JPS61222031A - 磁気デイスクの製造方法 - Google Patents
磁気デイスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS61222031A JPS61222031A JP4582185A JP4582185A JPS61222031A JP S61222031 A JPS61222031 A JP S61222031A JP 4582185 A JP4582185 A JP 4582185A JP 4582185 A JP4582185 A JP 4582185A JP S61222031 A JPS61222031 A JP S61222031A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- center
- disk
- sputtering
- film thickness
- width
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
＜ｍ 要〉
スパッタ法で磁気膜を付ける場合にもスピンコード法で
行っている様に内径と外径との中間において形成膜厚に
傾斜が付けられて、周速差に伴う感度の補償が出来る様
にする。
行っている様に内径と外径との中間において形成膜厚に
傾斜が付けられて、周速差に伴う感度の補償が出来る様
にする。
また上記傾斜の程度が変えられる様にする。
（産業上の利用分野〉
本発明は磁気ディスク装置の磁気ディスク（記録媒体）
の製造方法に係り、特に径方向の周速差に係る特性を補
償するため径方向に分布的に膜厚を変化させた磁気ディ
スクをスパッタ法により製造する方法に関する。
の製造方法に係り、特に径方向の周速差に係る特性を補
償するため径方向に分布的に膜厚を変化させた磁気ディ
スクをスパッタ法により製造する方法に関する。
〈従来技術〉
こうした磁気ディスクはアルミ材等の非磁性の円板上に
磁性の記録膜を形成したものであり、回転させながら磁
気ヘッドにより書込、再生を行うものであるが、記録ト
ランクの外側と内側では周速が異るため外周側の方が出
力が大きくなり重ね書き特性が悪いと云う問題があり２
回転中心からの距離に対応して外周側の膜厚を薄くする
ことで均一化を図って来た。
磁性の記録膜を形成したものであり、回転させながら磁
気ヘッドにより書込、再生を行うものであるが、記録ト
ランクの外側と内側では周速が異るため外周側の方が出
力が大きくなり重ね書き特性が悪いと云う問題があり２
回転中心からの距離に対応して外周側の膜厚を薄くする
ことで均一化を図って来た。
これは記録膜が塗装により形成されていた時代のものに
ついては、スピンコード法と通称されるディスク基板を
高速で回転させつつ膜形成材を塗布ごとで半径が増加す
るにつれて増加する遠心力と膜が固まる時間とのバラン
スを取るために混合溶剤の選択及びスピンドル回転数を
変化させ径方向に膜厚が制御された記録膜を製造してい
た。
ついては、スピンコード法と通称されるディスク基板を
高速で回転させつつ膜形成材を塗布ごとで半径が増加す
るにつれて増加する遠心力と膜が固まる時間とのバラン
スを取るために混合溶剤の選択及びスピンドル回転数を
変化させ径方向に膜厚が制御された記録膜を製造してい
た。
しかし記録密度の要求のさらに高いところで使イ等を付
着させるのでこうした技術は使用出来ず膜厚を径方向に
分布的に制御するための適当な方法が求められていた。
着させるのでこうした技術は使用出来ず膜厚を径方向に
分布的に制御するための適当な方法が求められていた。
〈従来技術の問題点〉
蒸着、あるいはスパッタ法による膜形成は基本的には均
一に膜が出来、径方向に分布的に傾斜を持たせる様な制
御をすることがむつかしい点にあり、下手にやろうとす
ると円周方向にも不均一が出来る点にある。一方基本的
には一つのヘッドで内側から外側のトラックまでアクセ
スする方式を成立させるためには出力レベルの補正をこ
れ以外の方法で行うとすれば、トラック監視、ゲイン補
正と云った連動制御が付加されることになりあまりおも
しろくない。
一に膜が出来、径方向に分布的に傾斜を持たせる様な制
御をすることがむつかしい点にあり、下手にやろうとす
ると円周方向にも不均一が出来る点にある。一方基本的
には一つのヘッドで内側から外側のトラックまでアクセ
スする方式を成立させるためには出力レベルの補正をこ
れ以外の方法で行うとすれば、トラック監視、ゲイン補
正と云った連動制御が付加されることになりあまりおも
しろくない。
く解決手段〉
本願の意図するところは上記にかんがみスパッタ法にお
いても半径方向の膜厚分布を制御出来る磁気ディスクの
製造方法を提供することである。
いても半径方向の膜厚分布を制御出来る磁気ディスクの
製造方法を提供することである。
そのため本願においては必要なスパッタ装置としては対
象とするディスク基板の外形よりは大きな長辺ＢＹと、
ディスク基板の外形ＤＯよりは小さな幅Ｂｘを持つスパ
ッタ源（膜形成材の発生源）と、スパッタ源と平行に所
定距離離れた位置（平行平面上）で相対指定するなら幅
方向と略平行で長辺の中央と、ディスク基板の中心がほ
ぼ一致する移動軸線上において、ディスク基板を保持し
、移動および位置決め停止、およびディスク基板の中心
を軸として回転する手段と、スパッタを行い停止する機
能が、少なくとも必要であるが、これらを前提として本
願においては、上記移動軸線上トさせた位置を選んで回
転させつつ、スパッタを行い、（必要あれば膜厚を監視
し）所定厚分布になったところで終了させることにより
解決しようとするものである。
象とするディスク基板の外形よりは大きな長辺ＢＹと、
ディスク基板の外形ＤＯよりは小さな幅Ｂｘを持つスパ
ッタ源（膜形成材の発生源）と、スパッタ源と平行に所
定距離離れた位置（平行平面上）で相対指定するなら幅
方向と略平行で長辺の中央と、ディスク基板の中心がほ
ぼ一致する移動軸線上において、ディスク基板を保持し
、移動および位置決め停止、およびディスク基板の中心
を軸として回転する手段と、スパッタを行い停止する機
能が、少なくとも必要であるが、これらを前提として本
願においては、上記移動軸線上トさせた位置を選んで回
転させつつ、スパッタを行い、（必要あれば膜厚を監視
し）所定厚分布になったところで終了させることにより
解決しようとするものである。
く作 用〉
以上の様な手段で以上の様なプロセスを取れば、まずデ
ィスク基板を回転させることにより円周方向の膜厚分布
が均一化されること、第２にスパンから外側に到る膜厚
骨付の傾斜が最大となること、第３にスパッタ源の幅Ｂ
ｘが対象とするディスク基板の外形ＤＯに比して小さく
（Ｂｘ／Ｄｏが小）なるにつれ上記最大の傾斜が太き（
なること、第４に前記オフセット８を大きくしてゆくこ
とにより膜厚骨付の傾斜が減少する方向に分配を変化さ
せることができること、を條件選定の要素として組み合
わせると條件選定によって同じ装置でディスク基板に対
して各種の径方向の傾斜を持つ、かつ円周方向には均一
の分布を持つスパッタ膜が形成出来る。
ィスク基板を回転させることにより円周方向の膜厚分布
が均一化されること、第２にスパンから外側に到る膜厚
骨付の傾斜が最大となること、第３にスパッタ源の幅Ｂ
ｘが対象とするディスク基板の外形ＤＯに比して小さく
（Ｂｘ／Ｄｏが小）なるにつれ上記最大の傾斜が太き（
なること、第４に前記オフセット８を大きくしてゆくこ
とにより膜厚骨付の傾斜が減少する方向に分配を変化さ
せることができること、を條件選定の要素として組み合
わせると條件選定によって同じ装置でディスク基板に対
して各種の径方向の傾斜を持つ、かつ円周方向には均一
の分布を持つスパッタ膜が形成出来る。
（効 果〉
こうしてスパッタしたものを、対象装置で使用する特定
の磁気ヘッドと組合せて、均一出力特性となる磁気ディ
スクの（膜厚の傾斜）が得られる條件でスパッタするこ
とにより、目的に合った磁気ディスクが容易に再現的に
製造出来るし、製造装置側の汎用性を保つことも出来る
。
の磁気ヘッドと組合せて、均一出力特性となる磁気ディ
スクの（膜厚の傾斜）が得られる條件でスパッタするこ
とにより、目的に合った磁気ディスクが容易に再現的に
製造出来るし、製造装置側の汎用性を保つことも出来る
。
（実施例）
第１図は本発明の基本説明図、第２図は第１図の補足図
で夫々ｘｙ平面よりとＸＺ平面より見たスパッタ源１と
、ディスク２、の関係を移動ステージ３の介在下で相対
位置関係と寸法とを、直交するＸＹＺ軸を方向定義の座
標系を用いて説明するものである。
で夫々ｘｙ平面よりとＸＺ平面より見たスパッタ源１と
、ディスク２、の関係を移動ステージ３の介在下で相対
位置関係と寸法とを、直交するＸＹＺ軸を方向定義の座
標系を用いて説明するものである。
そして上記の定義下において、スパッタ源１の０）にあ
る。ディスク２を保持している移動ステージの中心、す
なわち保持されたディスク２の中心ＯｄあるいはＯｄδ
は０ｄｘ＝ （Ｘ、Ｏ，Ｏ）またＯｄδ＝（Ｘｓ−δ、
Ｏ，Ｏ）にあり、ディスク２はＯｄδあるいはＯｄｘを
中心に回転可能に構成されているし、ステージ３上で位
置を選んで停止することも出来るし、Ｚｓを変更するこ
とも、スパッタすることも可能に構成されている。
る。ディスク２を保持している移動ステージの中心、す
なわち保持されたディスク２の中心ＯｄあるいはＯｄδ
は０ｄｘ＝ （Ｘ、Ｏ，Ｏ）またＯｄδ＝（Ｘｓ−δ、
Ｏ，Ｏ）にあり、ディスク２はＯｄδあるいはＯｄｘを
中心に回転可能に構成されているし、ステージ３上で位
置を選んで停止することも出来るし、Ｚｓを変更するこ
とも、スパッタすることも可能に構成されている。
そして、円板２はステージの途中でＺｓ、δの選ばれた
位置で回転させつつスパッタを行いディスク２の半径方
向定義でＲｉ（）ラックの最内側相当）とＲｏ （）ラ
ックの最外側相当）の間で例えば層の厚みをＴサフィッ
クス付で表現するならＴｇＪ＞Ｔｗであって、例えば磁
気ディスクヘッドとの特性とＲｏ／Ｒｉの比を見て出力
特性が均一になるＴｃ ／ ＴＱＤ＝ １．５〜１．８
程度の中の所定の膜厚比を実現する條件を選んで、ＴＱ
Ｄ＝５Ｘ１０ 〜２０Ｘ１０□’ｍ程度の厚さになる様
、磁性記録膜（あるいはそのちととなる膜）をスパッタ
で形成することにより所望の磁気ディスク媒体を製造す
るわけである。
位置で回転させつつスパッタを行いディスク２の半径方
向定義でＲｉ（）ラックの最内側相当）とＲｏ （）ラ
ックの最外側相当）の間で例えば層の厚みをＴサフィッ
クス付で表現するならＴｇＪ＞Ｔｗであって、例えば磁
気ディスクヘッドとの特性とＲｏ／Ｒｉの比を見て出力
特性が均一になるＴｃ ／ ＴＱＤ＝ １．５〜１．８
程度の中の所定の膜厚比を実現する條件を選んで、ＴＱ
Ｄ＝５Ｘ１０ 〜２０Ｘ１０□’ｍ程度の厚さになる様
、磁性記録膜（あるいはそのちととなる膜）をスパッタ
で形成することにより所望の磁気ディスク媒体を製造す
るわけである。
なを第３図以下はこうして條件を選び出すにあたり條件
を支配する各パラメータの動きの特徴を説明するための
ものであり、第３図はパラメータＺＳに関するものであ
る。
を支配する各パラメータの動きの特徴を説明するための
ものであり、第３図はパラメータＺＳに関するものであ
る。
第３図と第５図に示す様にＺＳは大きくしてゆくにつれ
他は同一の條件下では付着量が拡がる分いく分低くなる
傾向と、ＴＱｏとＴｕ間の比が小さく山がなだらかにな
る傾向はあるが、第５図の様にあまりはなすと急に付着
率が少なくなるのでパラメータとしてはあまり大きく動
かせない。
他は同一の條件下では付着量が拡がる分いく分低くなる
傾向と、ＴＱｏとＴｕ間の比が小さく山がなだらかにな
る傾向はあるが、第５図の様にあまりはなすと急に付着
率が少なくなるのでパラメータとしてはあまり大きく動
かせない。
また第４図は蒸発源の幅Ｂｘ（Ｂｘｅと云っても前記に
よりあまり変わりがない）とディスクのスパッタ外径Ｄ
Ｏの比をパラメータとしたＴＱ／Ｔａｏの実験例の結果
をまとめたグラフであるが、Ｂｘ／ＤＯが小さくなるに
つれＴａ／Ｔｏｏは小さくなり膜厚の半径方向に対する
分布の傾斜が急になることがわかる。
よりあまり変わりがない）とディスクのスパッタ外径Ｄ
Ｏの比をパラメータとしたＴＱ／Ｔａｏの実験例の結果
をまとめたグラフであるが、Ｂｘ／ＤＯが小さくなるに
つれＴａ／Ｔｏｏは小さくなり膜厚の半径方向に対する
分布の傾斜が急になることがわかる。
また第６図はオフセット量δをパラメータとした付着膜
厚の分布の実験例をまとめたグラフであるが、オフセッ
ト量δを増すにつれ最大膜厚の位置がディスク２の中心
（Ｒ＝ｏ）の位置より外径の方向に移動する傾向とＴ戴
／Ｔψの値を小さい方にシストさせる傾向を併せ持つが
、Ｔ釘／Ｔｗ。
厚の分布の実験例をまとめたグラフであるが、オフセッ
ト量δを増すにつれ最大膜厚の位置がディスク２の中心
（Ｒ＝ｏ）の位置より外径の方向に移動する傾向とＴ戴
／Ｔψの値を小さい方にシストさせる傾向を併せ持つが
、Ｔ釘／Ｔｗ。
の値を変化させるパラメータとしでは先の第４図で示し
たＢ ｘ ／ Ｄ ｏよりもシャープであり、主として
この二つのパラメータの両方又は一方を摂動パラメータ
として條件をさがすことにより、装置としては同じスパ
ッタ装置で所望の内外径膜厚を持った（内外径で、ヘッ
ド検出感度を均一化した）磁気ディスクを製造すること
が出来る。また第７図はこれらを組合せて無次元化した
條件を見付けやすくまとめたものである。
たＢ ｘ ／ Ｄ ｏよりもシャープであり、主として
この二つのパラメータの両方又は一方を摂動パラメータ
として條件をさがすことにより、装置としては同じスパ
ッタ装置で所望の内外径膜厚を持った（内外径で、ヘッ
ド検出感度を均一化した）磁気ディスクを製造すること
が出来る。また第７図はこれらを組合せて無次元化した
條件を見付けやすくまとめたものである。
またこの方法では所定の範囲内であれば條件をることが
出来るので同一の製造装置で仕様の異る磁気ディスクを
再現仕度 製造するとことも、ヘッドや、ヘッドアンプ
の周波数特性に応じて膜厚比で感度バランスを微調する
ことも出来る。
出来るので同一の製造装置で仕様の異る磁気ディスクを
再現仕度 製造するとことも、ヘッドや、ヘッドアンプ
の周波数特性に応じて膜厚比で感度バランスを微調する
ことも出来る。
なを本実施例でのＹ方向のディメンジョンＤＯ／Ｂｙの
関係は１３ｙ＞＞Ｄｏとして２次元で説明しているがＢ
ｙ≧Ｄｏであれば第４図の山の傾斜が多少きつくなるだ
けで同じ様にして、せつ動用のデータを実験して定め直
しさえすれば再現條件は満たすので実用出来る。
関係は１３ｙ＞＞Ｄｏとして２次元で説明しているがＢ
ｙ≧Ｄｏであれば第４図の山の傾斜が多少きつくなるだ
けで同じ様にして、せつ動用のデータを実験して定め直
しさえすれば再現條件は満たすので実用出来る。
く効 果）
以上説明した如く本発明によれば支配的なパラメータδ
や、Ｂ ｘ ／ Ｄ ｏを選ぶことにより磁気ディスク
の径方向の膜厚比をスパッタによる製造においても再現
的に動かすことが出来るので磁気ディスク装置、あるい
は使用ヘッドの條件に合わせて内外径部分をアクセスす
る場合の感度差を膜厚で補償することがスパッタディス
クにおいても容易に実現出来る様になると云う効果を有
するので、アクセスによってゲインが変わらず径方向に
も均−で分解能にすぐれたスパッタディスク装置を効率
よ（安価に提供することが出来ると云う効果を有する。
や、Ｂ ｘ ／ Ｄ ｏを選ぶことにより磁気ディスク
の径方向の膜厚比をスパッタによる製造においても再現
的に動かすことが出来るので磁気ディスク装置、あるい
は使用ヘッドの條件に合わせて内外径部分をアクセスす
る場合の感度差を膜厚で補償することがスパッタディス
クにおいても容易に実現出来る様になると云う効果を有
するので、アクセスによってゲインが変わらず径方向に
も均−で分解能にすぐれたスパッタディスク装置を効率
よ（安価に提供することが出来ると云う効果を有する。
第１図は本発明の基本構成を兼ねる一実施例の説明図、
第２図は第１図の補足図、第３図、第４図、第５図、第
６図、第７図は本発明の一実施例の補足説明図でスパッ
タにおける膜厚の径方向分布を支配する摂動パラメータ
に関する説明図を示す。 また図中の１はスパッタ源、２はデ・イスク、３は移動
ステージを示す。 ’ｌ−を図 第３図 茅２ 図 Ｒ（ａｎｔ） 茅４．田 ｚｓ 茅５Ｉ２１５メ／ｌｙａ
第２図は第１図の補足図、第３図、第４図、第５図、第
６図、第７図は本発明の一実施例の補足説明図でスパッ
タにおける膜厚の径方向分布を支配する摂動パラメータ
に関する説明図を示す。 また図中の１はスパッタ源、２はデ・イスク、３は移動
ステージを示す。 ’ｌ−を図 第３図 茅２ 図 Ｒ（ａｎｔ） 茅４．田 ｚｓ 茅５Ｉ２１５メ／ｌｙａ
Claims (1)
- 帯状の幅Ｂｘを持つスパッタ源と、該スパッタ源よりＸ
方向とＺ方向に関して所定間隔離れた位置にディスク基
板を保持し、Ｘ方向に移動し、軸中心に回転させる手段
を有し、上記スパッタ源とディスク基板の相対関係を制
御しつつスパッタを行う磁気ディスクの製造法において
、上記スパッタ源の幅Ｂｘを上記ディスク基板の外径よ
り小さく設定するとともに、上記ディスク基板の中心を
、上記スパッタ源の幅の中心よりＸ方向に所定量オフセ
ットさせた位置で、上記ディスク基板を回転させつつス
パッタを行うことを特徴とする磁気ディスクの製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4582185A JPS61222031A (ja) | 1985-03-08 | 1985-03-08 | 磁気デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4582185A JPS61222031A (ja) | 1985-03-08 | 1985-03-08 | 磁気デイスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61222031A true JPS61222031A (ja) | 1986-10-02 |
| JPH0330925B2 JPH0330925B2 (ja) | 1991-05-01 |
Family
ID=12729912
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4582185A Granted JPS61222031A (ja) | 1985-03-08 | 1985-03-08 | 磁気デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61222031A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0325718A (ja) * | 1989-06-23 | 1991-02-04 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5862829A (ja) * | 1981-10-08 | 1983-04-14 | Nec Corp | 磁気記録体及びその製造方法 |
-
1985
- 1985-03-08 JP JP4582185A patent/JPS61222031A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5862829A (ja) * | 1981-10-08 | 1983-04-14 | Nec Corp | 磁気記録体及びその製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0325718A (ja) * | 1989-06-23 | 1991-02-04 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0330925B2 (ja) | 1991-05-01 |
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