JPS61237U - 電子ビ−ム露光装置 - Google Patents

電子ビ−ム露光装置

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Publication number
JPS61237U
JPS61237U JP8400784U JP8400784U JPS61237U JP S61237 U JPS61237 U JP S61237U JP 8400784 U JP8400784 U JP 8400784U JP 8400784 U JP8400784 U JP 8400784U JP S61237 U JPS61237 U JP S61237U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
electron beam
fixing plate
beam exposure
substrate fixing
Prior art date
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Pending
Application number
JP8400784U
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English (en)
Inventor
直樹 河辺
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Publication of JPS61237U publication Critical patent/JPS61237U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案に係る基板ホルダの構成を示すものでA
は平面図、BはXY線における断面図、Cは部分拡大断
面図、第2図は従来の基板ホルダの構成図でAは平面図
、BはXY線における断面図、Cは部分拡大断面図であ
る。 図において、1は基板固定板、2はホルダフレーム、3
は板バネ、4は被処理半導体基板、5は押さえ板、6,
8は平行バネ、7は針、9は穴。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 電子ビームが照射される被処理基板を載置する基板固定
    板と、該基板固定板を保持するホルダーフレームとを具
    備し、該ホルダーフレームの複数個所に設けた押さえ板
    に下方より板バネを用いて該基板固定板を圧接して固定
    する構造をとる該基板固定板の下面に被処理基板のチャ
    ーどアンプ防止用の針を備えた平行バネを設け、該基板
    固定板に設けた穴を通して処理基板を針により加圧し、
    固定するようにしたことを特徴とする電子ビーム露光装
    置。
JP8400784U 1984-06-06 1984-06-06 電子ビ−ム露光装置 Pending JPS61237U (ja)

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JP8400784U JPS61237U (ja) 1984-06-06 1984-06-06 電子ビ−ム露光装置

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JPS61237U true JPS61237U (ja) 1986-01-06

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ID=30633146

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