JPS61199038U - - Google Patents

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JPS61199038U
JPS61199038U JP8096085U JP8096085U JPS61199038U JP S61199038 U JPS61199038 U JP S61199038U JP 8096085 U JP8096085 U JP 8096085U JP 8096085 U JP8096085 U JP 8096085U JP S61199038 U JPS61199038 U JP S61199038U
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JP
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plasma
processing gas
microwave
plasma generation
processing
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Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案のマイクロ波プラズマ処理装置
の一実施例を示す縦断面図、第２図〜第５図はプ
ラズマ発生管へ処理ガスを供給する本考案の他の
実施例を説明する概略図、第６図は従来のマイク
ロ波プラズマ処理装置を示す縦断面図、第７図は
従来の処理ガス供給例を示す図である。 １……マイクロ波発振機、５……プラズマ発生
炉、７ａ……プラズマ発生管、７……プラズマ処
理室（反応器）、１５……処理ガス供給源、８…
…排気装置。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) マイクロ波発振機と、このマイクロ波発振
    機に接続されたマイクロ波プラズマ発生炉と、こ
    のマイクロ波プラズマ発生炉を貫通して設けられ
    たプラズマ発生管と、このプラズマ発生管に接続
    されたプラズマ処理室と、プラズマ発生管へ処理
    ガスを供給する処理ガス供給源と、プラズマ処理
    室の排気および処理ガスを処理ガス供給源からプ
    ラズマ発生管、プラズマ処理室へ輸送するための
    排気装置からなるマイクロ波プラズマ処理装置に
    おいて、プラズマ発生管への処理ガス供給口の位
    置を処理ガスがプラズマ発生炉部を流れる方向と
    、ほゞ同一方向に吹き出すような位置に設けたこ
    と特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。 (2) 前記プラズマ発生管の処理ガス噴出口の面
    積がプラズマ発生部の断面積の１／５０以上であ
    ることを特徴とする実用新案登録請求の範囲第(1
    )項記載のマイクロ波プラズマ処理装置。 (3) 前記プラズマ発生管への処理ガス供給量を
    １５００Ｔｏｒｒ・ｌ／分以上にて使用すること
    を特徴とした実用新案登録請求の範囲第(1)項記
    載のマイクロ波プラズマ処理装置。
JP8096085U 1985-05-31 1985-05-31 Pending JPS61199038U (ja)

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JP8096085U JPS61199038U (ja) 1985-05-31 1985-05-31

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JPS61199038U true JPS61199038U (ja) 1986-12-12

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JP (1) JPS61199038U (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56129322A (en) * 1980-03-14 1981-10-09 Fujitsu Ltd Detection of microwave leakage for microwave plasma device
JPS6016424A (ja) * 1983-07-08 1985-01-28 Fujitsu Ltd マイクロ波プラズマ処理方法及びその装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56129322A (en) * 1980-03-14 1981-10-09 Fujitsu Ltd Detection of microwave leakage for microwave plasma device
JPS6016424A (ja) * 1983-07-08 1985-01-28 Fujitsu Ltd マイクロ波プラズマ処理方法及びその装置

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