JPS6123576B2 - - Google Patents
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- JPS6123576B2 JPS6123576B2 JP236179A JP236179A JPS6123576B2 JP S6123576 B2 JPS6123576 B2 JP S6123576B2 JP 236179 A JP236179 A JP 236179A JP 236179 A JP236179 A JP 236179A JP S6123576 B2 JPS6123576 B2 JP S6123576B2
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- Japan
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- signal
- etching
- recording
- substrate
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は映像や音声等の信号を記録するための
信号記録盤の製造方法に関し、特に複製盤を作成
するための原盤となる信号記録盤の作成方法に関
する。
信号記録盤の製造方法に関し、特に複製盤を作成
するための原盤となる信号記録盤の作成方法に関
する。
映像や音声等の信号を所定のデイスク状の記録
媒体すなわち信号記録盤に記録する方法に光学方
式がある。この光学方式においては映像や音声等
の信号を記録するために上記の信号に従つて断続
するように所定の方法で変調されたレーザービー
ム等のエネルギービームを使用し、信号記録盤の
表面に信号ピツトを形成することが行われてい
る。
媒体すなわち信号記録盤に記録する方法に光学方
式がある。この光学方式においては映像や音声等
の信号を記録するために上記の信号に従つて断続
するように所定の方法で変調されたレーザービー
ム等のエネルギービームを使用し、信号記録盤の
表面に信号ピツトを形成することが行われてい
る。
この方法において通常は信号記録盤として、ガ
ラス等から成る基板と、この基板の上面に設けら
れた二酸化ケイ素等から成るエツチング層と、こ
のエツチング層の上面を被覆する金属薄膜層等か
ら成る記録層の３つの層から成るものが使用され
る。こ信号記録盤に信号を記録する場合は信号記
録盤の上面を被覆する記録層に前記のエネルギー
ビームを照射することにより、記録すべき信号に
応じた所定のピツトパターンを形成する。またこ
のような方法で信号ピツトが形成された信号記録
盤を原盤として複製盤を作成するような場合はこ
のピツトパターン部分が形成された記録層をマス
クとしてエツチング層をエツチングし、マスクと
して使用した記録層を除去した後ピツトパターン
を金型等に転写することが行なわれる。
ラス等から成る基板と、この基板の上面に設けら
れた二酸化ケイ素等から成るエツチング層と、こ
のエツチング層の上面を被覆する金属薄膜層等か
ら成る記録層の３つの層から成るものが使用され
る。こ信号記録盤に信号を記録する場合は信号記
録盤の上面を被覆する記録層に前記のエネルギー
ビームを照射することにより、記録すべき信号に
応じた所定のピツトパターンを形成する。またこ
のような方法で信号ピツトが形成された信号記録
盤を原盤として複製盤を作成するような場合はこ
のピツトパターン部分が形成された記録層をマス
クとしてエツチング層をエツチングし、マスクと
して使用した記録層を除去した後ピツトパターン
を金型等に転写することが行なわれる。
第１図は従来の信号記録盤の信号記録前の状態
を示す断面図であり、本図においてガラス等から
成る基板１の上面には二酸化ケイ素等から成るエ
ツチング層２が設けられ、さらにこのエツチング
層２の表面を被覆してクロム等から成る記録層３
が形成されている。第２図には上記の信号記録盤
にエネルギービームによつてピツトパターンを形
成した状態が図示されている。本図に図示された
如く、ピツトパターン４が形成された部分の記録
層３は除去されてエツチング層２が露出した状態
になつている。次にエツチング層２のピツトパタ
ーン４に面する部分を所定の方法でエツチングし
て除去し、垂直方向の断面がほぼ矩形の信号ピツ
トを形成することが行われている。しかし乍らこ
の場合にエツチングの条件によつて形成される信
号ピツトの形状が種々に変化し、理想的な形状の
信号ピツトを得ることは非常に難かしい。例えば
第３図に図示された如く、信号ピツト５の内径Ｗ
が信号ピツト５の内部において下部になるほど大
である形状になつたり、ピツトパターン４の内径
W′より大になる場合がある。これはエツチング
時に記録層２が下方のみでなく側方にも侵食を受
けるためであり、通常アンダーカツト部分８と呼
ばれている。
を示す断面図であり、本図においてガラス等から
成る基板１の上面には二酸化ケイ素等から成るエ
ツチング層２が設けられ、さらにこのエツチング
層２の表面を被覆してクロム等から成る記録層３
が形成されている。第２図には上記の信号記録盤
にエネルギービームによつてピツトパターンを形
成した状態が図示されている。本図に図示された
如く、ピツトパターン４が形成された部分の記録
層３は除去されてエツチング層２が露出した状態
になつている。次にエツチング層２のピツトパタ
ーン４に面する部分を所定の方法でエツチングし
て除去し、垂直方向の断面がほぼ矩形の信号ピツ
トを形成することが行われている。しかし乍らこ
の場合にエツチングの条件によつて形成される信
号ピツトの形状が種々に変化し、理想的な形状の
信号ピツトを得ることは非常に難かしい。例えば
第３図に図示された如く、信号ピツト５の内径Ｗ
が信号ピツト５の内部において下部になるほど大
である形状になつたり、ピツトパターン４の内径
W′より大になる場合がある。これはエツチング
時に記録層２が下方のみでなく側方にも侵食を受
けるためであり、通常アンダーカツト部分８と呼
ばれている。
上記のようにアンダーカツト部分８が発生した
場合この信号ピツト５を金型等に転写することは
難かしい。すなわち信号ピツト５を転写するため
にこの信号ピツト５の内部に充填された金型が分
離不可能になつたり、信号ピツト５の形状が金型
に転写される場合に変形するようなことが起り、
記録された信号を忠実に転写することが不加能に
なる。
場合この信号ピツト５を金型等に転写することは
難かしい。すなわち信号ピツト５を転写するため
にこの信号ピツト５の内部に充填された金型が分
離不可能になつたり、信号ピツト５の形状が金型
に転写される場合に変形するようなことが起り、
記録された信号を忠実に転写することが不加能に
なる。
このように金型等により信号ピツトを転写する
場合には信号ピツトは特にその垂直方向の断面の
形状が転写し易いものであることが必要であり、
さらにはこの断面の形状が正確な矩形になつてい
ることが好ましい。さらにまたエツチング層２を
エツチングする段階で、信号ピツト５の側壁や底
面が粗され、微小な凹凸が形成される。この粗れ
は金型等の剥離を困難なものとするのみならず、
金型またはそれにより作成された複製盤にそのま
ま転写されるので、斯る複製盤を再生する際ノイ
ズの原因となる。特に光学的に再生する場合にお
いては光が干渉をおこし著しくＳ／Ｎを劣化させ
る。
場合には信号ピツトは特にその垂直方向の断面の
形状が転写し易いものであることが必要であり、
さらにはこの断面の形状が正確な矩形になつてい
ることが好ましい。さらにまたエツチング層２を
エツチングする段階で、信号ピツト５の側壁や底
面が粗され、微小な凹凸が形成される。この粗れ
は金型等の剥離を困難なものとするのみならず、
金型またはそれにより作成された複製盤にそのま
ま転写されるので、斯る複製盤を再生する際ノイ
ズの原因となる。特に光学的に再生する場合にお
いては光が干渉をおこし著しくＳ／Ｎを劣化させ
る。
本発明は信号ピツトが転写不可能な形状になる
ことを防止し、かつ信号ピツトを平坦な面で生成
し、もつてＳ／Ｎの優れた複製盤を作り得る信号
記録盤作成方法を提供することを目的とする。
ことを防止し、かつ信号ピツトを平坦な面で生成
し、もつてＳ／Ｎの優れた複製盤を作り得る信号
記録盤作成方法を提供することを目的とする。
次に本発明による信号記録盤作成方法について
図面を参照しながら詳細に説明する。
図面を参照しながら詳細に説明する。
本発明による信号記録盤作成方法においては、
信号記録盤としては従来と同様の構造を有するも
のを用いることができるが、好ましくは基板１と
エツチング層２との間に金属等よりなるエツチン
グストツパー層９を形成する。すなわちガラス等
から成る基板１とこの基板１上または好ましくは
この基板１上に形成されたクロム等の金属その他
エツチングに対して耐性を有する素材よりなるス
トツパー層９上に設けられた二酸化ケイ素等から
成るエツチング層２と、さらにこのエツチング層
２の上面を被覆するクロム、フオトレジスト等か
ら成る記録層３との少くとも３つの層を有する信
号記録盤を使用し、従来と同様の方法で記録さる
べき信号に応じて変調されたレーザービーム等の
エネルギービームを照射して記録層３にピツトパ
ターンを形成する。その後この記録層３がフオト
レジスト等である場合は所定の現像処理を行つた
後このピツトパターンが形成された記録層３をマ
スクとしてエツチング層２をエツチングし、凹部
を形成する。このエツチングは10乃至0.001Torr
のＣXＦYＨZ又はＳXＦYＨZ（Ｘ，Ｙは１以上の、
Ｚは零以上の整数）等のガス（例えばCHF3、
CF4、SF6）中で行うプラズマエツチング、イオン
ミリング等の物理的エツチングが好ましい。以上
のエツチングまでの過程は基板１上にストツパー
層９を形成した場合はその部分を除いて従来の信
号ピツトの形成方法と同様の過程であるが、本発
明による信号記録盤の信号ピツトの形成方法にお
いては、上記の各過程による処理が施された信号
記録盤の表面に金属、SiOX、ポリマー等の気相
成長法により形成可能な素材よりなる一定の厚さ
を有するオーバーコート層６，６′を形成するこ
とが特徴になつている。第４図には本発明に従つ
てオーバーコート層６，６′が形成された信号記
録盤の断面が図示されている。本図において、記
録層３の上面及びエツチング層２のエツチングに
より形成された凹部の底面からは例えばエツチン
グ層２と同一の二酸化ケイ素等かな成るオーバー
コート層６及び６′が所定の高さｈだけ伸長して
いる。このオーバーコート層６及び６′を成長さ
せるためには信号記録盤の上方から二酸化ケイ素
等を蒸着若しくはスパツタリング等の気相成長方
法で順次成長させれば良く、オーバーコート層の
高さｈは前記のエツチング層２の厚さｔより大で
あるように例えば1000Å〜3000Åの値をとること
が適当である。
信号記録盤としては従来と同様の構造を有するも
のを用いることができるが、好ましくは基板１と
エツチング層２との間に金属等よりなるエツチン
グストツパー層９を形成する。すなわちガラス等
から成る基板１とこの基板１上または好ましくは
この基板１上に形成されたクロム等の金属その他
エツチングに対して耐性を有する素材よりなるス
トツパー層９上に設けられた二酸化ケイ素等から
成るエツチング層２と、さらにこのエツチング層
２の上面を被覆するクロム、フオトレジスト等か
ら成る記録層３との少くとも３つの層を有する信
号記録盤を使用し、従来と同様の方法で記録さる
べき信号に応じて変調されたレーザービーム等の
エネルギービームを照射して記録層３にピツトパ
ターンを形成する。その後この記録層３がフオト
レジスト等である場合は所定の現像処理を行つた
後このピツトパターンが形成された記録層３をマ
スクとしてエツチング層２をエツチングし、凹部
を形成する。このエツチングは10乃至0.001Torr
のＣXＦYＨZ又はＳXＦYＨZ（Ｘ，Ｙは１以上の、
Ｚは零以上の整数）等のガス（例えばCHF3、
CF4、SF6）中で行うプラズマエツチング、イオン
ミリング等の物理的エツチングが好ましい。以上
のエツチングまでの過程は基板１上にストツパー
層９を形成した場合はその部分を除いて従来の信
号ピツトの形成方法と同様の過程であるが、本発
明による信号記録盤の信号ピツトの形成方法にお
いては、上記の各過程による処理が施された信号
記録盤の表面に金属、SiOX、ポリマー等の気相
成長法により形成可能な素材よりなる一定の厚さ
を有するオーバーコート層６，６′を形成するこ
とが特徴になつている。第４図には本発明に従つ
てオーバーコート層６，６′が形成された信号記
録盤の断面が図示されている。本図において、記
録層３の上面及びエツチング層２のエツチングに
より形成された凹部の底面からは例えばエツチン
グ層２と同一の二酸化ケイ素等かな成るオーバー
コート層６及び６′が所定の高さｈだけ伸長して
いる。このオーバーコート層６及び６′を成長さ
せるためには信号記録盤の上方から二酸化ケイ素
等を蒸着若しくはスパツタリング等の気相成長方
法で順次成長させれば良く、オーバーコート層の
高さｈは前記のエツチング層２の厚さｔより大で
あるように例えば1000Å〜3000Åの値をとること
が適当である。
また、このオーバーコート層６及び６′は信号
記録盤の表面全体からその上方にほぼ垂直に伸長
し、エツチング層２のアンダーカツト部分８はオ
ーバーコート層６の形成に対しては影響がないこ
とが特徴である。この際オーバーコート層６，
６′は横方向にもわずかに成長するが、これは信
号の再生においてはほとんど無視し得るものであ
る。
記録盤の表面全体からその上方にほぼ垂直に伸長
し、エツチング層２のアンダーカツト部分８はオ
ーバーコート層６の形成に対しては影響がないこ
とが特徴である。この際オーバーコート層６，
６′は横方向にもわずかに成長するが、これは信
号の再生においてはほとんど無視し得るものであ
る。
以上の過程によつて形成されたオーバーコート
層６，６′の表面にはその基底面の高さすなわち
基板１またはストツパー層９の表面を基底面とす
るオーバーコート層６と、記録層３の上面を基底
面とするオーバーコート層６′との高さの違いに
よつて段差が生じている。ここでこの段差による
凹部すなわち信号ピツト５′は記録層３とエツチ
ング層２とに形成されたピツトパターンに対して
ほぼ一致した横断面を有する形状になつているた
めエツチング層２のエツチング層のみによつて形
成された信号ピツト５に比較して遥かに精度が向
上している。そしてこの信号５′は直接エツチン
グにより形成されたものではないため、その側壁
は平坦な面により形成される。さらにその底面も
エツチングにより粗れた基板表面７よりもはるか
に平坦な面とすることができるし、基板１上にス
トツパー層９を形成した場合は、基礎となる面が
ほとんどエツチングにより粗されないから、より
平坦な面とすることが可能となる。
層６，６′の表面にはその基底面の高さすなわち
基板１またはストツパー層９の表面を基底面とす
るオーバーコート層６と、記録層３の上面を基底
面とするオーバーコート層６′との高さの違いに
よつて段差が生じている。ここでこの段差による
凹部すなわち信号ピツト５′は記録層３とエツチ
ング層２とに形成されたピツトパターンに対して
ほぼ一致した横断面を有する形状になつているた
めエツチング層２のエツチング層のみによつて形
成された信号ピツト５に比較して遥かに精度が向
上している。そしてこの信号５′は直接エツチン
グにより形成されたものではないため、その側壁
は平坦な面により形成される。さらにその底面も
エツチングにより粗れた基板表面７よりもはるか
に平坦な面とすることができるし、基板１上にス
トツパー層９を形成した場合は、基礎となる面が
ほとんどエツチングにより粗されないから、より
平坦な面とすることが可能となる。
以上のように本発明による信号記録盤作成方法
においてはエネルギービームによつて形成された
ピツトパターンに対して非常に忠実な信号ピツト
を形成することが可能となつたものであり、かつ
従来のエツチング過程において発生したアンダー
カツト部分や面の粗れを容易に修復することがで
きることが特徴である。これによつて映像や音声
等の信号を非常に高い精度で信号記録盤に記録し
ておくことが可能になつたほか、この信号記録盤
を原盤として所定の金型等に信号ピツトを転写す
る場合、信号ピツト５′は常に一定の内径W′を有
するものでありすなわち矩形の断面を有している
ため転写が正確かつ容易であり、その結果この信
号記録盤をもとにして精度の高い複製盤を作成す
ることが可能になつたものである。
においてはエネルギービームによつて形成された
ピツトパターンに対して非常に忠実な信号ピツト
を形成することが可能となつたものであり、かつ
従来のエツチング過程において発生したアンダー
カツト部分や面の粗れを容易に修復することがで
きることが特徴である。これによつて映像や音声
等の信号を非常に高い精度で信号記録盤に記録し
ておくことが可能になつたほか、この信号記録盤
を原盤として所定の金型等に信号ピツトを転写す
る場合、信号ピツト５′は常に一定の内径W′を有
するものでありすなわち矩形の断面を有している
ため転写が正確かつ容易であり、その結果この信
号記録盤をもとにして精度の高い複製盤を作成す
ることが可能になつたものである。
第１図は従来の信号記録盤の断面図、第２図は
従来の信号記録盤にピツトパターンが形成された
場合の断面図、第３図は従来の信号記録盤に信号
ピツトが形成された場合の断面図、第４図は本発
明に従つて信号ピツトが形成された信号記録盤の
断面図である。 主要部分の符号の説明、１……基板、２……エ
ツチング層、３……記録層、４……ピツトパター
ン、５，５′……信号ピツト、６，６′……オーバ
ーコート層、７……基板表面、８……アンダーカ
ツト部分。
従来の信号記録盤にピツトパターンが形成された
場合の断面図、第３図は従来の信号記録盤に信号
ピツトが形成された場合の断面図、第４図は本発
明に従つて信号ピツトが形成された信号記録盤の
断面図である。 主要部分の符号の説明、１……基板、２……エ
ツチング層、３……記録層、４……ピツトパター
ン、５，５′……信号ピツト、６，６′……オーバ
ーコート層、７……基板表面、８……アンダーカ
ツト部分。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基板上にエツチング層と記録層とを形成し、
前記基板上に設けられた前記エツチング層の上面
を被覆する前記記録層に所定のエネルギービーム
を用いて記録さるべき信号に対応したピツトパタ
ーンを形成し、該ピツトパターンが形成された記
録層をマスクとして前記エツチング装置をエツチ
ングして凹部を作成し、前記記録層及び前記エツ
チングにより生じた凹部の上面に前記エツチング
層の厚さより大なる厚さのオーバーコート層を前
記基板に対して垂直方向に厚さが増すように成長
させることを特徴とする信号記録盤作成方法。 ２ 上記基板とエツチング層との間にストツパー
層を形成することを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の信号記録盤作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP236179A JPS5597032A (en) | 1979-01-12 | 1979-01-12 | Forming method of signal recording board |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP236179A JPS5597032A (en) | 1979-01-12 | 1979-01-12 | Forming method of signal recording board |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5597032A JPS5597032A (en) | 1980-07-23 |
| JPS6123576B2 true JPS6123576B2 (ja) | 1986-06-06 |
Family
ID=11527113
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP236179A Granted JPS5597032A (en) | 1979-01-12 | 1979-01-12 | Forming method of signal recording board |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5597032A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0251776U (ja) * | 1988-10-05 | 1990-04-12 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20080152936A1 (en) * | 2005-01-06 | 2008-06-26 | Koninklijke Philips Electronics, N.V. | Methods For Mastering And Mastering Substrate |
-
1979
- 1979-01-12 JP JP236179A patent/JPS5597032A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0251776U (ja) * | 1988-10-05 | 1990-04-12 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5597032A (en) | 1980-07-23 |
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