JPS61199228A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、たとえばコバルト、コバルト合金。

鉄、鉄合金、ニッケル、ニッケル合金などの金属強磁性
体よりなる磁性層、あるいは酸化鉄、酸化クロムなどの
金属酸化物強磁性体よりなる磁性層を有する磁気記録媒
体に関するものである。

〔従来の技術〕

近年、コンピュータ・システムにおける磁気ディスク等
の外部記憶装置の重要性が増大し、高記録密度化に対す
る要求はますます高まっている。

磁気記録装置は記録再生ヘッドおよび磁気ディスクの主
構成部から構成され、磁気ディスクは高速で回転し記録
再生ヘッドは磁気ディスクより微小間隔浮上している。

磁気記録装置の高性能化に伴い、この浮上間隔を小さく
するために記録再生ヘッドの荷′懺を小さくするととも
に接触始動・停止（コンタクト・スタート・ストップ：
　０８Ｂ）Ｗヘッド浮揚システムが床用されている。磁
気ディスクすなわち磁気記録媒体の高記録密度化、高性
能化を図るためには、記録媒体の薄層化、均−一様化、
磁気特性の改良（保磁力、角形比の向上）。

および低浮上量における安定したヘッド浮揚状態を確保
しヘッドとディスクの衝突（ヘッド・クラツシュ）を防
止する％”めのディスク表面種度の向上、耐ヘッドクラ
ツシユ性等の向上が必要である。

それに伴い磁性媒体層を支持する基板の品質の向上が重
要となっている。

高密度記録に適する基板の条件としては機械的平担性お
よび表面粗さが良好であり、欠陥が小さくその数も少な
いことが挙げられる。さらに、記鍮媒体の薄層化に伴い
基板の十分な硬度も必要とされてきた。すなわち、基板
が軟かいと磁気ヘッドが磁気ディスクに接続した際に陥
没などの変形を起こし、磁気ヘッドの安定した浮揚状態
が得られないばかりか、磁気記録装置の信頼性を表すコ
ンタクトスタートストップ（ＣＳＳ）回数が小さくなる
という問題がある。

従来、磁気ディスクの基板にはアルミ合金が使われてい
るが２表面硬化や表面精度をだすため。

その上に硬化層を被覆している。この硬化層は研磨性の
良好なＮ１−Ｐめつき膜やアルマイト膜が用いられてき
た（たとえば、電々公社研究実用化報告第３１巻第９号
ＩＴ３１〜１７４４頁、先行技術特順昭５９−８８８３
３号、特願昭５９−Ｎ１４６８号明細書）。この膜を形
成した後９機械加工を行い表面精度をあげ、磁性媒体層
を形成する。この磁性媒体ノーの磁気特性と結晶配向性
には密接な関係がるり、結晶配向性は磁性媒体層の下地
膜の種類に影響されることがわかっている（たとえば、
太田ら、第８回日本応用磁気学会学術講演概要集。

１５９Ｂ−８（１１１８４））。たとえば＋ｒ−Ｆｅ２
０３薄膜の場合は（１１１：ｌ配向、　ＣｏおよびＣｏ
合金薄膜の場合はＣ軸配向した場合が磁気特性が良好で
あることがわかっている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

・しかし、Ｈ１々の硬化層を形成し磁性媒体層を形成す
ると、はとんどの場合望ましい結晶配向性になりに＜＜
、その結果磁化曲線から求められる角形比Ｓ　が悪化す
るなど磁気特性が良くならないという問題点があった。

この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、結晶配向性すなわち磁気特性が良好でＣＳＳ
回数が増大する信頼性の高い磁気記録媒体を得ることを
目的とする。

〔問題点を解決する友めの手段〕

この発明の磁気記録媒体は、非磁性硬化、１ｍと磁性媒
体層の間に、酸化タンタル、例えばＴａ　２０５゜Ｔａ
　Ｏ２ｓおよびＴａ２Ｏ，のうちのいずれか１種よりな
る非磁性下地層を形成したものである。

〔作　用〕

この発明に係る酸化タンタル、例えばＴａ　２０　ｓ　
ｓＴａ　０２　　＃およびＴｅＬ２０Ｓのうちのいずれ
か１種より成る非磁性下地層の形成により、非磁性硬化
層の悪影響を防止し、磁性媒体層の結晶配向性を良くす
ることができ、非磁性硬化層の硬く表面精度の良好な特
性を滅することがない。

〔実施例〕

以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図において、（ＩＪは非磁性基板であるアルミニウム合
金基板、Ｃ２）は非磁性硬化層、（３）はＴａ２０５非
磁性下地層、（４）は磁性媒体層である。

以下、具体的実施例によりこの発明をより詳細に説明す
るが、この発明はこれに限定されるものではない。

実施例 ディスク状アルミニウム合金基板（１）上に非磁性硬化
層（２）としてアルマイト膜を４μｍ被覆した。

アルマイト膜を鏡面仕上げした後、非磁性下地層（３）
としてＴａ２Ｏ，膜を反応スパッタ法により形成した。

さらに、磁性媒体層（４）としてγ−Ｆ’５２０３薄膜
を形成した。Ｔａ２０５膜の膜厚を変えた試料を作製し
、ａｉ々の測定を行い、結果を表にまとめた。

結晶配向性については、Ｘ線回折法により測定し。

７−Ｆｅ　２０　ｓ　（スピネル型〕の２２２方向のビ
ーク１（２゜２ンと３１１方向のピークｌ　　　の比に
よつ（＋１１） て表現した。角形比Ｓ＊は磁化曲線より求めた。

さらに、非磁性下地層の膜厚と各特性値の変化を、非磁
性下地ノーがＴａ２０５の場合の例を第２図に。

非磁性下地層がＴａ　２０　ｇの場合の例を第３図にそ
れの変化１曲Ｒ１２はＳの変化９曲線１３はＣ８Ｓ回数
の比の変化を表す。

注）　Ｔａ２０５ｍ５がＯＡ（形成しない）の時の０８
８回数を１として比で表した。

表および第２図より明らかなように、　Ｔａ２０５の膜
厚か５０Ａを越えると、結晶配向性およびＳの甑が向上
していく。一方＊　Ｔａ　２０　ｓの膜厚が２４０ＯＡ
を越え３０ＧＯＡ以上になると、０８８回数の悪化がみ
られた。Ｔａ　２０　ｓの膜厚が卓すぎると、非磁性硬
化層の効果が薄れてしまい、０８８回数の悪化につなが
ったと考えられる。また、３００ＯＡ以上だと熱膨張係
数の違いから、り２ツクがはいることが多く’　、３０
ＧＯＡ以上は望ましくない。

上記実施例では＝　Ｔａ　２０５膜の場合について説明
したが、　Ｔａ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ３などの酸化タンタル
の場合であっても同様の結果が得られ、上記実施例と同
様の効果を奏する。

〔発明の効果〕

以上のように、この発明によれば、非磁性基板と、この
非磁性基板に被覆された非磁性硬化層と。

この非磁性硬化層に被覆された酸化タンタル、例えばＴ
ａ　２Ｏ５、Ｔａ０２ｍおよびＴａ　２０　ｓのうちの
いずれか１種よりなる非磁性下地層と、この非磁性下地
層に被覆された磁性媒体層を備えたので、結晶配向性お
よび磁気特性が向上し、ＣＳＳ回数が増大し、信頼性の
高い磁気記録媒体が得られる効果がある。

また、Ｔａ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、およびＴａ　２０　ｓ
のうちのいずれか１種よりなる非磁性下地層の厚さを５
０〜２４００Ａの範囲にすると、一層上述の効果が増大
する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例により得られた磁気記録媒
体を示す断面図であり、第２図および第３図は非磁性下
地層の膜厚と各特性値の変化を示す特性図である。 １１）・・・非磁性基板、（２）・・・非磁性硬化層、
（３）・・・Ｔａ　２０５非磁性下地層、（４）・・・
磁性媒体層。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基板と、この非磁性基板に被覆された非磁
   性硬化層と、この非磁性硬化層に被覆された酸化タンタ
   ルよりなる非磁性下地層と、この非磁性下地層に被覆さ
   れた磁性媒体層を備えた磁気記録媒体。
2. （２）酸化タンタルはＴａ＿２Ｏ＿５、ＴａＯ＿２、お
   よびＴａ＿２Ｏ＿３のうちのいずれか１種である特許請
   求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。
3. （３）Ｔａ＿２Ｏ＿５、ＴａＯ＿２、およびＴａ＿２Ｏ
   ＿３のうちのいずれか１種より形成された非磁性下地層
   の膜厚を５０〜２４００Åの範囲にしたことを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。