JPS6119125A - 走査型露光装置 - Google Patents
走査型露光装置Info
- Publication number
- JPS6119125A JPS6119125A JP59137934A JP13793484A JPS6119125A JP S6119125 A JPS6119125 A JP S6119125A JP 59137934 A JP59137934 A JP 59137934A JP 13793484 A JP13793484 A JP 13793484A JP S6119125 A JPS6119125 A JP S6119125A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- signal
- counter
- scanning
- inputted
- curve
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- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
- H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、走査型露光装置に関し、特に、所望の曲線を
安定して描画できる低価格の走査型露光装置に関するも
のである。
安定して描画できる低価格の走査型露光装置に関するも
のである。
（従来例の構成とその問題点）
近年、微細加工技術として走査型電子ビーム露光装置に
関心が寄せられている。ＬＳＩ、超ＬＳＩ等の製造に利
用されている半導体用電子ビーム露光装置は、多くの付
加機能を持ち、応用の範囲が広いが非常に高価である。
関心が寄せられている。ＬＳＩ、超ＬＳＩ等の製造に利
用されている半導体用電子ビーム露光装置は、多くの付
加機能を持ち、応用の範囲が広いが非常に高価である。
そこで、使用する用途に応じた必要最小限の機能を持つ
安価な簡易形の走査型電子ビーム露光装置が開発されて
いる。
安価な簡易形の走査型電子ビーム露光装置が開発されて
いる。
この装置は、走査型電子顕微鏡に電子ビーム偏向器とビ
ームブランキング器を付加した露光部と、コンピュータ
からなる制御部と、所望の曲線パターンを発生する描画
信号発生部とから構成される装置 従来の走査型露光装置は、描画信号発生部を構成する曲
線パターン発生器として、例えば円のパターン発生器を
例にとると、この発生器の信号源はアナログの正弦波発
振器であり、この信号源と制御部からディジタル信号で
送られてくる走査円の半径の信号と掛算型のＤ／Ａ変換
器を用いて、半径に比例した正弦波電圧を生じるように
したものである。この電圧が露光部の露光ビーム偏向器
の入力の一つ（Ｘ入力）に与えられ、もう一方の入力（
Ｘ入力）には位相推移器を通した正弦波電圧が加えられ
、Ｘ ＋ Ｘ入力間に適当な位相推移量（９０°）を与
えることにより露光ビームが円形に走査されるというも
のである。信号源であるアナログの正弦波発振器は、周
波数、振幅、位相とも一定の正弦波信号を発生させよう
としてもドリフトが生じる可能性が大きい。位相ドリフ
トが生じると走査円は楕円となり、振幅ドリフトの場合
は走査円の半径が変化し、周波数ドリフトの場合は走査
スピードが変化してしまい、所望の円を所望の露光量で
走査露光することができない。以上のドリフトの現象は
、信号源にアナログ発振器を用いている場合に顕著に発
生する現象である。
ームブランキング器を付加した露光部と、コンピュータ
からなる制御部と、所望の曲線パターンを発生する描画
信号発生部とから構成される装置 従来の走査型露光装置は、描画信号発生部を構成する曲
線パターン発生器として、例えば円のパターン発生器を
例にとると、この発生器の信号源はアナログの正弦波発
振器であり、この信号源と制御部からディジタル信号で
送られてくる走査円の半径の信号と掛算型のＤ／Ａ変換
器を用いて、半径に比例した正弦波電圧を生じるように
したものである。この電圧が露光部の露光ビーム偏向器
の入力の一つ（Ｘ入力）に与えられ、もう一方の入力（
Ｘ入力）には位相推移器を通した正弦波電圧が加えられ
、Ｘ ＋ Ｘ入力間に適当な位相推移量（９０°）を与
えることにより露光ビームが円形に走査されるというも
のである。信号源であるアナログの正弦波発振器は、周
波数、振幅、位相とも一定の正弦波信号を発生させよう
としてもドリフトが生じる可能性が大きい。位相ドリフ
トが生じると走査円は楕円となり、振幅ドリフトの場合
は走査円の半径が変化し、周波数ドリフトの場合は走査
スピードが変化してしまい、所望の円を所望の露光量で
走査露光することができない。以上のドリフトの現象は
、信号源にアナログ発振器を用いている場合に顕著に発
生する現象である。
（発明の目的）
本発明は、上記従来の問題点に鑑み、低価格で、所望の
曲線を安定して、しかも高速で描画できる走査型露光装
置を提供することを目的とする。
曲線を安定して、しかも高速で描画できる走査型露光装
置を提供することを目的とする。
（発明の構成）
本発明の走査型露光装置は、少なくとも露光部と描画信
号発生部と制御部とから構成され、所望の曲線を走査露
光する機能を有する走査型露光装置であって、描画信号
発生部を構成する所望の曲線のパターン発生器は、少な
くとも走査露光する上記所望の曲線に対応した情報をデ
ィジタル信号により予め記憶する記憶手段と、その記憶
手段及び入出力信号を制御する制御手段とからなるもの
であり、走査露光する所望の曲線の信号が、ドリフトの
ない信号源としてのディジタル記憶手段からの読み出し
信号であることにより、所望の曲線を安定して、しかも
高速で描画できるものである。
号発生部と制御部とから構成され、所望の曲線を走査露
光する機能を有する走査型露光装置であって、描画信号
発生部を構成する所望の曲線のパターン発生器は、少な
くとも走査露光する上記所望の曲線に対応した情報をデ
ィジタル信号により予め記憶する記憶手段と、その記憶
手段及び入出力信号を制御する制御手段とからなるもの
であり、走査露光する所望の曲線の信号が、ドリフトの
ない信号源としてのディジタル記憶手段からの読み出し
信号であることにより、所望の曲線を安定して、しかも
高速で描画できるものである。
（実施例の説明）
第１図は、本発明の第１の実施例の走査型露光装置にお
ける描画信号発生部の構成を示したものである。この走
査型露光装置では、半径ｒの円上を時間ｔの間走査露光
する。第１図の描画信号発生部は、制御部゛とはデータ
バス１及び制御信号バス１６を介して、又、露光部とは
描画パターン出力信号バス１７を介してそれぞれ接続さ
れている。
ける描画信号発生部の構成を示したものである。この走
査型露光装置では、半径ｒの円上を時間ｔの間走査露光
する。第１図の描画信号発生部は、制御部゛とはデータ
バス１及び制御信号バス１６を介して、又、露光部とは
描画パターン出力信号バス１７を介してそれぞれ接続さ
れている。
まず、制御部は、描画パターンデータのうちの円の半径
のデータと、データに同期したデータパルスをそれぞれ
データバス１と制御信号バス１６ａを用いて出力し、最
初のデータパルスを受けた制御手段の制御信号デコーダ
４は、記憶手段のＲラッチ２に対しＬＤパルスを発生し
、Ｒラッチ２は円の半径のデータを記憶する。次に、制
御部は走査時間のデータとデータパルスを出力し、走査
時間のデータをＴラッチ３が記憶する。描画信号発生部
が必要なデータの記憶を完了した後、制御信号デコーダ
４は制御信号バス１６ａに発生した描画スタートパルス
を受けて、ＦＦ（フリップフロップ）５をセットし、Ｆ
Ｆ５の出力Ｑがハイになってクロックゲート７が開き、
同時に露光部を構成するビームブランキング器に接続し
た描画パターン出力信号バス１７ａがセットされてビー
ムが出力される。
のデータと、データに同期したデータパルスをそれぞれ
データバス１と制御信号バス１６ａを用いて出力し、最
初のデータパルスを受けた制御手段の制御信号デコーダ
４は、記憶手段のＲラッチ２に対しＬＤパルスを発生し
、Ｒラッチ２は円の半径のデータを記憶する。次に、制
御部は走査時間のデータとデータパルスを出力し、走査
時間のデータをＴラッチ３が記憶する。描画信号発生部
が必要なデータの記憶を完了した後、制御信号デコーダ
４は制御信号バス１６ａに発生した描画スタートパルス
を受けて、ＦＦ（フリップフロップ）５をセットし、Ｆ
Ｆ５の出力Ｑがハイになってクロックゲート７が開き、
同時に露光部を構成するビームブランキング器に接続し
た描画パターン出力信号バス１７ａがセットされてビー
ムが出力される。
クロックゲート７が開くと同時にカウンタ８とＴカウン
タ９が計数開始され、カウンタ８は、例えば１周細分の
正弦波の信号を例えば１０２４等分して振幅に対応した
値を予めディジタル信号により記憶させた記憶手段のＲ
ＯＭｌ０のアドレスのカウンタとなり、クロックパルス
が入ってくる毎にＲＯＭｌ０に記憶させた値を読み出す
。読み出された値は、Ｒラッチ２に取り込まれた円の半
径と乗算器１１で掛は合わされ、順次Ｄ／Ａ変換器１３
へ送られ、半径に比例したアナログの正弦波信号が復元
される。復元信号の量子化ノイズを除去する目的で低域
あるいは帯域周波数フィルタ１４を設けたが、例えば１
周期分の正弦波信号の区間分割数が非常に大きいときの
ように量子化ノイズが問題にならなければ用いなくても
よい。逆に言えば、フィルタ１４を用いれば、ＲＯＭ
１０に記憶させる量が少ないままでなめらかな正弦波信
号が復元できるということである。
タ９が計数開始され、カウンタ８は、例えば１周細分の
正弦波の信号を例えば１０２４等分して振幅に対応した
値を予めディジタル信号により記憶させた記憶手段のＲ
ＯＭｌ０のアドレスのカウンタとなり、クロックパルス
が入ってくる毎にＲＯＭｌ０に記憶させた値を読み出す
。読み出された値は、Ｒラッチ２に取り込まれた円の半
径と乗算器１１で掛は合わされ、順次Ｄ／Ａ変換器１３
へ送られ、半径に比例したアナログの正弦波信号が復元
される。復元信号の量子化ノイズを除去する目的で低域
あるいは帯域周波数フィルタ１４を設けたが、例えば１
周期分の正弦波信号の区間分割数が非常に大きいときの
ように量子化ノイズが問題にならなければ用いなくても
よい。逆に言えば、フィルタ１４を用いれば、ＲＯＭ
１０に記憶させる量が少ないままでなめらかな正弦波信
号が復元できるということである。
フィルタ１４を通過した信号は、一方はそのまま描画パ
ターン出力信号バス１７ｂへ、もう一方は位相推移器１
５を通して９０°位相推移し、信号バス１７ｃへそれぞ
れ送られる。描画パターン出力信号バス１７ｂ、１７ｃ
はそれぞれ露光部を構成する露光ビーム偏向器のＸ入力
、Ｘ入力に接続されていて。
ターン出力信号バス１７ｂへ、もう一方は位相推移器１
５を通して９０°位相推移し、信号バス１７ｃへそれぞ
れ送られる。描画パターン出力信号バス１７ｂ、１７ｃ
はそれぞれ露光部を構成する露光ビーム偏向器のＸ入力
、Ｘ入力に接続されていて。
θをカウンタ８に対応した値として、Ｘ入力にはｒ ｓ
ｉｎθ、Ｘ入力にはｒｃｏｓθの信号が加わることから
、半径ｒの円上を走査露光することができる。
ｉｎθ、Ｘ入力にはｒｃｏｓθの信号が加わることから
、半径ｒの円上を走査露光することができる。
Ｔカウンタ９は走査露光の時間を計数するもので、計数
するたびに比較器１２においてＴラッチ３に取り込まれ
た走査時間のデータと比較される。丁度等しい値になっ
たとき、描画エンドの信号として比較器１２のＡ＝Ｂの
出力が発生し、制御信号バス１６ｂを通じて制御部に出
力し、同時にＴカウンタ９、カウンタ８、制御信号デコ
ーダ４、ＦＦ５がリセットされ、描画パターン出力信号
バス１７ａがリセットされ、ビームの出力が停止する。
するたびに比較器１２においてＴラッチ３に取り込まれ
た走査時間のデータと比較される。丁度等しい値になっ
たとき、描画エンドの信号として比較器１２のＡ＝Ｂの
出力が発生し、制御信号バス１６ｂを通じて制御部に出
力し、同時にＴカウンタ９、カウンタ８、制御信号デコ
ーダ４、ＦＦ５がリセットされ、描画パターン出力信号
バス１７ａがリセットされ、ビームの出力が停止する。
描画エンドの信号を受けた制御部は、次の描画パターン
データとデータパルスを発生し、同様に繰り返していく
。
データとデータパルスを発生し、同様に繰り返していく
。
本実施例では、ＲＯＭｌ０に１０２４個のｓｉｎθに応
じた値を記憶させ、カウンタ８には１０ビツトのカウン
タ、Ｔカウンタ９には１６ビツトのカウンタを用いたの
で、任意の半径の円を、同一円上最大６４回まで走査露
光可能である。本実施例のように、円の半径と、走査時
間つまり走査回数を任意に指定できるパターン発生器を
用いることにより、半径方向に走査回数を変化させて、
断面が鋸歯状の素子例えばブレーズ化したフレネルレン
ズ等を作製することができる。なお、位相推移器１５の
位相推移量を９０°からずらせば楕円を走査露光するこ
とができる。
じた値を記憶させ、カウンタ８には１０ビツトのカウン
タ、Ｔカウンタ９には１６ビツトのカウンタを用いたの
で、任意の半径の円を、同一円上最大６４回まで走査露
光可能である。本実施例のように、円の半径と、走査時
間つまり走査回数を任意に指定できるパターン発生器を
用いることにより、半径方向に走査回数を変化させて、
断面が鋸歯状の素子例えばブレーズ化したフレネルレン
ズ等を作製することができる。なお、位相推移器１５の
位相推移量を９０°からずらせば楕円を走査露光するこ
とができる。
又、本実施例のパターン発生器によれば、任意の半径の
円を任意走査回数だけ走査露光できるわけであるが、半
径が常に一定の円を走査露光する場合には、Ｒラッチ２
、乗算器１１なしで描画信号発生部を構成でき、さらに
半径、走査回数とも一定の円の場合には、Ｒラッチ２、
乗算器１１、比較器１２、Ｔカウンタ９なしで構成でき
る。
円を任意走査回数だけ走査露光できるわけであるが、半
径が常に一定の円を走査露光する場合には、Ｒラッチ２
、乗算器１１なしで描画信号発生部を構成でき、さらに
半径、走査回数とも一定の円の場合には、Ｒラッチ２、
乗算器１１、比較器１２、Ｔカウンタ９なしで構成でき
る。
第２図に、本発明の第２の実施例の描画信号発生部の構
成を示す。本実施例で第１の実施例と異なる点は、記憶
手段としてＲＯＭｌ０をｘ、ｙ用として２つ（１０ａ、
１０ｂ）用い、それに対応して乗算器（ｌｌａ、１ｌｂ
）、Ｄ／Ａ変換器（１３ａ、１３ｂ）及びフィルタ（１
４ａ、１４ｂ）も２つずつ用いたことである。ＲＯＭ１
０ａにｓｉｎθ、ＲＯＭ１０ｂにＣＯ８θの値を記憶さ
せれば、推移量が正弦波の周波数に依存性をもつ位相推
移器を用いずに、所望の半径の円を所望の回数だけ走査
露光することができる。従って本実施例では、クロック
６の周波数を変化させても歪のない円を走査露光するこ
とができる。さらにフィルタを用いずに、ＲＯＭ １０
ａに任意の曲線のＸ座標、ＲＯＭ１０ｂにＸ座標に対応
した値を記憶させ、Ｒラッチに曲線の相似率のデータを
取り込ませれば、所望の曲線を任意の大きさで走査露光
することができる。走査露光する曲線が閉じていれば、
本実施例の構成そのままで実現可能であるが、開いてい
る曲線を何回も走査露光する場合は、曲線の終端でビー
ム出力を停止させて、曲線の始端へ移動させ、再びビー
ム出力するようにビームブランキング器に接続している
描画パターン出力信号バス１７ａを制御すればよい。又
、同じ曲線だけを走査露光する場合は、Ｒラッチ２、乗
算器１１なしで描画信号発生部を構成でき、さらに同じ
曲線を同じ回数だけ走査露光する場合は、Ｒラッチ２、
Ｔラッチ３、乗算器１１、比較器１２、Ｔカウンタ９な
しで構成できる。
成を示す。本実施例で第１の実施例と異なる点は、記憶
手段としてＲＯＭｌ０をｘ、ｙ用として２つ（１０ａ、
１０ｂ）用い、それに対応して乗算器（ｌｌａ、１ｌｂ
）、Ｄ／Ａ変換器（１３ａ、１３ｂ）及びフィルタ（１
４ａ、１４ｂ）も２つずつ用いたことである。ＲＯＭ１
０ａにｓｉｎθ、ＲＯＭ１０ｂにＣＯ８θの値を記憶さ
せれば、推移量が正弦波の周波数に依存性をもつ位相推
移器を用いずに、所望の半径の円を所望の回数だけ走査
露光することができる。従って本実施例では、クロック
６の周波数を変化させても歪のない円を走査露光するこ
とができる。さらにフィルタを用いずに、ＲＯＭ １０
ａに任意の曲線のＸ座標、ＲＯＭ１０ｂにＸ座標に対応
した値を記憶させ、Ｒラッチに曲線の相似率のデータを
取り込ませれば、所望の曲線を任意の大きさで走査露光
することができる。走査露光する曲線が閉じていれば、
本実施例の構成そのままで実現可能であるが、開いてい
る曲線を何回も走査露光する場合は、曲線の終端でビー
ム出力を停止させて、曲線の始端へ移動させ、再びビー
ム出力するようにビームブランキング器に接続している
描画パターン出力信号バス１７ａを制御すればよい。又
、同じ曲線だけを走査露光する場合は、Ｒラッチ２、乗
算器１１なしで描画信号発生部を構成でき、さらに同じ
曲線を同じ回数だけ走査露光する場合は、Ｒラッチ２、
Ｔラッチ３、乗算器１１、比較器１２、Ｔカウンタ９な
しで構成できる。
（発明の効果）
以上説明したように、本発明の走査型露光装置は、少な
くとも露光部と描画信号発生部と制御部とから構成され
ており、描画信号発生部を構成する曲線のパターン発生
器は、走査露光する所望の曲線に対応した情報を予め記
憶した記憶手段を内蔵しており、走査露光する所望の曲
線の信号が、ドリフトの心配のない信号源としてのディ
ジタルの記憶手段からの読み出し信号であることにより
、所望の曲線を安定に、しかも高速で走査露光すること
ができる。
くとも露光部と描画信号発生部と制御部とから構成され
ており、描画信号発生部を構成する曲線のパターン発生
器は、走査露光する所望の曲線に対応した情報を予め記
憶した記憶手段を内蔵しており、走査露光する所望の曲
線の信号が、ドリフトの心配のない信号源としてのディ
ジタルの記憶手段からの読み出し信号であることにより
、所望の曲線を安定に、しかも高速で走査露光すること
ができる。
第１図は、本発明の第１の実施例の描画信号発生部の構
成図、第２図は、本発明の第２の実施例の描画信号発生
部の構成図である。 １ ・・・データバス、 ２・・・Ｒラッチ、３ ・・
・Ｔラッチ、 ４・・・制御信号デコーダ、６ ・・・
クロック、 ７・・・クロックゲート、８ ・・・カウ
ンタ、 ９ ・・・Ｔカウンタ、１０．１０ａ、１０ｂ
・＝ ＲＯＭ、１１．ｌｌａ、１ｌｂ−乗算器、 １
２−・・比較器、 １３，１３ａ、１３ｂ ・＝Ｄ／Ａ
変換器、 １４．１４ａ、１４ｂ −フィルタ、１５・
・・位相推移器。 特許出願人 松下電器産業株式会社 第１図
成図、第２図は、本発明の第２の実施例の描画信号発生
部の構成図である。 １ ・・・データバス、 ２・・・Ｒラッチ、３ ・・
・Ｔラッチ、 ４・・・制御信号デコーダ、６ ・・・
クロック、 ７・・・クロックゲート、８ ・・・カウ
ンタ、 ９ ・・・Ｔカウンタ、１０．１０ａ、１０ｂ
・＝ ＲＯＭ、１１．ｌｌａ、１ｌｂ−乗算器、 １
２−・・比較器、 １３，１３ａ、１３ｂ ・＝Ｄ／Ａ
変換器、 １４．１４ａ、１４ｂ −フィルタ、１５・
・・位相推移器。 特許出願人 松下電器産業株式会社 第１図
Claims (3)
- （１）少なくとも露光部と描画信号発生部と制御部とを
備え、所望の曲線を走査露光する機能を有し、前記描画
信号発生部を構成する前記曲線を描画するための曲線パ
ターン発生器は、少なくとも、走査露光する前記所望の
曲線に対応した情報を予めディジタル信号により記憶す
る記憶手段と、前記記憶手段と入出力信号を制御する制
御手段とで構成されたことを特徴とする走査型露光装置
。 - （２）所望の曲線が円又は楕円であり、曲線パターン発
生器からの信号をＤ／Ａ変換器によりアナログ信号に変
換した後、低域あるいは帯域周波数フィルタを介して露
光部に供給することを特徴とする特許請求の範囲第（１
）項記載の走査型露光装置。 - （３）制御手段が、少なくとも制御信号デコーダとクロ
ックとクロックゲートとカウンタとで構成されているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の走査型
露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59137934A JPS6119125A (ja) | 1984-07-05 | 1984-07-05 | 走査型露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59137934A JPS6119125A (ja) | 1984-07-05 | 1984-07-05 | 走査型露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6119125A true JPS6119125A (ja) | 1986-01-28 |
Family
ID=15210111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59137934A Pending JPS6119125A (ja) | 1984-07-05 | 1984-07-05 | 走査型露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6119125A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8949503B2 (en) | 1999-02-02 | 2015-02-03 | Hitachi, Ltd. | Disk subsystem |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5791522A (en) * | 1980-11-28 | 1982-06-07 | Fujitsu Ltd | Electron beam exposure system |
| JPS57134933A (en) * | 1981-02-16 | 1982-08-20 | Toshiba Corp | Electrically charged beam lithographer |
| JPS60205207A (ja) * | 1984-03-29 | 1985-10-16 | Shimadzu Corp | アライメントマ−ク位置測定方法およびその装置 |
-
1984
- 1984-07-05 JP JP59137934A patent/JPS6119125A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS5791522A (en) * | 1980-11-28 | 1982-06-07 | Fujitsu Ltd | Electron beam exposure system |
| JPS57134933A (en) * | 1981-02-16 | 1982-08-20 | Toshiba Corp | Electrically charged beam lithographer |
| JPS60205207A (ja) * | 1984-03-29 | 1985-10-16 | Shimadzu Corp | アライメントマ−ク位置測定方法およびその装置 |
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|---|---|---|---|---|
| US8949503B2 (en) | 1999-02-02 | 2015-02-03 | Hitachi, Ltd. | Disk subsystem |
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