JPS61221155A - ヒドロキシトリアリ−ルアミンの製造方法 - Google Patents
ヒドロキシトリアリ−ルアミンの製造方法Info
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- JPS61221155A JPS61221155A JP60063020A JP6302085A JPS61221155A JP S61221155 A JPS61221155 A JP S61221155A JP 60063020 A JP60063020 A JP 60063020A JP 6302085 A JP6302085 A JP 6302085A JP S61221155 A JPS61221155 A JP S61221155A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の利用分野）
本発明はトリアリールアミンの製造方法に関し特に記録
材料用電子供与性無色染料の中間体および有機導電材の
中間体として有用なヒドロキシトリアリールアミンの製
造方法に関する （従来技術） ヒドロキシトリアリールアミンの合成方法としてはジア
リールアミンと芳香族ハロゲン化合物、好ましくは芳香
族ヨウ化化合物を塩基および銅の存在下に反応させる、
いわゆるウルマン反応が知られてちる。しかしながらこ
の反応は、芳香族ヨウ化化合物を使用する場合には原材
料費の面で、また他の芳香族ハロゲン化合物を使用する
場合には、収率の面で満足するものではない。本発明者
らは安価な原材料を用いたヒドロキシトリアリールアミ
ンの合成法を種々検討した結果、リン酸系解媒またはス
ルホン酸系解媒の存在下にジアリールアミンとレゾルシ
ンを反応させると目的物が得られることを見出したが、
収率、純度の面で満足するものではなく、工業的な製造
方法の開発は難しかった。
材料用電子供与性無色染料の中間体および有機導電材の
中間体として有用なヒドロキシトリアリールアミンの製
造方法に関する （従来技術） ヒドロキシトリアリールアミンの合成方法としてはジア
リールアミンと芳香族ハロゲン化合物、好ましくは芳香
族ヨウ化化合物を塩基および銅の存在下に反応させる、
いわゆるウルマン反応が知られてちる。しかしながらこ
の反応は、芳香族ヨウ化化合物を使用する場合には原材
料費の面で、また他の芳香族ハロゲン化合物を使用する
場合には、収率の面で満足するものではない。本発明者
らは安価な原材料を用いたヒドロキシトリアリールアミ
ンの合成法を種々検討した結果、リン酸系解媒またはス
ルホン酸系解媒の存在下にジアリールアミンとレゾルシ
ンを反応させると目的物が得られることを見出したが、
収率、純度の面で満足するものではなく、工業的な製造
方法の開発は難しかった。
（発明の目的）
従って本発明の目的は工業的に製造可能なｍ−ヒドロキ
シトリアリールアミンの製造方法を提供することである
。
シトリアリールアミンの製造方法を提供することである
。
（発明の構成）
本発明の目的は不活性ガス雰囲気下、リン酸、ポリリン
酸および／または亜リン酸エステル類を解媒としてジア
リールアミン類／、θモルに対し。
酸および／または亜リン酸エステル類を解媒としてジア
リールアミン類／、θモルに対し。
てレゾルシン類／ 、ｒ、！ 、０モルを脱水縮合させ
ることを特徴とりる製造方法により達成された。
ることを特徴とりる製造方法により達成された。
木発明者らはジアリールアミンとレゾルシルの脱水縮合
を詳細に検討した結果、従来の合成法で収率の低い理由
はレゾルシンの熱分解および反応生成物であるｍ−ヒド
ロキシトリアリールアミンの熱分解によるものであるこ
とをつきとめた。そして、これを抑制する方法を検討し
本発明をなすに紋った。
を詳細に検討した結果、従来の合成法で収率の低い理由
はレゾルシンの熱分解および反応生成物であるｍ−ヒド
ロキシトリアリールアミンの熱分解によるものであるこ
とをつきとめた。そして、これを抑制する方法を検討し
本発明をなすに紋った。
本発明に係るリン酸系解媒としてはリン酸、ポリリン酸
、おより亜リン酸エステル類が好ましく、特にリン酸、
ポリリン酸、亜すン酸ジフェニルエステルオヨヒ亜リン
酸アルキルフェニルエステルが好ましい。解媒濃度はジ
アリールアミン類７モルに対してｏ、ｏｉ、ｉ−ｏモル
が好ましく、特に０．’０／、０．ＯＪ−モルが好まし
い。また解媒中に混在するフッ素およびフッ素化合物は
より少ない方が好ましい。
、おより亜リン酸エステル類が好ましく、特にリン酸、
ポリリン酸、亜すン酸ジフェニルエステルオヨヒ亜リン
酸アルキルフェニルエステルが好ましい。解媒濃度はジ
アリールアミン類７モルに対してｏ、ｏｉ、ｉ−ｏモル
が好ましく、特に０．’０／、０．ＯＪ−モルが好まし
い。また解媒中に混在するフッ素およびフッ素化合物は
より少ない方が好ましい。
本発明に係るジアリールアミン類としては無置換または
低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子等の
一個以上で置換されたジアリールアミンが好ましく、特
に、ジフェニルアミン、Ｎ−Ｐ−）リルアニリン、Ｎ−
フェニル−Ｐ−７二シジン、Ｎ−Ｐ−クロロフェニルア
ニリン、ジーＰ−トＩＪルアミン、Ｎ−メトキシフェニ
ルアニシジン、ビスーＰ−クロロフェニルアミン、Ｎ−
Ｐ−ｉチルフェニルアニリン、Ｎ−Ｐ−エチルフェニル
アニリン、Ｎ−０−トリルアニリン、Ｎ−クロロフェニ
ルトルイジン、ジノニルジフェニルアミン、ジプロピル
ジフェニルアミン、Ｐ−Ｎ−メチル−Ｎ−イソプロピル
アミノジフェニルアミン、Ｎ−０−クロロフェニルアニ
リン等が好ましい。
低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子等の
一個以上で置換されたジアリールアミンが好ましく、特
に、ジフェニルアミン、Ｎ−Ｐ−）リルアニリン、Ｎ−
フェニル−Ｐ−７二シジン、Ｎ−Ｐ−クロロフェニルア
ニリン、ジーＰ−トＩＪルアミン、Ｎ−メトキシフェニ
ルアニシジン、ビスーＰ−クロロフェニルアミン、Ｎ−
Ｐ−ｉチルフェニルアニリン、Ｎ−Ｐ−エチルフェニル
アニリン、Ｎ−０−トリルアニリン、Ｎ−クロロフェニ
ルトルイジン、ジノニルジフェニルアミン、ジプロピル
ジフェニルアミン、Ｐ−Ｎ−メチル−Ｎ−イソプロピル
アミノジフェニルアミン、Ｎ−０−クロロフェニルアニ
リン等が好ましい。
本発明に係るレゾルシン類としては、無置換または低級
アルキル置換レゾルシンが好ましく、特にレゾルシンが
好ましい。
アルキル置換レゾルシンが好ましく、特にレゾルシンが
好ましい。
本発明に係るレゾルシン類は純度が高いほど副反応が少
なく、り！チ以上の純度のものが好ましく、特にりｔ％
以上の純度のものが好ましい。
なく、り！チ以上の純度のものが好ましく、特にりｔ％
以上の純度のものが好ましい。
本発明に係るジアリールアミン類とレゾルシン類の使用
比率は、ｉ：ｉ、ｊ−／：ｔ（モル比）が好ましく特に
ｔ：ｌ、ｒ、ｉ：３（モル比）が好ましい。
比率は、ｉ：ｉ、ｊ−／：ｔ（モル比）が好ましく特に
ｔ：ｌ、ｒ、ｉ：３（モル比）が好ましい。
レゾルシフ類の添加方法は初めに全量加えてもよいし、
また反応中に追加してもよい。
また反応中に追加してもよい。
本発明に係る不活性ガスとしては、チッ素、アルゴン等
があシ、これらは反応系に常時流してもよいし密閉系の
反応装置内に充填してもよい。まｆｃ、 反応ｔ’ｓ
、バッチシステムでもフローシステムでもよい。
があシ、これらは反応系に常時流してもよいし密閉系の
反応装置内に充填してもよい。まｆｃ、 反応ｔ’ｓ
、バッチシステムでもフローシステムでもよい。
本発明の製造方法における反応温度は／ｊ００ｃ以上が
好ましく特に／７０−％−λＪＯ０Ｃがレゾルシン類の
分解が少なく好ましい。
好ましく特に／７０−％−λＪＯ０Ｃがレゾルシン類の
分解が少なく好ましい。
本発明の製造方法は生成水分留管をつけた反応装置を用
いて常圧下に行ってもよいし、゛またオートクレーブ等
の加圧反応装ｆＭを用いて、生成水を適時に留出させな
がら加圧下に行ってもよい。反応系にはアルキルアロマ
ティクスの如き、不活性溶媒を共存させて、局部加熱を
さけたシ、水の分離を容易にすることもさし支えない。
いて常圧下に行ってもよいし、゛またオートクレーブ等
の加圧反応装ｆＭを用いて、生成水を適時に留出させな
がら加圧下に行ってもよい。反応系にはアルキルアロマ
ティクスの如き、不活性溶媒を共存させて、局部加熱を
さけたシ、水の分離を容易にすることもさし支えない。
本発明の製造方法によジヒドロキシトリアリールアミン
を得たのち蒸留、有機溶媒抽出、アルカリ水溶液抽出等
の操作、またはこれらを組合せて、よシ高純度の目的物
を得ることもできる。
を得たのち蒸留、有機溶媒抽出、アルカリ水溶液抽出等
の操作、またはこれらを組合せて、よシ高純度の目的物
を得ることもできる。
以下実施例を示すが、本発明はこの実施例のみに限定さ
れるものではない。
れるものではない。
実施例１
攪拌機、温度計、生成水分留管、およびチッソガス導入
管をつけた反応装置にＮ−フェニル−Ｐ−アニシジン１
０ｆ、 レゾルシン／ ／ ｆ、ジ７工二ル亜リン酸
エステルλ、Ｊｆを仕込み、チッソ気流中２０００Ｃで
ｉｏ時間攪拌を行う。反応終了後反応混合物がｒｏ ０
ｃになるまで冷却する。
管をつけた反応装置にＮ−フェニル−Ｐ−アニシジン１
０ｆ、 レゾルシン／ ／ ｆ、ジ７工二ル亜リン酸
エステルλ、Ｊｆを仕込み、チッソ気流中２０００Ｃで
ｉｏ時間攪拌を行う。反応終了後反応混合物がｒｏ ０
ｃになるまで冷却する。
トルエンを加え充分かきまぜた後、苛性ソーダ水を加え
中和する。有機相を２規定磁酸および１２規定硫酸で洗
浄した後、水洗し、苛性ソーダ水を用いて水相に抽出す
る。水相にトルエンを加え中和後、有機相からトルエン
を減圧留去してＮ −ｍ−ヒドロキシフェニル−Ｎ−フ
ェニル−Ｐ−７二シジン４ 、７９ （ガスクロマトグ
ラフィー純度タコ％）を得た。
中和する。有機相を２規定磁酸および１２規定硫酸で洗
浄した後、水洗し、苛性ソーダ水を用いて水相に抽出す
る。水相にトルエンを加え中和後、有機相からトルエン
を減圧留去してＮ −ｍ−ヒドロキシフェニル−Ｎ−フ
ェニル−Ｐ−７二シジン４ 、７９ （ガスクロマトグ
ラフィー純度タコ％）を得た。
実施例−２
攪拌機、温に計、生成水分留管およびチッソガス導入管
をつけた反応装置にジフェニルアミンｇ。
をつけた反応装置にジフェニルアミンｇ。
ｊｌ、レゾルシンＩｆ、 リン酸／、Ｉｆｔを仕込み
チッソ気流中、２コＯ０Ｃでｔ時間攪拌を行う。
チッソ気流中、２コＯ０Ｃでｔ時間攪拌を行う。
その後さらにレゾルシンｂｙを追加してｒ時間攪拌を行
う。実施例１と同様にして後処理を行いｍ−ヒドロキシ
トリフェニルアミンＪ、ｊｆ（ガスクロマトグラフィ純
度２３％）を得た。
う。実施例１と同様にして後処理を行いｍ−ヒドロキシ
トリフェニルアミンＪ、ｊｆ（ガスクロマトグラフィ純
度２３％）を得た。
なお本実施例に使用した反応装置はガラス製だが、反応
装置としては、他にステンレス、ホーロー、メンタル、
鉛ライニング等が用いられる比較例 ゛ 実施例１においてレゾルシンの使用ｉｔをよ、！ｔ
とし、さらにチッソガスを流さずに実施例１と同様にし
て反応を行い目的物を得た。収量は３゜２ｆ、純度は１
１９４だった。
装置としては、他にステンレス、ホーロー、メンタル、
鉛ライニング等が用いられる比較例 ゛ 実施例１においてレゾルシンの使用ｉｔをよ、！ｔ
とし、さらにチッソガスを流さずに実施例１と同様にし
て反応を行い目的物を得た。収量は３゜２ｆ、純度は１
１９４だった。
特許出願人°富士写真フィルム株式会社手続補正書（刃
側 昭和メＩ年１月ンＺ日 嗜
側 昭和メＩ年１月ンＺ日 嗜
Claims (1)
- 不活性ガス雰囲気下、リン酸、ポリリン酸および／また
は亜リン酸エステル類を触媒として、ジアリールアミン
類１．０モルに対してレゾルシン類１．５〜５．０モル
を脱水縮合させることを特徴とするｍ−ヒドロキシトリ
アリールアミンの製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60063020A JPS61221155A (ja) | 1985-03-27 | 1985-03-27 | ヒドロキシトリアリ−ルアミンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60063020A JPS61221155A (ja) | 1985-03-27 | 1985-03-27 | ヒドロキシトリアリ−ルアミンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61221155A true JPS61221155A (ja) | 1986-10-01 |
Family
ID=13217220
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60063020A Pending JPS61221155A (ja) | 1985-03-27 | 1985-03-27 | ヒドロキシトリアリ−ルアミンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61221155A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5245081A (en) * | 1991-05-23 | 1993-09-14 | Basf Aktiengesellschaft | Preparation of n,n-disubstituted m-aminophenols |
| CN101921202A (zh) * | 2009-06-10 | 2010-12-22 | Jsr株式会社 | 1位取代的3,5-二氨基苯的制造方法 |
-
1985
- 1985-03-27 JP JP60063020A patent/JPS61221155A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5245081A (en) * | 1991-05-23 | 1993-09-14 | Basf Aktiengesellschaft | Preparation of n,n-disubstituted m-aminophenols |
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| JP2010285367A (ja) * | 2009-06-10 | 2010-12-24 | Jsr Corp | １位置換３，５−ジアミノベンゼンの製造方法 |
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