JPS61219189A - ガスレ−ザ発振装置 - Google Patents
ガスレ−ザ発振装置Info
- Publication number
- JPS61219189A JPS61219189A JP5954685A JP5954685A JPS61219189A JP S61219189 A JPS61219189 A JP S61219189A JP 5954685 A JP5954685 A JP 5954685A JP 5954685 A JP5954685 A JP 5954685A JP S61219189 A JPS61219189 A JP S61219189A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- distance
- shaped grooves
- intervals
- shaped
- shaped groove
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は予備放電方式のガスレーザ発振装置に関する。
ガスレーザ発振装置の一つであるＴ ＥＡ （Ｔｒａｎ
ｖｅｒｓｅｌｙＥｘｉｃｉｔｅｄ Ａｔｏｍｏｓｐｈｅ
ｒｉｃ Ｐｒｅｓｓｕｒｅ） ＣＯｚレーザやエキシマ
レーザではレーザガス媒体の動作圧力として大気圧以上
の圧力を用いるために、均一放電発生用の予備電離手段
が必要である。この手段の一つに荷電粒子および紫外ｉ
ｔ−供給するコロナ放電が用いられている。コロナ放電
方式の予備ａ離手段を備えた’ｒＥＡＣ０２レーザの一
例を第４図に示す。
ｖｅｒｓｅｌｙＥｘｉｃｉｔｅｄ Ａｔｏｍｏｓｐｈｅ
ｒｉｃ Ｐｒｅｓｓｕｒｅ） ＣＯｚレーザやエキシマ
レーザではレーザガス媒体の動作圧力として大気圧以上
の圧力を用いるために、均一放電発生用の予備電離手段
が必要である。この手段の一つに荷電粒子および紫外ｉ
ｔ−供給するコロナ放電が用いられている。コロナ放電
方式の予備ａ離手段を備えた’ｒＥＡＣ０２レーザの一
例を第４図に示す。
すなわち、（１）は気密容器でＣＯ２Ｎ２ Ｈｅ等の混
合ガスからなるレーザガス媒体が１気圧近傍の圧力に維
持されて封入されている。容器（１）内にはレーザガス
媒体の雰囲気下に主放電電極を構成しているかまぼこ状
の陰極（２）とこれとほぼ同形の陽極（３）とが対向し
て配置され、パルス電圧を供給する電源（４）に接続さ
れている。陰極（２）の陽極（３）側に対向する面には
均等のピッチになる数条のＶ溝（５）が長手方向へ互い
に平行になって接設されている。これらＶ溝（５）には
ガラスパイプ（６）内に芯線（７）ヲ納めた購造の予備
放電電極（８）がそれぞれ設けられている。
合ガスからなるレーザガス媒体が１気圧近傍の圧力に維
持されて封入されている。容器（１）内にはレーザガス
媒体の雰囲気下に主放電電極を構成しているかまぼこ状
の陰極（２）とこれとほぼ同形の陽極（３）とが対向し
て配置され、パルス電圧を供給する電源（４）に接続さ
れている。陰極（２）の陽極（３）側に対向する面には
均等のピッチになる数条のＶ溝（５）が長手方向へ互い
に平行になって接設されている。これらＶ溝（５）には
ガラスパイプ（６）内に芯線（７）ヲ納めた購造の予備
放電電極（８）がそれぞれ設けられている。
予備放電電極（８）はそれぞれ一本の単体品もしくは複
数に分割したもので構成されている。予備放電電極（８
）の芯線は一本の線にまとめられて陽極（３）に接続さ
れている。ま念、陰極（２）と陽極（３）との間には短
いリード線で短絡する形でピーキングキャパシタ（９）
が設けられている。
数に分割したもので構成されている。予備放電電極（８
）の芯線は一本の線にまとめられて陽極（３）に接続さ
れている。ま念、陰極（２）と陽極（３）との間には短
いリード線で短絡する形でピーキングキャパシタ（９）
が設けられている。
上記の構成において、予備放電電極（８）は、主放電部
の幅いっばいとなる数に設置されている。ところで、こ
のような予備放電電極の配置では配置中央部分の予備電
離が強くなり、主放電域０１ｌＩにおける電流密度も上
記中央部分が高くなる。このような主放電作用で得られ
たレーザビームの強度分布は第５図に示すように山なシ
の強度部布となってしまい、念とえばマーキング加工そ
の他のレーザ加工では加工ムラが生じてしまう問題があ
った。
の幅いっばいとなる数に設置されている。ところで、こ
のような予備放電電極の配置では配置中央部分の予備電
離が強くなり、主放電域０１ｌＩにおける電流密度も上
記中央部分が高くなる。このような主放電作用で得られ
たレーザビームの強度分布は第５図に示すように山なシ
の強度部布となってしまい、念とえばマーキング加工そ
の他のレーザ加工では加工ムラが生じてしまう問題があ
った。
本発明は主放電部の電流密度を調整し、平坦な強度分布
をもつレーザビームが得られるガスレーザ発振装置を提
供することを目的とする。
をもつレーザビームが得られるガスレーザ発振装置を提
供することを目的とする。
上記目的を達成する九めに、予備放電電極上相互の間隔
が中央部になるに従って広くなるようにして陰極近傍に
配置したものである。
が中央部になるに従って広くなるようにして陰極近傍に
配置したものである。
以下、実施例を示す図面に基いて本発明を説明する。
第１図は本発明の要部を示すもので、第４図と共通する
部分には同一符号を付している。すなわち、陽極（３）
と対向する陰極（２）の面にはたとえば図示のように７
個のＶ溝（ｖｌ）〜（■７）が接設されている。ここで
各Ｖ溝間の間隔を説明すると、中央部のＶ溝（Ｖ４）ｔ
−中心にしてこれに隣シ合うＶ溝（Ｖｓ）および（Ｖｓ
）との間隔はそれぞれ距離（Ｄｌ）にされている。ま念
、■溝（Ｖ４）と反対をなす側において。
部分には同一符号を付している。すなわち、陽極（３）
と対向する陰極（２）の面にはたとえば図示のように７
個のＶ溝（ｖｌ）〜（■７）が接設されている。ここで
各Ｖ溝間の間隔を説明すると、中央部のＶ溝（Ｖ４）ｔ
−中心にしてこれに隣シ合うＶ溝（Ｖｓ）および（Ｖｓ
）との間隔はそれぞれ距離（Ｄｌ）にされている。ま念
、■溝（Ｖ４）と反対をなす側において。
Ｖ 溝（Ｖｓ）、（Ｖｓ） トソレソレ隣Ｄ 合５ Ｖ
溝（Ｖｚ）オヨＵ（■６）との間隔はそれぞれ上記距
離（Ｄｌ）よシ小の距離（Ｄ２）にされている、また１
両端に位置するＶ溝（ＤＩ）、（Ｄ７） 、！： ソレ
ソｔｔ隣？） 合つＶ 溝（Ｖｚ）オ！ヒ（Ｖｓ）との
間隔は上記距離（Ｄ２）よシ小の距離（Ｄ３）にされて
いる。以上のようにＤＩ＞Ｄ２＞Ｄ３の関係になる。
溝（Ｖｚ）オヨＵ（■６）との間隔はそれぞれ上記距
離（Ｄｌ）よシ小の距離（Ｄ２）にされている、また１
両端に位置するＶ溝（ＤＩ）、（Ｄ７） 、！： ソレ
ソｔｔ隣？） 合つＶ 溝（Ｖｚ）オ！ヒ（Ｖｓ）との
間隔は上記距離（Ｄ２）よシ小の距離（Ｄ３）にされて
いる。以上のようにＤＩ＞Ｄ２＞Ｄ３の関係になる。
各Ｖ溝に予備放電電極（８）が配置されている。これら
配置においては予備放電電極（８）の芯線（６）間の距
離は上記各Ｖ溝の間隔の距離の関係に対応している。
配置においては予備放電電極（８）の芯線（６）間の距
離は上記各Ｖ溝の間隔の距離の関係に対応している。
以上の構成により、主放電域における予備ａｍの強さは
従来のように予備放電電極を均等に配置した場合に比べ
て中央部分の強さが減じるため、第２図に示すように平
均的な分布を示す、したがって、主放電における電流密
度分布は調整され、第３図に示すような均一なエネルギ
強度分布を有するレーザ光を出力することができるよう
になった。
従来のように予備放電電極を均等に配置した場合に比べ
て中央部分の強さが減じるため、第２図に示すように平
均的な分布を示す、したがって、主放電における電流密
度分布は調整され、第３図に示すような均一なエネルギ
強度分布を有するレーザ光を出力することができるよう
になった。
なお、上記上施例では予備放電電極を陰極の表面近傍に
設けたが、陰極としてメツシュ電極を用い、その背面近
傍に予備放′！！ｃ′！１１極を設置しこれらを上記実
施例と同様の関係配置にした場合でも同様の効果を奏す
る。
設けたが、陰極としてメツシュ電極を用い、その背面近
傍に予備放′！！ｃ′！１１極を設置しこれらを上記実
施例と同様の関係配置にした場合でも同様の効果を奏す
る。
均一なエネルギ分布をもったレーザ光が得られるため、
加工のムラのない、エネルギの利用効率の良い加工が可
能となる。エネルギの利用効率の良いと込うことは比較
的低いエネルギで所要の加工ができることを意味してい
る。レーザ出力エネルギは電源回路の主コンデンサに蓄
えられた電荷量に比例するが、低いレーザ出力エネルギ
で所要の加工ができれば、コンデンサの容量、充電用電
源の電圧および容量が節約でき、小型化できるとともに
、ギャップスイッチ、サイラトロンなどのスイッチ素子
への要求も緩和される。
加工のムラのない、エネルギの利用効率の良い加工が可
能となる。エネルギの利用効率の良いと込うことは比較
的低いエネルギで所要の加工ができることを意味してい
る。レーザ出力エネルギは電源回路の主コンデンサに蓄
えられた電荷量に比例するが、低いレーザ出力エネルギ
で所要の加工ができれば、コンデンサの容量、充電用電
源の電圧および容量が節約でき、小型化できるとともに
、ギャップスイッチ、サイラトロンなどのスイッチ素子
への要求も緩和される。
に１図は本発明の一実施例を示す要部側面図、第２図は
予備電離の強度分布図、第３図は本発明で得られたレー
ザ光のエネルギ分布図、第４図は従来例を示す構成図、
第５図は従来例で得られたレーザ光のエネルギ分布図で
ある。 （２）・・・陰極 （３）・・・陽極（８）
・・・予備放電電極 （ｖｌ）〜（■７）・・・■溝
代理人 弁理士 則近憲佑（ほか］名）第１図 第３因 第４図 第５図 ↑ −ヒーム１イ土
予備電離の強度分布図、第３図は本発明で得られたレー
ザ光のエネルギ分布図、第４図は従来例を示す構成図、
第５図は従来例で得られたレーザ光のエネルギ分布図で
ある。 （２）・・・陰極 （３）・・・陽極（８）
・・・予備放電電極 （ｖｌ）〜（■７）・・・■溝
代理人 弁理士 則近憲佑（ほか］名）第１図 第３因 第４図 第５図 ↑ −ヒーム１イ土
Claims (2)
- （１）容器と、この容器内に充満されるガスレーザ媒質
と、このガスレーザ媒質中に配置される陰極および陽極
からなる主放電電極と、上記陰極の表裏近傍に配置され
主放電を惹起させる予備電離を行う複数の予備放電電極
とを備えたガスレーザ発振装置において、予備放電電極
は相互の間隔が中央部になるに従って広くなるように配
置されていることを特徴とするガスレーザ発振装置。 - （２）予備放電電極の間隔は中央に配置された予備放電
電極を中心にして左右対称になることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載のガスレーザ発振装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5954685A JPS61219189A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | ガスレ−ザ発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5954685A JPS61219189A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | ガスレ−ザ発振装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61219189A true JPS61219189A (ja) | 1986-09-29 |
| JPH0147027B2 JPH0147027B2 (ja) | 1989-10-12 |
Family
ID=13116362
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5954685A Granted JPS61219189A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | ガスレ−ザ発振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61219189A (ja) |
-
1985
- 1985-03-26 JP JP5954685A patent/JPS61219189A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0147027B2 (ja) | 1989-10-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3886479A (en) | Electrode systems for gas discharge devices particularly gas lasers | |
| US4534035A (en) | Tandem electric discharges for exciting lasers | |
| US4556981A (en) | Laser of the TE type, especially a high-energy laser | |
| US4677638A (en) | Gas laser generator | |
| JPS61219189A (ja) | ガスレ−ザ発振装置 | |
| JPS61201489A (ja) | ガスレ−ザ発振装置 | |
| JPH0318753B2 (ja) | ||
| JPS62163381A (ja) | ガスレ−ザ発振装置 | |
| JP3154584B2 (ja) | 放電励起ガスレーザ装置 | |
| CN224204577U (zh) | 一种电晕预电离大功率准分子激光器 | |
| JP2614231B2 (ja) | ガスレーザ装置 | |
| JPS6292382A (ja) | ガスレ−ザ発振装置 | |
| RU439250C (ru) | Разр дна трубка газового оптического квантового генератора | |
| JPS6321882A (ja) | エキシマレ−ザ装置 | |
| JPS63228776A (ja) | ガスレ−ザ装置 | |
| JPS5847878B2 (ja) | 横方向連続発振ガスレ−ザ管 | |
| JPS631086A (ja) | ガスレ−ザ発振器 | |
| JPH02268476A (ja) | パルスガスレーザ発振装置 | |
| Nguyen et al. | Pulsed TEA CO2 laser with an input energy density of 1.1 kJ/liter stabilized by a double preliminary discharge | |
| JPH0548185A (ja) | ガスレーザー装置用予備電離装置 | |
| JPH05335672A (ja) | エキシマレーザ装置 | |
| JP2001274493A (ja) | ガスレーザ装置 | |
| JPH0340476A (ja) | ガスレーザ励起方法並びにガスレーザ装置 | |
| JPS61251087A (ja) | 放電励起型短パルスレ−ザ装置 | |
| JPH0746737B2 (ja) | レ−ザ発振器 |