JPS61233499A - 基準電圧発生回路及びその制御方法 - Google Patents
基準電圧発生回路及びその制御方法Info
- Publication number
- JPS61233499A JPS61233499A JP60299716A JP29971685A JPS61233499A JP S61233499 A JPS61233499 A JP S61233499A JP 60299716 A JP60299716 A JP 60299716A JP 29971685 A JP29971685 A JP 29971685A JP S61233499 A JPS61233499 A JP S61233499A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reference voltage
- lead
- voltage generator
- transistor
- generation circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 5
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 2
- 238000009877 rendering Methods 0.000 claims 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims 1
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 5
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- WABPQHHGFIMREM-VENIDDJXSA-N lead-201 Chemical compound [201Pb] WABPQHHGFIMREM-VENIDDJXSA-N 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C17/00—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
- G11C17/08—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements
- G11C17/10—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements in which contents are determined during manufacturing by a predetermined arrangement of coupling elements, e.g. mask-programmable ROM
- G11C17/12—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements in which contents are determined during manufacturing by a predetermined arrangement of coupling elements, e.g. mask-programmable ROM using field-effect devices
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
- G11C5/14—Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
- G11C5/147—Voltage reference generators, voltage or current regulators; Internally lowered supply levels; Compensation for voltage drops
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/12—Bit line control circuits, e.g. drivers, boosters, pull-up circuits, pull-down circuits, precharging circuits, equalising circuits, for bit lines
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
- Control Of Electrical Variables (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は基準電圧発生回路に関し、特にリードオンリー
メモリ(ROM>等のMOSメモリ装置、イレーザブル
・プログラマブル・リード・オンリー・メモリ(EPR
OM)その他のMOSデバイスのための基準電圧発生回
路に関する。
メモリ(ROM>等のMOSメモリ装置、イレーザブル
・プログラマブル・リード・オンリー・メモリ(EPR
OM)その他のMOSデバイスのための基準電圧発生回
路に関する。
〈従来の技術)
良く知られているように、ROMは、情報を変更不能に
記憶するためのデバイスである。一般のROMは、情報
を記憶するための複数のアドレス及び記憶された情報を
呼出すべきアドレスを選択するための複数のアドレスラ
インを有する。このようなROMの一部が第1図に図式
的に示されている。
記憶するためのデバイスである。一般のROMは、情報
を記憶するための複数のアドレス及び記憶された情報を
呼出すべきアドレスを選択するための複数のアドレスラ
インを有する。このようなROMの一部が第1図に図式
的に示されている。
第1図に於て、従来技術に基づ<ROMはビットライン
12とグラウンドとの間に接続されたNチャンネル、即
ちNMOSトランジスタ10を有する。図面中、トラン
ジスタに付された文字は、それがPチャンネル(8MO
8)トランジスタであるか、またはNチャンネル(NM
O3> トランジスタであるかを現わしている。NMO
3トランジスタ10は、ワードライン16に接続された
ゲートリード14を有する。
12とグラウンドとの間に接続されたNチャンネル、即
ちNMOSトランジスタ10を有する。図面中、トラン
ジスタに付された文字は、それがPチャンネル(8MO
8)トランジスタであるか、またはNチャンネル(NM
O3> トランジスタであるかを現わしている。NMO
3トランジスタ10は、ワードライン16に接続された
ゲートリード14を有する。
製造に際して、NMOSトランジスタ10にバイナリ1
を記憶するかまたはバイナリOを記憶するかに応じて閾
電圧値を5V以上に高めるべくチャンネルをドープする
ことにより、NMOSトランジスタ10を作動可能また
は作動不能状態にする。トランジスタ10が作動可能状
態にあれば、リード過程の時に、ワードライン16の電
圧がハイ(一般に5V)となり、トランジスタ10をオ
ンさせることができる。しかしながら、トランジスタ1
0が作動不能である場合には、ワードライン16の電圧
が高められても、トランジスタ10がオンとならない。
を記憶するかまたはバイナリOを記憶するかに応じて閾
電圧値を5V以上に高めるべくチャンネルをドープする
ことにより、NMOSトランジスタ10を作動可能また
は作動不能状態にする。トランジスタ10が作動可能状
態にあれば、リード過程の時に、ワードライン16の電
圧がハイ(一般に5V)となり、トランジスタ10をオ
ンさせることができる。しかしながら、トランジスタ1
0が作動不能である場合には、ワードライン16の電圧
が高められても、トランジスタ10がオンとならない。
トランジスタ10の状態は、センス増幅器28により検
出され、後記するように、センス増幅器28がトランジ
スタ10の状態を表わす出力信号を発生する。
出され、後記するように、センス増幅器28がトランジ
スタ10の状態を表わす出力信号を発生する。
ビットライン12は、NMOSトランジスタ18及び抵
抗器20を介して、(一般に5Vである)vCCに接続
されている。ビットライン12は、基準電圧リード23
及びNMOSトランジスタ24を介して基準電圧発生器
22にも接続されている。NMOSトランジスタ24の
ゲートは、vCCに接続されており、トランジスタ24
が抵抗器として機能する。
抗器20を介して、(一般に5Vである)vCCに接続
されている。ビットライン12は、基準電圧リード23
及びNMOSトランジスタ24を介して基準電圧発生器
22にも接続されている。NMOSトランジスタ24の
ゲートは、vCCに接続されており、トランジスタ24
が抵抗器として機能する。
作動に際して、ビットライン12に、リード23上の基
準電圧VREFが供給される。(トランジスタ10が作
動可能または作動不能であるかに対応するように)トラ
ンジスタ10に記憶されたデータのビットを読みたい場
合には、ワードライン16の電圧が約5vに高められ、
NMOSトランジスタ18のゲートリードの電圧を約5
■に高めトランジスタ18を導通させる。その場合、ト
ランジスタ10が作動不能であれば、基準電圧VREF
よりも高い電圧がノード26に現われる。
準電圧VREFが供給される。(トランジスタ10が作
動可能または作動不能であるかに対応するように)トラ
ンジスタ10に記憶されたデータのビットを読みたい場
合には、ワードライン16の電圧が約5vに高められ、
NMOSトランジスタ18のゲートリードの電圧を約5
■に高めトランジスタ18を導通させる。その場合、ト
ランジスタ10が作動不能であれば、基準電圧VREF
よりも高い電圧がノード26に現われる。
この電圧はセンス増幅器28に供給され、センス増幅器
28が、NMOSトランジスタ10がオンしなかったこ
とを示す出力信号を出力リード30に供給する。しかし
ながら、NMO8トランジスタ10が作動可能であれば
、ワードライン16の電圧を高めることにより、NMO
Sトランジスタ10を開成されたスイッチとして機能さ
せることにより、ビットライン12の電圧をグラウンド
レベルに引下げる。トランジスタ18のゲートが高い電
位であるため、ノード26もグラウンド電圧レベルにプ
ルされ、センス増幅器28が、NMOSトランジスタ1
0がオンしたことを表わす出力電圧をリード30に供給
する。
28が、NMOSトランジスタ10がオンしなかったこ
とを示す出力信号を出力リード30に供給する。しかし
ながら、NMO8トランジスタ10が作動可能であれば
、ワードライン16の電圧を高めることにより、NMO
Sトランジスタ10を開成されたスイッチとして機能さ
せることにより、ビットライン12の電圧をグラウンド
レベルに引下げる。トランジスタ18のゲートが高い電
位であるため、ノード26もグラウンド電圧レベルにプ
ルされ、センス増幅器28が、NMOSトランジスタ1
0がオンしたことを表わす出力電圧をリード30に供給
する。
〈発明が解決しようとする問題点〉
ここで、基準電圧発生器22のような基準電圧発生器を
必ずしも必要としないが、ROMからデータを読み出す
際に必要となる時間を減らすためにはこのような基準電
圧発生器を使用するのが好ましい。ビットライン12を
バイアスするために基準電圧発生器22を用いない場合
には、トランジスタ18のゲートの電圧を高めた後、ト
ランジスタ10が作動不能であれば、トランジスタ10
の状態を検知し得る前に、ビットライン12がトランジ
スタ18を介して励起されるまで待たなければならない
。従って、ビットライン12をバイアスすることにより
、トランジスタ18がオンする時刻と、トランジスタ1
0の状態を確実に示す電圧値がセンス増幅器28の入力
リードに現われる時刻との間の時間遅れを低減すること
ができる。
必ずしも必要としないが、ROMからデータを読み出す
際に必要となる時間を減らすためにはこのような基準電
圧発生器を使用するのが好ましい。ビットライン12を
バイアスするために基準電圧発生器22を用いない場合
には、トランジスタ18のゲートの電圧を高めた後、ト
ランジスタ10が作動不能であれば、トランジスタ10
の状態を検知し得る前に、ビットライン12がトランジ
スタ18を介して励起されるまで待たなければならない
。従って、ビットライン12をバイアスすることにより
、トランジスタ18がオンする時刻と、トランジスタ1
0の状態を確実に示す電圧値がセンス増幅器28の入力
リードに現われる時刻との間の時間遅れを低減すること
ができる。
第1図のROMに於て、トランジスタ18のゲートがY
デコードライン32に接続されている。
デコードライン32に接続されている。
Yデコードライン32及びワードライン16は、ROM
がアドレス信号を受けるのに応じてそれ自身に加えられ
る信号により励起される。このようにして、アドレス信
号が、リード30に伝達されるデータの源としてNMO
Sトランジスタ10等の個々のMoSトランジスタを選
択することができる。
がアドレス信号を受けるのに応じてそれ自身に加えられ
る信号により励起される。このようにして、アドレス信
号が、リード30に伝達されるデータの源としてNMO
Sトランジスタ10等の個々のMoSトランジスタを選
択することができる。
第1図に示されているように、基準電圧リード23は、
複数のNMOSトランジスタ(トランジスタ44.46
及び48)を介して、複数のビットライン(三つのビッ
トライン38.40及び42)にも接続されている。ビ
ットライン38.40及び42に接続されたブロック5
0.52及び54は、ボックス56と同様の回路を有す
る。従って基準電圧発生器22は複数のビットラインを
バイアスする。成る公知技術に基づ<ROMに於ては、
基準電圧発生器22が256本のビットラインをバイア
スする。従って、ビットラインの幾つかがロー状態にプ
ルされた場合でも、基準電圧発生器22が十分な電流を
供給し、残りのビットラインが基準電圧VREFに保た
れるように基準電圧発生器22の出力インピーダンスが
十分に低くなければならない。そのため、図示されたR
OMが選択されなかった場合でも、従来技術に基づく基
準電圧発生器22はROMが選択されたか否かに拘らず
ビットラインをバイアスし続けなければならないため、
公知技術に基づく基準電圧発生器22は比較的実母の電
力を消費する。公知のように、一般のシステムは、共通
のデータバスに接続された複数のROM等のデバイスを
備えている。
複数のNMOSトランジスタ(トランジスタ44.46
及び48)を介して、複数のビットライン(三つのビッ
トライン38.40及び42)にも接続されている。ビ
ットライン38.40及び42に接続されたブロック5
0.52及び54は、ボックス56と同様の回路を有す
る。従って基準電圧発生器22は複数のビットラインを
バイアスする。成る公知技術に基づ<ROMに於ては、
基準電圧発生器22が256本のビットラインをバイア
スする。従って、ビットラインの幾つかがロー状態にプ
ルされた場合でも、基準電圧発生器22が十分な電流を
供給し、残りのビットラインが基準電圧VREFに保た
れるように基準電圧発生器22の出力インピーダンスが
十分に低くなければならない。そのため、図示されたR
OMが選択されなかった場合でも、従来技術に基づく基
準電圧発生器22はROMが選択されたか否かに拘らず
ビットラインをバイアスし続けなければならないため、
公知技術に基づく基準電圧発生器22は比較的実母の電
力を消費する。公知のように、一般のシステムは、共通
のデータバスに接続された複数のROM等のデバイスを
備えている。
ROMは、一般に、当該ROMをデータのソースとして
選択するために、ホストCPUにより供給されるセレク
ト信号を受けるためのセレクトピンを有する。
選択するために、ホストCPUにより供給されるセレク
ト信号を受けるためのセレクトピンを有する。
く問題点を解決するための手段〉
本発明によれば、ROMのビットラインをバイアスする
ための第1の基準電圧発生器と第2の基準電圧発生器と
が用いられる。第1の基準電圧発生器は低い出力インピ
ーダンスを有し、ROMが選択された場合に大量の電流
を供給する。第2の基準電圧発生器はそれよりも高い出
力インピーダンスを有し、ROMが選択されなかった時
にビットラインをバイアスする。ROMが選択されなか
った場合、トランジスタがいずれもビットラインから電
流の供給を受けないため、高い出力インピーダンスを有
する基準電圧発生器によりビットラインを十分にバイア
スすることができる。このようにして、ROMが選択さ
れなかった時にはROMにより消費される電力を最小化
することができ、ROMが選択された時には、第1の基
準電圧発生器がビットラインをバイアスすることができ
る。
ための第1の基準電圧発生器と第2の基準電圧発生器と
が用いられる。第1の基準電圧発生器は低い出力インピ
ーダンスを有し、ROMが選択された場合に大量の電流
を供給する。第2の基準電圧発生器はそれよりも高い出
力インピーダンスを有し、ROMが選択されなかった時
にビットラインをバイアスする。ROMが選択されなか
った場合、トランジスタがいずれもビットラインから電
流の供給を受けないため、高い出力インピーダンスを有
する基準電圧発生器によりビットラインを十分にバイア
スすることができる。このようにして、ROMが選択さ
れなかった時にはROMにより消費される電力を最小化
することができ、ROMが選択された時には、第1の基
準電圧発生器がビットラインをバイアスすることができ
る。
く作用〉
このような基準電圧発生器を用いているため、ROMが
非選択状態から選択状態に移行するとき、ビットライン
は第2の基準電圧発生器により既に適当な電圧にバイア
スされているため、ROMが選択されてからROMが出
力リードにデータを出力するまでに要する時間遅れが極
少化される。ROMが選択されていないときにビットラ
インをバイアスしなかった場合には、ROMを選択した
後にビットラインを適当な電圧に励起するまでに多大の
時間遅れが必要となる。
非選択状態から選択状態に移行するとき、ビットライン
は第2の基準電圧発生器により既に適当な電圧にバイア
スされているため、ROMが選択されてからROMが出
力リードにデータを出力するまでに要する時間遅れが極
少化される。ROMが選択されていないときにビットラ
インをバイアスしなかった場合には、ROMを選択した
後にビットラインを適当な電圧に励起するまでに多大の
時間遅れが必要となる。
〈実施例〉
以下、本発明の好適実施例を添付の図面について詳しく
説明する。
説明する。
第2図に於て、本発明に基づく第1の基準電圧発生器1
00は、基準電圧リード102に基準電圧を供給する。
00は、基準電圧リード102に基準電圧を供給する。
本発明の成る実施例に於ては、基準電圧発生器100の
出力インピーダンスが約25Ωであって、基準電圧発生
器100により発生する基準電圧は約1vである。第2
図には、約75.000Ωの出力インピーダンスを有す
る第2の基準電圧発生器104が示されている。第2の
基準電圧発生器104もリード102を約1vにバイア
スする。本発明の成る実施例に於ては、リード102が
、複数のトランジスタ10B−1〜108−Nを介して
ビットライン’106−1〜106−N等の複数のビッ
トラインに接続されている。
出力インピーダンスが約25Ωであって、基準電圧発生
器100により発生する基準電圧は約1vである。第2
図には、約75.000Ωの出力インピーダンスを有す
る第2の基準電圧発生器104が示されている。第2の
基準電圧発生器104もリード102を約1vにバイア
スする。本発明の成る実施例に於ては、リード102が
、複数のトランジスタ10B−1〜108−Nを介して
ビットライン’106−1〜106−N等の複数のビッ
トラインに接続されている。
基準電圧発生器100はイネーブルライン110に接続
されている。後記するように、ROMは、イネーブルラ
イン1−10がROMチップのセレクトビンにより制御
されるモード或いは、イネーブルライン110が常にグ
ラウンドに接続されているモードにて作動することがで
きる。イネーブルライン110がロー状態に保たれてい
る場合、基準電圧発生器100はイネーブルされ、リー
ド102に基準電圧を供給する。イネーブルライン11
0がハイである場合、基準電圧発生器100がディスエ
ーブルされ、ライン102の励起を停止する。
されている。後記するように、ROMは、イネーブルラ
イン1−10がROMチップのセレクトビンにより制御
されるモード或いは、イネーブルライン110が常にグ
ラウンドに接続されているモードにて作動することがで
きる。イネーブルライン110がロー状態に保たれてい
る場合、基準電圧発生器100はイネーブルされ、リー
ド102に基準電圧を供給する。イネーブルライン11
0がハイである場合、基準電圧発生器100がディスエ
ーブルされ、ライン102の励起を停止する。
イネーブルライン110は、互いに並列接続されたPM
OSトランジスタT1及びNMOSMOSトランジスタ
T2て制御リード112に接続されている。制御リード
112は、一般にROMチップのセレクトビンに接続さ
れている。イネーブルライン110は、NMOSMOS
トランジスタT3てグラウンドに接続されている。トラ
ンジスタT1、T2及びT3のゲートはいずれもvCC
に接続されている。後記するように、トランジスタT1
、T2及びT3の状態は、イネーブルライン110が常
にグラウンドに接続されているように(トランジスタT
3がオンとなり、基準電圧発生器100がイネーブルさ
れる)、またはトランジスタT3が常にオフであるよう
にプログラムされており、トランジスタT1及びT2は
、イネーブルライン110が、制御リード112の信号
により常時励起されるようにプログラムされる。
OSトランジスタT1及びNMOSMOSトランジスタ
T2て制御リード112に接続されている。制御リード
112は、一般にROMチップのセレクトビンに接続さ
れている。イネーブルライン110は、NMOSMOS
トランジスタT3てグラウンドに接続されている。トラ
ンジスタT1、T2及びT3のゲートはいずれもvCC
に接続されている。後記するように、トランジスタT1
、T2及びT3の状態は、イネーブルライン110が常
にグラウンドに接続されているように(トランジスタT
3がオンとなり、基準電圧発生器100がイネーブルさ
れる)、またはトランジスタT3が常にオフであるよう
にプログラムされており、トランジスタT1及びT2は
、イネーブルライン110が、制御リード112の信号
により常時励起されるようにプログラムされる。
第2の基準電圧発生器104は、ゲート、500にΩの
抵抗器114を介してvCCに接続されたドレーンとり
一ド102に接続されたソースとを備える第1のNMO
SMOSトランジスタT4る。第2の基準電圧発生器1
04は、更に、ドレーンと、リード102に接続された
ゲートとグラウンドに接続されたソースとを有する第2
のNMOSMOSトランジスタT5る トランジスタT1〜T5は、いずれもその製造過程中に
プログラムし得るものである。成る実施例に於ては、ト
ランジスタT1〜T5が、硼素のイオン注入過程により
プログラムされる。硼素によるイオン注入を行った場合
、NMOSトランジスタT2〜T5が常にオフとなり、
PMOSトランジスタT1が常にオンとなる。トランジ
スタT2〜T5が硼素によるイオン注入を受けなかった
場合には、トランジスタT2〜T5が常にオンとなり、
トランジスタT1が硼素によるイオン注入を受けなかっ
た場合には、トランジスタT1が常にオフとなる。この
イオン注入過程は、ROMの他の部分のイオン注入と同
時に行うことも、別途に行うことも可能である。別の実
施例に於ては、トランジスタT1〜T5が、電気接触マ
スク、ゲート酸化マスク、ゲート金属化マスク等の公知
手段によりプログラムされる。更に別の実施例に於ては
、トランジスタT1〜T5を、製造過程の後に、EPR
OMについて用いられるものと同様のフローティングゲ
ート構造または多結晶シリコンその他のヒユーズ構造を
備えることによりプログラムされる。このようにして、
基準電圧発生器100及び104は、上記した三つのモ
ードのいずれかにより作動する。ことができる。
抵抗器114を介してvCCに接続されたドレーンとり
一ド102に接続されたソースとを備える第1のNMO
SMOSトランジスタT4る。第2の基準電圧発生器1
04は、更に、ドレーンと、リード102に接続された
ゲートとグラウンドに接続されたソースとを有する第2
のNMOSMOSトランジスタT5る トランジスタT1〜T5は、いずれもその製造過程中に
プログラムし得るものである。成る実施例に於ては、ト
ランジスタT1〜T5が、硼素のイオン注入過程により
プログラムされる。硼素によるイオン注入を行った場合
、NMOSトランジスタT2〜T5が常にオフとなり、
PMOSトランジスタT1が常にオンとなる。トランジ
スタT2〜T5が硼素によるイオン注入を受けなかった
場合には、トランジスタT2〜T5が常にオンとなり、
トランジスタT1が硼素によるイオン注入を受けなかっ
た場合には、トランジスタT1が常にオフとなる。この
イオン注入過程は、ROMの他の部分のイオン注入と同
時に行うことも、別途に行うことも可能である。別の実
施例に於ては、トランジスタT1〜T5が、電気接触マ
スク、ゲート酸化マスク、ゲート金属化マスク等の公知
手段によりプログラムされる。更に別の実施例に於ては
、トランジスタT1〜T5を、製造過程の後に、EPR
OMについて用いられるものと同様のフローティングゲ
ート構造または多結晶シリコンその他のヒユーズ構造を
備えることによりプログラムされる。このようにして、
基準電圧発生器100及び104は、上記した三つのモ
ードのいずれかにより作動する。ことができる。
轟迷二産重ガエニ丁
高速−高電力モードに於ては、トランジスタT1、T2
、T4及びT5がオフのままであるようにプログラムさ
れ、トランジスタT3が常にオンであるようにプログラ
ムされる。トランジスタT1及びT2が常にオフであり
、トランジスタT3が常にオンであるため、イネーブル
ライン110はグラウンドレベルに保たれ、基準電圧発
生器100が常にイネーブルされる。従って、基準電圧
発生器100が、対応するROMが選択されたか否かに
拘らず常にビットライン106−1〜106−Nをバイ
アスする。
、T4及びT5がオフのままであるようにプログラムさ
れ、トランジスタT3が常にオンであるようにプログラ
ムされる。トランジスタT1及びT2が常にオフであり
、トランジスタT3が常にオンであるため、イネーブル
ライン110はグラウンドレベルに保たれ、基準電圧発
生器100が常にイネーブルされる。従って、基準電圧
発生器100が、対応するROMが選択されたか否かに
拘らず常にビットライン106−1〜106−Nをバイ
アスする。
後記するように、高速−高電力モードにて作動するよう
にプログラムされたROMを用いた場合、ROMを選択
してから、ROMがデータを出力するまでに要する遅延
時間が短縮される。しかしながら、この遅延時間の短縮
は、電力消費を増大させるという代償を払って達成され
たものである。
にプログラムされたROMを用いた場合、ROMを選択
してから、ROMがデータを出力するまでに要する遅延
時間が短縮される。しかしながら、この遅延時間の短縮
は、電力消費を増大させるという代償を払って達成され
たものである。
本発明の成る実施例に於ては、高速−高電力モードにあ
っては、トランジスタT4及びT5がオフであって、基
準電圧発生器104がディスエーブルされる。これは、
低インピーダンス基準電圧発生器100が常にイネーブ
ルされていることにより、高インピーダンス基準電圧発
生器104が負荷102をバイアスする必要を生じさせ
ないようにするためである。基準電圧発生器104をデ
ィスエーブルさせることにより、基準電圧発生器104
は何等電力を消費しない。しかしながら、高速−高電力
モードにあって基準電圧発生器104をディスエーブル
することは必ずしも必要なことではない。
っては、トランジスタT4及びT5がオフであって、基
準電圧発生器104がディスエーブルされる。これは、
低インピーダンス基準電圧発生器100が常にイネーブ
ルされていることにより、高インピーダンス基準電圧発
生器104が負荷102をバイアスする必要を生じさせ
ないようにするためである。基準電圧発生器104をデ
ィスエーブルさせることにより、基準電圧発生器104
は何等電力を消費しない。しかしながら、高速−高電力
モードにあって基準電圧発生器104をディスエーブル
することは必ずしも必要なことではない。
虫産二虫重力土二五
本発明に基づき製造され、中速−中電力モードにて作動
するようにプログラムされたROMに於ては、トランジ
スタT1、T2、T4及びT5がオンのままとなるよう
にプログラムされ、トランジスタT3がオフのままとな
るようにプログラムされる。そのため、トランジスタT
3が常にオフとなり、イネーブルライン100をグラウ
ンドレベルにプルすることがない。更に、トランジスタ
T1及びT2が、制御リード112の信号をイネーブル
ライン110に伝達し得るように作動している。
するようにプログラムされたROMに於ては、トランジ
スタT1、T2、T4及びT5がオンのままとなるよう
にプログラムされ、トランジスタT3がオフのままとな
るようにプログラムされる。そのため、トランジスタT
3が常にオフとなり、イネーブルライン100をグラウ
ンドレベルにプルすることがない。更に、トランジスタ
T1及びT2が、制御リード112の信号をイネーブル
ライン110に伝達し得るように作動している。
このようにして、制御信号が制御リード112上に存在
する場合(ROMか選択されたことを意味する)、低イ
ンピーダンス基準電圧発生器100がイネーブルされ、
ビットライン106−1〜106−Nをバイアスする。
する場合(ROMか選択されたことを意味する)、低イ
ンピーダンス基準電圧発生器100がイネーブルされ、
ビットライン106−1〜106−Nをバイアスする。
しかしながら、制御リード112の制御信号が非励起状
態(ハイ状態)である場合、低インピーケンス基準電圧
発生器100がディスエーブルされ、高インピーダンス
基準電圧発生器104がビットライン106−1〜10
6−Nをバイアスする。
態(ハイ状態)である場合、低インピーケンス基準電圧
発生器100がディスエーブルされ、高インピーダンス
基準電圧発生器104がビットライン106−1〜10
6−Nをバイアスする。
本発明の成る実施例に於ては、中速−中電力モードにあ
って、制御リード112がハイ状態からロー状態に移行
するまでに約200nsを要し、図示されないROMの
出力リードに時間データが供給されるまでアドレスライ
ンが有効なアドレスデータを伝送する。高速モードにて
作動するようにプログラムされたROMは、約10%(
20nS)程度更に高速である。
って、制御リード112がハイ状態からロー状態に移行
するまでに約200nsを要し、図示されないROMの
出力リードに時間データが供給されるまでアドレスライ
ンが有効なアドレスデータを伝送する。高速モードにて
作動するようにプログラムされたROMは、約10%(
20nS)程度更に高速である。
低迷二低亙カエニF
低速−低電力モードにあっては、トランジスタT1及び
T2がオン状態のままでいるようにプログラムされ、ト
ランジスタT3、T4及びT5がオフ状態のままとなる
ようにプログラムされる。
T2がオン状態のままでいるようにプログラムされ、ト
ランジスタT3、T4及びT5がオフ状態のままとなる
ようにプログラムされる。
トランジスタT4及びT5がオフであるため、高インピ
ーダンス基準電圧発生器104が常にディスエーブルさ
れ、ビットライン106−1〜106−Nをバイアスす
ることがない。同様にしてトランジスタT3が非作動状
態であって、イネーブルライン110を接地させること
がない。トランジスタT1及びT2はいずれも作動状態
であって、制御リード112の信号をライン110に伝
達する。そのため、低インピーダンス基準電圧発生器1
00のみがビットライン106−1〜106−Nをバイ
アスし、高インピーダンス基準電圧発生器104が何等
電力を消費しないため電力消費を低減することができる
。しかしながら、低電力モードにプログラムされた場合
、ROMが選択されアドレスラインのアドレスデータが
有効となる時点からデータが出力リードに供給されるま
でのアクセス時間が、中電力モードに比較して40〜5
0%程度(約100ns)増大する。
ーダンス基準電圧発生器104が常にディスエーブルさ
れ、ビットライン106−1〜106−Nをバイアスす
ることがない。同様にしてトランジスタT3が非作動状
態であって、イネーブルライン110を接地させること
がない。トランジスタT1及びT2はいずれも作動状態
であって、制御リード112の信号をライン110に伝
達する。そのため、低インピーダンス基準電圧発生器1
00のみがビットライン106−1〜106−Nをバイ
アスし、高インピーダンス基準電圧発生器104が何等
電力を消費しないため電力消費を低減することができる
。しかしながら、低電力モードにプログラムされた場合
、ROMが選択されアドレスラインのアドレスデータが
有効となる時点からデータが出力リードに供給されるま
でのアクセス時間が、中電力モードに比較して40〜5
0%程度(約100ns)増大する。
本発明に基づき構成された64kROMに於ける基準電
圧発生器100及び104が消費する電流は、高速モー
ドにあっては約0.5mAであって、中速モードにて作
動するようにプログラムされた場合には、基準電圧発生
器が消費する電流が約20mAであった。低電力モード
にあっては、ROMが選択されなかった場合に、基準電
圧発生器100及び104は数pAの程度の電流を消費
するのみである。従って、本発明に基づく基準電圧発生
器がこれら三つのモードのいずれかにて作動するように
プログラムすることができ、従って速度と電力消費との
間のトレードオフを定める上で多大の自由度を得ること
ができる。
圧発生器100及び104が消費する電流は、高速モー
ドにあっては約0.5mAであって、中速モードにて作
動するようにプログラムされた場合には、基準電圧発生
器が消費する電流が約20mAであった。低電力モード
にあっては、ROMが選択されなかった場合に、基準電
圧発生器100及び104は数pAの程度の電流を消費
するのみである。従って、本発明に基づく基準電圧発生
器がこれら三つのモードのいずれかにて作動するように
プログラムすることができ、従って速度と電力消費との
間のトレードオフを定める上で多大の自由度を得ること
ができる。
上記した三つのモードを第1表に要約して示す。
(以下余白)
本発明の他の実施例に於ては、三つ以上の異なる電力消
費量及び出力インピーダンスを有する基準電圧発生器が
用いられている。これらの基準電圧発生器は、速度/電
力消費量間のトレードオフの選択自由度の大きいROM
を提供するようにビットラインをバイアスするべくプロ
グラム可能に選択されることとなる。
費量及び出力インピーダンスを有する基準電圧発生器が
用いられている。これらの基準電圧発生器は、速度/電
力消費量間のトレードオフの選択自由度の大きいROM
を提供するようにビットラインをバイアスするべくプロ
グラム可能に選択されることとなる。
第3図は基準電圧発生器100及び104の一実施例を
図式的に示す。第2図の抵抗器114が、第3図に於て
は、同等の機能を果たすトランジスタQ7により置換さ
れている。これらのトランジスタの寸法が第3図に示さ
れている。例えば、トランジスタQ7は5μの幅と10
μの長さとを有し、トランジスタQ1は15μの幅と1
0μの長さとを有する。一方の寸法のみが示されている
場合は、幅を現わし、その艮ざは3μである。例えばト
ランジスタQ13は6μの幅と3μの長さとを有する。
図式的に示す。第2図の抵抗器114が、第3図に於て
は、同等の機能を果たすトランジスタQ7により置換さ
れている。これらのトランジスタの寸法が第3図に示さ
れている。例えば、トランジスタQ7は5μの幅と10
μの長さとを有し、トランジスタQ1は15μの幅と1
0μの長さとを有する。一方の寸法のみが示されている
場合は、幅を現わし、その艮ざは3μである。例えばト
ランジスタQ13は6μの幅と3μの長さとを有する。
第3図に於て、イネーブルライン110はNMOSトラ
ンジスタQ13及び一対のCMOSインバーク200及
び202に接続されている。CMOSインバータ200
及び202は、リード201及び203にそれぞれ出力
信号を供給する。リード201はNMOSトランジスタ
Q3及びQ4のゲート並びにトランジスタQ3のドレー
ンに接続されている。トランジスタQ3のソースはNM
OSトランジスタQ5を介してグラウンドに接続されて
いる。トランジスタQ4のドレーンは、VCCに接続さ
れており、トランジスタQ4のソースは、NMOSトラ
ンジスタQ6を介してグラウンドに接続されている。C
MOSインバータ202の出力リード203は、トラン
ジスタQ5及びQ6のゲート間に接続されたNMOSト
ランジスタQ10のゲートに接続されている。出力リー
ド102は、トランジスタQ4のソース、トランジスタ
Q6のドレーン及びトランジスタQ5のゲートに接続さ
れている。
ンジスタQ13及び一対のCMOSインバーク200及
び202に接続されている。CMOSインバータ200
及び202は、リード201及び203にそれぞれ出力
信号を供給する。リード201はNMOSトランジスタ
Q3及びQ4のゲート並びにトランジスタQ3のドレー
ンに接続されている。トランジスタQ3のソースはNM
OSトランジスタQ5を介してグラウンドに接続されて
いる。トランジスタQ4のドレーンは、VCCに接続さ
れており、トランジスタQ4のソースは、NMOSトラ
ンジスタQ6を介してグラウンドに接続されている。C
MOSインバータ202の出力リード203は、トラン
ジスタQ5及びQ6のゲート間に接続されたNMOSト
ランジスタQ10のゲートに接続されている。出力リー
ド102は、トランジスタQ4のソース、トランジスタ
Q6のドレーン及びトランジスタQ5のゲートに接続さ
れている。
実際の作動に際して、リード110にロー信号が存在す
る場合、出力リード201及び203はいずれもハイ状
態にある。従って、NMO8トランジスタQ10がオン
となり、NMOSトランジスタQ13がオフとなる。従
って、リード102の出力信号がトランジスタQ6のゲ
ート及びトランジスタQ5のゲートに供給される。基準
電圧リード102の基準電圧が所望値よりも高い場合、
トランジスタQ6のゲートの信号が所望値よりも高くな
り、トランジスタQ6がより大量の電流を通過させ、リ
ード102の電圧を降下させる。更に、リード102の
電圧が高過ぎる場合、トランジスタQ5がより大量の電
流を通過させるようになり、リード201の電圧を降下
させ、更にトランジスタQ4が、VCCからリード10
2に向けて流れる電流の通過」を低減させるようになる
。
る場合、出力リード201及び203はいずれもハイ状
態にある。従って、NMO8トランジスタQ10がオン
となり、NMOSトランジスタQ13がオフとなる。従
って、リード102の出力信号がトランジスタQ6のゲ
ート及びトランジスタQ5のゲートに供給される。基準
電圧リード102の基準電圧が所望値よりも高い場合、
トランジスタQ6のゲートの信号が所望値よりも高くな
り、トランジスタQ6がより大量の電流を通過させ、リ
ード102の電圧を降下させる。更に、リード102の
電圧が高過ぎる場合、トランジスタQ5がより大量の電
流を通過させるようになり、リード201の電圧を降下
させ、更にトランジスタQ4が、VCCからリード10
2に向けて流れる電流の通過」を低減させるようになる
。
逆に、基準電圧リード102に供給される基準電圧が低
過ぎる場合、トランジスタQ6のゲートの電圧が低過ぎ
ることとなり、トランジスタQ6を通過する電流値が減
少する。同様に、トランジスタQ5も、より小さな電流
を通過させることとなり、トランジスタQ4のゲートの
電圧が上昇し、トランジスタQ4が、VCCからリード
102に向けて、より大量の電流を通過させるようにな
る。
過ぎる場合、トランジスタQ6のゲートの電圧が低過ぎ
ることとなり、トランジスタQ6を通過する電流値が減
少する。同様に、トランジスタQ5も、より小さな電流
を通過させることとなり、トランジスタQ4のゲートの
電圧が上昇し、トランジスタQ4が、VCCからリード
102に向けて、より大量の電流を通過させるようにな
る。
このようにして、基準電圧発生器100内の負帰還路が
、リード102の電圧を約1Vの一定レベルに保持する
。
、リード102の電圧を約1Vの一定レベルに保持する
。
リード110の電圧がハイ状態の場合(ROMが選択さ
れなかった場合)、リード201及び203の出力信号
がいずれもローであって、トランジスタQ10及びQ4
をオフさせる。同様にして、トランジスタQ13がオン
になり、トランジスタQ6のゲートの電圧を接地電圧に
下げる。従って、低インピーダンス基準電圧発生器10
0がディスエーブルされ、基準電圧発生器100からリ
ード102に向けて何等の電流も流れない。そのとき、
トランジスタT4及びT5が作動状態となるようにプロ
グラムされていれば、リード102へのバイアス電圧の
供給源が高インピーダンス基準電圧発生器104のみと
なる。
れなかった場合)、リード201及び203の出力信号
がいずれもローであって、トランジスタQ10及びQ4
をオフさせる。同様にして、トランジスタQ13がオン
になり、トランジスタQ6のゲートの電圧を接地電圧に
下げる。従って、低インピーダンス基準電圧発生器10
0がディスエーブルされ、基準電圧発生器100からリ
ード102に向けて何等の電流も流れない。そのとき、
トランジスタT4及びT5が作動状態となるようにプロ
グラムされていれば、リード102へのバイアス電圧の
供給源が高インピーダンス基準電圧発生器104のみと
なる。
以上本発明を特定の実施例について説明したが、当業者
であれば、本発明の概念から逸脱することなく種々の変
形変更を加えて本発明を実施することができる。例えば
、本発明に基づく基準電圧発生器は、イレーザブル・プ
ログラマブル・リードオンリー・メモリ(EPROM>
、エレクトリカリ−・イレーザブル・プログラマブル
・リード・オンリー・メモリ(EEPROM) 、ヒユ
ーズによるプログラマブル・リード・オンリー・メモリ
(FROM>或いはROM等に好適に応用し得るが、同
様の構造を有するランダムアクセスメモリ(RAM)或
いは他の集積回路からなる他の形式のデバイスについて
も応用可能である。
であれば、本発明の概念から逸脱することなく種々の変
形変更を加えて本発明を実施することができる。例えば
、本発明に基づく基準電圧発生器は、イレーザブル・プ
ログラマブル・リードオンリー・メモリ(EPROM>
、エレクトリカリ−・イレーザブル・プログラマブル
・リード・オンリー・メモリ(EEPROM) 、ヒユ
ーズによるプログラマブル・リード・オンリー・メモリ
(FROM>或いはROM等に好適に応用し得るが、同
様の構造を有するランダムアクセスメモリ(RAM)或
いは他の集積回路からなる他の形式のデバイスについて
も応用可能である。
また、雨曇準電圧発生器100及び104間の出力イン
ピーダンスの比率も、上記実施例に於ては100倍とさ
れたが、これは単なる一例であって、他の比率を用い得
ることは云うまでもない。
ピーダンスの比率も、上記実施例に於ては100倍とさ
れたが、これは単なる一例であって、他の比率を用い得
ることは云うまでもない。
第1図は公知技術に基づき構成されたROMのダイヤグ
ラム図である。 第2図は本発明に基づき構成された一対の基準電圧発生
器を示すブロック図である。 第3図は本発明に基づき構成された基準電圧発生器を詳
細に示すダイヤグラム図である。 第4図はトランジスタの幅及び長さを示す際に用いられ
た規則を示す説明図である。 10・・・トランジスタ 12・・・ビットライン14
・・・リード 16・・・ワードライン18・・
・トランジスタ 20・・・抵抗器22・・・基準電圧
発生器23・・・リード24・・・トランジスタ 26
・・・ノード28・・・センス増幅器 30・・・リー
ド38.40.42・・・ビットライン 44.46.48・・・トランジスタ 501.52.54.56・・・ブロック100・・・
基準電圧発生器 102・・・リード 104・・・基準電圧発生器
106・・・ビットライン108・・・トランジスタ1
10・・・イネーブルライン 112・・・制御リード 114・・・抵抗器200.
202・・・インバータ 201.203・・・リード
ラム図である。 第2図は本発明に基づき構成された一対の基準電圧発生
器を示すブロック図である。 第3図は本発明に基づき構成された基準電圧発生器を詳
細に示すダイヤグラム図である。 第4図はトランジスタの幅及び長さを示す際に用いられ
た規則を示す説明図である。 10・・・トランジスタ 12・・・ビットライン14
・・・リード 16・・・ワードライン18・・
・トランジスタ 20・・・抵抗器22・・・基準電圧
発生器23・・・リード24・・・トランジスタ 26
・・・ノード28・・・センス増幅器 30・・・リー
ド38.40.42・・・ビットライン 44.46.48・・・トランジスタ 501.52.54.56・・・ブロック100・・・
基準電圧発生器 102・・・リード 104・・・基準電圧発生器
106・・・ビットライン108・・・トランジスタ1
10・・・イネーブルライン 112・・・制御リード 114・・・抵抗器200.
202・・・インバータ 201.203・・・リード
Claims (27)
- (1)基準電圧を伝達する基準電圧ラインと、前記基準
電圧ラインに接続された第1の基準電圧発生器と、 前記基準電圧ラインに接続された第2の基準電圧発生器
とを備え、 前記第2の基準電圧発生器が、前記第1の基準電圧発生
器よりも高い出力インピーダンスを有することを特徴と
する基準電圧発生回路。 - (2)前記第1の基準電圧発生器が、イネーブルライン
を有し、前記イネーブルラインに第1のバイナリ電圧レ
ベルが加えられた時に前記第1の基準電圧発生器がオフ
となり、前記イネーブルラインに第2のバイナリ電圧レ
ベルが加えられた時に前記第1の基準電圧発生器がオン
となることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の
基準電圧発生回路。 - (3)セレクトラインを有するメモリ装置の一部をなす
と共に、前記イネーブルラインに加えられた電圧レベル
が、前記セレクトライン上のデータに応答するものであ
ることを特徴とする特許請求の範囲第2項に記載の基準
電圧発生回路。 - (4)前記イネーブルラインに電圧を供給するための手
段と、前記電圧供給手段を前記イネーブルラインから選
択的に遮断するための第1のスイッチ手段とを備えるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第2項に記載の基準電圧
発生回路。 - (5)前記イネーブルラインを、前記第2のバイナリ電
圧レベルに選択的に接続するための第2のスイッチ手段
を備えることを特徴とする特許請求の範囲第4項に記載
の基準電圧発生回路。 - (6)前記第1のスイッチ手段が少なくとも一つのMO
Sトランジスタを有し、前記第2のスイッチ手段が少な
くとも一つのMOSトランジスタを備え、前記両スイッ
チ手段の状態が、前記両MOSトランジスタのチャンネ
ルのドーピングによりプログラムされていることを特徴
とする特許請求の範囲第5項に記載の基準電圧発生回路
。 - (7)前記第2の基準電圧発生器が、 前記第1の基準電圧発生器に接続された第1のリードと
第2のリードとの間に電気抵抗を形成するための手段と
、 ゲートと前記第2のリードに接続されたドレーンと、前
記基準電圧ラインに接続されたソースとを有する第1の
MOSトランジスタと、 グラウンドに接続されたソースと、前記第1のMOSト
ランジスタのソースに接続されたドレーン及びゲートと
を有する第2のMOSトランジスタとを有することを特
徴とする特許請求の範囲第1項に記載の基準電圧発生回
路。 - (8)前記第1及び第2のMOSトランジスタが、前記
第1及び第2のMOSトランジスタのチャンネルをドー
ピングする過程にプログラムされ、前記第1及び第2の
MOSトランジスタが、前記第1及び第2のMOSトラ
ンジスタのゲートに通常加えられるゲート電圧の範囲の
ためのドーピングの結果として非導通となることを特徴
とする特許請求の範囲第7項に記載の基準電圧発生回路
。 - (9)イネーブルラインと、 制御リードと、 前記制御リードと前記イネーブルラインとを選択的に接
続するための第1のスイッチ手段と、前記イネーブルラ
インと前記第2のバイナリ電圧とを選択的に接続するた
めの第2のスイッチ手段とを有し、 前記イネーブルラインに前記第1のバイナリ電圧が加え
られた時に、前記第1の基準電圧発生器がオフとなり、
前記イネーブルラインに、前記第1のバイナリ電圧とは
逆の第2のバイナリ電圧が加えられた時に、前記第1の
基準電圧発生器が前記基準電圧ラインをバイアスするこ
とを特徴とする特許請求の範囲第7項に記載の基準電圧
発生回路。 - (10)前記第1及び第2のスイッチ手段がMOSトラ
ンジスタからなり、これらトランジスタのチャンネルに
ドーパントを注入する過程により前記第1及び第2のス
イッチ手段を固定状態にプログラム得ることを特徴とす
る特許請求の範囲第9項に記載の基準電圧発生回路。 - (11)当該回路がメモリ装置の一部をなし、該メモリ
装置が、前記基準電圧ラインによりバイアスされる一連
のビットラインを有することを特徴とする特許請求の範
囲第1項に記載の基準電圧発生回路。 - (12)前記第2の基準電圧発生器の出力インピーダン
スが、前記第1の基準電圧発生器の出力インピーダンス
によりも少なくとも100倍大きいことを特徴とする特
許請求の範囲第1項に記載の基準電圧発生回路。 - (13)前記第1の基準電圧発生器の出力インピーダン
スが約25Ωであつて、前記第2の基準電圧発生器の出
力インピーダンスが約7,5000Ωであることを特徴
とする特許請求の範囲第1項に記載の基準電圧発生回路
。 - (14)当該回路が、前記第2の基準電圧発生器がオフ
である第1のモードにて作動するようにプログラムされ
ていることを特徴とする特許請求の範囲第3項に記載の
基準電圧発生回路。 - (15)当該回路が、前記第2の基準電圧発生器が常に
オンであるような第2のモードにて作動するようにプロ
グラムされていることを特徴とする特許請求の範囲第3
項に記載の基準電圧発生回路。 - (16)当該回路がセレクトラインを有するメモリ装置
の一部をなすと共に、前記第1の基準電圧発生器がイネ
ーブルラインを有し、当該回路が、前記セレクトライン
上の信号の状態に拘らずる前記第1の基準電圧発生器が
イネーブルされるようなモードにて作動することを特徴
とする特許請求の範囲第1項に記載の基準電圧発生回路
。 - (17)当該回路がメモリ装置の一部をなすと共に、ゲ
ート、グラウンドに接続された第1のリード及び前記基
準電圧ラインに接続された第2のリードを有するMOS
トランジスタを備えることを特徴とする特許請求の範囲
第1項に記載の基準電圧発生回路。 - (18)前記MOSトランジスタが、前記ゲートに加わ
る信号に応じて導通することを特徴とする特許請求の範
囲第17項に記載の基準電圧発生回路。 - (19)前記MOSトランジスタが作動時に導通しない
ことを特徴とする特許請求の範囲第17項に記載の基準
電圧発生回路。 - (20)前記MOSトランジスタの状態を示す信号を供
給するためのセンス増幅器を有することを特徴とする特
許請求の範囲第17項に記載の基準電圧発生回路。 - (21)イネーブルリードと、 前記イネーブルリードに接続された入力リードと出力リ
ードとを有する第1のインバータと、前記イネーブルリ
ードに接続された入力リードと出力リードとを有する第
2のインバータと、第1のリードと第2のリードとを有
すると共に、前記第2のインバータの出力リードの信号
が第1のバイナリ状態の時に導通し、前記第2のインバ
ータの出力リードが前記第1のバイナリ状態とは逆の第
2のバイナリ状態にあるときに非導通となる第1のスイ
ッチ手段と、 前記第1のスイッチ手段の前記第1のリードに接続され
た出力リードと、 ドレーンと、前記第1のインバータの出力リードに接続
されたゲートとソースとを有する第1のNMOSトラン
ジスタと、 前記第1のNMOSトランジスタのソースに接続された
ドレーンと、前記第1のスイッチ手段の前記第1のリー
ドに接続されたゲートと、グラウンドに接続されたソー
スとを有する第2のNMOSトランジスタと、 前記第1のインバータの出力リードに接続されたゲート
と、電圧源に接続されたドレーンと、前記出力リードに
接続されたソースとを有する第3のNMOSトランジス
タと、 グラウンドに接続されたソースと、前記第1のスイッチ
手段の前記第2のリードに接続されたゲートと、前記出
力リードに接続されたドレーンとを有する第4のNMO
Sトランジスタとを備えることを特徴とする基準電圧発
生回路。 - (22)前記イネーブルリードが前記第1のバイナリ状
態にあるときに、前記第4のNMOSトランジスタのゲ
ートをグラウンドに接続するための第4のスイッチ手段
を備えることを特徴とする特許請求の範囲第21項に記
載の基準電圧発生器。 - (23)第1の基準電圧発生器と、 基準電圧を伝達するべく前記第1の基準電圧器に接続さ
れた基準電圧リードと、 前記基準電圧リードに接続された第2の基準電圧発生器
と、 前記第1の基準電圧発生器に接続されたイネーブルリー
ドと、 前記イネーブルリードとグラウンドとの間に接続された
第1のMOSトランジスタと、 制御信号を受けるための第2のリードと、 前記第2のリードと前記イネーブルリードとの間に接続
された第2のMOSトランジスタを有し、前記イネーブ
ルリードかハイ状態のときに前記第1の基準電圧発生器
が非作動となり、前記イネーブルリードがロー状態の時
に前記第1の基準電圧発生器が作動状態となることを特
徴とする基準電圧発生回路に於て、前記第1及び第2の
MOSトランジスタの状態を制御するための方法であっ
て、 前記回路の製造に際して、前記トランジスタのいずれか
一方を作動不能にしておくことを特徴とする基準電圧発
生回路の制御方法。 - (24)前記回路が、前記第2のMOSトランジスタに
並列接続された第3のMOSトランジスタを有し、当該
方法が、前記第3のMOSトランジスタを作動不能にす
る過程を有することを特徴とする特許請求の範囲第23
項に記載の制御方法。 - (25)前記トランジスタを作動不能にする過程が、前
記トランジスタのチャンネルにイオンを注入する過程を
有することを特徴とする特許請求の範囲第23項に記載
の制御方法。 - (26)前記第2の基準電圧発生器が、 DC電圧を受けるための第1のリードと第2のリードと
を有する抵抗手段と、 ゲートと、前記抵抗手段の前記第2のリードに接続され
たドレーンとを有する第4のMOSトランジスタと、 ドレーンと、前記基準電圧リードに接続されたゲートと
、グラウンドに接続されたソースとを有する第5のMO
Sトランジスタとを有し、 前記第3のMOSトランジスタが前記基準電圧リードに
接続されたソースを有し、 前記制御方法が、前記回路の製造に際して、前記第4及
び第5のトランジスタを作動不能にする過程を有するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第23項に記載の制御方
法。 - (27)前記第4及び第5のトランジスタを作動不能に
する過程が、前記第4及び第5のトランジスタのチャン
ネルに対してイオン注入を行う過程からなることを特徴
とする特許請求の範囲第26項に記載の制御方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US719928 | 1985-04-04 | ||
| US06/719,928 US4754167A (en) | 1985-04-04 | 1985-04-04 | Programmable reference voltage generator for a read only memory |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61233499A true JPS61233499A (ja) | 1986-10-17 |
| JPH0648596B2 JPH0648596B2 (ja) | 1994-06-22 |
Family
ID=24891956
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60299716A Expired - Fee Related JPH0648596B2 (ja) | 1985-04-04 | 1985-12-26 | 基準電圧発生回路及びその制御方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4754167A (ja) |
| EP (1) | EP0197205A2 (ja) |
| JP (1) | JPH0648596B2 (ja) |
| CA (1) | CA1250954A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01199396A (ja) * | 1988-02-02 | 1989-08-10 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | 半導体メモリ |
| US6659172B1 (en) * | 1998-04-03 | 2003-12-09 | Alliedsignal Inc. | Electro-hydrodynamic heat exchanger |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4804865A (en) * | 1987-03-19 | 1989-02-14 | Harris Corporation | Fast voltage reference stabilization circuit |
| US4984211A (en) * | 1988-02-16 | 1991-01-08 | Texas Instruments Incorporated | Battery backup bus scheme for an ECL BiCMOS SRAM |
| KR910007740B1 (ko) * | 1989-05-02 | 1991-09-30 | 삼성전자 주식회사 | 비트라인 안정화를 위한 전원전압 추적회로 |
| US5265256A (en) * | 1991-07-01 | 1993-11-23 | Motorola, Inc. | Data processing system having a programmable mode for selecting operation at one of a plurality of power supply potentials |
| US5260643A (en) * | 1992-07-16 | 1993-11-09 | National Semiconductor Corporation | Programmable reference voltage generator |
| KR940017214A (ko) * | 1992-12-24 | 1994-07-26 | 가나이 쓰토무 | 기준전압 발생회로 |
| US5537065A (en) * | 1994-09-15 | 1996-07-16 | Lsi Logic Corporation | Programmable voltage detection system |
| US6587323B1 (en) * | 1999-12-22 | 2003-07-01 | Intel Corporation | Dual pseudo reference voltage generation for receivers |
| US6744659B1 (en) | 2002-12-09 | 2004-06-01 | Analog Devices, Inc. | Source-biased memory cell array |
| CN115792364B (zh) * | 2023-02-07 | 2023-05-02 | 南京美斯玛微电子技术有限公司 | 一种基于待机状态分析的功耗计算方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5079360U (ja) * | 1973-11-21 | 1975-07-09 | ||
| JPS5536479U (ja) * | 1978-08-31 | 1980-03-08 | ||
| JPS5848099U (ja) * | 1981-09-24 | 1983-03-31 | 日本電気株式会社 | チツプセレクト回路 |
| JPS5936393A (ja) * | 1982-08-20 | 1984-02-28 | Mitsubishi Electric Corp | 不揮発性半導体メモリ装置 |
| JPS59116986A (ja) * | 1982-12-23 | 1984-07-06 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4460835A (en) * | 1980-05-13 | 1984-07-17 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor integrated circuit device with low power consumption in a standby mode using an on-chip substrate bias generator |
| JPS5812679B2 (ja) * | 1981-10-12 | 1983-03-09 | 日本電気株式会社 | 不揮発性絶縁ゲ−ト半導体メモリの周辺回路方式 |
-
1985
- 1985-04-04 US US06/719,928 patent/US4754167A/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-12-07 EP EP85202031A patent/EP0197205A2/en not_active Withdrawn
- 1985-12-26 JP JP60299716A patent/JPH0648596B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1986
- 1986-02-06 CA CA000501244A patent/CA1250954A/en not_active Expired
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5079360U (ja) * | 1973-11-21 | 1975-07-09 | ||
| JPS5536479U (ja) * | 1978-08-31 | 1980-03-08 | ||
| JPS5848099U (ja) * | 1981-09-24 | 1983-03-31 | 日本電気株式会社 | チツプセレクト回路 |
| JPS5936393A (ja) * | 1982-08-20 | 1984-02-28 | Mitsubishi Electric Corp | 不揮発性半導体メモリ装置 |
| JPS59116986A (ja) * | 1982-12-23 | 1984-07-06 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01199396A (ja) * | 1988-02-02 | 1989-08-10 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | 半導体メモリ |
| US6659172B1 (en) * | 1998-04-03 | 2003-12-09 | Alliedsignal Inc. | Electro-hydrodynamic heat exchanger |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0648596B2 (ja) | 1994-06-22 |
| US4754167A (en) | 1988-06-28 |
| EP0197205A2 (en) | 1986-10-15 |
| CA1250954A (en) | 1989-03-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3645593B2 (ja) | 半導体集積回路装置 | |
| US9548131B1 (en) | Reduced power read sensing for one-time programmable memories | |
| JP2006500702A5 (ja) | ||
| US5349243A (en) | Latch controlled output driver | |
| JPH0224897A (ja) | メモリ回路及びメモリアレイ | |
| JPS61233499A (ja) | 基準電圧発生回路及びその制御方法 | |
| EP0639000B1 (en) | Flip-flop type amplifier circuit | |
| US5793671A (en) | Static random access memory cell utilizing enhancement mode N-channel transistors as load elements | |
| JPH0786916A (ja) | 半導体集積回路 | |
| US5506522A (en) | Data input/output line sensing circuit of a semiconductor integrated circuit | |
| KR20000009772A (ko) | 메모리용 저전력 감지 증폭기 | |
| KR20030013397A (ko) | 메모리 셀 상태의 판독시에 데이터 종속 전원 잡음을저감하는 회로 | |
| KR20010025982A (ko) | 반도체 메모리장치의 감지증폭기 | |
| KR100223849B1 (ko) | 반도체 메모리장치 | |
| KR100298433B1 (ko) | 반도체메모리장치의인터페이스 | |
| US6314038B1 (en) | Semiconductor memory device for reducing parasitic resistance of the I/O lines | |
| JP2001023375A (ja) | メモリ装置及びこれのデータ書き込み及び読み出し方法 | |
| KR100451992B1 (ko) | 반도체 메모리 소자의 전압 발생 회로 | |
| JP2003298410A (ja) | 半導体集積回路 | |
| US6552943B1 (en) | Sense amplifier for dynamic random access memory (“DRAM”) devices having enhanced read and write speed | |
| GB2300283A (en) | Source voltage generating circuit | |
| KR100282761B1 (ko) | I/o 클램프 회로를 구비한 반도체 메모리 장치 | |
| US7193888B2 (en) | Nonvolatile memory circuit based on change in MIS transistor characteristics | |
| KR100842899B1 (ko) | 전류 센스 앰프 회로 | |
| JPH09198865A (ja) | 半導体メモリ、半導体集積回路装置、制御回路、論理回路、および論理回路の特性を調節する方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |