JPS61199230A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、たとえばコバルト、コバルト合金。

鉄、鉄合金、ニッケル、ニッケル合金などの金稿強磁性
体よりなる磁性層、あるいは酸化鉄、酸化クロムなどの
金属酸化物強磁性体よりなる磁性層を有する磁気記録媒
体に関するものである。

〔従来の技術〕

近年、コンピュータ・システムにおける磁気ディスク等
の外部記憶装置の重要性が増大し、高記録密度化に対す
る要求はますます高まっている。

磁気記録装置は記録再生ヘッドおよび磁気ディスクの主
構成部から構成され、磁気ディスクは高速で回転し記録
再生ヘッドは磁気ディスクより微小間隔浮上している。

磁気記録装置の高性能化に伴い、この浮上間隔を小さく
するために記録再生ヘッドの荷重を小さくするとともに
接触始動・停止（コンタクト・スタート・ストップ：ｃ
ｓｓ）Ｗヘッド浮揚システムが採用されている。磁気デ
ィスクすなわち磁気記録媒体の高記録密度化、高性能化
を図るためＫは、記録媒体の薄層化、均−一様化、磁気
特性の改良（保磁力、角形比の向上）。

および低浮上策における安定したヘッド浮揚状態を確保
しヘッドとディスクの衝突（ヘッド・クラッシュ）を防
止するためのディスク表面精度の向上、耐ヘッドクラツ
シユ性等の向上が必要である。

それに伴い磁性媒体層を支持する基板の品質の向上が重
要となっている。

高密度記録に適する基板の条件としては機械的平担性お
よび表面粗さが良好であり、欠陥が小さくその数も少な
いことが挙げられる。さらに、記録媒体の薄層化に伴い
基板の十分な硬度も必要とされてきた。すなわち、基板
が軟かいと磁気ヘッドが磁気ディスクに接続した際に陥
没などの変形を起こし、ｖ＆気ヘッドの安定した浮揚状
態が得られないばかりか、磁気記録装置の信頼性を表す
コンタクトスタートストップ（ａＳＳ）回数が小さくな
るという問題がある。

従来、磁気ディスクの基板にはアルミ合金が使われてい
るが９表面硬化や表面精度をだすため。

その上に硬化層を被覆している。この硬化層は研磨性の
良好なＮ１−Ｐめつき膜やアルマイト膜が用いられてき
た（たとえば、電々公社研究実用化報告第３１巻第９号
１７３１〜ＩＴ４４頁、先行技術特願昭５９−８８６３
３号、特願昭５９−１１１４８８号明細書）。

この膜を形成した後２機械加工を行い表面精度をあげ、
磁性媒体層を形成する。この磁性媒体層の磁気特性と結
晶配向性には密接な関係があり、結晶配向性は磁性媒体
層の下地膜の種類に影響されることがわかっている（た
とえば、太田ら、第８回日本応用磁気学会学術講演概要
集、　　１５ＰＢ−８（１９８４））。たとえば、γ−
Ｆｅ２０３薄膜の場合は（１１１）配向、ＣおよびＣ８
合金薄膜の場合は０軸配向した場合が磁気特性が良好で
あることがわかっている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし９種々の硬化層を形成し磁性媒体層を形成すると
、はとんどの場合望ましい結晶配向性になりに〈＜、そ
の結果磁化曲線から求められる角形比Ｓ＊が悪化するな
ど磁気特性が良くならないという問題点があった。

この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、結晶配向性すなわち磁気特性が良好で０８８
回数が増大する信頼性の高い磁気記録媒体を得ることを
目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明の磁気記録媒体は、非磁性硬化層と磁性媒体層
の間に、　ｗｏ、　、ＷＯ２，ＷＯ，ＷＮ２．　および
Ｗ２Ｎのうちのいずれか１種よりなる非磁性下地層を形
成したものである。

〔作用〕

この発明に係るｗＣ３，ｗｅ２．　ｗｅ　、　ＷＮ２．
　およびＷ２Ｎのうちのいずれか１種より成る非磁性下
地層の形成により、非磁性硬化層の悪影響を防止し。

磁性媒体層の結晶配向性を良くすることができ。

非磁性硬化層の硬く表面精度の良好−な特性を減するこ
とがない。

〔実施例〕

以下、この発明の一実施例を図について説明する。９１
図において、り１）は非磁性基板であるアルミニウム合
金基板、（２）は非磁性硬化層、（３）はＷＯ。

非磁性下地層、（４）は磁性媒体層である。

以下、具体的に実施例によりこの発明をより詳細に説明
するが、この発明はこれに限定されるものではない。

実施例 ディスク状アルミニウム合金基板ｆｌｌ上に非磁性硬化
層（２）としてアルマイト膜を４μｍ被榎被覆。アルマ
イト膜を鏡面仕上げした後、非磁性下地層（３）として
ＷＯ３膜を反応スパッタ法により形成した。

さらに、磁性媒体層（４）としてγ−Ｆｅ２０３薄膜を
形成した。

ＷＯ３［の膜厚を変えた試料を作製し９種々の測定を行
い、結果を表にまとめた。結晶配向性については、Ｘ線
回折法により測定し、γ−ｒｅ２ｏ、（スピネル型）の
２２２方向のビークｒ（２２２）と３１１方向のビーク
Ｉ（３１１）の比によって表現した。角形比Ｓ＊は磁化
曲線より求めた。

さらに、非磁性下地層の膜厚と各特性値の変化を、非磁
性下地層がＮ０３の場合の例を第２図に。

非磁性下地層がｗＣの場合の例を第３図にそれぞれ示す
。図中９曲線１１はＩ　（２２２）／Ｉ　（３１１）の
変化９曲線１２はＳ＊の変化９曲線１３はａＳＳ回数の
比の変化を表す。

注）ＷＯ３膜厚がｏＸ（形成しない）の時のａＳＳ回数
を１として比で表した。

表および第２図より明らかなように、ＷＯ３の膜厚がｓ
ｏＸを越えると、結晶配向性およびＳ　の値が向上して
いく。一方、ＷＯ３の膜厚が２４００Ｘを越え３０００
Ｘ以上になると、　　ａＳＳ回数の悪化がみられた。Ｗ
Ｏ，の膜厚が厚すぎると、非磁性硬化層の効果が薄れて
しまい、　　ａＳＳ回数の悪化につながったと考えられ
る。また、　　３０００Ｘ以上だと熱膨張係数の違いか
ら、クラックがはいることが多く　３０００叉以上は望
ましくない。

上記実施例では、ＷＯ３膜の場合について説明したが、
ＷＣ２，ＷＣ２ＷＮ２．Ｗ２Ｎの場合であっても同様の
効果が得られ、上記実施例と同様の効果を奏する。

〔発明の効果〕

以上のように、この発明によれば、非磁性基板と、この
非磁性基板に被憶された非磁性硬化層と。

この非磁性硬化層に被覆されたｗＣ３，ｗＣ２，ｗＣ。

ＷＮ　　およびＷ２Ｎのうちのいずれか１種よりなる非
磁性下地層と、この非磁性下地層に被覆された磁性媒体
層を備えたので、結晶配向性および磁気特性が向上し、
　　Ｏ８８回数が増大し、信頼性の高い磁気記録媒体が
得られる効果がある。

また、　ＷＯＳ、ＷＯ２，ＷＣ，ＷＮ２．およびＷ２Ｎ
のうちのいずれか１種よりなる非磁性下地層の厚さを５
０〜２４００Ｘの範囲にすると、一層上述の効果が増大
する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例により得られた磁気記録媒
体を示す断面図であり、第２図および第３図は非磁性下
地層の膜厚と各特性値の変化を示す特性図である。 ＋１１・・・非磁性基板、（２）・・・非磁性硬化層、
（３）・・・ＷＯ３非磁性下地層、（４）・・・磁性媒
体層。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基板と、この非磁性基板に被覆された非磁
   性硬化層と、この非磁性硬化層に被覆されたＷＯ＿３、
   ＷＣ＿２、ＷＣ、ＷＮ＿２、およびＷ＿２Ｎのうちいず
   れか１種よりなる非磁性下地層と、この非磁性下地層に
   被覆された磁性媒体層を備えた磁気記録媒体。
2. （２）ＷＯ＿３、ＷＣ＿２、ＷＣ、ＷＮ＿２、およびＷ
   ＿２Ｎのうちいずれか１種より形成された非磁性下地層
   の膜厚を５０〜２４００Åの範囲にしたことを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。