ラ１と２及び可動ローラ４と５にそれぞれほぼ対
向し、各短辺が固定ローラ３及び可動ローラ６に
それぞれほぼ対向するようにされる。次いで第１
図ｂに示す如く、固定ローラ１〜３が内側へ移動
して所定位置に固定されたのち、可動ローラ４と
５が内側へ移動して第１図ｃに示す如く、基板７
は対向長辺が固定ローラ１と２及び可動ローラ４
と５に挾まれ図示左右方向位置及び姿態が正され
るようになる。その際、基板７に接するローラ１
と２及び４と５は接触摩擦によつて自然回動され
る。次いで、第１図ｄに示す如く可動ローラ６が
内側へ移動し、基板７は対向短辺が固定ローラ３
と可動ローラ６で挾まれ、その図示上下方向位置
が正される。その際、基板７に接する各ローラ１
〜６は接触摩擦によつて自然回動される。
動させてその中心部ワークテーブル上に基板７を
載置した状態であり、基板７の各長辺は固定ロー
ラ１と２及び可動ローラ４と５にそれぞれほぼ対
向し、各短辺が固定ローラ３及び可動ローラ６に
それぞれほぼ対向するようにされる。次いで第１
図ｂに示す如く、固定ローラ１〜３が内側へ移動
して所定位置に固定されたのち、可動ローラ４と
５が内側へ移動して第１図ｃに示す如く、基板７
は対向長辺が固定ローラ１と２及び可動ローラ４
と５に挾まれ図示左右方向位置及び姿態が正され
るようになる。その際、基板７に接するローラ１
と２及び４と５は接触摩擦によつて自然回動され
る。次いで、第１図ｄに示す如く可動ローラ６が
内側へ移動し、基板７は対向短辺が固定ローラ３
と可動ローラ６で挾まれ、その図示上下方向位置
が正される。その際、基板７に接する各ローラ１
〜６は接触摩擦によつて自然回動される。
その結果、基板７はワークテーブル上で所定に
位置決めされるが、基板７の大きさや機械的強度
並びに形成パターンの積層精度等によつて位置決
め精度をさらに高めるには、各可動ローラ４〜６
を第１図ｅ及びｇに示す如く外側へ移動させたの
ち、第１図ｆ及びｈに示す如く基板７へ再接触さ
せる動作を順次実施して実現される。
位置決めされるが、基板７の大きさや機械的強度
並びに形成パターンの積層精度等によつて位置決
め精度をさらに高めるには、各可動ローラ４〜６
を第１図ｅ及びｇに示す如く外側へ移動させたの
ち、第１図ｆ及びｈに示す如く基板７へ再接触さ
せる動作を順次実施して実現される。
さらに次いで、第１図ｄ又はｈに示す如き基板
７をワークテーブルに固着したのち、各ローラ１
〜６を第１図ａに示す如く外側へ移動させてから
図示しないマスクに密着させて露光する。
７をワークテーブルに固着したのち、各ローラ１
〜６を第１図ａに示す如く外側へ移動させてから
図示しないマスクに密着させて露光する。
第２図において、上端に被露光基板１１を固定
するための真空吸着板１２を装着した支持軸１３
は、テーブルプレート１４に装着したガイド軸１
５に案内されて上下動可能にされている。そし
て、回動自在な固定ローラ１６はテーブルプレー
ト１４上を左右方向へ摺動可能な駆動ブロツク１
７に装着される一方、回動自在な可動ローラ１８
は支持ブロツク１９に装着され、ブロツク１９は
緩衝用圧縮コイルばね２０を介してテーブルプレ
ート１４上を左右方向に摺動可能な駆動ブロツク
２１に装着されている。なお、駆動ブロツク１７
がテーブル中心（内側）へ向つて移動した際その
先端が突当るストツパ２２は固定ローラ１６の位
置決め用であり、駆動ブロツク１７及び２１は通
常のカム機構手段によつて各基板位置決め操作ご
と、又は前記操作内で複数回くり返し可能に動作
される。また、ローラ１６及び１８の詳細構造は
第３図に示す如く、１対のミニチユアベアリング
２３及び２４の内輪をローラ軸２５に装着し、ベ
アリング２３又び２４の外輪に硬質材料よりなる
リング２６を嵌装して、該リング２６が基板１１
と接触するようにしてある。さらにまた、第２図
では１個の固定ローラ１６と１個の可動ローラ１
８のみ書いてあるが、プレート１４上には３個ず
つの固定ローラと可動ローラを第１図と同様な亀
甲状に配置し、各固定及び可動ローラはそれぞれ
ローラ１６及び１８と同様な構造と動作機能を具
備せしめてある。
するための真空吸着板１２を装着した支持軸１３
は、テーブルプレート１４に装着したガイド軸１
５に案内されて上下動可能にされている。そし
て、回動自在な固定ローラ１６はテーブルプレー
ト１４上を左右方向へ摺動可能な駆動ブロツク１
７に装着される一方、回動自在な可動ローラ１８
は支持ブロツク１９に装着され、ブロツク１９は
緩衝用圧縮コイルばね２０を介してテーブルプレ
ート１４上を左右方向に摺動可能な駆動ブロツク
２１に装着されている。なお、駆動ブロツク１７
がテーブル中心（内側）へ向つて移動した際その
先端が突当るストツパ２２は固定ローラ１６の位
置決め用であり、駆動ブロツク１７及び２１は通
常のカム機構手段によつて各基板位置決め操作ご
と、又は前記操作内で複数回くり返し可能に動作
される。また、ローラ１６及び１８の詳細構造は
第３図に示す如く、１対のミニチユアベアリング
２３及び２４の内輪をローラ軸２５に装着し、ベ
アリング２３又び２４の外輪に硬質材料よりなる
リング２６を嵌装して、該リング２６が基板１１
と接触するようにしてある。さらにまた、第２図
では１個の固定ローラ１６と１個の可動ローラ１
８のみ書いてあるが、プレート１４上には３個ず
つの固定ローラと可動ローラを第１図と同様な亀
甲状に配置し、各固定及び可動ローラはそれぞれ
ローラ１６及び１８と同様な構造と動作機能を具
備せしめてある。
かかる位置決め機構を有するマスク露光装置
は、第１図を用いて説明した操作によつて吸着板
１２上に基板１１を固定したのち、固定ローラ
（１６など）及び可動ローラ（１８など）を外側
へ移動してから、支持軸１３を上昇させて基板１
１がホルダ２７に固着したマスク２８と密着する
ようにされる。
は、第１図を用いて説明した操作によつて吸着板
１２上に基板１１を固定したのち、固定ローラ
（１６など）及び可動ローラ（１８など）を外側
へ移動してから、支持軸１３を上昇させて基板１
１がホルダ２７に固着したマスク２８と密着する
ようにされる。
以上説明した如き本発明方法によれば、被露光
基板の位置決め時に接するローラがその接触摩擦
抵抗によつて自然回動するため、局部摩耗するこ
となく長寿命化するのみならず、可動ローラが基
板に接する動作を複数回くり返すことにより、前
記位置決め精度の向上を実現せしめた実用的効果
がある。
基板の位置決め時に接するローラがその接触摩擦
抵抗によつて自然回動するため、局部摩耗するこ
となく長寿命化するのみならず、可動ローラが基
板に接する動作を複数回くり返すことにより、前
記位置決め精度の向上を実現せしめた実用的効果
がある。
第１図は本発明方法の基本構成とその一動作例
を説明するための平面図、第２図は本発明の一実
施例に係わるマスク露光装置のワークテーブル断
面図、第３図は第２図に示したローラの断面図で
ある。 なお、図中において１〜３，１６は固定ロー
ラ、２〜６，１８は可動ローラ、７，１１は被露
光基板、１２は吸着板、１４はテーブルプレート
を示す。
を説明するための平面図、第２図は本発明の一実
施例に係わるマスク露光装置のワークテーブル断
面図、第３図は第２図に示したローラの断面図で
ある。 なお、図中において１〜３，１６は固定ロー
ラ、２〜６，１８は可動ローラ、７，１１は被露
光基板、１２は吸着板、１４はテーブルプレート
を示す。
Claims (1)
- １ セラミツク等にてなる角形基板は表面にフオ
トレジスト膜を被着し、マスク露光装置のワーク
テーブル上に搭載して位置決めする方法におい
て、角形基板の一辺が接触する２個の回動自在な
固定ローラと、前記一辺とほぼ直交する前記基板
の他辺が接触する１個の回動自在な固定ローラ
と、前記基板の一辺及び他辺を前記各固定ローラ
に接触せしめるために押圧駆動される回動自在な
可動ローラとを具え、前記可動ローラがくり返し
可能に前記基板を押圧することを特徴としたマス
ク露光装置の搭載基板位置決め方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55161716A JPS5785285A (en) | 1980-11-17 | 1980-11-17 | Method of positioning board for carrying mask exposure device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55161716A JPS5785285A (en) | 1980-11-17 | 1980-11-17 | Method of positioning board for carrying mask exposure device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5785285A JPS5785285A (en) | 1982-05-27 |
| JPS6119031B2 true JPS6119031B2 (ja) | 1986-05-15 |
Family
ID=15740514
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55161716A Granted JPS5785285A (en) | 1980-11-17 | 1980-11-17 | Method of positioning board for carrying mask exposure device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5785285A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59133149A (ja) * | 1983-01-17 | 1984-07-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プリント基板位置決め装置 |
| JPH0427879Y2 (ja) * | 1986-03-20 | 1992-07-06 | ||
| JPS6331959A (ja) * | 1986-07-23 | 1988-02-10 | Seikosha Co Ltd | ワ−ク位置決め装置 |
| JPH02276298A (ja) * | 1989-04-17 | 1990-11-13 | Nec Kyushu Ltd | Ｉｃ把持機構 |
| JP2639246B2 (ja) * | 1991-08-30 | 1997-08-06 | 凸版印刷株式会社 | 基板位置決め装置 |
| JP2787038B2 (ja) * | 1994-06-06 | 1998-08-13 | セイコープレシジョン株式会社 | 基板の位置決め把持装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5426666A (en) * | 1977-07-29 | 1979-02-28 | Sanyo Electric Co Ltd | Positioning method of semiconductor wafer |
| JPS5485679A (en) * | 1977-12-20 | 1979-07-07 | Canon Inc | Wafer aligning unit |
-
1980
- 1980-11-17 JP JP55161716A patent/JPS5785285A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5785285A (en) | 1982-05-27 |
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