JPH05281151A - ウエハパターン検査装置 - Google Patents
ウエハパターン検査装置Info
- Publication number
- JPH05281151A JPH05281151A JP4109191A JP10919192A JPH05281151A JP H05281151 A JPH05281151 A JP H05281151A JP 4109191 A JP4109191 A JP 4109191A JP 10919192 A JP10919192 A JP 10919192A JP H05281151 A JPH05281151 A JP H05281151A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image
- wafer
- inspection
- circuit
- master
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Closed-Circuit Television Systems (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウエハ間の表面処理のバラツキによる誤検出
を生じず、高精度なパターン検査をなし得る。 【構成】 視覚センサ3によりウエハ1の検査画像を入
力する。入力した検査画像と予め記憶されたマスタ画像
とを画像比較回路4dで比較し、比較画像の相違量より
ウエハ1の良否を判定回路4eで判定する。上記相違量
が所定値以下の時には、入力された検査画像を新たなマ
スタ画像としてマスタ記憶回路4hに記憶し、ウエハ良
否の判定結果は判定出力処理回路5へ出力される。ウエ
ハ1の表面状態が僅かづつ変化しても、この変化に追従
してマスタ画像が更新されるから、表面状態のバラツキ
はキャンセルされ、回路欠陥等による相違のみが良好に
検出される。
を生じず、高精度なパターン検査をなし得る。 【構成】 視覚センサ3によりウエハ1の検査画像を入
力する。入力した検査画像と予め記憶されたマスタ画像
とを画像比較回路4dで比較し、比較画像の相違量より
ウエハ1の良否を判定回路4eで判定する。上記相違量
が所定値以下の時には、入力された検査画像を新たなマ
スタ画像としてマスタ記憶回路4hに記憶し、ウエハ良
否の判定結果は判定出力処理回路5へ出力される。ウエ
ハ1の表面状態が僅かづつ変化しても、この変化に追従
してマスタ画像が更新されるから、表面状態のバラツキ
はキャンセルされ、回路欠陥等による相違のみが良好に
検出される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はウエハパターン検査装置
に関し、特に高い検査精度を有する検査装置に関する。
に関し、特に高い検査精度を有する検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路を形成したウエハの外観
検査を自動化したウエハパターン検査装置は、例えば特
開平2−170549号公報に記載されており、ここで
はウエハの検査画像を入力して予め記憶した基準となる
マスタ画像と比較し、比較画像が相違する箇所に欠陥が
あるとして良否の判定を行っている。
検査を自動化したウエハパターン検査装置は、例えば特
開平2−170549号公報に記載されており、ここで
はウエハの検査画像を入力して予め記憶した基準となる
マスタ画像と比較し、比較画像が相違する箇所に欠陥が
あるとして良否の判定を行っている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、発明者の実験
によると、ウエハ表面は、ロット間、ウエハ間、チップ
間でその状態にバラツキがあるとともに、このバラツキ
はこれらの間で僅かづつ変化する。したがって、ある程
度近いウエハ(ないしチップ)間ではこのバラツキはそ
れ程問題とならないが、従来装置の如く、基準のマスタ
画像を常に同一のものにしていると、検査対象となるウ
エハのバラツキが蓄積されて比較画像の相違量が許容値
を越え、回路パターンに欠陥がないにも係わらず判定結
果は否となることがある。
によると、ウエハ表面は、ロット間、ウエハ間、チップ
間でその状態にバラツキがあるとともに、このバラツキ
はこれらの間で僅かづつ変化する。したがって、ある程
度近いウエハ(ないしチップ)間ではこのバラツキはそ
れ程問題とならないが、従来装置の如く、基準のマスタ
画像を常に同一のものにしていると、検査対象となるウ
エハのバラツキが蓄積されて比較画像の相違量が許容値
を越え、回路パターンに欠陥がないにも係わらず判定結
果は否となることがある。
【0004】本発明はかかる課題を解決するもので、ウ
エハ間の表面処理のバラツキによる誤検出を生じること
なく、常に高精度なパターン検査をなし得るウエハパタ
ーン検査装置を提供することを目的とする。
エハ間の表面処理のバラツキによる誤検出を生じること
なく、常に高精度なパターン検査をなし得るウエハパタ
ーン検査装置を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の構成を図8で説
明すると、ウエハパターン検査装置は、ウエハの検査画
像を入力する手段と、入力した検査画像と予め記憶され
たマスタ画像とを比較する比較手段と、比較画像の相違
量よりウエハの良否を判定する手段と、上記相違量が所
定値以下の時に、上記入力された検査画像を新たなマス
タ画像として記憶する手段と、上記良否の判定結果を出
力する手段とを具備している。
明すると、ウエハパターン検査装置は、ウエハの検査画
像を入力する手段と、入力した検査画像と予め記憶され
たマスタ画像とを比較する比較手段と、比較画像の相違
量よりウエハの良否を判定する手段と、上記相違量が所
定値以下の時に、上記入力された検査画像を新たなマス
タ画像として記憶する手段と、上記良否の判定結果を出
力する手段とを具備している。
【0006】
【作用】上記構成の装置においては、比較画像の相違量
が所定値以下の時に、入力された検査画像が新たなマス
タ画像として記憶されるから、ウエハの表面状態が僅か
づつ変化しても、この変化に追従してマスタ画像が更新
され、表面状態のバラツキはキャンセルされる。したが
って、比較画像では、回路欠陥等による相違のみが良好
に検出され、判定に誤りを生じることはない。
が所定値以下の時に、入力された検査画像が新たなマス
タ画像として記憶されるから、ウエハの表面状態が僅か
づつ変化しても、この変化に追従してマスタ画像が更新
され、表面状態のバラツキはキャンセルされる。したが
って、比較画像では、回路欠陥等による相違のみが良好
に検出され、判定に誤りを生じることはない。
【0007】
【実施例】図1にウエハパターン検査装置の全体構成を
示す。ウエハ1はx軸およびy軸方向へ移動、ないし回
転(θ)可能なxyθテーブル2の上に載置されてお
り、ウエハ1表面の所定範囲の検査画像を得る視覚セン
サ3がその上方に設けられている。視覚センサ3の画像
出力は詳細を後述する画像処理装置4に入力する。ま
た、上記xyθテーブル2はコントロール回路21によ
り駆動され、コントロール回路21は画像処理装置4の
制御回路4jから作動信号を受け取る。制御回路4jか
らは判定出力処理回路5に判定信号が出力され、この判
定信号に基づいてウエハ1上の不良箇所が記憶され、あ
るいはマーキングされる。
示す。ウエハ1はx軸およびy軸方向へ移動、ないし回
転(θ)可能なxyθテーブル2の上に載置されてお
り、ウエハ1表面の所定範囲の検査画像を得る視覚セン
サ3がその上方に設けられている。視覚センサ3の画像
出力は詳細を後述する画像処理装置4に入力する。ま
た、上記xyθテーブル2はコントロール回路21によ
り駆動され、コントロール回路21は画像処理装置4の
制御回路4jから作動信号を受け取る。制御回路4jか
らは判定出力処理回路5に判定信号が出力され、この判
定信号に基づいてウエハ1上の不良箇所が記憶され、あ
るいはマーキングされる。
【0008】画像処理装置4は図示の各回路より構成さ
れる。以下、図2〜図4を参照しつつ、本装置の作動と
併せて各回路を説明する。
れる。以下、図2〜図4を参照しつつ、本装置の作動と
併せて各回路を説明する。
【0009】画像処理装置4には、予め検査位置情報と
マスタ情報をマスタティーチング回路4iを使用して教
示する。すなわち、図2には検査位置情報の入力手順を
示し、良品ウエハ1(必ずしも良品ウエハである必要は
ない)と視覚センサのx、y軸方向を合致せしめるた
め、制御回路4jとコントロール回路21を介しxyθ
テーブル2を回転して位置補正を行い(ステップ10
1)、ウエハ1の検査画像を画像入力回路4aを介して
入力して、視覚センサ3で一度に検査する部分および全
体の領域サイズを設定する(ステップ102)。
マスタ情報をマスタティーチング回路4iを使用して教
示する。すなわち、図2には検査位置情報の入力手順を
示し、良品ウエハ1(必ずしも良品ウエハである必要は
ない)と視覚センサのx、y軸方向を合致せしめるた
め、制御回路4jとコントロール回路21を介しxyθ
テーブル2を回転して位置補正を行い(ステップ10
1)、ウエハ1の検査画像を画像入力回路4aを介して
入力して、視覚センサ3で一度に検査する部分および全
体の領域サイズを設定する(ステップ102)。
【0010】次に全面にある複数の検査部分のうち、い
ずれの箇所を検査するか指定し(ステップ103)、検
査箇所の順番を設定する(ステップ104)。
ずれの箇所を検査するか指定し(ステップ103)、検
査箇所の順番を設定する(ステップ104)。
【0011】図3にはマスタ情報の入力手順を示す。ス
テップ201では前述と同様の理由でxyθテーブル2
を回転して良品ウエハ1の位置補正を行い、マスタ画像
として教示する検査位置へ上記テーブル2を移動せしめ
て(ステップ202)、画像入力回路4aよりマスタ画
像を入力する(ステップ203)。
テップ201では前述と同様の理由でxyθテーブル2
を回転して良品ウエハ1の位置補正を行い、マスタ画像
として教示する検査位置へ上記テーブル2を移動せしめ
て(ステップ202)、画像入力回路4aよりマスタ画
像を入力する(ステップ203)。
【0012】画像位置検出回路4bにより、入力したマ
スタ画像の原点を、エッジ検出等で画像パターンから検
出し、その座標を記憶するとともに(ステップ20
4)、マスタ画像Vm(図5参照)をマスタ記憶回路4
hに記憶する(ステップ205)。
スタ画像の原点を、エッジ検出等で画像パターンから検
出し、その座標を記憶するとともに(ステップ20
4)、マスタ画像Vm(図5参照)をマスタ記憶回路4
hに記憶する(ステップ205)。
【0013】ウエハ良否の検査手順は図4に示す如きも
のである。xyθテーブル2上に検査ウエハ1をセット
し、教示の時と同様に回転して位置補正を行う(ステッ
プ301)。次に検査開始部分(図6の1a)へウエハ
1を移動し(ステップ302)、視覚センサ3より画像
入力回路4aを経て検査画像Vd(図6参照)を入力す
る(ステップ303)。
のである。xyθテーブル2上に検査ウエハ1をセット
し、教示の時と同様に回転して位置補正を行う(ステッ
プ301)。次に検査開始部分(図6の1a)へウエハ
1を移動し(ステップ302)、視覚センサ3より画像
入力回路4aを経て検査画像Vd(図6参照)を入力す
る(ステップ303)。
【0014】入力した検査画像Vdは画像位置検出回路
4bでその原点が検出される(ステップ304)。続い
て画像位置補正回路4cによりマスタ画像との位置ズレ
が補正され(ステップ305)、この時同時に一時記憶
回路4fに検査画像が記憶される。そして、画像比較回
路4dで上記検査画像Vdとマスタ画像Vmが比較され
る(ステップ305)。
4bでその原点が検出される(ステップ304)。続い
て画像位置補正回路4cによりマスタ画像との位置ズレ
が補正され(ステップ305)、この時同時に一時記憶
回路4fに検査画像が記憶される。そして、画像比較回
路4dで上記検査画像Vdとマスタ画像Vmが比較され
る(ステップ305)。
【0015】検査ウエハ1が良品であれば両画像Vd,
Vmに異なる箇所はないはずであるが、実際には表面状
態の微妙な変化により、例えば図6の1bの部分でマス
タ画像との差異を生じて、図7に示す如く比較画像Vc
に不一致箇所1cが検出されることがある(ステップ3
06)。
Vmに異なる箇所はないはずであるが、実際には表面状
態の微妙な変化により、例えば図6の1bの部分でマス
タ画像との差異を生じて、図7に示す如く比較画像Vc
に不一致箇所1cが検出されることがある(ステップ3
06)。
【0016】マスタ更新判定回路4gでは、この不一致
箇所1cの特徴量(形、大きさ等)が更新可レベル内で
あるか判定し(ステップ307)、更新可レベル内にあ
ればマスタ記憶回路4h内のマスタ画像Vmを、一時記
憶した上記検査画像Vdと入替え、更新する(ステップ
308)。
箇所1cの特徴量(形、大きさ等)が更新可レベル内で
あるか判定し(ステップ307)、更新可レベル内にあ
ればマスタ記憶回路4h内のマスタ画像Vmを、一時記
憶した上記検査画像Vdと入替え、更新する(ステップ
308)。
【0017】良否判定回路4eではマスタ画像Vmと検
査画像Vdの不一致箇所の特徴量が不良レベルを越えて
いるか否かにより良否を判定し、その結果を制御回路4
jへ出力する(ステップ309)。これに応じて制御回
路4jより判定出力処理回路5へ判定信号が出力され
る。ここで、上記更新可レベルは不良レベルと同等かこ
れより小さくしてある。
査画像Vdの不一致箇所の特徴量が不良レベルを越えて
いるか否かにより良否を判定し、その結果を制御回路4
jへ出力する(ステップ309)。これに応じて制御回
路4jより判定出力処理回路5へ判定信号が出力され
る。ここで、上記更新可レベルは不良レベルと同等かこ
れより小さくしてある。
【0018】ステップ310で検査領域がウエハ1上の
最終部分か調べ、最終部分であれば検査を終了する。最
終部分でなければウエハ1上の次の検査部分へ移動する
(ステップ311)。
最終部分か調べ、最終部分であれば検査を終了する。最
終部分でなければウエハ1上の次の検査部分へ移動する
(ステップ311)。
【0019】視覚センサ3としては、エリアセンサ以外
にラインセンサ、距離センサ等が使用できる。また、制
御回路は画像処理装置とは別体のシーケンサ等を使用し
ても良い。
にラインセンサ、距離センサ等が使用できる。また、制
御回路は画像処理装置とは別体のシーケンサ等を使用し
ても良い。
【0020】
【発明の効果】以上の如く、本発明のウエハパターン検
査装置によれば、マスタ画像が逐次更新されるから、ウ
エハの表面状態が僅かづつ変化しても検出画像とマスタ
画像の差異はキャンセルされ、回路欠陥等に基づくパタ
ーン変化のみを高感度で確実に検出することができる。
査装置によれば、マスタ画像が逐次更新されるから、ウ
エハの表面状態が僅かづつ変化しても検出画像とマスタ
画像の差異はキャンセルされ、回路欠陥等に基づくパタ
ーン変化のみを高感度で確実に検出することができる。
【図1】ウエハパターン検査装置の全体構成図である。
【図2】検査位置情報の入力手順のフローチャートであ
る。
る。
【図3】マスタ情報の入力手順のフローチャートであ
る。
る。
【図4】検査手順のフローチャートである。
【図5】マスタ画像を示す図である。
【図6】検査画像を示す図である。
【図7】比較出力画像を示す図である。
【図8】クレーム対応図である。
1 ウエハ 2 xyθテーブル 3 視覚センサ 4 画像処理装置 4a 画像入力回路 4d 画像比較回路 4e 良否判定回路 4g マスタ更新判定回路 4h マスタ記憶回路 5 判定出力処理回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H04N 7/18 B
Claims (1)
- 【請求項1】 ウエハの検査画像を入力する手段と、入
力した検査画像と予め記憶されたマスタ画像とを比較す
る手段と、比較画像の相違量よりウエハの良否を判定す
る手段と、上記相違量が所定値以下の時に、上記入力さ
れた検査画像を新たなマスタ画像として記憶する手段
と、上記良否の判定結果を出力する手段とを具備するウ
エハパターン検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4109191A JPH05281151A (ja) | 1992-04-02 | 1992-04-02 | ウエハパターン検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4109191A JPH05281151A (ja) | 1992-04-02 | 1992-04-02 | ウエハパターン検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05281151A true JPH05281151A (ja) | 1993-10-29 |
Family
ID=14503947
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4109191A Pending JPH05281151A (ja) | 1992-04-02 | 1992-04-02 | ウエハパターン検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05281151A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007285880A (ja) * | 2006-04-17 | 2007-11-01 | Omron Corp | 基板検査における見本画像の登録方法および見本画像作成装置 |
| JP2009282016A (ja) * | 2008-04-24 | 2009-12-03 | Hitachi High-Technologies Corp | 半導体ウェハの検査方法、及び半導体ウェハの検査装置 |
| JP2012013644A (ja) * | 2010-07-05 | 2012-01-19 | Sharp Corp | マクロ検査方法および検査システム、上記マクロ検査方法をコンピュータに実行させるためのプログラム、並びに上記プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
| JP2013250225A (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | Toray Eng Co Ltd | 外観検査装置及び外観検査方法 |
-
1992
- 1992-04-02 JP JP4109191A patent/JPH05281151A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007285880A (ja) * | 2006-04-17 | 2007-11-01 | Omron Corp | 基板検査における見本画像の登録方法および見本画像作成装置 |
| JP2009282016A (ja) * | 2008-04-24 | 2009-12-03 | Hitachi High-Technologies Corp | 半導体ウェハの検査方法、及び半導体ウェハの検査装置 |
| JP2012013644A (ja) * | 2010-07-05 | 2012-01-19 | Sharp Corp | マクロ検査方法および検査システム、上記マクロ検査方法をコンピュータに実行させるためのプログラム、並びに上記プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
| JP2013250225A (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | Toray Eng Co Ltd | 外観検査装置及び外観検査方法 |
| WO2013183471A1 (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | 東レエンジニアリング株式会社 | 外観検査装置及び外観検査方法 |
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