JPS61225568A - 空気分離装置 - Google Patents
空気分離装置Info
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- JPS61225568A JPS61225568A JP60063534A JP6353485A JPS61225568A JP S61225568 A JPS61225568 A JP S61225568A JP 60063534 A JP60063534 A JP 60063534A JP 6353485 A JP6353485 A JP 6353485A JP S61225568 A JPS61225568 A JP S61225568A
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- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J3/00—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification
- F25J3/02—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream
- F25J3/04—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream for air
- F25J3/044—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream for air using a single pressure main column system only
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- F25J3/04151—Purification and (pre-)cooling of the feed air; recuperative heat-exchange with product streams
- F25J3/04163—Hot end purification of the feed air
-
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- F25J2215/00—Processes characterised by the type or other details of the product stream
- F25J2215/42—Nitrogen or special cases, e.g. multiple or low purity N2
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- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Separation By Low-Temperature Treatments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、空気から窒素等の製品ガスを分離する空気分
離装置に関する。
離装置に関する。
一般に、空気分離装置は、原料空気を圧縮機にて圧縮昇
圧させ、この圧縮熱により高温となった原料空気をアフ
タークーラーにて冷却し、次いで原料空気中の水分（Ｈ
２Ｏ）および二酸化炭素（ＣＯ，）を吸着塔によって吸
着除去し、Ｈ２ＯおよびＣ０２除去後の原料空気を熱交
換器を介して精留培に併給して製品ガス（窒素あるいは
酸素）を精留分離している。このような空気分離装置は
１例えば特開昭５６−９７７７２号、特開昭５５−４９
６８１号、特開昭５５−３８４２３号、特開昭５４−１
５２６６７号、特開昭５４−８４８８８号に開示される
。
圧させ、この圧縮熱により高温となった原料空気をアフ
タークーラーにて冷却し、次いで原料空気中の水分（Ｈ
２Ｏ）および二酸化炭素（ＣＯ，）を吸着塔によって吸
着除去し、Ｈ２ＯおよびＣ０２除去後の原料空気を熱交
換器を介して精留培に併給して製品ガス（窒素あるいは
酸素）を精留分離している。このような空気分離装置は
１例えば特開昭５６−９７７７２号、特開昭５５−４９
６８１号、特開昭５５−３８４２３号、特開昭５４−１
５２６６７号、特開昭５４−８４８８８号に開示される
。
ところで、半導体製造プロセス等では、大量の窒素が使
用されているが、ここで使用される窒素は、非常に高純
度のものが要求される。特に、窒素中に一酸化炭素、水
素が含まれることは、半導体の性能劣化１品質不良の原
因となり好ましくない。深冷分離により製造された窒素
ガス中には、窒素と同程度の沸点を有するか、それより
低い沸点を有する物質が混入している。この様な物質と
しては、ヘリウム、ネオン、水素、アルゴン、−酸化炭
素が挙げられる。一方、炭化水素、塩素。
用されているが、ここで使用される窒素は、非常に高純
度のものが要求される。特に、窒素中に一酸化炭素、水
素が含まれることは、半導体の性能劣化１品質不良の原
因となり好ましくない。深冷分離により製造された窒素
ガス中には、窒素と同程度の沸点を有するか、それより
低い沸点を有する物質が混入している。この様な物質と
しては、ヘリウム、ネオン、水素、アルゴン、−酸化炭
素が挙げられる。一方、炭化水素、塩素。
二酸化炭素、水分等は、窒素より沸点が高いため。
窒素中にはほとんど含まれない、従って、半導体製造プ
ロセスに使用する窒素を深冷分離による空気分画法で製
造する場合には、水素および一酸化炭素を如何に除去す
るかが問題となる。この様な背景のもとで、従来は、窒
素ガス中に含まれる水素、−酸化炭素を除去する精製装
置が使用されていた。以下、従来の精製装置の構成につ
いて概略説明する。ｆｆ１４図に従来の水素および一酸
化炭素の除去装置の系統図を示す。
ロセスに使用する窒素を深冷分離による空気分画法で製
造する場合には、水素および一酸化炭素を如何に除去す
るかが問題となる。この様な背景のもとで、従来は、窒
素ガス中に含まれる水素、−酸化炭素を除去する精製装
置が使用されていた。以下、従来の精製装置の構成につ
いて概略説明する。ｆｆ１４図に従来の水素および一酸
化炭素の除去装置の系統図を示す。
導管４１から供給される水素、−酸化炭素を含む窒素ガ
スに対して、導管４２を通して、燃焼用の酸素ガスが添
加される。添加する酸素ガスの量は。
スに対して、導管４２を通して、燃焼用の酸素ガスが添
加される。添加する酸素ガスの量は。
水素と一酸化炭素を燃焼するに必要な量より、多少要目
とし、未燃の水素、−酸化炭素が残存しない様にする。
とし、未燃の水素、−酸化炭素が残存しない様にする。
次に、この混合ガスは、電気ヒータ５１により、９０〜
１２０℃程度まで昇温した後、燃焼触媒を充填した触媒
槽５２に供給される。こｎは、水素は室温でも酸素と反
応燃焼するが、−酸化炭素の燃焼開始には前記の温度ま
で昇温する必要があるためである。触媒槽５２の中で、
水素は酸素と反応して水分に、−酸化炭素は酸素と反応
して二酸化炭素となる。未反応の加剰に加えられた酸素
は１次に設けらｎた酸素吸収触媒〔例えばＣｕ）を充填
した触媒槽郭により反応吸収され、窒素ガス中から除去
さｎる。次いで、導管柘を介して冷却器必に辱びかれ、
ここで室ｎｔで冷却さｎる。冷却された窒素ガスは導管
４７を介して吸着塔団に供給され、ここに充填されてい
る吸着剤により、水分と炭酸カスが除去される。通常、
酸素吸収触媒１ｆ１５２と吸着塔団は、夫々２基設置さ
れ、切替使用される。すなわち、一方が吸収または吸着
動作中に他方はその機能を再生させ、二〇らを切替える
ことによって連続して吸収または吸着動作を行わせる。
１２０℃程度まで昇温した後、燃焼触媒を充填した触媒
槽５２に供給される。こｎは、水素は室温でも酸素と反
応燃焼するが、−酸化炭素の燃焼開始には前記の温度ま
で昇温する必要があるためである。触媒槽５２の中で、
水素は酸素と反応して水分に、−酸化炭素は酸素と反応
して二酸化炭素となる。未反応の加剰に加えられた酸素
は１次に設けらｎた酸素吸収触媒〔例えばＣｕ）を充填
した触媒槽郭により反応吸収され、窒素ガス中から除去
さｎる。次いで、導管柘を介して冷却器必に辱びかれ、
ここで室ｎｔで冷却さｎる。冷却された窒素ガスは導管
４７を介して吸着塔団に供給され、ここに充填されてい
る吸着剤により、水分と炭酸カスが除去される。通常、
酸素吸収触媒１ｆ１５２と吸着塔団は、夫々２基設置さ
れ、切替使用される。すなわち、一方が吸収または吸着
動作中に他方はその機能を再生させ、二〇らを切替える
ことによって連続して吸収または吸着動作を行わせる。
このような精製装置を付加することによって、左党分離
装置で製造された窒素を精製し、窒素中から一酸化炭素
、水素を除去することができる。
装置で製造された窒素を精製し、窒素中から一酸化炭素
、水素を除去することができる。
しかし、こｎでは’ＡＭ全体が複雑化すると共に、高純
度の酸素の使用９ｗＩカエネルギーの消費等による運転
費のコストアップとなる。
度の酸素の使用９ｗＩカエネルギーの消費等による運転
費のコストアップとなる。
本発明の目的は１分離ガス中に一酸化炭素、水素を含ま
ない空気分離ＩＩＮを提供することである・〔発明の概
要〕 未発明は、原料空気を圧縮する圧縮機と、圧縮された原
料空気中の可燃成分（−酸化炭素、水素等）と酸素とを
反応させる触媒槽と、この触媒槽で反応後の原料空気中
の水分および二酸化炭素を吸着除去する吸着塔と、この
吸着塔を経た原料空気から製品ガスを精留分離する装置
大体とを有することを特徴とする。
ない空気分離ＩＩＮを提供することである・〔発明の概
要〕 未発明は、原料空気を圧縮する圧縮機と、圧縮された原
料空気中の可燃成分（−酸化炭素、水素等）と酸素とを
反応させる触媒槽と、この触媒槽で反応後の原料空気中
の水分および二酸化炭素を吸着除去する吸着塔と、この
吸着塔を経た原料空気から製品ガスを精留分離する装置
大体とを有することを特徴とする。
以下、！５＠明を実施例により説明する。第１図は本発
明の一実施例を示すフローシート図である。
明の一実施例を示すフローシート図である。
第１図において、フィルター１は原料となる空気中のち
り等を除去する。空気圧縮機２はフィルター１通過後の
原料空気を圧縮（昇圧）する。触媒槽３には、白金やパ
ラジウム等の触媒が充填されており、ここで空気中の可
燃成分が燃焼される。
り等を除去する。空気圧縮機２はフィルター１通過後の
原料空気を圧縮（昇圧）する。触媒槽３には、白金やパ
ラジウム等の触媒が充填されており、ここで空気中の可
燃成分が燃焼される。
冷却器４は原料空気を冷却する。吸着塔５には、水分お
よび二酸化炭素を吸着する吸着剤が充填さｎており、こ
こで原料空気中の水分および二酸化炭素を吸着除去する
。１００は深冷分離部であり、６．７等で構成される。
よび二酸化炭素を吸着する吸着剤が充填さｎており、こ
こで原料空気中の水分および二酸化炭素を吸着除去する
。１００は深冷分離部であり、６．７等で構成される。
熱交換器６は、原料空気な精留塔からの戻りガスの寒冷
によって深冷温度まで低下させる。精留塔７は、熱交換
器６によって低温となった原料空気の供給を受け、製品
ガス（この例では、窒素のみ）を精留分離する。ここで
の廃ガスおよび製品ガスは、熱交換器６の戻りガスとな
る。８は精留塔上部の凝縮器、１１〜２３は導管、３１
は膨張弁、３２〜３９は吸着塔５の切替弁である。
によって深冷温度まで低下させる。精留塔７は、熱交換
器６によって低温となった原料空気の供給を受け、製品
ガス（この例では、窒素のみ）を精留分離する。ここで
の廃ガスおよび製品ガスは、熱交換器６の戻りガスとな
る。８は精留塔上部の凝縮器、１１〜２３は導管、３１
は膨張弁、３２〜３９は吸着塔５の切替弁である。
水素、−酸化炭素等を燃焼させる燃焼触媒を充填した触
媒槽３は、空気圧縮機２の出口と、冷却器４の中間に設
けられている。こｎは、圧縮熱により空気の温度が９０
〜１２０ ’Ｃに上昇していムことを利用して触媒槽３
における反応を起こさせろためである。空気中の水素、
−酸化炭素は空気中に大過剰に存在する酸素と燃焼触媒
のもとで反応する。反応生成物は、水分および二酸化炭
素である。
媒槽３は、空気圧縮機２の出口と、冷却器４の中間に設
けられている。こｎは、圧縮熱により空気の温度が９０
〜１２０ ’Ｃに上昇していムことを利用して触媒槽３
における反応を起こさせろためである。空気中の水素、
−酸化炭素は空気中に大過剰に存在する酸素と燃焼触媒
のもとで反応する。反応生成物は、水分および二酸化炭
素である。
酸素２１％に対して、水素、−酸化炭素の濃度は高々数
十ｐｐｍ８度であり、未反応の水素、−酸化炭素が残存
する可能性は非常に希である。反応による生成熱もわず
かＴあり、温度上昇は高々数層Ｃなので、加熱防止等の
考慮は必要でない。水素、−酸化炭素等が燃焼除去され
た空気は、導管】３を通って冷却器４に導びかれる。冷
却器で水により室温まで冷却された後、導Ｉｒｆ！１４
により、吸着塔５に導びかｎる。吸着塔は通常２基かそ
れ以上設けられ、一方を再生しながら、交互に切替えら
ｎて使用される。吸着塔５には水分、炭酸ガスを吸着除
去する吸着剤が充填されているので、吸着塔出口の空気
中には水分、二酸化炭素はほとんど含まｎない。吸着塔
５を出た空気は、熱交換器６゜精留塔７等で構成さｎる
深冷分離部１００ に導びかれろつまず、導管巧によ
り原料空気は熱交換器６に導入される。原料空気は、こ
こで窒素ガス、廃ガスと熱交換し冷却される。更にこの
空気は、精留塔７の底部に導管１６を通して供給される
。ここで、原料空気は塔内に多数設けられている精留皿
上の液体と気液接触し、精留分離さｎる。この結果、精
留塔７の底部Ｉこは酸素濃度の高い液体空気が溜まる。
十ｐｐｍ８度であり、未反応の水素、−酸化炭素が残存
する可能性は非常に希である。反応による生成熱もわず
かＴあり、温度上昇は高々数層Ｃなので、加熱防止等の
考慮は必要でない。水素、−酸化炭素等が燃焼除去され
た空気は、導管】３を通って冷却器４に導びかれる。冷
却器で水により室温まで冷却された後、導Ｉｒｆ！１４
により、吸着塔５に導びかｎる。吸着塔は通常２基かそ
れ以上設けられ、一方を再生しながら、交互に切替えら
ｎて使用される。吸着塔５には水分、炭酸ガスを吸着除
去する吸着剤が充填されているので、吸着塔出口の空気
中には水分、二酸化炭素はほとんど含まｎない。吸着塔
５を出た空気は、熱交換器６゜精留塔７等で構成さｎる
深冷分離部１００ に導びかれろつまず、導管巧によ
り原料空気は熱交換器６に導入される。原料空気は、こ
こで窒素ガス、廃ガスと熱交換し冷却される。更にこの
空気は、精留塔７の底部に導管１６を通して供給される
。ここで、原料空気は塔内に多数設けられている精留皿
上の液体と気液接触し、精留分離さｎる。この結果、精
留塔７の底部Ｉこは酸素濃度の高い液体空気が溜まる。
一方窒素ガスは、精留塔上部の導管１７を通して精留塔
より抜出され、空気熱交換器６の内部で温度回復して、
製品窒素ガスとして導管１８を通して送出さ几る。この
場合、精留操作「でＣＯ，Ｈ２を除去しており、製品窒
素ガス中に一酸化炭素、水素は含まれない。なお、この
例では、精留塔７は、窒素のみを製造する単式精留塔と
したが、これは酸素ガスを同時に採取する複式精留塔で
あってもかまわない。一方液体空気は導管１９を通して
精留塔から抜出され、途中膨張弁３１で脱圧さｎ、所謂
ジュール・トムソン効果により、進度降下した後、凝縮
器８の冷熱源として凝縮器に供給さｎ、ここで蒸発した
後、導管２１． ？！気熟熱交換器６通して常温まで温
度回復し、吸着塔５の再生ガスとして使用され、大気中
に導管ｎを通して放出される。
より抜出され、空気熱交換器６の内部で温度回復して、
製品窒素ガスとして導管１８を通して送出さ几る。この
場合、精留操作「でＣＯ，Ｈ２を除去しており、製品窒
素ガス中に一酸化炭素、水素は含まれない。なお、この
例では、精留塔７は、窒素のみを製造する単式精留塔と
したが、これは酸素ガスを同時に採取する複式精留塔で
あってもかまわない。一方液体空気は導管１９を通して
精留塔から抜出され、途中膨張弁３１で脱圧さｎ、所謂
ジュール・トムソン効果により、進度降下した後、凝縮
器８の冷熱源として凝縮器に供給さｎ、ここで蒸発した
後、導管２１． ？！気熟熱交換器６通して常温まで温
度回復し、吸着塔５の再生ガスとして使用され、大気中
に導管ｎを通して放出される。
上述した実施例では、圧縮熱を利用しているので、水素
、−酸化炭素を燃焼温度まで昇温するヒーターが不用と
なっている。又、深冷方式の空気分離装Σと組合せであ
るので、窒素ガスより沸点の低い炭化水素類も除去でき
る等の効果を同時に得ることが出来る。
、−酸化炭素を燃焼温度まで昇温するヒーターが不用と
なっている。又、深冷方式の空気分離装Σと組合せであ
るので、窒素ガスより沸点の低い炭化水素類も除去でき
る等の効果を同時に得ることが出来る。
第２図は、空気の圧縮熱が十分でない場合の本発明の他
の実施例である。圧縮機２と触媒槽３の間に加熱器９を
設けて、水素および一酸化炭素の燃焼に適当な温ｆｆ才
で、加熱器で昇温しでいる。
の実施例である。圧縮機２と触媒槽３の間に加熱器９を
設けて、水素および一酸化炭素の燃焼に適当な温ｆｆ才
で、加熱器で昇温しでいる。
加熱器の熱源としては、電気、蒸気、燃焼ガスなどが挙
げられる。水素、−酸化炭素等を除去した後の系統は第
１図の場合と同様であり、ｉ明は省略する。
げられる。水素、−酸化炭素等を除去した後の系統は第
１図の場合と同様であり、ｉ明は省略する。
ＩＥ３図は、圧縮空気が冷却器４を通ってから。
水素、−酸化炭素を除去する場合の本発明の他の実施例
である。この様な例は、圧縮空気が空気分離以外の用途
にも使用される場合に多畷見られ、圧縮空気源が別に股
画されている場合などである。
である。この様な例は、圧縮空気が空気分離以外の用途
にも使用される場合に多畷見られ、圧縮空気源が別に股
画されている場合などである。
冷却器４によりて常温まで冷却された圧縮空気は、熱交
換器１０内で、戻りの水素、−酸化炭素を除去された温
度の高い圧縮空気と熱交換して温度上昇する。更に加熱
器により昇温さｎてから、触媒槽３内で水素、−酸化炭
素が燃焼除去さｎ、熱交換器１０内で、常温まで冷却さ
れる。大側は処理空気量の多い場合に、熱交換器によっ
て熱回収しているので、加熱器の容量を小さくできて有
利である。
換器１０内で、戻りの水素、−酸化炭素を除去された温
度の高い圧縮空気と熱交換して温度上昇する。更に加熱
器により昇温さｎてから、触媒槽３内で水素、−酸化炭
素が燃焼除去さｎ、熱交換器１０内で、常温まで冷却さ
れる。大側は処理空気量の多い場合に、熱交換器によっ
て熱回収しているので、加熱器の容量を小さくできて有
利である。
小型のものでは、第３図における機器の圧縮空気に対す
る設置の順番を冷却器４．加熱器９．触媒槽３とし、こ
の後に更に冷却器４を設けた方が装置として簡単になる
。第３例でも、水素、−酸化炭素除去後の系統は、第１
例と同じなので説明を省略する。
る設置の順番を冷却器４．加熱器９．触媒槽３とし、こ
の後に更に冷却器４を設けた方が装置として簡単になる
。第３例でも、水素、−酸化炭素除去後の系統は、第１
例と同じなので説明を省略する。
以上説明したように、未発明にょｎば１分離ガス中に水
素および一酸化炭素を含まない空気分離装置を提供する
ことが出来る。
素および一酸化炭素を含まない空気分離装置を提供する
ことが出来る。
第１図〜第３図は、夫々未発明の実施例を示す系統図で
あり、第２図は従来の窒素精製装置の一例を示す系統図
である。 １・・・・・・フィルター、２・・・・・・空気圧縮機
、３・・・・・・触媒槽、４・・１．・・冷却器、５・
・・・・・吸着塔、６・・間熱交換器、７・・・・・・
精留塔、８・・・・・・凝縮器、１１〜２３・・・・・
・導管、３１・・・・・・膨張弁 才１図 牙２ 図 第４図 手続補正書（方式） 事件の表示 昭和 ６０年特許願第 ６３５３４ 号発・明の名称 空気分離装置 補正をする者 手性との関係 特許出願人 名 称 □５１０）株式会社 日 立 製作
折代 理 人 Ｈ１！ＭＪ＠、の凹面の簡単な説明の彎補正の内容
あり、第２図は従来の窒素精製装置の一例を示す系統図
である。 １・・・・・・フィルター、２・・・・・・空気圧縮機
、３・・・・・・触媒槽、４・・１．・・冷却器、５・
・・・・・吸着塔、６・・間熱交換器、７・・・・・・
精留塔、８・・・・・・凝縮器、１１〜２３・・・・・
・導管、３１・・・・・・膨張弁 才１図 牙２ 図 第４図 手続補正書（方式） 事件の表示 昭和 ６０年特許願第 ６３５３４ 号発・明の名称 空気分離装置 補正をする者 手性との関係 特許出願人 名 称 □５１０）株式会社 日 立 製作
折代 理 人 Ｈ１！ＭＪ＠、の凹面の簡単な説明の彎補正の内容
Claims (1)
- １、原料空気を圧縮する圧縮機と、該圧縮された原料空
気中の可燃成分と酸素とを反応させる触媒槽と、該触媒
槽で反応後の原料空気中の水分および二酸化炭素を吸着
除去する吸着塔と、該吸着塔を経た原料空気から製品ガ
スを精留分離する装置本体とを有することを特徴とする
空気分離装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60063534A JPS61225568A (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | 空気分離装置 |
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Citations (2)
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Patent Citations (2)
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| JPS5649319A (en) * | 1972-07-31 | 1981-05-02 | Lilly Co Eli | Animal medicine composition |
| JPS5243478A (en) * | 1975-10-01 | 1977-04-05 | Ibm | Sample retainer for spectrophotometer |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0295410A (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-06 | Hitachi Ltd | 二層充填式一酸化炭素の除去方法及び装置 |
| JPH02307506A (ja) * | 1989-05-22 | 1990-12-20 | Teisan Kk | 窒素製造装置用原料空気の精製装置 |
| JPH0576759A (ja) * | 1991-09-20 | 1993-03-30 | Hitachi Ltd | 耐被毒性触媒とその製法および該触媒の使用方法 |
| US5359857A (en) * | 1992-05-08 | 1994-11-01 | Nippon Sanso Corporation | Installation for air liquefaction separation and process therefor |
| WO1994024501A1 (fr) * | 1993-04-22 | 1994-10-27 | Nippon Sanso Corporation | Procede et appareil de fabrication de divers types de gaz destines a alimenter des usines de fabrication de semi-conducteurs |
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