JPS61202135A - 半導体レ−ザ−の放射発散角測定装置 - Google Patents
半導体レ−ザ−の放射発散角測定装置Info
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- JPS61202135A JPS61202135A JP4417785A JP4417785A JPS61202135A JP S61202135 A JPS61202135 A JP S61202135A JP 4417785 A JP4417785 A JP 4417785A JP 4417785 A JP4417785 A JP 4417785A JP S61202135 A JPS61202135 A JP S61202135A
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- Japan
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- light
- disk
- knife
- semiconductor laser
- laser
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
- G01J1/4257—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors applied to monitoring the characteristics of a beam, e.g. laser beam, headlamp beam
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明は、半導体レーザーの放射発散角測定装置に関す
る。
る。
(従来技術)
周知の如く、半導体レーザーから放射されるレーザー光
は、発散性である。この発散性を特徴づける放射発散角
は、半導体レーザーを用いる光学系において、光の利用
効率やビーム径等に、大きな影響を与える重要な特性で
あり、光学系設計上、放射発散角の測定が必要となる。
は、発散性である。この発散性を特徴づける放射発散角
は、半導体レーザーを用いる光学系において、光の利用
効率やビーム径等に、大きな影響を与える重要な特性で
あり、光学系設計上、放射発散角の測定が必要となる。
このような放射発散角の測定は、従来、レーザ−光束を
横切るように受光素子を移動させ、受光素子の位置と出
力との関係から放射発散角を求めることが行なわれてい
る。しかし、良く知られたように、放射発散角は、半導
体レーザーにおける接合面に平行な方向と、これに直交
する方向とで、大きさがことなる。このため、従来の測
定方法では、まず、上記2方向のうちの一方について放
射発散角を測定し、しかるのち、半導体レーザーの保持
態位を90度度回させて、再度測定を繰返し、他方の方
向についての放射発散角を得るようにしており、測定の
能率が悪かった。
横切るように受光素子を移動させ、受光素子の位置と出
力との関係から放射発散角を求めることが行なわれてい
る。しかし、良く知られたように、放射発散角は、半導
体レーザーにおける接合面に平行な方向と、これに直交
する方向とで、大きさがことなる。このため、従来の測
定方法では、まず、上記2方向のうちの一方について放
射発散角を測定し、しかるのち、半導体レーザーの保持
態位を90度度回させて、再度測定を繰返し、他方の方
向についての放射発散角を得るようにしており、測定の
能率が悪かった。
(目 的)
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであって
、接合面に平行な方向と、これに直交する方向の放射発
散角を簡単に測定しうる、新規な、半導体レーザーの放
射発散角測定装置の提供を目的とする。
、接合面に平行な方向と、これに直交する方向の放射発
散角を簡単に測定しうる、新規な、半導体レーザーの放
射発散角測定装置の提供を目的とする。
(構 成)
以下、本発明を説明する。
本発明の、半導体レーザーの放射発散角測定袋3一
段と、演算手段と、表示手段とを有する。
保持手段は、被検半導体レーザーを、所定の態位に保持
する。すなわち、測定装置に固定して設定されたx、y
、z直交座標に関し、半導体レーザーを、その接合面が
xz画面上あり、放射方向がZ方向となるように、保持
するのである。
する。すなわち、測定装置に固定して設定されたx、y
、z直交座標に関し、半導体レーザーを、その接合面が
xz画面上あり、放射方向がZ方向となるように、保持
するのである。
円板は、z軸に平行な軸のまわりに回転可能であって、
周辺部近傍に、2箇所、ナイフェツジ遮光部を有する。
周辺部近傍に、2箇所、ナイフェツジ遮光部を有する。
この円板の半径は、測定位置におけるレーザー光のひろ
がりに比して十分に大きい。
がりに比して十分に大きい。
そして、この円板が回転するとき、レーザー光が、上記
2つのナイフェツジ遮光部により交互に遮光される。
2つのナイフェツジ遮光部により交互に遮光される。
回転手段は、円板を等速回転させる。
受光手段は、上記円板を介してレーザー光を受光する。
円板の回転に伴い、ナイフェツジ遮光部がレーザー光を
遮光すると、受光手段の出力が変化する。この受光手段
は、受光素子、もしくは、受光素子と集束レンズとで構
成される。
遮光すると、受光手段の出力が変化する。この受光手段
は、受光素子、もしくは、受光素子と集束レンズとで構
成される。
演算手段は、受光手段の出力により所定の演算を行ない
、放射発散角を算出する。
、放射発散角を算出する。
表示手段は、演算結果を表示する。この表示は、CRT
等のディスプレイへの表示でもよいし、あるいは、記録
紙上への記録表示でもよい。
等のディスプレイへの表示でもよいし、あるいは、記録
紙上への記録表示でもよい。
上記円板における、2つのナイフェツジ遮光部のナイフ
ェツジの方向は、一方のナイフェツジ遮光部が、X方向
にレーザー光を遮光し、他方のナイフェツジ遮光部がX
方向へ遮光するように、それぞれ定められる。
ェツジの方向は、一方のナイフェツジ遮光部が、X方向
にレーザー光を遮光し、他方のナイフェツジ遮光部がX
方向へ遮光するように、それぞれ定められる。
以下、図面を参照しながら説明する。まず、第3図ない
し第6図を参照して、本発明の詳細な説明する。
し第6図を参照して、本発明の詳細な説明する。
第3図において、符号1(lは半導体レーザーを示して
いる。この半導体レーザー10は、第3図に示されてい
る如く設定されたx、y、z軸に関し、接合面がxz画
面上あり、レーザー光りの放射方向が2方向であるよう
になっている。半導体レーザー10からのレーザー光り
は、発散性の光束で、しかも、放射発散角は、接合面に
平行な方向と、これに直交する方向で異なるから、第3
図のX7面上におけるレーザー光りの光束断面12の形
状は、第3図に破線で示すように、y軸方向へ長い楕円
になる。また、レーザー光は、ガウス型の光強度分布を
示すので、例えば、第3図にxy面において、y軸上の
光強度分布は、例えば、第4図に示す如くなる。第4図
に示すごとくこの釣鐘型の分布の最大値を1としたとき
、光強度0.5以上を与える光強度分布領域の幅whを
、X方向のビーム直径と呼ぶ、X方向のビーム直径も同
様に定義される。
いる。この半導体レーザー10は、第3図に示されてい
る如く設定されたx、y、z軸に関し、接合面がxz画
面上あり、レーザー光りの放射方向が2方向であるよう
になっている。半導体レーザー10からのレーザー光り
は、発散性の光束で、しかも、放射発散角は、接合面に
平行な方向と、これに直交する方向で異なるから、第3
図のX7面上におけるレーザー光りの光束断面12の形
状は、第3図に破線で示すように、y軸方向へ長い楕円
になる。また、レーザー光は、ガウス型の光強度分布を
示すので、例えば、第3図にxy面において、y軸上の
光強度分布は、例えば、第4図に示す如くなる。第4図
に示すごとくこの釣鐘型の分布の最大値を1としたとき
、光強度0.5以上を与える光強度分布領域の幅whを
、X方向のビーム直径と呼ぶ、X方向のビーム直径も同
様に定義される。
さて、第5図において、符号12は、第3図のX7面上
でのレーザー光りの光束断面を示している。
でのレーザー光りの光束断面を示している。
そこで、このレーザー光の全てを受光手段で受光してお
き、X軸に平行な直線状のナイフェツジKEを有する遮
光板24を、第5図に示すように、y軸方向へ変位させ
てレーザー光束をX7面上で遮光してみる。そうすると
、ナイフェツジKHの位置がy軸上で変化するにつれて
受光手段の受光量(従って受光手段の出力)は、第6図
に示すように変化する。yoは、ナイフェツジKEが光
束断面12の第5図における左端部にあるときの位置を
表す。
き、X軸に平行な直線状のナイフェツジKEを有する遮
光板24を、第5図に示すように、y軸方向へ変位させ
てレーザー光束をX7面上で遮光してみる。そうすると
、ナイフェツジKHの位置がy軸上で変化するにつれて
受光手段の受光量(従って受光手段の出力)は、第6図
に示すように変化する。yoは、ナイフェツジKEが光
束断面12の第5図における左端部にあるときの位置を
表す。
第6図の如く、受光手段の出力の最大値を1とするとき
、出力0.9.0.1を与えるナイフェツジ位置をy1
+3’zとすると、前述のX方向のビーム直径whは、 Wh=0.91.8(y2− y工)(1)で与えられ
る。X方向のビーム直径も同様に与えられる(式(1)
中の’/1v’/2を同様の意味を有するX□、x2で
おきかえればよい)。
、出力0.9.0.1を与えるナイフェツジ位置をy1
+3’zとすると、前述のX方向のビーム直径whは、 Wh=0.91.8(y2− y工)(1)で与えられ
る。X方向のビーム直径も同様に与えられる(式(1)
中の’/1v’/2を同様の意味を有するX□、x2で
おきかえればよい)。
このとき、第3図において、半導体レーザー10の光放
射面と、xy面との間の距離をQとすれば、放射発散角
は、X方向に対して θx=0.918/ρ(x2−x□)(2)X方向に対
して θy=0.918zl(y2−、yl) (3
)で与えられる。単位はラジアンである。
射面と、xy面との間の距離をQとすれば、放射発散角
は、X方向に対して θx=0.918/ρ(x2−x□)(2)X方向に対
して θy=0.918zl(y2−、yl) (3
)で与えられる。単位はラジアンである。
さて、第1図は、本発明の1実施例を説明図的に示して
いる。X方向、2方向を図の如くとると、X方向は図面
に直交する方向になる。
いる。X方向、2方向を図の如くとると、X方向は図面
に直交する方向になる。
半導体レーザー10は、図示されない保持手段により、
接合面がxz面にあり、放射方向が2方向であるように
保持されている。円板14は、モータ16により回転可
能に支持されていて、その周辺部近傍で、レーザー光束
を受けるようになっている。
接合面がxz面にあり、放射方向が2方向であるように
保持されている。円板14は、モータ16により回転可
能に支持されていて、その周辺部近傍で、レーザー光束
を受けるようになっている。
円板14は、第2図に示すように、遮光性であって、周
辺部に近い位置に3角形形状の窓が2個穿設されている
。第2図で、符号120は、レーザー光束の円板14へ
の入射位置における光束断面を示している。円板14を
矢印方向へ回転させると、上記窓が、レーザー光束の入
射位置をよぎるとき、レーザー光は窓を通過する。
辺部に近い位置に3角形形状の窓が2個穿設されている
。第2図で、符号120は、レーザー光束の円板14へ
の入射位置における光束断面を示している。円板14を
矢印方向へ回転させると、上記窓が、レーザー光束の入
射位置をよぎるとき、レーザー光は窓を通過する。
第1図において、受光手段としての受光素子18は、円
板14の、上記窓を通過するレーザー光を。
板14の、上記窓を通過するレーザー光を。
円板14を介して受光し、受光量に応じた光電変換出力
を出力する。なお、円板I4と受光素子18との間に、
集束性のレンズを配し、発散性の光束を集束させて受光
素子に入射させるようにしてもよい。
を出力する。なお、円板I4と受光素子18との間に、
集束性のレンズを配し、発散性の光束を集束させて受光
素子に入射させるようにしてもよい。
この場合にはレンズと受光素子とが、受光手段を構成す
る。
る。
さて、今一度、第2図を参照すると、円板14に穿設さ
れた窓の一方における斜辺部はナイフェツジKE1とな
っており、他方における斜辺部はナイフェツジKE2と
なっている。これら、ナイフェツジKEI、KE2に接
する円板部分がナイフェツジ遮光部である。
れた窓の一方における斜辺部はナイフェツジKE1とな
っており、他方における斜辺部はナイフェツジKE2と
なっている。これら、ナイフェツジKEI、KE2に接
する円板部分がナイフェツジ遮光部である。
さて、ナイフェツジKEI、KE2の方向は、互いに直
交しており、これらナイフェツジの方向は、第2図に示
すように、円板14の半径方向に対し45度傾いている
。さらに、円板14の回転中心と光束断面120の中心
軸たるZ軸とをむすぶ直線は、第2図に示すように、X
方向に対して45度傾いている。
交しており、これらナイフェツジの方向は、第2図に示
すように、円板14の半径方向に対し45度傾いている
。さらに、円板14の回転中心と光束断面120の中心
軸たるZ軸とをむすぶ直線は、第2図に示すように、X
方向に対して45度傾いている。
このことと、円板14の半径が、測定位置、すなわち、
円板への入射位置におけるレーザー光のひ ゛ろが
り(第2図の光束断面120)に比して十分に大きいこ
と、窓が、円板周辺部近傍に設けられていることを考慮
すると、容易に理解されるように、円板14が回転する
とき、ナイフェツジKEIを有するナイフェツジ遮光部
は、レーザー光束を、近似的にX方向へ遮光し、ナイフ
ェツジKE2を有する=8− ナイフェツジ遮光部は、レーザー光束を近似的にX方向
へ遮光することとなる。すなわち、円板の回転によるナ
イフェツジKEI、 KH2の運動は、光束断面120
の近傍で、それぞれ、近似的に、X方向、X方向への直
線運動と見ることができる。
円板への入射位置におけるレーザー光のひ ゛ろが
り(第2図の光束断面120)に比して十分に大きいこ
と、窓が、円板周辺部近傍に設けられていることを考慮
すると、容易に理解されるように、円板14が回転する
とき、ナイフェツジKEIを有するナイフェツジ遮光部
は、レーザー光束を、近似的にX方向へ遮光し、ナイフ
ェツジKE2を有する=8− ナイフェツジ遮光部は、レーザー光束を近似的にX方向
へ遮光することとなる。すなわち、円板の回転によるナ
イフェツジKEI、 KH2の運動は、光束断面120
の近傍で、それぞれ、近似的に、X方向、X方向への直
線運動と見ることができる。
従って、ナイフェツジ遮光部により、レーザー光束が近
似的にX方向(もしくはX方向)へ遮光されるときの、
受光素子の出力(第6図に類似したものとなる)により
、半導体レーザー10の、X方向(もしくはX方向)の
放射発散角を算出できる。
似的にX方向(もしくはX方向)へ遮光されるときの、
受光素子の出力(第6図に類似したものとなる)により
、半導体レーザー10の、X方向(もしくはX方向)の
放射発散角を算出できる。
すなわち、演算装置20は、受光素子18の出力にもと
づき、必要な演算を行なって、X方向、X方向の放射発
散角を算出し、その結果を表示装置22、例えばCRT
等のディスプレイ装置上に表示する。
づき、必要な演算を行なって、X方向、X方向の放射発
散角を算出し、その結果を表示装置22、例えばCRT
等のディスプレイ装置上に表示する。
演算装置20としては、CPU等を用いることができる
。
。
X方向、X方向の放射発散角は前述の式(2)、(3)
で与えられ、Qは測定装置の定数として定まるから、結
局、演算装置20が行なうのは、X□。
で与えられ、Qは測定装置の定数として定まるから、結
局、演算装置20が行なうのは、X□。
X21 yzt 3’2の特定と、それらを用いて、式
(2)、(3)の演算を行なうことである。
(2)、(3)の演算を行なうことである。
なお、ナイフェツジ遮光部は、上に説明した2つを一対
とし、このような対を2以上設けることも可能である。
とし、このような対を2以上設けることも可能である。
また、放射発散角θX、θyはXx、X21 Yxr
yzが定まればよく、Xl、 X2゜y□、y2の特定
される順序によらないから、円板14の回転方向は、こ
れを逆転させてもよい。このようにすると、例えば、第
6図でナイフェツジの移動方向がy軸の負の方向を向き
、X2.y2の方が、xl、ylより先に定まることに
なる。ナイフェツジ遮光部による遮光とは、このような
場合をも含むものとする。
yzが定まればよく、Xl、 X2゜y□、y2の特定
される順序によらないから、円板14の回転方向は、こ
れを逆転させてもよい。このようにすると、例えば、第
6図でナイフェツジの移動方向がy軸の負の方向を向き
、X2.y2の方が、xl、ylより先に定まることに
なる。ナイフェツジ遮光部による遮光とは、このような
場合をも含むものとする。
さて、以上では、2つのナイフェツジ遮光部により、レ
ーザー光を、X方向、X方向へ遮光したが、単一のナイ
フェツジ遮光部を用いて、レーザー光を、X方向および
X方向へ遮光できる方法がある。これを、第7図に即し
て説明する。
ーザー光を、X方向、X方向へ遮光したが、単一のナイ
フェツジ遮光部を用いて、レーザー光を、X方向および
X方向へ遮光できる方法がある。これを、第7図に即し
て説明する。
第7図において、符号14Aは円板とし、この円板14
Aに入射するレーザー光束の入射位置における光束断面
を、符号120Aで示す。円板14Aに穿設された窓は
ナイフェツジKE3を有する。円板14Aが実線の如き
態位にあるとき、円板14AをP点のまわりに矢印方向
へ回転させれば、ナイフェツジKE3を有するナイフェ
ツジ遮光部(ナイフェツジKE3の右方の円板領域)は
、レーザー光束をX方向へ遮光する。しかるに、円板1
4Aの回転中心をp点からq点へ移して回転させると、
ナイフェツジ遮光部は、レーザー光束をX方向へ遮光す
るのである。因に、q点は、レーザー光束の光束断面中
心(第7図で、X軸、y軸の交点すなわち2軸)のまわ
りに、p点を時計方向へ90度度回させた位置である。
Aに入射するレーザー光束の入射位置における光束断面
を、符号120Aで示す。円板14Aに穿設された窓は
ナイフェツジKE3を有する。円板14Aが実線の如き
態位にあるとき、円板14AをP点のまわりに矢印方向
へ回転させれば、ナイフェツジKE3を有するナイフェ
ツジ遮光部(ナイフェツジKE3の右方の円板領域)は
、レーザー光束をX方向へ遮光する。しかるに、円板1
4Aの回転中心をp点からq点へ移して回転させると、
ナイフェツジ遮光部は、レーザー光束をX方向へ遮光す
るのである。因に、q点は、レーザー光束の光束断面中
心(第7図で、X軸、y軸の交点すなわち2軸)のまわ
りに、p点を時計方向へ90度度回させた位置である。
このように、円板の回転中心の位置を変えれば、単一の
ナイフェツジ遮光部でレーザー光をX方向、X方向へ遮
光できる。
ナイフェツジ遮光部でレーザー光をX方向、X方向へ遮
光できる。
p点とq点とは、互いに定点であるから、円板14Aの
回転中心位置をp点、q点の間で切換るには円板14A
と、これを駆動するモーターとを一体として、例えばリ
ンク機構等をもちいて、p点とq点との間で位置を切換
るようにすればよい。
回転中心位置をp点、q点の間で切換るには円板14A
と、これを駆動するモーターとを一体として、例えばリ
ンク機構等をもちいて、p点とq点との間で位置を切換
るようにすればよい。
(効 果)
以上、本発明によれば、半導体レーザーの放射発散角を
測定する新規な測定装置を提供できる。
測定する新規な測定装置を提供できる。
この測定装置は上記の如く構成されているので、接合面
に平行な方向の放射発散角と、接合面に直交する方向の
放射発散角とを、半導体レーザーの保持態位を変えるこ
となく簡易に測定でき、測定の能率を向上させることが
できる。
に平行な方向の放射発散角と、接合面に直交する方向の
放射発散角とを、半導体レーザーの保持態位を変えるこ
となく簡易に測定でき、測定の能率を向上させることが
できる。
第1図は、本発明の一実施例を要部のみ略示する説明図
、第2図は、上記実施例を説明するための図、第3図な
いし第6図は本発明の原理を説明するための図、第7図
は、本発明の関連技術を説明するための図である。 10・・・半導体レーザー、14・・・円板、16・・
・回転手段としてのモーター、18・・・受光手段とし
ての受光素子、KEI、KH2・・・ナイフェツジ。 =12−
、第2図は、上記実施例を説明するための図、第3図な
いし第6図は本発明の原理を説明するための図、第7図
は、本発明の関連技術を説明するための図である。 10・・・半導体レーザー、14・・・円板、16・・
・回転手段としてのモーター、18・・・受光手段とし
ての受光素子、KEI、KH2・・・ナイフェツジ。 =12−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 半導体レーザーから放射される発散性のレーザー光の発
散角を測定する装置であって、 被検半導体レーザーを、その接合面が所定のxz面にあ
り、放射方向がz方向であるように保持する保持手段と
、 周辺部近傍に2箇所、ナイフエッジ遮光部を有し、回転
可能な円板と、 この円板を回転させる手段と、 上記円板を介して、レーザー光を受光する受光手段と、 この受光手段の出力により所定の演算を行なって、放射
発散角を算出する演算手段と、 この演算手段による演算結果を表示する手段と、を有し
、 上記円板の半径を、測定位置におけるレーザー光のひろ
がりに比して十分大きくし、上記円板の回転により、上
記2つのナイフエッジ遮光部が、交互にレーザー光を遮
光するようにし、かつ2つのナイフエッジ遮光部のナイ
フエッジの方向を、一方のナイフエッジ遮光部が、x方
向にレーザー光を遮光し、他方のナイフエッジ遮光部が
、上記xz面に直交するy方向へ遮光するように、定め
たことを特徴とする、半導体レーザー光の放射発散角測
定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4417785A JPS61202135A (ja) | 1985-03-06 | 1985-03-06 | 半導体レ−ザ−の放射発散角測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4417785A JPS61202135A (ja) | 1985-03-06 | 1985-03-06 | 半導体レ−ザ−の放射発散角測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61202135A true JPS61202135A (ja) | 1986-09-06 |
Family
ID=12684294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4417785A Pending JPS61202135A (ja) | 1985-03-06 | 1985-03-06 | 半導体レ−ザ−の放射発散角測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61202135A (ja) |
-
1985
- 1985-03-06 JP JP4417785A patent/JPS61202135A/ja active Pending
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