JPS6119178B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6119178B2
JPS6119178B2 JP15078779A JP15078779A JPS6119178B2 JP S6119178 B2 JPS6119178 B2 JP S6119178B2 JP 15078779 A JP15078779 A JP 15078779A JP 15078779 A JP15078779 A JP 15078779A JP S6119178 B2 JPS6119178 B2 JP S6119178B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductors
column conductor
transistors
output
conductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP15078779A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5574242A (en
Inventor
Harii Heren Richaado
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AT&T Teletype Corp
Original Assignee
Teletype Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Teletype Corp filed Critical Teletype Corp
Publication of JPS5574242A publication Critical patent/JPS5574242A/ja
Publication of JPS6119178B2 publication Critical patent/JPS6119178B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C17/00Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
    • G11C17/08Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements
    • G11C17/10Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements in which contents are determined during manufacturing by a predetermined arrangement of coupling elements, e.g. mask-programmable ROM
    • G11C17/12Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements in which contents are determined during manufacturing by a predetermined arrangement of coupling elements, e.g. mask-programmable ROM using field-effect devices
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/06Arrangements for interconnecting storage elements electrically, e.g. by wiring
    • G11C5/063Voltage and signal distribution in integrated semi-conductor memory access lines, e.g. word-line, bit-line, cross-over resistance, propagation delay
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B20/00Read-only memory [ROM] devices

Landscapes

  • Logic Circuits (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、複数のアドレス可能な行導体(例え
ば、第6図の623乃至673); プル・アツプ回路(例えば614)に接続され
た出力列導体(例えば638)を含む複数の列導
体(例えば638乃至646); 供給基準電位に接続されて、論理アレイに流れ
る電流に供給リターンを与えるリターン列導体
(例えば646); 該出力列導体と該リターン列導体との間にある
中間列導体(例えば640乃至644);及び 隣接した列導体を接続し、前記行導体上の信号
に応答して前記出力列導体と前記リターン列導体
との間に選択的に導電路を与える複数の選択的に
配置されたトランジスタ(例えば623乃至67
3)を備え、前記行導体がバイナリ・アドレス部
(例えば649)及びデコーダ・アドレス部(例
えば653)を形成し、バイナリ・アドレス部の
トランジスタが前記出力列導体(例えば638)
と前記リターン列導体(例えば640)との間に
ギヤツプを有する導電路を規定し、かつ前記デコ
ーダ・アドレス部のトランジスタが該ギヤツプを
選択的に閉成する集積化論理アレイに係る。
本願明細書において用いられる用語“論理アレ
イ”は、リード・オンリー・メモリ(ROM)、プ
ログラムされた論理アレイ(PLA)及びランダ
ム・アクセス・リード/ライト・メモリ
(RAM)を意味する。ここで述べられるリード・
オンリー・メモリ(ROM)においては、出力ノ
ードでの出力電圧のレベルは出力回路の負荷イン
ピーダンスと出力回路のインピーダンスとアレイ
の回路網のインピーダンスとの比(レシオ)に依
存している。そのような回路網はデータに従つて
選択的に位置する電界効果トランジスタを有する
導電性の行と列に配置され、電界効果トランジス
タは行導上の信号に応答して選択された2つの列
の間の電流路を与えている。このような配置を有
する論理アレイは、“Read−Only Memory
Arrays In Which A Portion of the Memory
−Addressing Circuitry is Integral to the
Array”とタイトルされたR.H.HeerenのU.S.
Patent3618050で説明されている。
集積回路論理アレイはかなりの分布抵抗と寄生
容量を呈する。電流は比較的高い負荷インピーダ
ンスを通つて流れ、そしてトランジスタ回路網に
よる所定のシーケンスにおいて供給リターン路に
スイツチされている。アレイからの出力電圧レベ
ルは回路網を通る電流路により決定される。回路
網はその導通状態時にかなり大きな抵抗を有し、
それ故に出力電圧が回路網を通る全ての通路に関
して十分低いレベルに落ちることを保証するため
に比較的高い負荷インピーダンスが用いられる。
アレイ容量と外部負荷容量はかなり大きいもので
ある。これらの容量はアレイの出力ノードと並列
であり、高い負荷抵抗と結合した時アレイの速度
に悪影響を与える長い充電速度時定数を生じさせ
る。レシオ論理アレイのスイツチング速度に対す
る容量の影響を減少させる試みは、“Voltage
Sensitive Isolation for Static Logic Circiut”
とタイトルされたR.H.HeerenのU.S.
Patent3944848に説明されている。
本発明によると、上記の論理アレイの動作速度
が、以下の構成によつて向上する。その構成と
は、前記出力列導体の両端が、プル・アツプ回路
(例えば614,660)に接続され、リターン
列導体646の両端が前記供給基準電位に接続さ
れ、前記行導体が、同じバイナリ信号によつてア
ドレスされる一対の同様のバイナリ・アドレス部
(例えば649,669)を形成し、前記デコー
ダ・アドレス部が該アドレス部間に配置され、か
つ一方のバイナリ・アドレス部(例えば649)
のトランジスタが他方のバイナリ・アドレス部
(例えば669)の各トランジスタに並列に接続
されているものである。
前記一対のバイナリ・アドレス部の並列接続さ
れ動作するトランジスタが、出力列導体の両端の
プル・アツプ回路とリターン列導体の両端の基準
電位との間の最大インピーダンスを低め、それに
よつて論理アレイの動作速度が向上する。
従来の論理アレイの単純化された一部分が第1
図と第2図に示されている。2つの平行な列導体
110と112とは幾つかの電界効果トランジス
タ114,116,118及び120の電極を介
して接続されており、これらの電界効果トランジ
スタのゲートは平行な行導体124,126,1
28及び130を介してNデコーダ(図示されて
いない)の1つの出力によつて選択的に付勢され
ている。列導体110の一方の端は“プル・アツ
プ”負荷抵抗134を介してVDD電位に接続さ
れ、列導体112の一方の端は電力供給リターン
路に接続されている。トランジスタ114が
“ON”である時、列導体110と112によりも
たらされる抵抗は最小である。しかるに、トラン
ジスタ120が“ON”である時、列導体の全抵
抗が直列になる。各列導体に直列抵抗は値Rを有
している。出力ノード136での電圧がアドレス
されたトランジスタ120が“ON”である時十
分に低くなることを保証するため、負荷抵抗13
4は比較的高い値でなければならない。この“最
悪”条件が第2図に例示されており、列導体抵抗
110Rと112Rとがトランジスタ抵抗120
Rと直列になつている。直列抵抗110R,11
2R,120Rの和と負荷抵抗134との比はノ
ード136での定常状態出力電圧のlow電圧を決
定している。更に、導体110と112は寄生容
量110Cと112Cを有する。回路を流れる電
流が中断した時、寄生容量110Cは負荷低抗1
34を介して充電される。この容量を充電するに
要求される時間は負荷抵抗134に直列な列導体
110の直列抵抗部分に直接に関係し、この値が
低いとより高い周波数応答を与える。
第3図は、2つの回路網312と312aを含
む従来のレシオ論理アレイ310の構成図であ
る。回路網312は、抵抗値がVGG電圧レベルに
よつて設定される負荷インピーダンスとして接続
された電界効果トランジスタ316を有する出力
回路314を含む。EFT316のソースはVDD
電位に接続され、そのドレインは外部負荷(図示
されていない)に接続されている出力ノード31
8に出力を与えている。負荷容量320は出力ノ
ード318と電力供給リターン路との間に現れ
る。更に、出力回路は、論理回路312の分布容
量が充電しうる電圧を設定する役割をする第2の
FET322を含む。FET322の特性は、ドレ
イン電位がVREFに維持されているベース電圧の
閾値以内である時導電が断たれるようなものであ
る。従つて、回路網312を流れる電流が中断さ
れる時、論理回路網312の分布寄生容量はトラ
ンジスタ316と322を介してVDDからVREF
以下のある閾値迄充電されるであろう。その後、
回路網312は出力電圧が増加した速度で立上る
よう出力ノード318から接続が切り離される。
類似な出力回路の動作のより詳細な説明に関して
は、前述のHeeren特許No.3944848を参照された
い。第3図のアレイの第2の回路網312aは同
様な出力回路314aに接続されそして回路網3
12と出力回路314と同様な機能を有する回路
網312aと出力回路312aはサフイツクス
“a”を付した同じ数字符号により示されてい
る。
回路網312は、選択的に配置された電界効果
トランジスタのベースに接続されている行導体3
23,325,327及び329からなる第1の
領域を含むものとして考えることができる。例え
ば、行導体323はトランジスタ334と336
のベースに接続されている。行導体と直交し行導
体とは絶縁されている平行な列導体338,34
0,342,344及び346があり、アレイ・
トランジスタの電極がその間に接続されている。
例えば、トランジスタ334のソースは列導体3
38に接続され、このトランジスタのドレインは
列導体340に接続されている。アレイの列導体
338は出力回路314のスイツチングFET3
22のドレインに接続され、列導体346は電力
供給リターン路の一方端に接続されている。従つ
て、回路網312を通る導電路は出力ノード31
8における電圧をlowにする。この電圧レベルを
得るためには少なくとも1つの“ON”状態FET
が隣接列導体338−340,340−342,
342−344及び344−346の各対になけ
ればならない。
行導体は、アドレス計画に従つて2つの分離し
たグループ若しくは領域に配置される。前述した
ように、第1の領域349はバイナリ信号、即ち
バイナリ信号のダイレクト及びコンプリメント出
力でアドレスされる導体323,325,327
及び329を含む。このバイナリ・アドレスに応
答して、ある選択されたいくつかのFETが
“ON”状態になり隣接列導体を有効に接続し、一
方他のFETは“OFF”状態である。トランジス
タは、各バイナリ・アドレスに関しFETの全て
が回路網312を通る導電路における“ギヤツ
プ”をなす隣接列導体間を“OFF”するよう配
置されている。隣接列導体間のこの“ギヤツプ”
は、行導体324,326,328及び330上
の信号に応答してスイツチされるFET350と
352を含むところの第2の若しくはデータ・領
域369におけるトランジスタによつて選択的に
閉成される。これらの行導体はNデコーダの1つ
によつてアドレスされ、Nデコーダは行導体の1
つの上の信号がその行導体にベースが接続されて
いる全てのFETを付勢するようにしている。
“ON”状態FETが導電ギヤツプ間にある場合に
おいては、電流は回路網312を通つて流れて出
力ノード318における電圧レベルをlowに引つ
ぱる。デコーダ信号がステツプした時、回路網3
12における“ギヤツプ”は再設定される。ノー
ド318における出力電圧はFET316の抵抗
と出力容量320と寄生アレイ容量との大きさに
よつて実質的に決定される速度で立上ることは理
解されよう。
列導体346は論理回路網312に関する共通
電力リターン路としての役割をなし、リターン接
続から最大距離にあるFET352が導体346
と348との間に電流を流す時には最大抵抗を呈
する。この状態での列導体346の総抵抗はRと
して表される。同様にFET350が“ON”状態
である時電流は列導体338の全長を通つて流れ
そして導体338の最大抵抗が負荷抵抗即ち
FET316に直列であることになる。説明の便
宜上、第1の列導体の抵抗値はRとして表され
る。列導体338と346の両方によつてもたら
される“最悪”の最大抵抗値は2Rである。この
“最悪”の場合に対するために、FET316の低
抗値は、出力ノード318での電圧が論理回路網
312が導通状態である時に十分に低いことを保
証するよう比較的高く設定されている。しかし、
前述したように高い負荷抵抗は寄生容量及び出力
容量20を充電するために必要な時間を増加させ
アレイ310の総合周波数応答を低下させるとい
う点で不利である。
第4図に例示されているものは回路網の速度を
増加させる特有な構成を含む第1図の回路に類似
な論理アレイの一部分である。行導体の両方の端
は“プル・アツプ”抵抗434と435を介して
DDに接続されている。トランジスタ414,4
16,418及び420は列導体410と412
との間に介在しておりそしてNデコーダ(図示さ
れていない)の1つにより発生された行導体42
4,426,428及び430上の信号によつて
スイツチされる。列導体412によつてもたらさ
れる最大抵抗値は導体の中央のトランジスタが
“ON”になつた時生ずる。そのような状態におい
て、導体412の2つの半分が並列になる。即
ち、導体抵抗412RAと412RBとは並列であ
る。その総有効抵抗値はR/4、即ち{(R/
2)-1+(R/2)}-1である。VDD電位に対し論
理回路網の最大直列抵抗値のこの減少は第1図の
回路と比較したとき負荷抵抗434と435の値
に比例した減少を可能にする。寄生容量410
CA,410CB,418C,412CA及び41
2CBの動的充電は、容量の充電電流が流れる抵
抗値が減少するからより速く達成される。
第3図のものに対応する第6図の構成素子は百
の桁が図面番号に対応するもので+と−の桁は同
じ符号が示されている(即ち、例えば312−6
12,320−620等)。出力列導体638は
その第2の端で出力“プル・アツプ”回路614
に類似な構成の電圧“プル・アツプ”回路660
に接続されている。“プル・アツプ”抵抗660
は第3図のFET322との接続において述べた
それと類似な方法で回路網612を“プル・アツ
プ”回路660からデカツプリングしているアレ
イ・デカツプリングFET664の他に負荷抵抗
としての役割をするようバイアスされたトランジ
スタ662を含む。
行導体623,625,627及び629のグ
ループ649は行導体670,671,672及
び673のグループ669と同様にバイナリ信号
によつてアドレスされる。バイナリ信号によつて
アドレスされるデコーダ部649と669とは同
一のトランジスタ構成を有する。従つて、回路網
612のデコーダ部649と669とは、行導体
624,626,628及び630を含むデータ
領域653に適用されるステツプ・デコーダ信号
に応答してスイツチされるトランジスタによつて
短絡されるところの開放回路若しくは“ギヤツ
プ”を設定するよう一致して応答する。実際上
は、領域649と669とは、極めて多くのトラ
ンジスタと行導体とを有するデータ領域653と
比較して比較的少数のトランジスタとそれに対応
する少数の行導体とを含む。
第4図と第5図の回路との関連で前述したそれ
と類似な方法において、列導体648の両方の端
は電力供給リターン路に接続されている。従つ
て、電流は行導体624,626,628及び6
30上のデコーダ信号によつてアドレスされた
“ON”状態トランジスタを通つてそして列導体6
38,640,642,644及び646によつ
て設定された並列路を通つて回路網612のデコ
ーダ部649と669を電力供給リターン路へと
流れる。“ギヤツプ”に隣接する列導体各々は電
力供給リターン路への並列路の他にVDD“プル・
アツプ”回路614,660への並列路を提供し
ているから、“最悪状態”の抵抗値は第3図の回
路のそれの約1/4である。論理回路網の寄生容量
の動的充電時間は第2の“プル・アツプ”回路6
60によつて更に減少される。第4図と第5図の
回路との関連で説明したそれと類似な方法におい
て、“プル・アツプ”回路660の位置はVDD
らアレイの寄生容量への抵抗値を減少させてい
る。直列抵抗値におけるこの減少はアレイ容量が
より速く充電されることを可能にしている。
第6図の回路の特性は、金属酸化物シリコン
(MOS)技術によつて実現された構造を例示する
第7A図と第7B図とを考察した後より十分に理
解されよう。第7図において、金属走行線は点線
によつて示され、一方ドープ領域は実線で示され
ている。各トランジスタのゲート酸化物は斜線領
域によつて示され、2つの交叉する素子の間の相
互接続は内部に“×”印を有する小さい四角
(□×)で示されている。第6図の記号表示素子に
対応する実際の素子は百の桁が図面番号(即ち、
7)に対応し+と−の桁が同じ数字の符号で示さ
れている(例えば623−723,671−77
1等)。
回路網712は導体723,725,727及
び729を有するデコーダ領域を含む。行導体に
直交して延在するものは列導体738,740,
742,744及び746を形成するドープ領域
である。金属導体790は“U”形状であり、ア
レイ710の三方の側に沿つている。導体790
は回路網712と712aの各々に関する電力供
給リターン路を提供しているドープ領域746と
746aの各々の両端に接続されている。
回路網712の第2の“プル・アツプ”回路7
60は第1の“プル・アツプ”回路714の反対
のアレイ側を位置している。アレイの各々は平行
な金属走行線792,794及び796によつて
共通に接続されており、それらの金属走行線は
“U”形状ありアレイの三方の側に向いている。
金属走行線792,794及び796は夫々“プ
ル・アツプ”回路714,714a,760及び
760aに関しVDD、VGG及びVREF電圧を提供
している。例示の構造はアレイの両側での“プ
ル・アツプ”回路714,714a,760及び
760aの配置の他に金属導体790,792,
794及び796の配線のために全アレイにより
占められる物理的領域を増加させていることに気
づかれよう。アレイの第2のデータ領域からなる
行導体770,771,772及び773の付加
は更に回路によつて占められる領域を増加させて
いる。この配置は、アレイの一方の側に沿つての
み金属導体を走らせることにより最小の可能なウ
エハ面積を維持することに重要性をおく従来技術
の教示と対照的である。アレイによつて占められ
るいくらかの物理的面積の増加の不利は著しい速
度の増加によつて埋め合わされる。
動作において、回路網712のデータ領域74
9と769とは同じバイナリ信号によつてアドレ
スされるトランジスタの位置は同じであるから、
各バイナリ・アドレスされた領域は回路網におけ
る開放路若しくは“ギヤツプ”に隣接の列導体の
両端で低抵抗路を効果的に提供している。例示さ
れた構造は、回路網の抵抗のかなりの減少による
増加した速度の特性を有する論理アレイを生む。
本発明は、実施態様によつて特に示され説明さ
れたが、本発明の技術的範囲から逸脱することな
く種々の変形が可能なことは理解されよう。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来技術の論理アレイの一部の構成図
である。第2図は選択さされた動作モードにおけ
る第1図に例示した素子の特性を示す図である。
第3図は従来技術の論理アレイの回路図である。
第4図は本発明の論理アレイの一部を示す構成図
である。第5図は選択された動作モードにおける
第4図で例示の素子の特性を示す図である。第6
図は本発明の特徴を含む論理アレイの回路図であ
る。第7A図及び第7B図は金属酸化物シリコン
(MOS)技術によつて実施された第6図の回路の
例を示す図である。 〔主要部分の符号の説明〕、行導体……42
4,426,428,430、列導体……41
0,412、トランジスタ……414,416,
418,420。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 複数のアドレス可能な行導体(例えば、第6
    図の623乃至673); プル・アツプ回路(例えば614)に接続され
    た出力列導体(例えば638)を含む複数の列導
    体(例えば638乃至646); 供給基準電位に接続されて、論理アレイに流れ
    る電流に供給リターンを与えるリターン列導体
    (例えば646); 該出力列導体と該リターン列導体との間にある
    中間列導体(例えば640乃至644);及び 隣接した列導体を接続し、前記行導体上の信号
    に応答して前記出力列導体と前記リターン列導体
    との間に選択的に導電路を与える複数の選択的に
    配置されたトランジスタ(例えば623乃至67
    3)を備え、前記行導体がバイナリ・アドレス部
    (例えば649)及びデコーダ・アドレス部(例
    えば653)を形成し、バイナリ・アドレス部の
    トランジスタが前記出力列導体(例えば638)
    と前記リターン列導体(例えば640)との間に
    ギヤツプを有する導電路を規定し、かつ前記デコ
    ーダ・アドレス部のトランジスタが該ギヤツプを
    選択的に閉成する集積化論理アレイにおいて、 前記出力列導体の両端が、プル・アツプ回路
    (例えば614,660)に接続され、リターン
    列導体646の両端が前記供給基準電位に接続さ
    れ、前記行導体が、同じバイナリ信号によつてア
    ドレスされる一対の同様のバイナリ・アドレス部
    (例えば649,669)を形成し、前記デコー
    ダ・アドレス部が該アドレス部間に配置され、か
    つ一方のバイナリ・アドレス部(例えば649)
    のトランジスタが他方のバイナリ・アドレス部
    (例えば669)の各トランジスタに並列に接続
    されていることを特徴とする論理アレイ。 2 特許請求の範囲第1項に記載の論理アレイに
    おいて、 前記アレイ(例えば第7図示のもの)が、
    MOS技術に従つて構成され、前記列導体が離間
    した細長いドープ領域(例えば738乃至74
    6)であり、前記行導体が離間した金属通路(例
    えば723乃至773)であり、かつ前記トラン
    ジスタが電界効果トランジスタであることを特徴
    とする論理アレイ。
JP15078779A 1978-11-29 1979-11-22 Logic array Granted JPS5574242A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US05/964,568 US4207616A (en) 1978-11-29 1978-11-29 Logic array having improved speed characteristics

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5574242A JPS5574242A (en) 1980-06-04
JPS6119178B2 true JPS6119178B2 (ja) 1986-05-16

Family

ID=25508711

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15078779A Granted JPS5574242A (en) 1978-11-29 1979-11-22 Logic array

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4207616A (ja)
EP (1) EP0011835B1 (ja)
JP (1) JPS5574242A (ja)
CA (1) CA1135859A (ja)
DE (1) DE2962969D1 (ja)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55150189A (en) * 1979-05-10 1980-11-21 Nec Corp Memory circuit
US4374384A (en) * 1980-08-28 1983-02-15 Westinghouse Electric Corp. Matrix encoder for resistive sensor arrays
US4371315A (en) * 1980-09-02 1983-02-01 International Telephone And Telegraph Corporation Pressure booster system with low-flow shut-down control
US4395646A (en) * 1980-11-03 1983-07-26 International Business Machines Corp. Logic performing cell for use in array structures
US4536762A (en) * 1982-05-17 1985-08-20 Westinghouse Electric Corp. Matrix encoder for sensor arrays
US4409499A (en) * 1982-06-14 1983-10-11 Standard Microsystems Corporation High-speed merged plane logic function array
US4516040A (en) * 1982-06-14 1985-05-07 Standard Microsystems Corporation High-speed merged plane logic function array
US4583012A (en) * 1983-10-20 1986-04-15 General Instrument Corporation Logical circuit array
EP0189699B1 (en) * 1984-12-26 1992-09-30 STMicroelectronics, Inc. Interdigitated bit line rom
US4571708A (en) * 1984-12-26 1986-02-18 Mostek Corporation CMOS ROM Data select circuit
US4761571A (en) * 1985-12-19 1988-08-02 Honeywell Inc. Memory circuit enchancement to stablize the signal lines with additional capacitance
JP2565213B2 (ja) * 1989-10-27 1996-12-18 ソニー株式会社 読み出し専用メモリ装置
EP0461904A3 (en) * 1990-06-14 1992-09-09 Creative Integrated Systems, Inc. An improved semiconductor read-only vlsi memory
US6339347B1 (en) 2000-03-30 2002-01-15 Intel Corporation Method and apparatus for ratioed logic structure that uses zero or negative threshold voltage

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3611437A (en) * 1969-01-16 1971-10-05 Gen Instrument Corp Read-only memory with operative and inoperative data devices located at address stations and with means for controllably charging and discharging appropriate modes of the address stations
US3618050A (en) * 1969-05-07 1971-11-02 Teletype Corp Read-only memory arrays in which a portion of the memory-addressing circuitry is integral to the array
US3613055A (en) * 1969-12-23 1971-10-12 Andrew G Varadi Read-only memory utilizing service column switching techniques
US3747064A (en) * 1971-06-30 1973-07-17 Ibm Fet dynamic logic circuit and layout
US3728696A (en) * 1971-12-23 1973-04-17 North American Rockwell High density read-only memory
US3982138A (en) * 1974-10-09 1976-09-21 Rockwell International Corporation High speed-low cost, clock controlled CMOS logic implementation
DE2625351C2 (de) * 1975-06-05 1984-04-26 Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd., Kawasaki, Kanagawa Festwertspeicher-Matrixschaltung
US4025799A (en) * 1975-11-06 1977-05-24 Ibm Corporation Decoder structure for a folded logic array

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5574242A (en) 1980-06-04
EP0011835B1 (en) 1982-05-26
DE2962969D1 (en) 1982-07-15
CA1135859A (en) 1982-11-16
EP0011835A1 (en) 1980-06-11
US4207616A (en) 1980-06-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5193074A (en) Semiconductor memory device having hierarchical row selecting lines
KR930006842B1 (ko) 반도체 집적회로
US8208280B2 (en) Nonvolatile memory device
US5650959A (en) Memory device having virtual ground line
JP2736789B2 (ja) ドライバ回路装置
KR0179361B1 (ko) 비휘발성 메모리 어레이
JP3104319B2 (ja) 不揮発性記憶装置
JPS6119178B2 (ja)
US4493056A (en) RAM Utilizing offset contact regions for increased storage capacitance
US5818750A (en) Static memory cell
JPH0143400B2 (ja)
EP0205936B1 (en) Semiconductor integrated circuit
US4896300A (en) Microprocessor including a microprogram ROM having a dynamic level detecting means for detecting a level of a word line
US4899308A (en) High density ROM in a CMOS gate array
US5535153A (en) Semiconductor device
US5031148A (en) MOS semiconductor memory device
JPS62132419A (ja) センス増幅器
EP0450516B1 (en) Semiconductor memory
US4709352A (en) MOS read-only memory systems
US4506349A (en) Cross-coupled transistor memory cell for MOS random access memory of reduced power dissipation
US4875194A (en) Semiconductor memory device with protection cells
US4839710A (en) CMOS cell which can be used as a resistor, a capacitor, an RC component or a terminating impedance of a signal
WO1981000494A1 (en) Igfet decode circuit using series-coupled transistors
JPH0414435B2 (ja)
KR20030064402A (ko) 감지 증폭기