JPS61211808A

JPS61211808A - 薄膜磁気ヘツド

Info

Publication number: JPS61211808A
Application number: JP5226085A
Authority: JP
Inventors: Hiroaki Ono; 裕明小野; Mitsuo Abe; 阿部　光雄; Takumi Sasaki; 佐々木　卓美
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1985-03-18
Filing date: 1985-03-18
Publication date: 1986-09-19
Anticipated expiration: 2009-03-09
Also published as: JPH0618053B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の利用分野〕本発明は、但性薄膜を用いた薄膜磁気ヘッドに関する。

〔発明の背景〕

ビデオテープレコーダの記録密度の向上に伴い、隣接ト
ラック間で磁化方向を異ならせるアジマス記録方式が開
発され、これがビデオテープレコーダの記録方式の主流
となっているが、さらに記録密度を向上させるため、パ
ーマロイ。

センダスト、アモルファス等の軟磁性薄膜ヲヘソドコア
拐として用い、ギ中ツノ長が短くトラック幅の狭い磁気
ヘッドの開発が要求されている。この磁気ヘッドのギャ
ップ形成方法としては、機械的な突き合せによるギャッ
プボンディング法が一般的であるが、他に薄膜技術を用
いギャップ形成をバイト切削等により溝を形成しその溝
の斜面部をギャップ面として用（・、ギャップスペーサ
を被着させた後磁性薄膜を積層する、積層型ギャップ形
成法を用いた積層型薄膜磁気ヘッドが提案されている（
特開昭５７−１４１０１）号公報）。

第３図は」二記従来技術による積層型薄膜磁気ヘッドな
そのテープ摺動面から見た図であって、１は非磁性基板
、２は第１の軟磁性薄ｊ摸、３はＶ字状溝、４はギャッ
プスペーサ膜、５は第２の軟磁性薄膜、６は不連続向、
７は非磁性膜である。同図において、この薄膜磁気ヘッ
ドは、非磁性基板１−Ｆに非磁性膜７を形成し、その上
に第１の軟磁性薄膜２をスパッタリング等により被着し
、第１の軟磁性薄膜２の一部にＶ字状の溝３を加工し、
この７字状溝６の一斜面にギャップスペーサ膜４を被着
し、さらにその上から第２の軟磁性薄膜５を７字状溝６
を埋めるように破着し、ギャップスペーサ膜４を被着さ
せた７字状溝６の斜面直上の部分のみ第２の軟磁性薄膜
５を除去することにより磁気ギャップを形成して、最後
に非磁性基板上１３を被着して製造していた。しかし、
このような構造においては、７字状溝６に第２の軟磁性
薄膜５を不連続面のないように埋めることが困難であり
、この不連続向６が不要な磁気ギャップとして機能して
、主磁気ギャップに対して妨害を与えるという問題があ
った。この不連続面乙の発生は、Ｖ字状溝底部の二つの
斜面のなす角度θに依存し、この角度θが大きい程、不
連続面の発生は少ない。そこで、第４図に示すように、
非磁性基板１に段差あるいはくぼみを設け、第１の軟磁
性薄膜２を台形状に除去し、磁気ギャップ面がこの段差
あるいは（ぼみの稜線部に位置する構造として、７字状
溝６の磁気ギャップ面でない側゛の斜面を、図中ｌで示
したように非磁性基板１０当初の面よりも下方位置から
角度θ′をもって、　３　。

形成するようにして、前記角度θを大きくする方法が提
案された（特開昭５９−５７１６号公報）。

しかし、この方法では、第１の軟磁性薄膜２の除去によ
って出きる台形状溝６の二つの稜線部間の距りｌを少な
くともトラック幅以上とするか、あるいは二つの稜線部
の角度θ、θ′のうち、少なくとも一方を１８０°以上
にしなければ、台形状溝６′の三つの斜面に第２の軟磁
性薄膜を不連続なく埋めることが困難である。しかし、
二つの稜線部の角度θ、θのうち、少なくとも一方を１
８０°以上にすることは構造上無理であり、二つの稜線
部間の距りｌを長くすることは、結果的に第１の軟磁性
薄膜の除去体積が増大し、バイト切削除去によるバイト
寿命の低下、膜ノ・ガレ等の原因となる。また、非磁性
基板１に段差あるいはへこみをつけるという特殊な加工
が必要である、等の欠点があり、高出力の薄膜磁気ヘッ
ドを量産性よく製造することができなかった。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、上記従来技術の欠点をなく、　４　。

し、第２の軟磁性薄膜の形成時にその溝部に不連続面を
生じさせず、不連続面による妨害をな（して良好な特性
の、量産性のよい薄膜磁気ヘッドを提供するにある。

〔発明の概要〕

この目的を達成するために、本発明は、薄膜磁気ヘッド
を構成する非磁性基板上の磁気ギャップ面近傍に、なだ
らかな丘状の非磁性膜層を設けることにより、第２の軟
磁性薄膜が不連続面を生じずに形成できるようにした点
に特徴がある。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する。

第１図は本発明による薄膜磁気ヘッドの一実施例をその
テープ摺動面からみた図であって、１は非磁性基板、２
は第１の軟磁性薄膜、６″は溝、４はギャップスペーサ
膜、５は第２の軟磁性薄膜、７は非磁性膜層、１０は磁
気ギャップ面、１３は保赦膜である。

同図において、非磁性基板１上のギャップ面１０の近傍
になだらかな丘状の非磁性膜層７を形成して第２の軟磁
性薄膜５を被着する際に不連続面が生じないようにする
。この非磁性膜層７は、ギャップ面１０の近傍のみなだ
らかな丘状に盛り上がっていれば、非磁性基板１上の全
面に被着してもよい。また、ギャップ面１０の形成時に
、バイト切削等により加工される溝３は、少なくとも第
１の軟磁性薄膜２を貫いた形状になっており、この溝加
工によって形成された二つの稜線の角度は、第２の軟磁
性薄膜５Ｎからみたギヤング面１０と非磁性膜層７のな
す角度θを９０°以上にし、また第２の軟磁性薄膜５側
からみた非磁性膜層７上の溝加工を施した面とそれ以外
の面のなす角度θ′を１８０°以上としている。

次に、本発明による薄膜磁気ヘッドの一実施例の製造工
程を第２図（ａ）〜（旬により説明する。

（イ）、まず、同図（ａ）に示すガラス等の非磁性基板
１上の最終的に磁気ギャップが形成される位置に、同図
（ｂ）に示すようにマスク８を位置させ、マスクスパッ
タにより、なだらかな丘状に非磁性膜層７を被着形成す
る。

仲）、次に同図（Ｃ）に示すように、非磁性膜層７上の
中心に左右いずれか一方側にマスク８′を位置させ、第
１の軟磁性薄膜２をマスクスパッタにより被着形成する
。

（ハ）、被着形成した第１の軟磁性薄膜２をダイヤモン
ド等の、高精度切削が容易なバイト９により切削し、第
１の軟磁性薄膜２０段段差面部の一部を少なくとも非磁
性膜層７に達するまで除去して、磁気ギャップ面１０を
形成する（ｄ）。このとき、バイト９の磁気ギャップ面
１０を形成する而と底面とがつくるバイト刃先１）０角
度は、できるだけ大きくすると同時に、バイト刃片１）
とは反対側のバイトエツジ１２によって前記非磁性膜層
７を実質的に切り込まないようにする。バイト加工によ
って形成した溝３は、（ｅ）に示すように、磁気ギャッ
プ面１０と底面（非磁性膜層７の上面）とのなす稜の角
度θが大きくとれると同時に、バイト切・　７　・削によって生じたもう一方の稜の角度θ′が１８０゜以
上となり、二つの稜線間の距りｌも短くできる。

に）、次にＶ）に示すように、第１の軟磁性膜２と溝３
を覆ってギャップスペーサ膜４をスパッタリング等によ
り被着し、この上にマスク８“を同図の位置に置いて第
２の軟磁性薄膜５を溝３と磁気ギャップ面１０の上部の
みに被着形成する。

（ホ））、被着形成した第２の軟磁性薄膜５を、磁気ギ
ヤング１０の上部のみラップ等で除去する。

このとき、第１の軟磁性薄膜２上のギャップスペーサ膜
４も除去されるようにする（ｙ）。

（へ）、露出した第１の軟磁性薄膜２の上面と、第２の
軟磁性薄膜５の上面とを保護するため、これらの軟磁性
薄膜を覆ってガラス等の保護膜１３を被着形成する（旬
。

以上の各工程を経て、積層型薄膜磁気ヘッドが製造され
る。

〔発明の効果〕

・　８　・以上説明したように、本発明によれば、第１の軟磁性薄
膜とその基板である非磁性基板上に被着された非磁性膜
層にバイト加工で形成される溝の、磁気ギャップ面と底
面とのなす稜の角度を大きくとることができると同時に
、バイト切削により生じるもう一方の稜角が１８０°以
上となり、二つの稜線間の距りも短くすることができる
ので、非磁性基板に特殊な加工を必要とせず、かつバイ
ト寿命の低下、膜ハガレもなしに、第２の軟磁性薄膜を
不連続なく埋めることができるので、主ギャップに妨害
を与える磁気コアの不連続面をなくすことができ、上記
従来技術の欠点を除いて優れた機能の薄膜磁気ヘッドを
提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による積層型薄膜磁気ヘッドの一実施例
をそのテープ摺動面側からみた図、第２図は本発明によ
る積層型薄膜磁気ヘッドの製造工程図、第３図及び第４
図は従来技術による積層型薄膜磁気ヘッドをそのテープ
摺動面からみた図である。１・・非低性基板、　　　　２・・・第１の軟磁性薄膜
、６・・・溝、　　　　　　　　４・・・キャノプスペ
ーザ膜、５・・・第２の軟磁性れ！ｉ′ｌ摸、　６・小
連続面、７・・・非磁性膜層、　　　　８，８．８・・
マスク、９・・・バ・ｆト、　　　　　　１０・・・（
蝕気ギャップ面、１）・・・バイト刃先、　　　　１２
・・・バイトエツジ、１６・・・保護膜。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）非磁性基板と、非磁性基板上に被着した第１の軟
磁性薄膜と、第１の軟磁性薄膜の一部を前記非磁性基板
に達する切削加工によって除去した溝にギャップスペー
サを介して被着した第２の軟磁性薄膜とから成り、前記
第１と第２の軟磁性薄膜により前記ギャップスペーサを
介して磁気ギャップを形成する積層型薄膜磁気ヘッドに
おいて、前記非磁性基板上の前記磁気ギャップ近傍に位
置する面になだらかな丘状の非磁性膜層を設けて、前記
切削加工により除去された溝の第１の軟磁性薄膜の稜線
と前記非磁性膜基板上に被着された第２の軟磁性薄膜の
稜線とのなす角度を大きくすることにより、第２の軟磁
性薄膜に不連続面が発生することを防止するように構成
したことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
（２）特許請求の範囲（１）に記載した薄膜磁気ヘッド
において、前記切削加工により除去された溝の前記角度
を、第１の軟磁性薄膜の稜線と非磁性膜層上の第２の軟
磁性薄膜の稜線のなす角度を９０°以上に、また非磁性
膜層上の第２の軟磁性薄膜の稜線と非磁性基板上の第２
の軟磁性薄膜の稜線のなす角度を１８０°以上にしたこ
とを特徴とする薄膜磁気ヘッド。