JPS61194196A - 電気錫−鉛合金メツキ法 - Google Patents

電気錫−鉛合金メツキ法

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JPS61194196A
JPS61194196A JP3415685A JP3415685A JPS61194196A JP S61194196 A JPS61194196 A JP S61194196A JP 3415685 A JP3415685 A JP 3415685A JP 3415685 A JP3415685 A JP 3415685A JP S61194196 A JPS61194196 A JP S61194196A
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JP
Japan
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tin
lead alloy
plating
bath
alloy plating
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JP3415685A
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JPH0549760B2 (ja
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Shigeki Matsumoto
茂樹 松本
Yoichi Nakano
洋一 中野
Daiji Tonai
藤内 大二
Motoaki Matsuda
元秋 松田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
NEC Kyushu Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
NEC Kyushu Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、有機スルホン酸浴を用いる錫−鉛合金メッキ
方法の改善に関する。
[従来の技術] かつて電子部品の露出金属部には防錆及び半田付は性を
目的に電気錫メッキが施されていたが、このメッキはボ
イスカーと称されるひげ状の結晶が発生するため電気回
路の短絡等のトラブルがあり、近年小型化、精密化され
た電子部品、例えばICパッケージの7ウターリード等
においてはホイスカーの発生が少ない錫−鉛合金メッキ
が施されている。このような錫−鉛合金メッキの浴とし
て従来量も多く用いられているのはホウフ・ン化物浴で
あるが、この浴を用いた場合排水中のホウフッ化イオン
を除去する必要がある。しかし、ホウフッ化イオンを十
分に除去することは困難であるため、ホウフッ化物浴に
代わるメッキ浴が求められ、そのような錫−鉛合金メッ
キ浴として有機スルホン酸浴が発表され、実用化される
に至っている。
ところでこの有機スルホン酸浴を用いた場合、メッキ被
覆表面に針状又は糸状の異常析出が発生することがある
。この異常析出発生のメカニズムについてはいまだ明ら
かでないが、カソード表面の結晶構造、結晶の異方成長
性、化学的親和力等が原因となってデンドライト前駆体
が生成し、この前駆体に局部的に高電流密度の電流が流
れ、加速度的に成長するためと考えられる。この異常析
出は前記した錫メッキの場合のホイスカーと同様に電気
回路の短絡の原因となり電子部品等の信頼性を損うので
、これを確実に防止することが信頼性確保の北からも、
又メッキ製品歩留り南北のためからも強イ要請されてい
た。
従来、に記のような有機スルホン酸浴を用いる錫−鉛合
金メッキにおける異常析出を防止するために、被メッキ
物の酸浸漬、電解脱脂又は化学研磨等の1ij処理を施
したり、下地メッキを施したりする方法があるが作業工
程が増して製造工程が煩雑になる上、異常析出を必ずし
も十分に抑制することができない。また、モ滑化剤をメ
ッキ浴に添加して活性へを不活性化する方法も知られて
いるが異常析出を効果的に防止するには平滑化剤の選択
やメッキ浴の管理などが厳しく要求されるため・K ”
L< 1実施が困難な方法である。
[発明が解決しようとする問題点] 本発明の目的は、J:述の従来技術が有する。前処理や
下地メッキのような追加の工程が必要であるという問題
、あるいは困難な平滑化剤の選択や管理が必要であると
いう問題を解決することである。換言すると、本発明の
目的は、有機スルホン酸浴を用いる錫−鉛合金メッキ法
における上記異常析出発生のトラブルを、前処理、下地
メッキ等の追加工程や添加剤等の手段によらずに解消し
、安定的にかつ廉価に錫−鉛合金メッキを行ない得る方
法を提供することにある。
[問題点を解決するための手段] 本発明は、前記問題点を解決するものとして。
錫−鉛合金メッキ用有機スルホン酸浴を用いる電気錫−
鉛合金メッキ法において、通電を間欠的に停止又は逆転
することを特徴とする電気錫−鉛合金メッキ法を提供す
るものである。
本発明の方法においては、メッキ形成の順方向の通電と
該通電の停止もしくは逆転(逆方向への通電)を間欠的
に行う0通電および停止もしくは逆転の好ましい時間は
被メッキ物の材質、メッキ浴組成、電流密度等により影
響されるので一律には言えないが、通常の電流密度であ
る2A/drn’においては、それぞれの実用的に好ま
しい時間は1通電が約80秒以下、より好ましくは20
〜60秒を一単位とし、通電の停止もしくは逆転は3秒
以上、より好ましくは5〜20秒を一単位とする範囲で
ある。異常析出防止の効果の点からすると通電の時間は
短かい程、停止時間は長い程よいが、通電時間が短か過
ぎたり停止時間が長過ぎたりするとメンキ形成の能率が
低下し好ましくない。また、+11!電時間が80秒を
超えたり、停止時間が3秒未満と短か過ぎると、異常析
出を十分に防IFすることが困難である0通電を停止さ
せないで間欠的に逆転させる場合には、停止の場合より
も短かい逆転時間で同等の効果が得られるが、逆転時に
は析出したメッキ層の溶解が起るので順方向の通電時間
に比し長過ぎないように適宜の時間を選択する必要があ
る。
上記のように通電を間欠的に停止又は逆転させることに
よる電流の波形は特に限定されず1例えば矩形波、ステ
ップ波、三角波、調波など何れであっても良い。
本発明の方法に用いられる錫−鉛合金メッキ用有機スル
ホン酸浴は、錫および鉛の、アルカノールスルホン酸、
フェノールスルホン酸等の有機スルホン酸の塩を主成分
とするメッキ浴として知られ、例えば石原薬品■製のア
ルカノールスルホン酸はんだメッキ浴(AS浴)、フェ
ノールスルホン酸はんだメッキ浴(PS浴);西独マッ
クスシュレッター社製のスロットレットに浴等を挙げる
ことができる。
[作用] 本発明の方法により異常析出が効果的に防止される理由
は必ずしも明らかではないが、次のように推定される。
前述したように諸要因により形成されたデンドライト前
駆体が異常析出へと成長する過程にはカソードの近傍に
形成される拡散二重層が重要な役割を果すと考えられる
。即ち、カソード近傍のカチオンが電着により消費され
て拡散二重層の濃度勾配が大きくなる結果デンドライト
前駆体が突起状に成長し、この突起に高電流密度の電流
が流れて突起が加速度的に成長し異常析出になるものと
推定される0本発明の方法により通電を間欠的に停止す
ると停止時間中にカソード沖合から拡散二重層ヘカオチ
ンの移動が起って拡故−重層の濃度勾配が緩和され、そ
の結果デンドライト前駆体の成長か抑制されるものと考
えられる。間欠的に通電を逆転させた場合には濃度勾配
の緩和が一部速やかに行われるものと考えられる。
[実施例] 以下1本発明の方法を実施例により具体的に説明する。
実施例1 揺動カソードラックを備えたメッキ装置にAS−S(ア
ルカノールスルホン酸第1錫) 200 g/1.AS
−P (アルカノールスルホン酸鉛) 20g1Q、M
S−A(アルカンスルホン酸)70g/lを主成分とし
て含有するメッキ浴(石原AS浴、商品名)を充填し、
錫−鉛合金板を陽極に用い5通電と停止の時間をそれぞ
れ60秒及び5秒とし、極間距離200mm、 陰極電
流密度2A/dゴ、温度20℃で12分前、カソードラ
ックに取付けた42アロイテストピースにメッキしたが
、異常析出は認められなかった。
実施例2 スロントレットSN(錫)180g/立、スロ、、トレ
、トPB(鉛)7g/立、スロットレットA(酸)15
0g/iを主成分として含胸するメッキ浴(スロットレ
ントに浴、商品名)を用い、通電と停止の時間をそれぞ
れ20秒及び5秒とし、実施例1と同様にメッキした結
果、異常析出は認められなかった。
実施例3 通電の停也の代りにその間逆方向の通電を行なう以外は
実施例1と同様にメッキを行なったが、異常析出は認め
られなかった。
比較例 実施例2と同じメッキ浴を用い、通常の直流電源により
12分間メッキを行なった。テストピース上に長さ約1
00ル程度の針状析出が認められた。
[発明の効果] 本発明により電気錫−鉛メー、キにおける針状。
糸状の異常析出が効果的に防止され、メッキ物のイご頼
性向上、製品歩留向上に太きく寄与できた。
また1本発明によれば、メッキのメッキ厚、組成等のバ
ラツキも小さくできる利点もある。
さらに、本発明の方法は被メッキ物の前処理や下地メi
キが不要であり、また特別の添加剤を使用しないのでそ
の管理なども不要であり、簡便、紙庫でかつ安定した実
用性の高い方法である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、錫−鉛合金メッキ用有機スルホン酸浴を用いる電気
    錫−鉛合金メッキ法において、通電を間欠的に停止又は
    逆転することを特徴とする電気錫−鉛合金メッキ法。
JP3415685A 1985-02-22 1985-02-22 電気錫−鉛合金メツキ法 Granted JPS61194196A (ja)

Priority Applications (1)

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JP3415685A JPS61194196A (ja) 1985-02-22 1985-02-22 電気錫−鉛合金メツキ法

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JP3415685A JPS61194196A (ja) 1985-02-22 1985-02-22 電気錫−鉛合金メツキ法

Publications (2)

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JPS61194196A true JPS61194196A (ja) 1986-08-28
JPH0549760B2 JPH0549760B2 (ja) 1993-07-27

Family

ID=12406339

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JP (1) JPS61194196A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63118093A (ja) * 1986-11-05 1988-05-23 Tanaka Electron Ind Co Ltd 電子部品の錫めつき方法
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JPH0549760B2 (ja) 1993-07-27

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