JPS61245007A - 欠陥検査装置 - Google Patents
欠陥検査装置Info
- Publication number
- JPS61245007A JPS61245007A JP60086382A JP8638285A JPS61245007A JP S61245007 A JPS61245007 A JP S61245007A JP 60086382 A JP60086382 A JP 60086382A JP 8638285 A JP8638285 A JP 8638285A JP S61245007 A JPS61245007 A JP S61245007A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- defect
- image pattern
- roughly
- defect candidate
- inspection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Closed-Circuit Television Systems (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発明は、検査技術さらには画像パターンによる欠陥
検査に適用して特に有効な技術に関するもので、例えば
半導体集積@路が形成された半導体チップの欠陥検査の
利用にして有効な技術に関するものである。
検査に適用して特に有効な技術に関するもので、例えば
半導体集積@路が形成された半導体チップの欠陥検査の
利用にして有効な技術に関するものである。
例えば半導体集積回路が形成された半導体チップのパタ
ーン検査では、その半導体チップの画像パターンを電気
的に読取り、この読取画像パターンから欠陥の判定・抽
出を行う。
ーン検査では、その半導体チップの画像パターンを電気
的に読取り、この読取画像パターンから欠陥の判定・抽
出を行う。
この場合、その欠陥の判定・抽出手段には、大きく分け
て2とおりある。
て2とおりある。
その一つは、入力画像パターンと基準パターンとを1対
lで対応させて比較し、両者の一致度がら一律に欠陥の
判定を行う。この場合、その判定の基準は一律であって
、−室以上の不一致はすべて欠陥とみなされる。
lで対応させて比較し、両者の一致度がら一律に欠陥の
判定を行う。この場合、その判定の基準は一律であって
、−室以上の不一致はすべて欠陥とみなされる。
今一つは、各部分ごとにそれぞれに登録された多数の辞
書パターンを使用し、この辞書パターンを参照すること
により各入力画像パターンごとの欠陥の状態を詳細に判
定する。この場合は、その判定の基準が入力画像パター
ンの位置や種類などに応じて多様に変化し、また欠陥を
その種類に分けて詳細に判定することを行う。
書パターンを使用し、この辞書パターンを参照すること
により各入力画像パターンごとの欠陥の状態を詳細に判
定する。この場合は、その判定の基準が入力画像パター
ンの位置や種類などに応じて多様に変化し、また欠陥を
その種類に分けて詳細に判定することを行う。
前者のものでは、欠陥の検出を高速で行うことができる
が、判定の基準が一律であるため、その検査はどうして
も大雑把にならざるを得す、このため良品までも不良品
と判定してしまうことが多い、という問題点があった。
が、判定の基準が一律であるため、その検査はどうして
も大雑把にならざるを得す、このため良品までも不良品
と判定してしまうことが多い、という問題点があった。
他方、後者のものでは、多数の辞書パターンの参照など
により欠陥の判定が非常に適切かつ正確に行われるとい
う利点があるが、その判定の処理時間が長くかかり、従
って量産工程において多量の被検査体の欠陥を検査する
用途には適合させ難い、という問題点があった。
により欠陥の判定が非常に適切かつ正確に行われるとい
う利点があるが、その判定の処理時間が長くかかり、従
って量産工程において多量の被検査体の欠陥を検査する
用途には適合させ難い、という問題点があった。
以上のように、従来のこの種の欠陥検査装置には検査の
速度と精度とを両立させることが難しい、という問題点
のあることが本発明者によって明らかとされた。
速度と精度とを両立させることが難しい、という問題点
のあることが本発明者によって明らかとされた。
なお、この種の欠陥検査装置にて利用され得るパターン
認識技術については、例えば日経マグロウヒル社刊行の
「日経メカニカル1982.6゜21J77〜79頁な
どに記載されている。
認識技術については、例えば日経マグロウヒル社刊行の
「日経メカニカル1982.6゜21J77〜79頁な
どに記載されている。
この発明の目的は、入力画像パターンに基づく欠陥の検
査を迅速かつ高精度に行うことができる欠陥検査技術を
提供することにある。
査を迅速かつ高精度に行うことができる欠陥検査技術を
提供することにある。
この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴に
ついては、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
ついては、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
本願において開示される発明のうち代表的なものを簡単
に説明すれば、下記のとおりである。
に説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、欠陥候補を荒抽出するだけの第1の手段と、
欠陥を詳細に判定する第2の手段とを備えるとともに、
第1の手段で抽出された欠陥候補だけを第2の手段で詳
細に判定することにより、欠陥の検査を迅速かつ高精度
に行うことができるようにする、という目的を達成する
ものである。
欠陥を詳細に判定する第2の手段とを備えるとともに、
第1の手段で抽出された欠陥候補だけを第2の手段で詳
細に判定することにより、欠陥の検査を迅速かつ高精度
に行うことができるようにする、という目的を達成する
ものである。
以下、この発明の代表的な実施例を図面を参照しながら
説明する。
説明する。
なお、図面において同一符号は同一あるいは相当部分を
示す。
示す。
第1図はこの発明による欠陥検査装置の一実施例を示す
。
。
同図に示す装置は、被検査体の欠陥をその画像パターン
に基づいて検査する欠陥検査装置であって、被検査体か
ら電気的に読みとられた入力画像パターンから欠陥候補
部分を荒抽出する第1の欠陥判定手段と、この第1の欠
陥抽出手段によって荒抽出された欠陥候補部分の画像パ
ターンに対してだけ詳細な欠陥の判定を行・う第2の欠
陥抽出手段とを備えたことを特徴とする。
に基づいて検査する欠陥検査装置であって、被検査体か
ら電気的に読みとられた入力画像パターンから欠陥候補
部分を荒抽出する第1の欠陥判定手段と、この第1の欠
陥抽出手段によって荒抽出された欠陥候補部分の画像パ
ターンに対してだけ詳細な欠陥の判定を行・う第2の欠
陥抽出手段とを備えたことを特徴とする。
第1図において、1は例えば半導体集積回路が形成され
た半導体チップのごとき被検査体、2はCODあるいは
撮像管などを用いた画像入力装置、3は画像入力装置2
にて読み取った画像信号20をデジタル化するA/D変
換器を示す。21はそのデジタル化された画像信号を示
す。
た半導体チップのごとき被検査体、2はCODあるいは
撮像管などを用いた画像入力装置、3は画像入力装置2
にて読み取った画像信号20をデジタル化するA/D変
換器を示す。21はそのデジタル化された画像信号を示
す。
また、4は欠陥荒抽出部を示す。この欠陥荒出部4は前
は記憶1の欠陥抽出部に相当するものであって、2つの
被検査体の互いに対応する部分の画像入カバターンを相
互に比較し、両者の不一致度から欠陥候補の荒抽を行う
。22はこの欠陥荒抽出部4が欠陥候補を検出・抽出し
たときの判定出力を示す、この判定出力22が出力され
ると、位置検出回路5が荒抽出された欠陥候補の位置を
検出する。そして、この検出位置データセレクトタ8を
介して全体制御装置(CPU)9に入力されて記憶され
るようになっている。全体制御装置9はCPU (マイ
クロ・コンピュータ)を用いて構成されている。27は
この全体制御装置9からデータセレクトタ8を介して入
出力されるデータ27を示す。
は記憶1の欠陥抽出部に相当するものであって、2つの
被検査体の互いに対応する部分の画像入カバターンを相
互に比較し、両者の不一致度から欠陥候補の荒抽を行う
。22はこの欠陥荒抽出部4が欠陥候補を検出・抽出し
たときの判定出力を示す、この判定出力22が出力され
ると、位置検出回路5が荒抽出された欠陥候補の位置を
検出する。そして、この検出位置データセレクトタ8を
介して全体制御装置(CPU)9に入力されて記憶され
るようになっている。全体制御装置9はCPU (マイ
クロ・コンピュータ)を用いて構成されている。27は
この全体制御装置9からデータセレクトタ8を介して入
出力されるデータ27を示す。
6は欠陥詳細抽出部、7は特徴抽出比較回路を示す、こ
の欠陥詳細抽出部6と特徴抽出比較回路7は前記第2の
欠陥抽出部に相当するものであって、辞書パターンを参
照することにより上記欠陥荒抽出部4によって抽出され
た部分の画像パターンの詳細な欠陥の判定を行゛う、欠
陥詳細抽出部6には、詳細は後述するが、辞書画像メモ
リや信号正規化回路などが含まれている。特徴抽出比較
回路7ば、入力画像パターン24と辞書登録された画像
パターン25のそれぞれの特徴を抽出して相互に比較す
ることにより欠陥の詳陥な判定処理を行う。この特徴抽
出比較回路26の出力26はデータセレクタ8を介して
上記全体制御装置9へ送られるようになっている。
の欠陥詳細抽出部6と特徴抽出比較回路7は前記第2の
欠陥抽出部に相当するものであって、辞書パターンを参
照することにより上記欠陥荒抽出部4によって抽出され
た部分の画像パターンの詳細な欠陥の判定を行゛う、欠
陥詳細抽出部6には、詳細は後述するが、辞書画像メモ
リや信号正規化回路などが含まれている。特徴抽出比較
回路7ば、入力画像パターン24と辞書登録された画像
パターン25のそれぞれの特徴を抽出して相互に比較す
ることにより欠陥の詳陥な判定処理を行う。この特徴抽
出比較回路26の出力26はデータセレクタ8を介して
上記全体制御装置9へ送られるようになっている。
10は同期信号発生器であって、所定の同期信号H,V
などを発生して各部に与える。Hは水平同期信号、■は
垂直同期信号を示す、この同期信号H,Vに同期して画
像が読み込まれる。この同期信号発生回路10は上記全
制御装置9からの指令28に基づいて動作する。
などを発生して各部に与える。Hは水平同期信号、■は
垂直同期信号を示す、この同期信号H,Vに同期して画
像が読み込まれる。この同期信号発生回路10は上記全
制御装置9からの指令28に基づいて動作する。
11はXYステージであって、この上に半導体ウェハー
などの被検査体1が載置される。このXYステージ11
は上記同期信号発生器10からの同期信号Fにより、被
検査体1の送り動作を画像の読取りに同期して行うよう
になっている1画像入力装置2は被検査体1の一部しか
読みとらないが、XYステージ11がXY方向の送り動
作を行うことにより、その被検査体1の全体を走査して
読取れるようになっている。
などの被検査体1が載置される。このXYステージ11
は上記同期信号発生器10からの同期信号Fにより、被
検査体1の送り動作を画像の読取りに同期して行うよう
になっている1画像入力装置2は被検査体1の一部しか
読みとらないが、XYステージ11がXY方向の送り動
作を行うことにより、その被検査体1の全体を走査して
読取れるようになっている。
第2図は上記欠陥荒抽出部4の詳細を示す。
同図に示すように、欠陥荒抽出部4は1画像メモリ40
1.デジタル加算回路402、絶対値変換回路403、
デジタル比較回路404、しきい値設定レジスタ405
、信号選択回路406、および論理反転回路407など
によって構成される。
1.デジタル加算回路402、絶対値変換回路403、
デジタル比較回路404、しきい値設定レジスタ405
、信号選択回路406、および論理反転回路407など
によって構成される。
同図において、デジタル化された入力画像信号21は、
その信号によって表される画像パターンが画像メモリ4
01上にビットパターンの形で記憶させられるとともに
、デジタル加算回路402の一方の加算入力(+)に入
力される。このデジタル加算回路402の他方の加算入
力(+)には、前回に入力された画像信号が論理反転回
路4.07を介して入力されるようになっている。これ
により、その加算回路402は1画像信号の入力口ごと
に、前回の入力画像信号と今回の画像信号との差をとっ
て出力する。この差は絶対値変換回路403にてその絶
対値がとられる。この差の絶対値21′はデジタル比較
回路404にて基準のしきい値と大小比較され、この比
較結果が前記判定出力22(第1図)として出力される
ようになっている。
その信号によって表される画像パターンが画像メモリ4
01上にビットパターンの形で記憶させられるとともに
、デジタル加算回路402の一方の加算入力(+)に入
力される。このデジタル加算回路402の他方の加算入
力(+)には、前回に入力された画像信号が論理反転回
路4.07を介して入力されるようになっている。これ
により、その加算回路402は1画像信号の入力口ごと
に、前回の入力画像信号と今回の画像信号との差をとっ
て出力する。この差は絶対値変換回路403にてその絶
対値がとられる。この差の絶対値21′はデジタル比較
回路404にて基準のしきい値と大小比較され、この比
較結果が前記判定出力22(第1図)として出力される
ようになっている。
第3図は上記欠陥詳細抽出部5の詳細を示す。
同図に示すように、欠陥詳細抽出部6は、デジタル比較
回路601、しきい値テーブル602、辞書画像メモリ
603等によって構成される。
回路601、しきい値テーブル602、辞書画像メモリ
603等によって構成される。
同図において、デジタル比較回路601としきい値テー
ブル602は入力画像信号21を比較処理するための正
規化を行う。しきい値テーブル602は例えばROMな
どを用いて構成され、所定範囲のレベルを切り出すため
に上限と下限の2つのしきい値61.62を発する。そ
の2つのしきい値61.62の各レベルは、制御装置9
からの指令に基づいてそれぞれに選定された。
ブル602は入力画像信号21を比較処理するための正
規化を行う。しきい値テーブル602は例えばROMな
どを用いて構成され、所定範囲のレベルを切り出すため
に上限と下限の2つのしきい値61.62を発する。そ
の2つのしきい値61.62の各レベルは、制御装置9
からの指令に基づいてそれぞれに選定された。
次に動作について説明する。
第4図は上述した装置の動作を示す。
同図において、82〜s5までのステップでは、前記第
1の欠陥抽出手段としての動作が行われる。
1の欠陥抽出手段としての動作が行われる。
すなわち、この32〜s5では、2つの被検査体の互い
に対応する部分の画像パターンを相互に単純比較して両
者の一致度から欠陥候補の荒抽出行う処理が実行される
。なお、slは初期化を行うためのルーチンで、実質の
処理は32〜s5のループにて行われる。
に対応する部分の画像パターンを相互に単純比較して両
者の一致度から欠陥候補の荒抽出行う処理が実行される
。なお、slは初期化を行うためのルーチンで、実質の
処理は32〜s5のループにて行われる。
また、sloでは前記第2の欠陥抽出手段としての動作
が行われる。すなわち、このsloでは、多数の辞書パ
ターンを参照することにより画像パターンの詳細な欠陥
の判定を行う処理を実行する。
が行われる。すなわち、このsloでは、多数の辞書パ
ターンを参照することにより画像パターンの詳細な欠陥
の判定を行う処理を実行する。
ここで、82〜s5のループ実行中
繰り返して、その間に一回も欠陥候補が検出されなけれ
ば、s8のフラグチェック(F= 1 ?)により、s
lOが実行されることなく、検査が終了する。
ば、s8のフラグチェック(F= 1 ?)により、s
lOが実行されることなく、検査が終了する。
ところが、そのs2〜s5のループ実行中に−回でも欠
陥候補が検出されると、分岐ルーチン56t−s 7が
実行されて、フラグFが1にセットされ、さらにその欠
陥候補の出た位置が記憶される。
陥候補が検出されると、分岐ルーチン56t−s 7が
実行されて、フラグFが1にセットされ、さらにその欠
陥候補の出た位置が記憶される。
そして、S2〜S5のループが所定回数実行され終わっ
た後で、s8のフラグチェックにより、S10による第
2の欠陥抽出ルーチンが実行されるようになる。このと
き、その第2の欠陥抽出ルーチンでは、slにて記憶し
た位置の欠陥候補だけを詳細な判定処理にかける。これ
により、すべての入力画像パターン対して詳細な判定処
理を行わずとも、欠陥を含むかも知れない一部画像パタ
ーンに対してだけ詳細な判定処理を行うだけでもって、
実質的にすべての入力画像に対して詳細な欠陥判定を行
ったのと同じ結果を得ことができる。
た後で、s8のフラグチェックにより、S10による第
2の欠陥抽出ルーチンが実行されるようになる。このと
き、その第2の欠陥抽出ルーチンでは、slにて記憶し
た位置の欠陥候補だけを詳細な判定処理にかける。これ
により、すべての入力画像パターン対して詳細な判定処
理を行わずとも、欠陥を含むかも知れない一部画像パタ
ーンに対してだけ詳細な判定処理を行うだけでもって、
実質的にすべての入力画像に対して詳細な欠陥判定を行
ったのと同じ結果を得ことができる。
以上のようにして、入力画像パターンに基づく欠陥の検
査を迅速かつ高精度に行うことができる。
査を迅速かつ高精度に行うことができる。
なお、52〜s5による第1の欠陥抽出とsl。
による第2の欠陥抽出は、制御装置の制御プログラムに
よって、その何れか一方だけを任意に選択して実行させ
るようにもできる。
よって、その何れか一方だけを任意に選択して実行させ
るようにもできる。
(1)欠陥候補を荒抽出するだけの第1の手段と、欠陥
を詳細な判定する第2の手段とを備えるとともに、第1
の手段で抽出された欠陥候補だけを第2の手段で詳細に
判定することにより、欠陥の検査を迅速かつ高精度に行
うことができる、という効果が得られる。
を詳細な判定する第2の手段とを備えるとともに、第1
の手段で抽出された欠陥候補だけを第2の手段で詳細に
判定することにより、欠陥の検査を迅速かつ高精度に行
うことができる、という効果が得られる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。′ 以上、本発明者によってなされた発明をその背景となっ
た利用分野である判導体チップのパターン検査技術に適
用した場合について説明したが、それに限定されるもの
ではなく1例えばプリント基板あるいはその他の印刷物
のパターン検査技術などにも適用できる。
体的に説明したが、この発明は上記実施に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。′ 以上、本発明者によってなされた発明をその背景となっ
た利用分野である判導体チップのパターン検査技術に適
用した場合について説明したが、それに限定されるもの
ではなく1例えばプリント基板あるいはその他の印刷物
のパターン検査技術などにも適用できる。
第1図はこの発明による欠陥検査装置の一実施例を示す
ブロック図、 第2図は第1図の一部を詳細に示すブロック図、第3図
は第1図の他の部分を詳細に示すブロック図。 第4図は第1図に示した装置の動作を示すフローチャー
トである。 1・・・被検査体、2・・・画像入力装置、4・・・第
1の欠陥抽出手段としての欠陥抽出手段 出回路、6・・・第2の欠陥抽出手段としての欠陥詳細
抽出部、7・・・特徴抽出比較回路、9・・・全体制御
装置。 第 1 図 第 2 因 第 3 図
ブロック図、 第2図は第1図の一部を詳細に示すブロック図、第3図
は第1図の他の部分を詳細に示すブロック図。 第4図は第1図に示した装置の動作を示すフローチャー
トである。 1・・・被検査体、2・・・画像入力装置、4・・・第
1の欠陥抽出手段としての欠陥抽出手段 出回路、6・・・第2の欠陥抽出手段としての欠陥詳細
抽出部、7・・・特徴抽出比較回路、9・・・全体制御
装置。 第 1 図 第 2 因 第 3 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、被検査体の欠陥をその画像パターンに基づいて検査
する欠陥検査装置であって、被検査体から電気的に読み
とられた入力画像パターンから欠陥候補部分を荒抽出す
る第1の欠陥判定手段と、この第1の欠陥抽出手段によ
って荒抽出された欠陥候補部分の画像パターンに対して
だけ詳細な欠陥の判定を行う第2の欠陥抽出手段とを備
えたことを特徴とする欠陥検査装置。 2、上記第1の欠陥抽出手段は、2つの被検査体の互い
に対応する部分の画像パターンを相互に比較して両者の
一致度から欠陥候補の荒抽出を行うように構成され、上
記第2の欠陥抽出手段は、辞書パターンを参照すること
により第1の欠陥抽出手段によって荒抽出された部分の
画像パターンの詳細な欠陥の判定を行うように構成され
たことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の欠陥検
査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60086382A JPS61245007A (ja) | 1985-04-24 | 1985-04-24 | 欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60086382A JPS61245007A (ja) | 1985-04-24 | 1985-04-24 | 欠陥検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61245007A true JPS61245007A (ja) | 1986-10-31 |
Family
ID=13885322
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60086382A Pending JPS61245007A (ja) | 1985-04-24 | 1985-04-24 | 欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61245007A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0385742A (ja) * | 1989-08-30 | 1991-04-10 | Hitachi Ltd | 欠陥検査方法及びその装置 |
| JPH0552763A (ja) * | 1991-08-23 | 1993-03-02 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の外観検査装置 |
| EP0687902A1 (en) * | 1994-06-15 | 1995-12-20 | Kodak-Pathe | Method and device for counting and characterising defects on a photographic support |
| JPH0855218A (ja) * | 1994-08-09 | 1996-02-27 | Fujitsu Ltd | パターン検査方法及びパターン検査装置 |
| JPH10307918A (ja) * | 1997-05-09 | 1998-11-17 | Nippon Avionics Co Ltd | パターン検査方法及びパターン検査装置 |
| US6952491B2 (en) | 1990-11-16 | 2005-10-04 | Applied Materials, Inc. | Optical inspection apparatus for substrate defect detection |
| JP2008516233A (ja) * | 2004-10-04 | 2008-05-15 | ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション | 能力が向上した表面検査システム |
-
1985
- 1985-04-24 JP JP60086382A patent/JPS61245007A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0385742A (ja) * | 1989-08-30 | 1991-04-10 | Hitachi Ltd | 欠陥検査方法及びその装置 |
| US6952491B2 (en) | 1990-11-16 | 2005-10-04 | Applied Materials, Inc. | Optical inspection apparatus for substrate defect detection |
| JPH0552763A (ja) * | 1991-08-23 | 1993-03-02 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の外観検査装置 |
| EP0687902A1 (en) * | 1994-06-15 | 1995-12-20 | Kodak-Pathe | Method and device for counting and characterising defects on a photographic support |
| FR2721418A1 (fr) * | 1994-06-15 | 1995-12-22 | Kodak Pathe | Procédé et dispositif pour le comptage et la caractérisation de défauts sur un support photographique. |
| US5641971A (en) * | 1994-06-15 | 1997-06-24 | Eastman Kodak Company | Method and device for counting and characterizing defects on a photographic support |
| JPH0855218A (ja) * | 1994-08-09 | 1996-02-27 | Fujitsu Ltd | パターン検査方法及びパターン検査装置 |
| JPH10307918A (ja) * | 1997-05-09 | 1998-11-17 | Nippon Avionics Co Ltd | パターン検査方法及びパターン検査装置 |
| JP2008516233A (ja) * | 2004-10-04 | 2008-05-15 | ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション | 能力が向上した表面検査システム |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US11189019B2 (en) | Method for detecting defects, electronic device, and computer readable medium | |
| JPS59157505A (ja) | パタ−ン検査装置 | |
| WO2020199283A1 (zh) | 集成电路光学芯片光圈测试方法 | |
| KR930002347B1 (ko) | 패턴위치 인식장치 | |
| JP2000223385A5 (ja) | ||
| JPH0210461B2 (ja) | ||
| CN119831926A (zh) | 电子器件的缺陷检测方法、装置、光学检测设备及介质 | |
| JPH0441777B2 (ja) | ||
| JP3370315B2 (ja) | パターン検査方法および装置 | |
| JP3198105B2 (ja) | 自動外観検査装置 | |
| KR970007974B1 (ko) | 반도체 공정결함 검사방법 | |
| JPH05281151A (ja) | ウエハパターン検査装置 | |
| JP2004061118A (ja) | パターン検査装置及びパターン検査方法 | |
| JP2002198406A (ja) | 外観検査方法 | |
| KR970007973B1 (ko) | 반도체 공정결함 검사 방법 | |
| KR890002448B1 (ko) | 이미지 프로세싱을 이용한 pcb 라인 검출장치 | |
| JPH02154106A (ja) | 形状検査装置 | |
| JPS6340841A (ja) | パタ−ン欠陥検査方法 | |
| JPS58180933A (ja) | パタ−ン欠陥検査装置 | |
| JP2765339B2 (ja) | スルーホール検査装置 | |
| JPH0254495B2 (ja) | ||
| JPS6382583A (ja) | 画像処理装置 | |
| JPH05281307A (ja) | 半導体回路 | |
| JPH0783848A (ja) | プリント基板パターン検査装置 | |
| JPH033269B2 (ja) |