JPS612324A - 保持装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、保持技術、特に、板状の被保持物を保持する
技術に関し、例えば、半導体装置の製造において、露光
装置によりパターンを焼付ける際にホトマスクやウェハ
等を保持するのに使用して有効な技術に関する。

〔背景技術〕

半導体装置の製造において、露光装置を使用してガラス
基板上にマスクパターンを焼付ける際、ホトマスクの原
板であるガラス基板を保持する装置として、ホルダに載
せられたガラス基板をホルダの上面に開設された吸引口
により吸着して保持するようにした保持装置、が考えら
れる。

しかし、かかる保持装置においては、表面に塗布された
レジストがガラス基板の周辺部から裏面に回り込んでい
ると、ガラス基板とホルダとの間にレジストの裏面周辺
凸部が挟まれた状態になるため、吸着によりガラス基板
に中央部が窪んだ反り返りが発生してしまうという問題
点があることが、本発明者により明らかにされた。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、吸着による被保持物の反り返り変形を
防止することができる保持技術を提供することにある。

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。

〔発明の概要〕

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。

すなわち、ホルダの吸着面に被保持物の周辺部を逃げる
逃げ部を設けることにより、被保持物の裏面周辺部に凸
部が形成されていた場合、その凸部との接触を回避して
吸着による反り返りの発生を防止するようにしたもので
ある。

〔実施例〕

第１図は本発明の一実施例である保持装置を示す平面図
、第２図はその縦断面図である。

本実施例において、この保持装置は略正方形の平盤形状
に形成されたホルダ１を備えており、ホルダ１の上面に
は、吸引口２が正方形の環状溝状に同心的に配されて開
設されている。吸引口２の溝底には吸引路３が接続され
ており、吸引路３は真空ポンプ等の適当な負圧供給手段
（図示せず）に接続されている。

ホルダ１の上面における周辺部には、逃げ部としての斜
面部４が外下がりに傾斜するように吸引口２と略同心的
な環帯状に形成されており、ホルダ１の上面において斜
面部４に囲まれた中央部は、略円形の平面となって吸着
面部５を形成している。

吸着面部５の面積は、ホトマスクの原板である被保持物
としてのガラス基板６を吸着により変形することなく確
実に保持し得るように設定されている。斜面部４は、ガ
ラス基板６の裏面の周辺部を適当な高さ逃げるように、
がっ、可及的に緩やがな傾斜を持つように設定されてい
る。なお、斜面部４と吸着面部５とが交わる肩部分には
アールを設けることが望ましい。

次に作用を説明する。

例えば、露光装置によってホトマスクの原板であるガラ
ス基板６にパターンを焼付ける際にガラス基板６を露光
光源に対して位置決めする場合、表面にレジスト７を塗
布されたガラス基板６が、ホルダ１上に略同心的に配さ
れて載せられる。吸引路３を通じて吸引口２が吸引され
ると、ガラス基板６はその裏面においてホルダ１の上面
に吸着されることによりホルダ１に固定的に保持される
ことになる。

ところで、ガラス基板６を高速回転させてガラス基板の
表面にレジスト液を滴下して、ガラス基板６の表面にレ
ジスト７を塗布すると、ガラス基板６の裏面周辺部まで
レジストが廻り込んで、裏面周辺部に凸部８を形成して
しまう事態が考えられる。

そして、裏面周辺部にレジストの凸部８を形成したガラ
ス基板６がホルダ１の上面に吸着されると、凸部８がホ
ルダ１の上面とガラス基板６の裏面との間に挟まること
により、中央部においてホルダ１とガラス基板６との間
に隙間が形成されるため、この隙間骨、ガラス基Ｆｉ６
には吸引により反り返りが発生してしまうことになる。

ガラス基板６が反ったままマスクパターンの焼付が行わ
れると、パターンに誤差が発生するため、半導体装置の
製造において、多層パターンの不整合の原因となる。

しかし、前記構成にかかる保持装置においては、ホルダ
１の上面における周辺部に斜面部４が形成されているた
め、ガラス基板６の反り返りの発生は回避される。すな
わち、ガラス基板６の裏面周辺部に形成された凸部８は
、ホルダ１の斜面部４に対向するため、ホルダ１の上面
から離間することになり、ガラス基板６とホルダ１との
間に挟まれることはなく、中央部においてガラス基板６
とホルダ１との間には隙間が発生することはない。

したがって、ガラス基板６はホルダ１の中央部における
吸着面部５において平坦のまま吸着されるため、反り返
りは発生しないことになる。

ガラス基板６がホルダ１の吸着面部７において吸着され
るとき、吸着面部７と斜面部４とが交わる肩部分におい
て、ガラス基板６の裏面にはホルダ１との接触面と非接
触面とによる境界線が形成されるため、吸着力によって
その境界線の痕跡がガラス基板６の裏面に刻印される危
惧がある。しかし、斜面部４の傾斜が緩やかであるため
、境界線の痕跡の刻印は防止されることになる。吸着面
部７と斜面部４との肩部分にアールを形成しておけば、
痕跡の予防は一層確実になる。

〔効果〕

（１）ホルダの吸着面における周辺部に被保持物の周辺
部を逃げる逃げ部を形成することにより、中央部におい
て被保持物とホルダとの間に隙間が発生することを回避
することができるため、吸着による被保持物の反り返り
の発生を防止することができる。

（２）被保持物の反り返りの発生を防止することができ
るため、半導体装置の製造において、ガラス基板にマス
クパターンを焼付ける場合、パターンの焼付誤差の発生
を防止することができ、多層パターンの重ね合わせ露光
における各パターン間の不整合の一原因を解消すること
ができる。

（３）被保持物の周辺部の逃げ部を傾斜の緩やかな斜面
部によって構成することにより、被保持物の裏面の一部
を吸着して保持するのにもがかわらず、被保持物の裏面
に吸着の痕跡が刻印されることを防止することができる
。

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。

例えば、被保持物の周辺部を逃げる逃げ部は、斜面部に
限らず、ホルダの吸着面の周辺部に形成された環状溝等
から構成してもよい。

〔利用分野〕

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるホトマスクの原板と
なるガラス基板を保持するのに適用した場合について説
明したが、それに限定されるものではなく、半導体装置
の製造において、ウェハを保持する保持装置としても適
用することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例である保持装置を示す平面図
、 第２図はその縦断面図である。 １・・・ホルダ、２・・・吸引口、３・・・吸引路、４
・・・斜面部、５・・・吸着面部、６・・・ガラス基板
（被保持物）、７・・・レジスト、８・・・裏面周辺凸
部。 代理人　弁理士　　　高　橋　明　失 策　　１　　図 ヂ 第　　２　　因

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、板状の被保持物を吸引口により吸着して保持するホ
   ルダの吸着面に被保持物の周辺部を逃げる逃げ部が形成
   されている保持装置。 ２、逃げ部が、ホルダの周辺に向かって傾斜する斜面部
   であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の保
   持装置。 ３、斜面部の傾斜が、緩やかに設定されていることを特
   徴とする特許請求の範囲第２項記載の保持装置。