JPS61264335A - 写真要素 - Google Patents
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- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 112
- -1 silver halide Chemical class 0.000 claims description 68
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 67
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims description 56
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 50
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 50
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 5
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 87
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 85
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 76
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 72
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 60
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 60
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 57
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 54
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 48
- 239000000047 product Substances 0.000 description 46
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 43
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 42
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 41
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 41
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 37
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 32
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 30
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 29
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 27
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 27
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 24
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 23
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 23
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 22
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 22
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 22
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- XHLHPRDBBAGVEG-UHFFFAOYSA-N 1-tetralone Chemical class C1=CC=C2C(=O)CCCC2=C1 XHLHPRDBBAGVEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 19
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 19
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 19
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 19
- KXSPUBIQOSQKTJ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1,3-benzotellurazole Chemical compound C1=CC=C2[Te]C(C)=NC2=C1 KXSPUBIQOSQKTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 18
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 18
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 16
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 15
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 15
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 15
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 14
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 14
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 14
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 14
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 14
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 14
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 14
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 13
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 13
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 13
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 13
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 13
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Chemical compound [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 13
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 12
- 229910052794 bromium Chemical group 0.000 description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 12
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 12
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 12
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 11
- 210000000214 mouth Anatomy 0.000 description 11
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 10
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 9
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 9
- OFDISMSWWNOGFW-UHFFFAOYSA-N 1-(4-ethoxy-3-fluorophenyl)ethanamine Chemical compound CCOC1=CC=C(C(C)N)C=C1F OFDISMSWWNOGFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 8
- GJLUFTKZCBBYMV-UHFFFAOYSA-N carbamimidoylsulfanyl carbamimidothioate Chemical group NC(=N)SSC(N)=N GJLUFTKZCBBYMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 8
- PYWQACMPJZLKOQ-UHFFFAOYSA-N 1,3-tellurazole Chemical class [Te]1C=CN=C1 PYWQACMPJZLKOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 7
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 7
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 7
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 7
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 7
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 7
- 125000002577 pseudohalo group Chemical group 0.000 description 7
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 7
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 7
- 150000007970 thio esters Chemical class 0.000 description 7
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WTDHULULXKLSOZ-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine hydrochloride Chemical compound Cl.ON WTDHULULXKLSOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 6
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XAWVLWQXWMTMGJ-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl trifluoromethanesulfonate Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)OCC=C XAWVLWQXWMTMGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 6
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 6
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 6
- WJKHJLXJJJATHN-UHFFFAOYSA-N triflic anhydride Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)OS(=O)(=O)C(F)(F)F WJKHJLXJJJATHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 5
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 5
- 239000012458 free base Substances 0.000 description 5
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 5
- OIRDBPQYVWXNSJ-UHFFFAOYSA-N methyl trifluoromethansulfonate Chemical compound COS(=O)(=O)C(F)(F)F OIRDBPQYVWXNSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006396 nitration reaction Methods 0.000 description 5
- LAJZODKXOMJMPK-UHFFFAOYSA-N tellurium dioxide Chemical class O=[Te]=O LAJZODKXOMJMPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- JBXIOAKUBCTDES-UHFFFAOYSA-N 2h-acenaphthylen-1-one Chemical class C1=CC(C(=O)C2)=C3C2=CC=CC3=C1 JBXIOAKUBCTDES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 4
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 4
- 150000001266 acyl halides Chemical class 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 4
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- QWFJZCGIJRHYDQ-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(trifluoromethylsulfonyloxy)acetate Chemical compound CCOC(=O)COS(=O)(=O)C(F)(F)F QWFJZCGIJRHYDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QPADTPIHSPAZLQ-UHFFFAOYSA-N ethyl 5-nitronaphthalene-1-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)OCC)=CC=CC2=C1[N+]([O-])=O QPADTPIHSPAZLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 4
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N glycine betaine Chemical group C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 4
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 4
- 238000005956 quaternization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 4
- 235000009518 sodium iodide Nutrition 0.000 description 4
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 101100193700 Mus musculus Rasa4 gene Proteins 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical group C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical class [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 3
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005248 alkyl aryloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- 125000004659 aryl alkyl thio group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002102 aryl alkyloxo group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 3
- CJPQIRJHIZUAQP-MRXNPFEDSA-N benalaxyl-M Chemical compound CC=1C=CC=C(C)C=1N([C@H](C)C(=O)OC)C(=O)CC1=CC=CC=C1 CJPQIRJHIZUAQP-MRXNPFEDSA-N 0.000 description 3
- DNSISZSEWVHGLH-UHFFFAOYSA-N butanamide Chemical group CCCC(N)=O DNSISZSEWVHGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 239000006071 cream Substances 0.000 description 3
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 3
- UVECLJDRPFNRRQ-UHFFFAOYSA-N ethyl trifluoromethanesulfonate Chemical compound CCOS(=O)(=O)C(F)(F)F UVECLJDRPFNRRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940083124 ganglion-blocking antiadrenergic secondary and tertiary amines Drugs 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012015 optical character recognition Methods 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- ROQYGSVHXLIXGO-UHFFFAOYSA-N prop-2-ynyl trifluoromethanesulfonate Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)OCC#C ROQYGSVHXLIXGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000002211 ultraviolet spectrum Methods 0.000 description 3
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 3
- OQYOVYWFXHQYOP-UHFFFAOYSA-N 1,3,2-dioxathiane 2,2-dioxide Chemical compound O=S1(=O)OCCCO1 OQYOVYWFXHQYOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RILZRCJGXSFXNE-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(trifluoromethoxy)phenyl]ethanol Chemical compound OCCC1=CC=C(OC(F)(F)F)C=C1 RILZRCJGXSFXNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCSXGCZMEPXKIW-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-4-[(4-methyl-2-nitrophenyl)diazenyl]-N-(3-nitrophenyl)naphthalene-2-carboxamide Chemical compound Cc1ccc(N=Nc2c(O)c(cc3ccccc23)C(=O)Nc2cccc(c2)[N+]([O-])=O)c(c1)[N+]([O-])=O MCSXGCZMEPXKIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZERHIULMFGESH-UHFFFAOYSA-N N-phenylacetamide Chemical compound CC(=O)NC1=CC=CC=C1 FZERHIULMFGESH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000021736 acetylation Effects 0.000 description 2
- 238000006640 acetylation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000010933 acylation Effects 0.000 description 2
- 238000005917 acylation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 2
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 2
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 229910052798 chalcogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007336 electrophilic substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical group 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005027 hydroxyaryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M lithium bromide Chemical compound [Li+].[Br-] AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N phenolphthalein Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C(=O)O1 KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 235000018102 proteins Nutrition 0.000 description 2
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 2
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 2
- 239000012258 stirred mixture Substances 0.000 description 2
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M thiocyanate group Chemical group [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YYEZYENJAMOWHW-UHFFFAOYSA-N 2-(2,2-dimethyl-1,3-dioxolan-4-yl)ethanol Chemical group CC1(C)OCC(CCO)O1 YYEZYENJAMOWHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-(4-fluorophenyl)acetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=C(F)C=C1 JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M 2-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=CC=C1S([O-])(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KCHLDNLIJVSRPK-UHFFFAOYSA-N 3-methylsulfanylaniline Chemical compound CSC1=CC=CC(N)=C1 KCHLDNLIJVSRPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 4-methylaminophenol Chemical compound CNC1=CC=C(O)C=C1 ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVMSFILGAMDHEY-UHFFFAOYSA-N 6-(4-aminophenyl)sulfonylpyridin-3-amine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=N1 XVMSFILGAMDHEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001817 Agar Polymers 0.000 description 1
- 102000009027 Albumins Human genes 0.000 description 1
- 108010088751 Albumins Proteins 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241000283690 Bos taurus Species 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000008186 Collagen Human genes 0.000 description 1
- 108010035532 Collagen Proteins 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090898 Desensitizer Drugs 0.000 description 1
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical class ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100274389 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) chz-1 gene Proteins 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000978776 Senegalia senegal Species 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021612 Silver iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100054666 Streptomyces halstedii sch3 gene Proteins 0.000 description 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002494 Zein Polymers 0.000 description 1
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOLVRJRSWZOAJU-UHFFFAOYSA-N [Ag].ICl Chemical compound [Ag].ICl HOLVRJRSWZOAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- 125000004054 acenaphthylenyl group Chemical group C1(=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- 229960001413 acetanilide Drugs 0.000 description 1
- HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N acetnaphthylene Natural products C1=CC(C=C2)=C3C2=CC=CC3=C1 HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXXACINHVKSMDR-UHFFFAOYSA-N acetyl bromide Chemical compound CC(Br)=O FXXACINHVKSMDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000008272 agar Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910001615 alkaline earth metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005153 alkyl sulfamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004422 alkyl sulphonamide group Chemical group 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical group 0.000 description 1
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 150000007860 aryl ester derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005228 aryl sulfonate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004421 aryl sulphonamide group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N azobenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- QHTRLHAGKRCHKW-UHFFFAOYSA-N benzyl trifluoromethanesulfonate Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)OCC1=CC=CC=C1 QHTRLHAGKRCHKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-M bromate Inorganic materials [O-]Br(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003842 bromide salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N butyronitrile Chemical compound CCCC#N KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 150000001787 chalcogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- PKCHODKZKBAVIJ-UHFFFAOYSA-L chloro(iodo)silver Chemical compound Cl[Ag]I PKCHODKZKBAVIJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920001436 collagen Polymers 0.000 description 1
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 230000007123 defense Effects 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- VKCOPNUXFIISID-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxyacetate 2-hydroxybutanoic acid Chemical compound CCOC(=O)CO.CCC(O)C(O)=O VKCOPNUXFIISID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000010946 fine silver Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003517 fume Substances 0.000 description 1
- ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N furosemide Chemical class C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(C(O)=O)=C1NCC1=CC=CO1 ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- JGJLWPGRMCADHB-UHFFFAOYSA-N hypobromite Inorganic materials Br[O-] JGJLWPGRMCADHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Inorganic materials Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000011534 incubation Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000004694 iodide salts Chemical group 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- GBMDVOWEEQVZKZ-UHFFFAOYSA-N methanol;hydrate Chemical compound O.OC GBMDVOWEEQVZKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 210000004088 microvessel Anatomy 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000001814 pectin Substances 0.000 description 1
- 229920001277 pectin Polymers 0.000 description 1
- 235000010987 pectin Nutrition 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- UXCDUFKZSUBXGM-UHFFFAOYSA-N phosphoric tribromide Chemical compound BrP(Br)(Br)=O UXCDUFKZSUBXGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 1
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 230000035935 pregnancy Effects 0.000 description 1
- TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N prop-2-yn-1-ol Chemical compound OCC#C TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N propionic anhydride Chemical compound CCC(=O)OC(=O)CC WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 238000006798 ring closing metathesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940045105 silver iodide Drugs 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 125000004964 sulfoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 150000003498 tellurium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 1
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- AEXDMFVPDVVSQJ-UHFFFAOYSA-N trifluoro(trifluoromethylsulfonyl)methane Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)C(F)(F)F AEXDMFVPDVVSQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000003828 vacuum filtration Methods 0.000 description 1
- ABDKAPXRBAPSQN-UHFFFAOYSA-N veratrole Chemical compound COC1=CC=CC=C1OC ABDKAPXRBAPSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 239000005019 zein Substances 0.000 description 1
- 229940093612 zein Drugs 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ハロゲン化銀写真に関する。
像状に露光されたハロゲン化銀乳剤層を含む写真要素を
処理する間に、露光の直接函数又は逆面数として還元銀
が形成されうる。同時に、像状露。
処理する間に、露光の直接函数又は逆面数として還元銀
が形成されうる。同時に、像状露。
光とは独立して、少なくとも低濃度の還元銀が生成する
。本明細書において、用語「カブリ」は、通常最低濃度
領域で測定される、後者に起因する処理済み写真要素の
濃度を示すために使用する。
。本明細書において、用語「カブリ」は、通常最低濃度
領域で測定される、後者に起因する処理済み写真要素の
濃度を示すために使用する。
カラー写真において、カブリは直接銀濃度としてよりむ
しろ画像色素濃度として観察されるのが一般的である。
しろ画像色素濃度として観察されるのが一般的である。
カブリの形成を抑制するため、多年にわたって多数の物
質がハロゲン化銀乳剤中に導入された。
質がハロゲン化銀乳剤中に導入された。
Re5earch Disclosure s 176
巻、1978年12月、Item 17643、セクシ
ョン■には、更に一般的に使用されるカブリ抑制剤が列
挙されている。
巻、1978年12月、Item 17643、セクシ
ョン■には、更に一般的に使用されるカブリ抑制剤が列
挙されている。
Re5earch Disclosureは、イギリス
国POIO700ハンプシヤー・エムスワースのKen
neth阿asonPublications Lin
+1tedによって発行されている。
国POIO700ハンプシヤー・エムスワースのKen
neth阿asonPublications Lin
+1tedによって発行されている。
このセクション■から、有用なカブリ抑制剤がその構造
的形態において極めて多様であり、ハロゲンイオン(例
えば臭化物塩)から無機金属塩、特定のポリマー、選択
された非環状有機化合物、特定のへテロ環に及ぶことば
明らかである。これらの有用なカブリ抑制剤は、構造的
に類似であるが、比較的に効力のない多数の化合物から
選択されている。有用なカブリ抑制剤は、主として実験
的に確認されている。T、 F[、James−ユLユ
匹■−妊the Photo ra hiリシエ且、第
4版、Macmillan %1977年、393〜3
99頁には、カブリ抑制剤の分類及び種々の作用メカニ
ズムの示唆において、その多様性を説明している。
的形態において極めて多様であり、ハロゲンイオン(例
えば臭化物塩)から無機金属塩、特定のポリマー、選択
された非環状有機化合物、特定のへテロ環に及ぶことば
明らかである。これらの有用なカブリ抑制剤は、構造的
に類似であるが、比較的に効力のない多数の化合物から
選択されている。有用なカブリ抑制剤は、主として実験
的に確認されている。T、 F[、James−ユLユ
匹■−妊the Photo ra hiリシエ且、第
4版、Macmillan %1977年、393〜3
99頁には、カブリ抑制剤の分類及び種々の作用メカニ
ズムの示唆において、その多様性を説明している。
公開された欧州特許出願第0.136.847号及び同
第0.138,362号公報は、芳香族環と縮合した1
゜2.5−オキサテルラジニウム環を含む化合物が芳香
族テルラゾリウム塩を合成する際に中間体として有用で
あることを開示している。該公報に教示されている合成
法は、1,2.5−オキサテルラジニウム環の窒素原子
をプロトン化することにある。特に一般式(I): 古 のオキサテルラジニウム塩は、一般式(■):〔式中H
0は活性水素原子を表し、Gは置換又は非置換芳香族核
を完成する原子を表し、Rは場合により2価のオキシ、
チオ又はカルボニル架橋基を介して結合された炭化水素
基からなる脂肪族若しくは芳香族基、アミノ基、アミド
基、ウレイド基、ホルムアミジンジスルフィド基又は−
C(0)M基(式中Mは酸、エステル、千オニステル又
は塩を完成するように選択される)を表し、Xは塩素若
しくは臭素又は製造後に置換されるハロゲン若しくはハ
ロゲノイドを表す〕の化合物を四塩化テルル又は四臭化
テルルと温度を高めて反応させることによって製造され
る。
第0.138,362号公報は、芳香族環と縮合した1
゜2.5−オキサテルラジニウム環を含む化合物が芳香
族テルラゾリウム塩を合成する際に中間体として有用で
あることを開示している。該公報に教示されている合成
法は、1,2.5−オキサテルラジニウム環の窒素原子
をプロトン化することにある。特に一般式(I): 古 のオキサテルラジニウム塩は、一般式(■):〔式中H
0は活性水素原子を表し、Gは置換又は非置換芳香族核
を完成する原子を表し、Rは場合により2価のオキシ、
チオ又はカルボニル架橋基を介して結合された炭化水素
基からなる脂肪族若しくは芳香族基、アミノ基、アミド
基、ウレイド基、ホルムアミジンジスルフィド基又は−
C(0)M基(式中Mは酸、エステル、千オニステル又
は塩を完成するように選択される)を表し、Xは塩素若
しくは臭素又は製造後に置換されるハロゲン若しくはハ
ロゲノイドを表す〕の化合物を四塩化テルル又は四臭化
テルルと温度を高めて反応させることによって製造され
る。
一般式(II)中の窒素原子に結合した水素原子を第四
級化置換基で置換することによって第四級オキサテルラ
ジニウム塩を製造する試みは、繰り返し行われたが、一
様に失敗した。従って、これらの欧州特許出願は、プロ
トン化された芳香族オキサテルラジニウム塩を教示して
いるが、第四級芳香族オキサテルラジニウム塩を製造す
る、実行可能な方法を開示又は示唆していない。
級化置換基で置換することによって第四級オキサテルラ
ジニウム塩を製造する試みは、繰り返し行われたが、一
様に失敗した。従って、これらの欧州特許出願は、プロ
トン化された芳香族オキサテルラジニウム塩を教示して
いるが、第四級芳香族オキサテルラジニウム塩を製造す
る、実行可能な方法を開示又は示唆していない。
本発明の目的は、惑輻射線ハロゲン化銀乳剤及び有効量
のカブリ抑制剤を含む写真要素を提供することである。
のカブリ抑制剤を含む写真要素を提供することである。
本発明の目的は、窓幅射線ハロゲン化銀乳剤及びカブリ
抑制剤として有効量の第四級芳香族オキサテルラジニウ
ム塩を含む写真要素を提供することによって達成される
。
抑制剤として有効量の第四級芳香族オキサテルラジニウ
ム塩を含む写真要素を提供することによって達成される
。
本発明によれば、窓幅射線ハロゲン化銀乳剤を含む写真
要素を使用して、カブリのレベルの低い写真画像を製造
することができる。本発明は、カブリの低下に別のアプ
ローチを与え、多くの場合に、カブリの低下は、他の一
般に使用され、高度に有効なカブリ抑制剤によって達成
されるカブリの低下に比べてまさるとも劣らない。
要素を使用して、カブリのレベルの低い写真画像を製造
することができる。本発明は、カブリの低下に別のアプ
ローチを与え、多くの場合に、カブリの低下は、他の一
般に使用され、高度に有効なカブリ抑制剤によって達成
されるカブリの低下に比べてまさるとも劣らない。
本発明は、第四級オキサテルラジニウム塩の製造方法の
発見によって可能になった。詳述すれば、一般式(■)
: 占 の第四級オキサテルラジニウム塩は一般式(■):〒、
1 占 〔式中Gは置換又は非置換芳香族核を完成する原子を表
し、Rは水素、場合により2価のオキシ、チオ又はカル
ボニル架橋基を介して結合された炭化水素基を含む脂肪
族若しくは芳香族基、アミノ基、アミド基、ウレイド基
、ホルムアミジンジスルフィド基又は−C(0)M基(
式中Mはアルデヒド、酸、エステル、チオエステル又は
塩を完成するように選択される)を表し、Qは第四級化
置換基を表し、Xば始めに製造された塩素若しくは臭素
又は製造後に置換されるハロゲン若しくはハロゲノイド
を表し、X′は電荷を均衡させる対イオンを表し、nは
O又は1の整数を表す〕の第四級芳香族テルラゾリウム
塩を酸素の存在で塩素又は臭素と反応させることによっ
て製造されることが判明した。
発見によって可能になった。詳述すれば、一般式(■)
: 占 の第四級オキサテルラジニウム塩は一般式(■):〒、
1 占 〔式中Gは置換又は非置換芳香族核を完成する原子を表
し、Rは水素、場合により2価のオキシ、チオ又はカル
ボニル架橋基を介して結合された炭化水素基を含む脂肪
族若しくは芳香族基、アミノ基、アミド基、ウレイド基
、ホルムアミジンジスルフィド基又は−C(0)M基(
式中Mはアルデヒド、酸、エステル、チオエステル又は
塩を完成するように選択される)を表し、Qは第四級化
置換基を表し、Xば始めに製造された塩素若しくは臭素
又は製造後に置換されるハロゲン若しくはハロゲノイド
を表し、X′は電荷を均衡させる対イオンを表し、nは
O又は1の整数を表す〕の第四級芳香族テルラゾリウム
塩を酸素の存在で塩素又は臭素と反応させることによっ
て製造されることが判明した。
反応は、一般式(IV)の第四級テルラゾリウム塩を溶
解して実施するのが好ましい。水は有用な溶剤である。
解して実施するのが好ましい。水は有用な溶剤である。
他の溶剤を広範な比較的非反応性の有機溶剤、例えばア
セトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルム
アミド、ジクロロメタン、メタノール、エタノール又は
イソプロピルアルコールから選択することもできる。
セトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルム
アミド、ジクロロメタン、メタノール、エタノール又は
イソプロピルアルコールから選択することもできる。
第四級テルラゾリウム塩を含む水溶液中に元素状臭素又
は塩素を溶解することができる。例えば液体臭素を直接
水溶液に添加することができる。
は塩素を溶解することができる。例えば液体臭素を直接
水溶液に添加することができる。
塩素ガスを吹き込むことによって塩素を水溶液中に溶解
することができる。また、臭素又は塩素放出化合物及び
強い非酸化性酸、例えば塩化水素酸、臭化水素酸、硫酸
、フルオロ硼酸、スルホン酸又はりん酸を添加すること
によって水溶液中で元素状臭素又は塩素を発生させるこ
とができる。例えば、アルカリ金属臭素酸塩、N−ブロ
モコハク酸イミド又はアルカリ金属次亜臭素酸塩を導入
することによって水溶液中に元素状臭素を容易に放出す
ることができる。アルカリ金属次亜塩素酸塩を導入する
ことによって水溶液中に元素状塩素を簡便に放出させる
ことができる。
することができる。また、臭素又は塩素放出化合物及び
強い非酸化性酸、例えば塩化水素酸、臭化水素酸、硫酸
、フルオロ硼酸、スルホン酸又はりん酸を添加すること
によって水溶液中で元素状臭素又は塩素を発生させるこ
とができる。例えば、アルカリ金属臭素酸塩、N−ブロ
モコハク酸イミド又はアルカリ金属次亜臭素酸塩を導入
することによって水溶液中に元素状臭素を容易に放出す
ることができる。アルカリ金属次亜塩素酸塩を導入する
ことによって水溶液中に元素状塩素を簡便に放出させる
ことができる。
一般に、水溶液中に存在する第四級芳香族テルラゾリウ
ム塩と元素状臭素又は塩素の反応は、室温で自然に起こ
る。はとんどの場合、反応は実質的に瞬間的に起こると
思われる。芳香族オキサテルラジニウム塩中の環酸素原
子は、周囲の空気から自然に供給されうる。
ム塩と元素状臭素又は塩素の反応は、室温で自然に起こ
る。はとんどの場合、反応は実質的に瞬間的に起こると
思われる。芳香族オキサテルラジニウム塩中の環酸素原
子は、周囲の空気から自然に供給されうる。
始めに製造される一般式(III)の化合物は、Xの選
択を塩素又は臭素に限定するが、必要に応じて、一般式
(III)の化合物中の塩素又は臭素を沃化物又はハロ
ゲノイド塩で処理することにより沃化物又はハロゲノイ
ドで置換することができる。
択を塩素又は臭素に限定するが、必要に応じて、一般式
(III)の化合物中の塩素又は臭素を沃化物又はハロ
ゲノイド塩で処理することにより沃化物又はハロゲノイ
ドで置換することができる。
用語「ハロゲノイド」は、ハロゲンの置換基としての性
質に近似していることの知られている置換基類、例えば
シアノ置換基、チオシアネート置換基又はヒドロキシ置
換基の一つを示すために使用される。従って、一般式(
I[[)中のXは、ハロゲン(ここで及び他の個所で、
塩素、臭素又は沃素を総括的に示すために使用する)又
はハロゲノイドであってよい。特に好ましい形態では、
Xは塩素又は臭素である。
質に近似していることの知られている置換基類、例えば
シアノ置換基、チオシアネート置換基又はヒドロキシ置
換基の一つを示すために使用される。従って、一般式(
I[[)中のXは、ハロゲン(ここで及び他の個所で、
塩素、臭素又は沃素を総括的に示すために使用する)又
はハロゲノイドであってよい。特に好ましい形態では、
Xは塩素又は臭素である。
一般に、種々の個所でGを形成する芳香核は、他の個所
では多々、芳香環、芳香核又はアリール基若しくはアリ
ール部分と言い、好ましくは炭素原子数6〜20の炭素
同素環式芳香核、最も好ましくはフェニル基又はナフチ
ル基、又は縮合した形態では、ベンゾ核若しくはナフト
核である。若干の場合には、例えばその1,2位で縮合
したアセナフチレンによって説明されるように、芳香核
が5員環によって縮合されていてよい。
では多々、芳香環、芳香核又はアリール基若しくはアリ
ール部分と言い、好ましくは炭素原子数6〜20の炭素
同素環式芳香核、最も好ましくはフェニル基又はナフチ
ル基、又は縮合した形態では、ベンゾ核若しくはナフト
核である。若干の場合には、例えばその1,2位で縮合
したアセナフチレンによって説明されるように、芳香核
が5員環によって縮合されていてよい。
Gで表される芳香核は、置換又は非置換であってよい。
一般式(n)に戻って、一般式(I)の物質を製造する
反応は、一般式(ff)中のGを、これが完成する芳香
核がアミド置換基に対してオルト位で活性化されるよう
に選択することによって達成される。これは、一般式(
n)中の環置換を星印を付けた活性水素原子の環位置に
向けることのできる置換基を芳香核中に1個以上含める
ことによって達成することができる。炭素同素環式芳香
環、例えばベンゼン及びナフテン環については、炭化水
素基(例えばアルキル基、アリール基、アルカリール基
又はアラルキル基)、2価の酸素若しくは硫黄原子を介
して結合される炭化水素基(例えばアルコキシ基、了り
−ルオキシ基、アルカリールオキシ基、アラルキルオキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルカリール
チオ基又はアラルキルチオ基)を含む脂肪族及び芳香族
基;第一級、第二級及び第三級アミンを含めてアミノ基
;アミド基(例えばアセトアミド基及びブチルアミド基
);スルホンアミド基(例えばアルキルスルホンアミド
基又はアリールスルホンアミド基);スルファモイル基
(例えばアルキルスルファモイル基又はアリールスルフ
ァモイル基);ウレイド基(例えはl−ウレイド基、3
−フェニル−1−ウレイド基及び3−メチル−1−ウレ
イド基);チオウレイド基(例えば、上に例示したウレ
イド基に対応するチオウレイド基);ヒドロキシ基;又
は−G (0)M基又は−S (0) 、M基(式中M
は酸、エステル、チオエステル又は塩を完成するように
選択される)(例えば−〇 (0)OH,C(0)SC
H3、C(0)QC)(+、−8(0)20H2S (
0)toCHzCbHs又は−3(0) z OL i
)から有用な置換基を選択することができる。一般式
(ff)中の芳香核Gの同し置換基がその都度の各G、
特に一般式(III)中のGに存在してよいが、一般式
1)の化合物の製造に一般式(II)の化合物を使用し
ないので、一般式(III)中のGは非置換芳香核及び
より広範囲な置換基を有するものを含む。
反応は、一般式(ff)中のGを、これが完成する芳香
核がアミド置換基に対してオルト位で活性化されるよう
に選択することによって達成される。これは、一般式(
n)中の環置換を星印を付けた活性水素原子の環位置に
向けることのできる置換基を芳香核中に1個以上含める
ことによって達成することができる。炭素同素環式芳香
環、例えばベンゼン及びナフテン環については、炭化水
素基(例えばアルキル基、アリール基、アルカリール基
又はアラルキル基)、2価の酸素若しくは硫黄原子を介
して結合される炭化水素基(例えばアルコキシ基、了り
−ルオキシ基、アルカリールオキシ基、アラルキルオキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルカリール
チオ基又はアラルキルチオ基)を含む脂肪族及び芳香族
基;第一級、第二級及び第三級アミンを含めてアミノ基
;アミド基(例えばアセトアミド基及びブチルアミド基
);スルホンアミド基(例えばアルキルスルホンアミド
基又はアリールスルホンアミド基);スルファモイル基
(例えばアルキルスルファモイル基又はアリールスルフ
ァモイル基);ウレイド基(例えはl−ウレイド基、3
−フェニル−1−ウレイド基及び3−メチル−1−ウレ
イド基);チオウレイド基(例えば、上に例示したウレ
イド基に対応するチオウレイド基);ヒドロキシ基;又
は−G (0)M基又は−S (0) 、M基(式中M
は酸、エステル、チオエステル又は塩を完成するように
選択される)(例えば−〇 (0)OH,C(0)SC
H3、C(0)QC)(+、−8(0)20H2S (
0)toCHzCbHs又は−3(0) z OL i
)から有用な置換基を選択することができる。一般式
(ff)中の芳香核Gの同し置換基がその都度の各G、
特に一般式(III)中のGに存在してよいが、一般式
1)の化合物の製造に一般式(II)の化合物を使用し
ないので、一般式(III)中のGは非置換芳香核及び
より広範囲な置換基を有するものを含む。
置換基Rは、合成上便利な任意の形態をとることができ
る。Rは水素、炭化水素基(例えばアルキル基、了り−
ル基、アルカリール基又はアラルキル基)、2価のオキ
シ、チオ若しくはカルボニル架橋基を介して結合される
炭化水素基(例えばアルコキシ基、アリールオキシ基、
アルカリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、アルカリールチオ基、アラル
キルチオ基又はアシル基)を含む脂肪族及び芳香族基;
第一級、第二級及び第三級アミンを含めてアミノ基;ア
ミド基(例えばアセトアミド基及びブチルアミド基);
ウレイド基(例えは1−ウレイド基、3−フェニル−1
−ウレイド基及び3−メチル−1−ウレイド基);ホル
ムアミジンジスルフィド基(例えばホルムアミジンジス
ルフィド基及びN1−エチル−N′−メチル−α、α1
−ジチオビスホルムアミジン基) ;又は−〇 (0)
M基(式中Mはアルデヒド、酸、エステル、チオエス
テル又は塩、例えば−〇 (0)H2−C(0)OH,
C(0)OCH3、C(0)SCHs又は−C(0)O
Naを完成するように選択される)を包含する。Rが第
一級アミノ基である場合、実際、これは一つの互変異性
形で、更に置換するのに好適な反応部位を提供するイミ
ノ基である。
る。Rは水素、炭化水素基(例えばアルキル基、了り−
ル基、アルカリール基又はアラルキル基)、2価のオキ
シ、チオ若しくはカルボニル架橋基を介して結合される
炭化水素基(例えばアルコキシ基、アリールオキシ基、
アルカリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、アルカリールチオ基、アラル
キルチオ基又はアシル基)を含む脂肪族及び芳香族基;
第一級、第二級及び第三級アミンを含めてアミノ基;ア
ミド基(例えばアセトアミド基及びブチルアミド基);
ウレイド基(例えは1−ウレイド基、3−フェニル−1
−ウレイド基及び3−メチル−1−ウレイド基);ホル
ムアミジンジスルフィド基(例えばホルムアミジンジス
ルフィド基及びN1−エチル−N′−メチル−α、α1
−ジチオビスホルムアミジン基) ;又は−〇 (0)
M基(式中Mはアルデヒド、酸、エステル、チオエス
テル又は塩、例えば−〇 (0)H2−C(0)OH,
C(0)OCH3、C(0)SCHs又は−C(0)O
Naを完成するように選択される)を包含する。Rが第
一級アミノ基である場合、実際、これは一つの互変異性
形で、更に置換するのに好適な反応部位を提供するイミ
ノ基である。
一般式(III)中の第四級化置換基Qは、一般に、一
般式(rV)の第四級芳香族テルラゾリウム塩中に存在
する第四級化置換基に対応する。しかしながら、第四級
オキサテルラジニウム塩の製造に臭素又は塩素処理を必
要とするので、臭素又は塩素が付加されやすい芳香族テ
ルラゾリウム塩の第四級化置換基が変性されることは明
らかである。例えばビニル基又はアセチレン性不飽和結
合を含む第四級化基は、第四級芳香族テルラゾリウム塩
中に存在する場合、臭素又は塩素で置換される。
般式(rV)の第四級芳香族テルラゾリウム塩中に存在
する第四級化置換基に対応する。しかしながら、第四級
オキサテルラジニウム塩の製造に臭素又は塩素処理を必
要とするので、臭素又は塩素が付加されやすい芳香族テ
ルラゾリウム塩の第四級化置換基が変性されることは明
らかである。例えばビニル基又はアセチレン性不飽和結
合を含む第四級化基は、第四級芳香族テルラゾリウム塩
中に存在する場合、臭素又は塩素で置換される。
第四級化置換基の選択は、式(V):
のテルラゾールを第四級化剤と反応させることによって
一般式(IV)の芳香族テルラゾリウム塩を製造しうろ
ことを考慮することによって良好に評価することができ
る。好ましい形態において、第四級化剤は、エステルの
アルコール部分として第四級化基Qを含むスルホン酸エ
ステルである。特に好ましい第四級化剤は、強い第四級
化剤、例えばポリ (フルオロ)アルキルスルホン酸エ
ステル、例えばポリ (フルオロ)アルキルスルホン酸
のアルキルエステル、アリールエステル、アルケニルエ
ステル、アルキニルエステル、アラルキルエステル又は
アルカリールエステルである。過弗素化アルキルスルホ
ン酸エステルは、特に好ましい第四級化剤である(例え
ばトリフルオロメチルスルホン酸エステル)。アリール
スルホン酸エステル、例エババラートルエンスルホン酸
エステルも、強力な第四級化剤である。1,3.2−ジ
オキサチアン−2,2−ジオキシド及び1. 3. 2
−ジ−オキサチオラン−2,2−ジオキシドも、有用な
第四級化剤であることが証明された。一般式(V)中の
芳香核を形成するG中に電子供与性環置換基を含むと、
第四級化が容易になるが、強い電子吸引性置換基は、テ
ルラゾール環の形成後に第四級化が行われる場合に強い
第四級化剤を使用することを特徴とする 特に好ましい形態では、第四級化置換基Qは、一般式(
■)ニ −T−(N−TI)、−(VT) 〔式中Tはカルボニル基(CO)又はスルホニル基(S
Ch)を表し、TIはその都度独立に、カルボニル基(
CO)又はスルホニル基(S CLz )を表し、mは
1〜3の整数を表すJの2価基を存する第四級置換基の
形をとることができる。
一般式(IV)の芳香族テルラゾリウム塩を製造しうろ
ことを考慮することによって良好に評価することができ
る。好ましい形態において、第四級化剤は、エステルの
アルコール部分として第四級化基Qを含むスルホン酸エ
ステルである。特に好ましい第四級化剤は、強い第四級
化剤、例えばポリ (フルオロ)アルキルスルホン酸エ
ステル、例えばポリ (フルオロ)アルキルスルホン酸
のアルキルエステル、アリールエステル、アルケニルエ
ステル、アルキニルエステル、アラルキルエステル又は
アルカリールエステルである。過弗素化アルキルスルホ
ン酸エステルは、特に好ましい第四級化剤である(例え
ばトリフルオロメチルスルホン酸エステル)。アリール
スルホン酸エステル、例エババラートルエンスルホン酸
エステルも、強力な第四級化剤である。1,3.2−ジ
オキサチアン−2,2−ジオキシド及び1. 3. 2
−ジ−オキサチオラン−2,2−ジオキシドも、有用な
第四級化剤であることが証明された。一般式(V)中の
芳香核を形成するG中に電子供与性環置換基を含むと、
第四級化が容易になるが、強い電子吸引性置換基は、テ
ルラゾール環の形成後に第四級化が行われる場合に強い
第四級化剤を使用することを特徴とする 特に好ましい形態では、第四級化置換基Qは、一般式(
■)ニ −T−(N−TI)、−(VT) 〔式中Tはカルボニル基(CO)又はスルホニル基(S
Ch)を表し、TIはその都度独立に、カルボニル基(
CO)又はスルホニル基(S CLz )を表し、mは
1〜3の整数を表すJの2価基を存する第四級置換基の
形をとることができる。
特に好ましい形態では、第四級化置換基、例えばQは、
一般式(■)ニ −L−T (N−T”)、−R’ (■)〔
式中TST’及びmは前記のものを表し、Lは2価の架
橋基、例えば場合により置換された2価の炭化水素基を
表し、RSは場合により置換された炭化水素基又はアミ
ノ基を表す〕で表される形態をとることができる。
一般式(■)ニ −L−T (N−T”)、−R’ (■)〔
式中TST’及びmは前記のものを表し、Lは2価の架
橋基、例えば場合により置換された2価の炭化水素基を
表し、RSは場合により置換された炭化水素基又はアミ
ノ基を表す〕で表される形態をとることができる。
本発明の好ましい実施態様において、Tはカルボニル基
であり、TI はスルホニル基である。しかしながら、
T及びTIの一方又は両方がカルボキシ基又はスルホニ
ル基であってもよい。更に、mが1より大きい場合、T
1は、他の個所とは独立に、その都度カルボニル基又は
スルホニル基を表すことができる。
であり、TI はスルホニル基である。しかしながら、
T及びTIの一方又は両方がカルボキシ基又はスルホニ
ル基であってもよい。更に、mが1より大きい場合、T
1は、他の個所とは独立に、その都度カルボニル基又は
スルホニル基を表すことができる。
Lは炭素原子数1〜8のアルキレン基(Bち、アルカン
ジイル基)であるのが好ましい。本発明の特に好ましい
形態では、Lはメチレン基(−CH□−)又はエチレン
基(CHzGHz )である。
ジイル基)であるのが好ましい。本発明の特に好ましい
形態では、Lはメチレン基(−CH□−)又はエチレン
基(CHzGHz )である。
R5は第−級若しくは第二級アミノ基、炭素原子数1〜
8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t
−ブチル基、ネオペンチル基又はn−オクチル基)又は
炭素原子数6〜10のアリール基(例えばフェニル基又
はナフチル基)であるのが好ましい。RSが第二級アミ
ンを完成する場合には、これは場合により置換された炭
化水素基、好ましくは前記のような炭素原子数1〜8の
アルキル基又は炭素原子数6〜10のアリール基で置換
されていてもよい。
8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t
−ブチル基、ネオペンチル基又はn−オクチル基)又は
炭素原子数6〜10のアリール基(例えばフェニル基又
はナフチル基)であるのが好ましい。RSが第二級アミ
ンを完成する場合には、これは場合により置換された炭
化水素基、好ましくは前記のような炭素原子数1〜8の
アルキル基又は炭素原子数6〜10のアリール基で置換
されていてもよい。
mは整数1であるのが好ましい。
一般式(III)及び(TV)中の対イオンX゛は、化
合物の電荷を中和するのに好適な任意のイオンであって
よい。一般式(IV)の第四級芳香族テルラゾリウム塩
中にイオン性置換基が存在しない場合には、対イオンX
9は陰イオンであり、nは1である。第四級芳香族テル
ラゾリウム塩がベタインである場合には、対イオンは必
要でないので、nはゼロである。一般式(III)にお
いて、イオン化置換基が存在しないと、芳香族オキサテ
ルラジニウム塩はベタインであり、外からの電荷均衡対
イオンは必要でない。第四級化置換基が陰イオン基、例
えばスルホ基を含む場合、X”は陽イオンであり、nは
1である。
合物の電荷を中和するのに好適な任意のイオンであって
よい。一般式(IV)の第四級芳香族テルラゾリウム塩
中にイオン性置換基が存在しない場合には、対イオンX
9は陰イオンであり、nは1である。第四級芳香族テル
ラゾリウム塩がベタインである場合には、対イオンは必
要でないので、nはゼロである。一般式(III)にお
いて、イオン化置換基が存在しないと、芳香族オキサテ
ルラジニウム塩はベタインであり、外からの電荷均衡対
イオンは必要でない。第四級化置換基が陰イオン基、例
えばスルホ基を含む場合、X”は陽イオンであり、nは
1である。
前記の欧州特許出願第0.136.847号及び同第0
、138.362号明細書は、芳香族オキサテルラジニ
ウム塩が種々のプロトン化芳香族テルラゾリウム゛ 塩
の製造に有用な中間体であることを開示している。塩基
で処理することによって、プロトン化された芳香族テル
ラゾリウム塩を一般式(V)の芳香族テルラゾールに変
えることができる。その後、この化合物を前記の方法で
第四級化し、一般式(rV)の第四級芳香族テルラゾリ
ウム塩を製造することができる。
、138.362号明細書は、芳香族オキサテルラジニ
ウム塩が種々のプロトン化芳香族テルラゾリウム゛ 塩
の製造に有用な中間体であることを開示している。塩基
で処理することによって、プロトン化された芳香族テル
ラゾリウム塩を一般式(V)の芳香族テルラゾールに変
えることができる。その後、この化合物を前記の方法で
第四級化し、一般式(rV)の第四級芳香族テルラゾリ
ウム塩を製造することができる。
第四級芳香族オキサテルラジニウム塩を使用することに
よって、対応する芳香族テルラゾリウム塩が直接製造す
ることができ、これによってプロトン化芳香族テルラゾ
リウム塩を製造し、次いで第四級化前に対応するテルラ
ゾール塩に変える中間工程を省くことができる。一般式
(1)の対応するプロトン化芳香族オキサテルラジニウ
ム塩の代わりに一般式(III)の第四級芳香族オキサ
テルラジニウム塩を用いると、第四級オキサテルラゾリ
ウム塩を簡単な操作で製造することができる。
よって、対応する芳香族テルラゾリウム塩が直接製造す
ることができ、これによってプロトン化芳香族テルラゾ
リウム塩を製造し、次いで第四級化前に対応するテルラ
ゾール塩に変える中間工程を省くことができる。一般式
(1)の対応するプロトン化芳香族オキサテルラジニウ
ム塩の代わりに一般式(III)の第四級芳香族オキサ
テルラジニウム塩を用いると、第四級オキサテルラゾリ
ウム塩を簡単な操作で製造することができる。
本発明の第四級芳香族オキサテルラジニウム塩は、カプ
リ抑制剤として有用である。本発明の第四級芳香族オキ
サテルラジニウム塩は、カブリ抑制剤として使用する場
合には、露光及び処理前、例えば製造の時点で、保護す
べき写真要素中に配合するのが好ましい。第四級芳香族
オキサテルラジニウム塩によって処理前に発生するカブ
リを減少する場合には、第四級芳香族オキサテルラジニ
ウム塩を保護すべきハロゲン化銀乳剤層中に混入する必
要がある。一般に、乳剤の沈降後で、被覆前にハロゲン
化銀乳剤層に第四級芳香族オキサテルラジニウム塩を導
入するのが最も便利である。
リ抑制剤として有用である。本発明の第四級芳香族オキ
サテルラジニウム塩は、カブリ抑制剤として使用する場
合には、露光及び処理前、例えば製造の時点で、保護す
べき写真要素中に配合するのが好ましい。第四級芳香族
オキサテルラジニウム塩によって処理前に発生するカブ
リを減少する場合には、第四級芳香族オキサテルラジニ
ウム塩を保護すべきハロゲン化銀乳剤層中に混入する必
要がある。一般に、乳剤の沈降後で、被覆前にハロゲン
化銀乳剤層に第四級芳香族オキサテルラジニウム塩を導
入するのが最も便利である。
第四級オキサテルラジニウム塩が処理の時点で活性にな
るべきである場合には、像状に現像される1個以上のハ
ロゲン化銀乳剤層を透過しうる位置で写真要素内に混入
することができる。例えば、第四級オキサテルラジニウ
ム塩を1層以上のハロゲン化銀乳剤層又は他の親木コロ
イド層、例えば上塗層、中間層、若しくは下塗層中に存
在させることができる。第四級オキサテルラジニウム塩
が処理の時点で活性になるべき場合には、一般に第四級
オキサテルラジニウム塩を処理液、例えば予備現像浴又
は現像剤の成分として添加し、現像前又は現像中にハロ
ゲン化銀乳剤層を透過させるのが最も便利である。
るべきである場合には、像状に現像される1個以上のハ
ロゲン化銀乳剤層を透過しうる位置で写真要素内に混入
することができる。例えば、第四級オキサテルラジニウ
ム塩を1層以上のハロゲン化銀乳剤層又は他の親木コロ
イド層、例えば上塗層、中間層、若しくは下塗層中に存
在させることができる。第四級オキサテルラジニウム塩
が処理の時点で活性になるべき場合には、一般に第四級
オキサテルラジニウム塩を処理液、例えば予備現像浴又
は現像剤の成分として添加し、現像前又は現像中にハロ
ゲン化銀乳剤層を透過させるのが最も便利である。
第四級オキサテルラジニウム塩の、カブリを減少させる
のに有効な任意の量を使用することができる。特定の用
途に最適量のカブリ抑制剤は、通常、濃度を変えること
によって実験的に決定することができる。このような試
験は、最適なカブリ減少濃度又はカブリの減少と他の作
用、例えば写真感度の低下との間の最適なバランスの確
認に基づくのが典型的である。第四級オキサテルラジニ
ウム塩を被覆前にハロゲン化銀乳剤中に混入する場合に
は、銀1モル当たり約5.0〜0.005ミリモル、好
ましくは銀1モル当たり0.5〜0.01ミリモル、最
も好ましくは銀1モル当たり0.15〜o、oisミリ
モルが考えられる。第四級オキサテルラジニウム塩を処
理液中に混入する場合には、最低育効量、例えば一般に
は少なくとも0.05ミリモル/It〜約0.5ミリモ
ル/Itの濃度範囲が考えられる。
のに有効な任意の量を使用することができる。特定の用
途に最適量のカブリ抑制剤は、通常、濃度を変えること
によって実験的に決定することができる。このような試
験は、最適なカブリ減少濃度又はカブリの減少と他の作
用、例えば写真感度の低下との間の最適なバランスの確
認に基づくのが典型的である。第四級オキサテルラジニ
ウム塩を被覆前にハロゲン化銀乳剤中に混入する場合に
は、銀1モル当たり約5.0〜0.005ミリモル、好
ましくは銀1モル当たり0.5〜0.01ミリモル、最
も好ましくは銀1モル当たり0.15〜o、oisミリ
モルが考えられる。第四級オキサテルラジニウム塩を処
理液中に混入する場合には、最低育効量、例えば一般に
は少なくとも0.05ミリモル/It〜約0.5ミリモ
ル/Itの濃度範囲が考えられる。
もちろん、常用のカブリ抑制剤、例えば前記のRe5e
arch Disclosure %Tte糟1764
3、5sction■に記載されているものを、オキサ
テルラジニウム塩と組み合わせて本発明の実施に使用す
ることができる。カブリ抑制剤は、前記のJamesに
よって説明されているように、種々の異なるメカニズム
によって作用することが確認されているので、第四級オ
キサテルラジニウム塩と常用のカブリ抑制剤との併用に
よって生ずる効果は、極めて相互依存性な程度から独立
して相加的な程度に及ぶが、いずれにしても最適濃度は
実験的に決定することができる。特に、第四級オキサテ
ルラジニウム塩を前記の一般式CI)に示した型のプロ
トン化オキサテルラジニウム塩と併用することができる
。
arch Disclosure %Tte糟1764
3、5sction■に記載されているものを、オキサ
テルラジニウム塩と組み合わせて本発明の実施に使用す
ることができる。カブリ抑制剤は、前記のJamesに
よって説明されているように、種々の異なるメカニズム
によって作用することが確認されているので、第四級オ
キサテルラジニウム塩と常用のカブリ抑制剤との併用に
よって生ずる効果は、極めて相互依存性な程度から独立
して相加的な程度に及ぶが、いずれにしても最適濃度は
実験的に決定することができる。特に、第四級オキサテ
ルラジニウム塩を前記の一般式CI)に示した型のプロ
トン化オキサテルラジニウム塩と併用することができる
。
本発明は、一つの形態で、カブリ抑制剤の他に窓幅射線
ハロゲン化銀乳剤を含む写真要素を更に必要とする。こ
れらのハロゲン化銀乳剤は、臭化銀、塩化銀、沃化銀、
塩臭化銀、塩沃化銀、臭沃化銀、塩奥沃化銀又はこれら
の混合物を含むことができる。乳剤は、任意の常用の形
又は粒子径のハロゲン化銀粒子を含むことができる。特
に、乳剤は、等軸(立方体又は八面体)又は不等軸(多
重にねじれているか又は平板状)の結晶形の粗大、中程
度又は微細なハロゲン化銀粒子を含むことができる。最
近開発された高いアスペクト比の平板状粒子の乳剤、例
えば米国特許第4.434.226号、同第4,414
.310号、同第4.399.215号、同第4.43
3.048号及び同第4.386,156号明細書、1
983年11月21日に出願された米国特許出願第55
3.911号、米国特許第4.400.463号、同第
4.414.306号及び同第4.435.501号明
細書に開示されている乳剤が特に考えられる。増感化合
物、例えば銅、タリウム、鉛、ビスマス、カドミウム及
び■旅費金属の化合物を、米国特許第1.195,43
2号、同第1.951,933号、同第2.448.0
6Q号、同第2、628.167号、同第2.950.
972号、同第3.488.709号及び同第3.73
7.313号明細書に記載されているように、ハロゲン
化銀乳剤の沈降の間に存在させることができる。
ハロゲン化銀乳剤を含む写真要素を更に必要とする。こ
れらのハロゲン化銀乳剤は、臭化銀、塩化銀、沃化銀、
塩臭化銀、塩沃化銀、臭沃化銀、塩奥沃化銀又はこれら
の混合物を含むことができる。乳剤は、任意の常用の形
又は粒子径のハロゲン化銀粒子を含むことができる。特
に、乳剤は、等軸(立方体又は八面体)又は不等軸(多
重にねじれているか又は平板状)の結晶形の粗大、中程
度又は微細なハロゲン化銀粒子を含むことができる。最
近開発された高いアスペクト比の平板状粒子の乳剤、例
えば米国特許第4.434.226号、同第4,414
.310号、同第4.399.215号、同第4.43
3.048号及び同第4.386,156号明細書、1
983年11月21日に出願された米国特許出願第55
3.911号、米国特許第4.400.463号、同第
4.414.306号及び同第4.435.501号明
細書に開示されている乳剤が特に考えられる。増感化合
物、例えば銅、タリウム、鉛、ビスマス、カドミウム及
び■旅費金属の化合物を、米国特許第1.195,43
2号、同第1.951,933号、同第2.448.0
6Q号、同第2、628.167号、同第2.950.
972号、同第3.488.709号及び同第3.73
7.313号明細書に記載されているように、ハロゲン
化銀乳剤の沈降の間に存在させることができる。
ハロゲン化銀乳剤は、単分散又は沈降して多分散されて
いてよい。乳剤の粒径分布を、ハロゲン化銀粒子の分離
技法又は異なる粒径のハロゲン化銀乳剤の混合によって
調節することができる。乳剤は、リップマン乳剤及びG
rafkidessハ旦■■吐に」厘畦旺■、1巻、ロ
ンドンのFountain Presss 195B年
発行、365〜36B頁及び301〜304頁に記載さ
れているようなアンモニア性乳剤: G、 F、 Du
ffin、 Photo ra hicEmulsio
n Cheraistr sロンドンのFocal
PressLtd、1966年発行、60〜72頁に記
載されている過剰のハロゲンイオン熟成乳剤;米国特許
第3.320.069号明細書に記載されているチオシ
アネート熟成乳剤;米国特許第3,271,157号、
同第3、574.628号及び同第3,737,313
号明細書に記載されているチオエーテル熟成乳剤又は米
国特許第3.784.381号明細書及びRe5ear
ch Disclosure 5134巻、1975年
6月、Item 13452 に記載されているよう
な、弱いハロゲン化銀溶荊、例えばアンモニウム塩を含
む乳剤を含むことができる。
いてよい。乳剤の粒径分布を、ハロゲン化銀粒子の分離
技法又は異なる粒径のハロゲン化銀乳剤の混合によって
調節することができる。乳剤は、リップマン乳剤及びG
rafkidessハ旦■■吐に」厘畦旺■、1巻、ロ
ンドンのFountain Presss 195B年
発行、365〜36B頁及び301〜304頁に記載さ
れているようなアンモニア性乳剤: G、 F、 Du
ffin、 Photo ra hicEmulsio
n Cheraistr sロンドンのFocal
PressLtd、1966年発行、60〜72頁に記
載されている過剰のハロゲンイオン熟成乳剤;米国特許
第3.320.069号明細書に記載されているチオシ
アネート熟成乳剤;米国特許第3,271,157号、
同第3、574.628号及び同第3,737,313
号明細書に記載されているチオエーテル熟成乳剤又は米
国特許第3.784.381号明細書及びRe5ear
ch Disclosure 5134巻、1975年
6月、Item 13452 に記載されているよう
な、弱いハロゲン化銀溶荊、例えばアンモニウム塩を含
む乳剤を含むことができる。
乳剤は米国特許第2.456.953号、同第2.59
2.250号、同第3.206.313号、同第3.3
17.322号、同第3.447.927号、同第3.
761.276号、同第3,917.485号、同第3
.979.213号及び同第3.767.413号明細
書に説明されているような、表面感受性乳剤、即ち主と
してハロゲン化銀粒子の表面で潜像を形成する乳剤、又
は内部潜像形成乳剤、即ち主としてハロゲン化銀粒子の
内部に潜像を形成する乳剤であってよい。
2.250号、同第3.206.313号、同第3.3
17.322号、同第3.447.927号、同第3.
761.276号、同第3,917.485号、同第3
.979.213号及び同第3.767.413号明細
書に説明されているような、表面感受性乳剤、即ち主と
してハロゲン化銀粒子の表面で潜像を形成する乳剤、又
は内部潜像形成乳剤、即ち主としてハロゲン化銀粒子の
内部に潜像を形成する乳剤であってよい。
乳剤は米国特許第2.563.785号、同第3.76
1.276号、同第2,456.953号及び同第3,
511.662号明細書に説明されているような、ネガ
型乳剤、例えば表面感受性乳剤又はカブリのない内部潜
像形成乳剤、又はカブリのない内部潜像形成型の直接ポ
ジ乳剤(均一な露光によるか又は核形成剤の存在で現像
を実施する場合にポジ型となる)であってよい。米国特
許第2.996.382号、同第3,397,987号
、同第3.705.858号及び同第3.695.13
81号明細書、Item 13452.1972年4
月21日の防衛出願公告T −904017及びRe5
earch Disclosure % 122巻)1
974年6月、Item 12233に記載されてい
るように、表面感受性乳剤及び内部にカブリを生ずる内
部潜像形成乳剤の混合物を使用することができる。
1.276号、同第2,456.953号及び同第3,
511.662号明細書に説明されているような、ネガ
型乳剤、例えば表面感受性乳剤又はカブリのない内部潜
像形成乳剤、又はカブリのない内部潜像形成型の直接ポ
ジ乳剤(均一な露光によるか又は核形成剤の存在で現像
を実施する場合にポジ型となる)であってよい。米国特
許第2.996.382号、同第3,397,987号
、同第3.705.858号及び同第3.695.13
81号明細書、Item 13452.1972年4
月21日の防衛出願公告T −904017及びRe5
earch Disclosure % 122巻)1
974年6月、Item 12233に記載されてい
るように、表面感受性乳剤及び内部にカブリを生ずる内
部潜像形成乳剤の混合物を使用することができる。
第四級オキサテルラジニウム塩は、好ましくはネガ型ハ
ロゲン化銀乳剤、最も好ましくは露光した時に表面潜像
を形成するハロゲン化銀粒子を含む乳剤におけるカブリ
を減少させるため使用される。
ロゲン化銀乳剤、最も好ましくは露光した時に表面潜像
を形成するハロゲン化銀粒子を含む乳剤におけるカブリ
を減少させるため使用される。
ハロゲン化銀乳剤を表面増感することができる。
貴金属(例えば、金)、中間カルコゲン(例えば、硫黄
、セレン又はテルル)及び還元増感剤を独立して又は組
み合わせて使用することが特に考えられる。典型的増感
剤は、前記のRe5earchDisclosure
% Item 17643、セクション■に記載されて
いる。
、セレン又はテルル)及び還元増感剤を独立して又は組
み合わせて使用することが特に考えられる。典型的増感
剤は、前記のRe5earchDisclosure
% Item 17643、セクション■に記載されて
いる。
ハロゲン化銀乳剤は、シアニン類、メロシアニン類、錯
体シアニン類及び錯体メロシアニン類(即ち、三核、四
核及び多核シアニン及びメロシアニン類)を含むポリメ
チン色素類、オキソノール類、ヘミオキソノール類、ス
チリル類、メロスチリル類及びストレプトシアニン類を
含めて種々の類からの色素で分光増感することができる
。詳細な分光増感性色素は、前記のRe5earchD
isclosure SItem 17643、セクシ
ョン■に記載されている。
体シアニン類及び錯体メロシアニン類(即ち、三核、四
核及び多核シアニン及びメロシアニン類)を含むポリメ
チン色素類、オキソノール類、ヘミオキソノール類、ス
チリル類、メロスチリル類及びストレプトシアニン類を
含めて種々の類からの色素で分光増感することができる
。詳細な分光増感性色素は、前記のRe5earchD
isclosure SItem 17643、セクシ
ョン■に記載されている。
本発明の写真要素のハロゲン化銀乳剤及び他の層は、ベ
ヒクルとして親木コロイドを単独で又は他のポリマー物
質(例えばラテックス)と組み合わせて使用することが
できる。適当な親水性物質は、天然に産出する物質、例
えば蛋白質、蛋白質誘導体、セルロース誘導体、例えば
セルロースエステル、ゼラチン、例えばアルカリで処理
したゼラチン(ウシ、骨又は皮膚ゼラチン)又は酸で処
理したゼラチン(豚の皮膚ゼラチン、フタレート化ゼラ
チン等)、多糖類、例えばデキストラン、アラビアゴム
、ゼイン、カゼイン、ペクチン、コラーゲン誘導体、コ
ロジオン、寒天、70−ルート及びアルブミンを含む。
ヒクルとして親木コロイドを単独で又は他のポリマー物
質(例えばラテックス)と組み合わせて使用することが
できる。適当な親水性物質は、天然に産出する物質、例
えば蛋白質、蛋白質誘導体、セルロース誘導体、例えば
セルロースエステル、ゼラチン、例えばアルカリで処理
したゼラチン(ウシ、骨又は皮膚ゼラチン)又は酸で処
理したゼラチン(豚の皮膚ゼラチン、フタレート化ゼラ
チン等)、多糖類、例えばデキストラン、アラビアゴム
、ゼイン、カゼイン、ペクチン、コラーゲン誘導体、コ
ロジオン、寒天、70−ルート及びアルブミンを含む。
ベヒクルを通常の操作で硬化することができる。ベヒク
ル及び硬化剤の更に詳細なことは、前記のRe5ear
ch Disclosure sItem 17643
、セクション■に記載されている。
ル及び硬化剤の更に詳細なことは、前記のRe5ear
ch Disclosure sItem 17643
、セクション■に記載されている。
本発明のハロゲン化銀写真要素は、写真の分野で常用の
他の添加剤を含んでいてよい。有用な添加剤は、例えば
前記のRe5earch Disclosure %I
tem 17643に記載されている。他の常用の有用
な添加剤は、減感剤、カプラー(例えば色素形成性カプ
ラー、マスキングカプラー及びDIRカプラー)、DI
R化合物、汚染防止剤、画像色素安定剤、吸収性物質、
例えばフィルター色素及び紫外線吸収剤、光散乱性物質
、帯電防止剤、被覆助剤、可塑剤及び滑沢前等である。
他の添加剤を含んでいてよい。有用な添加剤は、例えば
前記のRe5earch Disclosure %I
tem 17643に記載されている。他の常用の有用
な添加剤は、減感剤、カプラー(例えば色素形成性カプ
ラー、マスキングカプラー及びDIRカプラー)、DI
R化合物、汚染防止剤、画像色素安定剤、吸収性物質、
例えばフィルター色素及び紫外線吸収剤、光散乱性物質
、帯電防止剤、被覆助剤、可塑剤及び滑沢前等である。
本発明の写真要素は、1層のハロゲン化銀乳剤層を有す
る支持体を含む単純な白黒又はモノクローム要素である
か、又は多層及び/又は多色要素であってよい。写真要
素は、低コントラストから極めて高いコントラストに及
ぶ画像、例えばグラフィックアーツの分野でハーフトー
ン画像を生ずるために使用されるものを生ずる。写真要
素を、別個の溶液での処理用に、又はカメラ内処理用に
設計することができる。後者の場合には、写真要素は常
用の画像転写特性、例えば前記のRe5earchDi
sclosure s Ite+w 17643、セク
ションXX■に記載されているような特性を含むことが
できる。
る支持体を含む単純な白黒又はモノクローム要素である
か、又は多層及び/又は多色要素であってよい。写真要
素は、低コントラストから極めて高いコントラストに及
ぶ画像、例えばグラフィックアーツの分野でハーフトー
ン画像を生ずるために使用されるものを生ずる。写真要
素を、別個の溶液での処理用に、又はカメラ内処理用に
設計することができる。後者の場合には、写真要素は常
用の画像転写特性、例えば前記のRe5earchDi
sclosure s Ite+w 17643、セク
ションXX■に記載されているような特性を含むことが
できる。
多色要素は、スペクトルの三つの主要領域のそれぞれに
感受性の色素像形成ユニットを含む。各ユニットは、所
定のスペクトル領域に感受性のただ1層の乳剤層又は多
数の乳剤層を含んでいてよい。
感受性の色素像形成ユニットを含む。各ユニットは、所
定のスペクトル領域に感受性のただ1層の乳剤層又は多
数の乳剤層を含んでいてよい。
画像形成ユニットの層を含めて、要素の層は、公知の種
々の順序で配列することができる。別の構造では、乳剤
を米国特許第4.387.154号明細書に記載されて
いるように、例えば微量容器又はマイクロセルを使用し
て1以上に区分された層として配置することができる。
々の順序で配列することができる。別の構造では、乳剤
を米国特許第4.387.154号明細書に記載されて
いるように、例えば微量容器又はマイクロセルを使用し
て1以上に区分された層として配置することができる。
本発明による好ましいカラー写真要素は、黄色色素形成
カプラーが組み合わさった青感性ハロゲン化銀乳剤層少
な(とも1層、マゼンタ色素形成カプラーが組み合わさ
った緑感性ハロゲン化銀乳剤層少なくとも1層及びシア
ン色素形成カプラーが組み合わさった赤感性ハロゲン化
銀乳剤層少なくとも1層を支持する支持体を含み、ハロ
ゲン化銀乳剤層の少なくとも1層は、オキサテルラジニ
ウム塩カブリ抑制性化合物を含む。
カプラーが組み合わさった青感性ハロゲン化銀乳剤層少
な(とも1層、マゼンタ色素形成カプラーが組み合わさ
った緑感性ハロゲン化銀乳剤層少なくとも1層及びシア
ン色素形成カプラーが組み合わさった赤感性ハロゲン化
銀乳剤層少なくとも1層を支持する支持体を含み、ハロ
ゲン化銀乳剤層の少なくとも1層は、オキサテルラジニ
ウム塩カブリ抑制性化合物を含む。
本発明の要素は、写真要素に常用の付加的層、例えば上
塗層、スペーサ層、フィルタ層、ハレーション防止層、
スカベンジャ一層等を含んでいてよい。支持体は、写真
要素と共に使用される任意の適当な支持体であってよい
。典型的支持体は、ポリマーフィルム、祇(ポリマー被
覆紙を含む)、ガラス等である。本発明の写真要素の支
持体及び他の層に関する詳細は、前記のRe5earc
hDisclosure 、、 Hem 17643
、セクションX■に記載されている。
塗層、スペーサ層、フィルタ層、ハレーション防止層、
スカベンジャ一層等を含んでいてよい。支持体は、写真
要素と共に使用される任意の適当な支持体であってよい
。典型的支持体は、ポリマーフィルム、祇(ポリマー被
覆紙を含む)、ガラス等である。本発明の写真要素の支
持体及び他の層に関する詳細は、前記のRe5earc
hDisclosure 、、 Hem 17643
、セクションX■に記載されている。
写真要素を電磁スペクトルの紫外線領域、可視領域及び
赤外線領域並びに電子ビーム及びβ線、T線、X線、α
粒子、中性子線及びレーザーによって作られるような、
インコヒーレント(ランダム位相)形又はコヒーレント
く整合位相)形の微粒子及び波状輻射エネルギーの形を
含む種々の形のエネルギーで像状に露光することができ
る。写真要素をX線で露光すべき場合には、これらは常
用の放射線写真要素、例えばRe5earch Dis
closure 5184巻、1979年8月、Ite
+s 18431に説明されている要素に見られる特
性を含むことができる。
赤外線領域並びに電子ビーム及びβ線、T線、X線、α
粒子、中性子線及びレーザーによって作られるような、
インコヒーレント(ランダム位相)形又はコヒーレント
く整合位相)形の微粒子及び波状輻射エネルギーの形を
含む種々の形のエネルギーで像状に露光することができ
る。写真要素をX線で露光すべき場合には、これらは常
用の放射線写真要素、例えばRe5earch Dis
closure 5184巻、1979年8月、Ite
+s 18431に説明されている要素に見られる特
性を含むことができる。
第四級オキサテルラジニウム塩の存在で像状に露光され
た写真要素の処理は、常用の処理と異なる必要はない、
処理操作、現像剤及び現像変性剤は、前記のRe5ea
rch Disclosure % Item 176
43、セクションXIX、XX及びXXIにそれぞれ記
載されている。好ましい適用において、本発明は、第四
級芳香族オキサテルラジニウム塩の存在で水性アルカリ
現像剤で処理されるハロゲン化銀写真要素に関する。
た写真要素の処理は、常用の処理と異なる必要はない、
処理操作、現像剤及び現像変性剤は、前記のRe5ea
rch Disclosure % Item 176
43、セクションXIX、XX及びXXIにそれぞれ記
載されている。好ましい適用において、本発明は、第四
級芳香族オキサテルラジニウム塩の存在で水性アルカリ
現像剤で処理されるハロゲン化銀写真要素に関する。
第四級オキサテルラジニウム塩は、ハロゲン化銀写真要
素におけるカブリ抑制剤として有用であることが開示さ
れているが、これらは酸化剤として更に一般的な有用性
を有する。第四級オキサテルラジニウム塩のカブリ抑制
活性は、金属銀原子を酸化して(そうでなければハロゲ
ン化銀現像を触媒するであろう)、銀イオンを生ずる能
力による。従って、第四級オキサテルラジニウム塩が、
元素の起電列において銀より高い金属を同様に酸化する
ことができることは明らかである。
素におけるカブリ抑制剤として有用であることが開示さ
れているが、これらは酸化剤として更に一般的な有用性
を有する。第四級オキサテルラジニウム塩のカブリ抑制
活性は、金属銀原子を酸化して(そうでなければハロゲ
ン化銀現像を触媒するであろう)、銀イオンを生ずる能
力による。従って、第四級オキサテルラジニウム塩が、
元素の起電列において銀より高い金属を同様に酸化する
ことができることは明らかである。
本発明の第四級芳香族オキサテルラジニウム塩の製造に
出発原料として使用する第四級芳香族テルラゾリウム塩
は、前記の欧州特許出願第0、136.847号及び同
第0.138.362号明細書に教示されているように
して製造することができる。前記のように、これらの教
示は、まず、対応するプロトン化芳香族テルラゾリウム
塩を製造し、これを塩基で処理することによって対応す
る芳香族テルラゾールに変え、次いで、第四級化するこ
とを要求している。プロトン化芳香族テルラゾリウム塩
は、一般(■): 〒8 〔式中G、R,n及びXoは前記のものを表す〕によっ
て表すことができる。
出発原料として使用する第四級芳香族テルラゾリウム塩
は、前記の欧州特許出願第0、136.847号及び同
第0.138.362号明細書に教示されているように
して製造することができる。前記のように、これらの教
示は、まず、対応するプロトン化芳香族テルラゾリウム
塩を製造し、これを塩基で処理することによって対応す
る芳香族テルラゾールに変え、次いで、第四級化するこ
とを要求している。プロトン化芳香族テルラゾリウム塩
は、一般(■): 〒8 〔式中G、R,n及びXoは前記のものを表す〕によっ
て表すことができる。
一般式(■)のプロトン化テルラゾリウム塩を製造する
第一の方法は、一般式(■):〔式中Gは置換又は非置
換縮合芳香族核を完成する原子を表し、mは0又は1を
表し、Xばハロゲン又はハロゲノイドを表し、Zは一〇
−又は−N CR’) −C式中R′は芳香族核を表す
)を表す〕の出発原料を強アルカリ性還元剤と反応させ
、一般式(X): Y−C−R(X) 〔式中Rは場合により置換された炭化水素基を表し、Y
はハロゲン又はR−C(0)−0−を表す〕の化合物で
アシル化し、強い非酸化性酸で処理することを含む。
第一の方法は、一般式(■):〔式中Gは置換又は非置
換縮合芳香族核を完成する原子を表し、mは0又は1を
表し、Xばハロゲン又はハロゲノイドを表し、Zは一〇
−又は−N CR’) −C式中R′は芳香族核を表す
)を表す〕の出発原料を強アルカリ性還元剤と反応させ
、一般式(X): Y−C−R(X) 〔式中Rは場合により置換された炭化水素基を表し、Y
はハロゲン又はR−C(0)−0−を表す〕の化合物で
アシル化し、強い非酸化性酸で処理することを含む。
一般式CM)のプロトン化テルラゾリウム塩を製造する
第二の方法は、一般式(XI):〔式中Gは置換又は非
置換芳香族核を完成する原子を表し、Rは水素、場合に
より置換された炭化水素基又は−G (0)M基(式中
Mはアルデヒド、酸、エステル、チオエステル又は塩を
完成するように選択される)を表し、R4は離脱基を表
す〕の出発原料を塩化ホスホリル又は臭化ホスホリルと
反応させることを含む。
第二の方法は、一般式(XI):〔式中Gは置換又は非
置換芳香族核を完成する原子を表し、Rは水素、場合に
より置換された炭化水素基又は−G (0)M基(式中
Mはアルデヒド、酸、エステル、チオエステル又は塩を
完成するように選択される)を表し、R4は離脱基を表
す〕の出発原料を塩化ホスホリル又は臭化ホスホリルと
反応させることを含む。
一般式(■)のプロトン化テルラゾリウム塩を製造する
第三の方法は、一般式(I)の出発原料を強いアルカリ
性還元剤と反応させ、強い非酸化性酸で処理することを
含む。一般式(りの出発原料は、一般式(II)の化合
物を四塩化テルル又は四臭化テルルと温度を高めて反応
させることによって製造することができる。
第三の方法は、一般式(I)の出発原料を強いアルカリ
性還元剤と反応させ、強い非酸化性酸で処理することを
含む。一般式(りの出発原料は、一般式(II)の化合
物を四塩化テルル又は四臭化テルルと温度を高めて反応
させることによって製造することができる。
前記の一般式(■)のプロトン化テルラゾリウム塩を製
造する第一の方法は、−S式(N)の出発原料を使用す
る。mがゼロであり、Zが−NCR’)−である場合に
は、出発原料は(2−フェニルアゾフェニル−C,N”
)テルル(II)クロリドであってよく、その製造方法
は、Cobbledickら著、“アゾベンゼンから誘
導された若干の新規有機テルル化合物、(2−フェニル
アゾフェニル−C,N”)テルル(II)クロリドの結
晶及び分子構造”、Journal of Che+m
1calResearch、 1901”1924頁、
1979年に記載されている。Cobbledickら
は、一般式(ff)中のXに対応するハロゲンとして塩
化物を使用したが、報告された合成法から、Xがハロゲ
ン又はハロゲノイド置換基であってよいことは明らかで
ある。同様に、G及びR9は、単にCobbledic
kらが使用したフェニルアゾフェニルに使用したフェニ
ル基の一方又は両方を別の芳香核で代えることによって
変化させることができる。
造する第一の方法は、−S式(N)の出発原料を使用す
る。mがゼロであり、Zが−NCR’)−である場合に
は、出発原料は(2−フェニルアゾフェニル−C,N”
)テルル(II)クロリドであってよく、その製造方法
は、Cobbledickら著、“アゾベンゼンから誘
導された若干の新規有機テルル化合物、(2−フェニル
アゾフェニル−C,N”)テルル(II)クロリドの結
晶及び分子構造”、Journal of Che+m
1calResearch、 1901”1924頁、
1979年に記載されている。Cobbledickら
は、一般式(ff)中のXに対応するハロゲンとして塩
化物を使用したが、報告された合成法から、Xがハロゲ
ン又はハロゲノイド置換基であってよいことは明らかで
ある。同様に、G及びR9は、単にCobbledic
kらが使用したフェニルアゾフェニルに使用したフェニ
ル基の一方又は両方を別の芳香核で代えることによって
変化させることができる。
別の態様においては、第一の方法は、mがゼロであり、
2が酸素である一般式(N)の出発原料を使用すること
ができる。この化合物は、場合により置換されたα−テ
トラロン、塩酸又は臭化水素酸、二酸化テルル及びヒド
ロキシルアミンを溶解することによって形成することが
できる。この反応は、必要なすべての物質が比較的に低
度に容易に入手しうるという利点を有する。アルコール
は、反応に好適な溶剤であるが、他の非反応性溶剤を使
用することもできる。加熱は必要ないが、反応を促進す
ることができる。一般式(IX)の物質は固相を形成し
、これを通常の口過及び洗浄工程によって分離すること
ができる。非置換α−テトラロン及び種々の置換誘導体
が有用である。好ましいα−テトラロンは、−a式(X
If) :〔式中R2及びR1ば、それぞれ独立に水
素、ハロゲン、アルキル基及びアルコキシ基を表す〕で
表される。Rt及びR3は、最終的に製造されるテルラ
ゾリウム塩中のナフト環置換基であるので、アルキル基
及びアルコキシ基中の炭素原子数を広範に変動しうろこ
とは明らかである。前記のように、α−テトラロンを使
用する代わりに、置換又は非置換アセナフテン−1−オ
ンを使用することができる。
2が酸素である一般式(N)の出発原料を使用すること
ができる。この化合物は、場合により置換されたα−テ
トラロン、塩酸又は臭化水素酸、二酸化テルル及びヒド
ロキシルアミンを溶解することによって形成することが
できる。この反応は、必要なすべての物質が比較的に低
度に容易に入手しうるという利点を有する。アルコール
は、反応に好適な溶剤であるが、他の非反応性溶剤を使
用することもできる。加熱は必要ないが、反応を促進す
ることができる。一般式(IX)の物質は固相を形成し
、これを通常の口過及び洗浄工程によって分離すること
ができる。非置換α−テトラロン及び種々の置換誘導体
が有用である。好ましいα−テトラロンは、−a式(X
If) :〔式中R2及びR1ば、それぞれ独立に水
素、ハロゲン、アルキル基及びアルコキシ基を表す〕で
表される。Rt及びR3は、最終的に製造されるテルラ
ゾリウム塩中のナフト環置換基であるので、アルキル基
及びアルコキシ基中の炭素原子数を広範に変動しうろこ
とは明らかである。前記のように、α−テトラロンを使
用する代わりに、置換又は非置換アセナフテン−1−オ
ンを使用することができる。
−mに、テルラゾリウム塩及びその誘導体のアルキル置
換基及び部分は、物理的考慮事項、例えば溶解度、移動
度及び分子の嵩によってのみ制限される。一般に、本発
明のテルラゾリウム塩及びその誘導体のアルキル基及び
他の脂肪族基は18個以下又はそれ以上の炭素原子を含
む。分子の嵩の増加は、しばしば移動度の低減を要求さ
れることを除いて、写真の用途にはあまり望ましくない
ので、好ましい脂肪族炭化水素基は6個以下の炭素原子
を含むものであり、低級アルキル基(すなわち、メチル
基、エチル基、プロピル基及びブチル基)が好ましい。
換基及び部分は、物理的考慮事項、例えば溶解度、移動
度及び分子の嵩によってのみ制限される。一般に、本発
明のテルラゾリウム塩及びその誘導体のアルキル基及び
他の脂肪族基は18個以下又はそれ以上の炭素原子を含
む。分子の嵩の増加は、しばしば移動度の低減を要求さ
れることを除いて、写真の用途にはあまり望ましくない
ので、好ましい脂肪族炭化水素基は6個以下の炭素原子
を含むものであり、低級アルキル基(すなわち、メチル
基、エチル基、プロピル基及びブチル基)が好ましい。
一般に、シクロアルキル基ば環中に4〜10個の炭素原
子を含む基を示し、5又は6個の環炭素原子を含むのが
好ましい。
子を含む基を示し、5又は6個の環炭素原子を含むのが
好ましい。
前記のようにmがゼロであり、Zが酸素である一般式(
ff)の出発原料を製造する代わりに、前記のα−テト
ラロン又はアセナフテン−1−オンのオキシムを四ハロ
ゲン化テルル、好ましくは四塩化テルル又は四臭化テル
ルと反応させることができる。反応体として四ハロゲン
化テルルを使用するこの記載及び以下の記載において、
α−テトラロン又はアセナフテン−1−オンを反応させ
る前又は間に、可溶性ハライド塩、例えばアルカリ金属
又はアルカリ土類金属ハライドを二酸化テルルと反応さ
せることによって通常、同様の結果が得られることを考
慮すべきである。これにより、四ハロゲン化テルルが生
ずると思われる。カルボン酸を反応溶剤として使用する
ことができ、反応を加熱によって促進することができる
。一般式(IX)の出発原料ば固相を成し、これを通常
の口過又は洗浄工程によって分離することができる。
ff)の出発原料を製造する代わりに、前記のα−テト
ラロン又はアセナフテン−1−オンのオキシムを四ハロ
ゲン化テルル、好ましくは四塩化テルル又は四臭化テル
ルと反応させることができる。反応体として四ハロゲン
化テルルを使用するこの記載及び以下の記載において、
α−テトラロン又はアセナフテン−1−オンを反応させ
る前又は間に、可溶性ハライド塩、例えばアルカリ金属
又はアルカリ土類金属ハライドを二酸化テルルと反応さ
せることによって通常、同様の結果が得られることを考
慮すべきである。これにより、四ハロゲン化テルルが生
ずると思われる。カルボン酸を反応溶剤として使用する
ことができ、反応を加熱によって促進することができる
。一般式(IX)の出発原料ば固相を成し、これを通常
の口過又は洗浄工程によって分離することができる。
好ましいα−テトラロンオキシムは好ましいα−テトラ
ロンに相当し、一般式(XI[[) :〔式中R2及
びR3は前記のように選択される〕で表される。
ロンに相当し、一般式(XI[[) :〔式中R2及
びR3は前記のように選択される〕で表される。
一般式(IX)の出発原料の第三の一触的形態では、m
は1であり、Zは酸素であってよい。一般式(IX)の
この形態の出発原料は、親電子置換に関して活性化され
た炭素同素環式芳香族化合物を四ハロゲン化テルルと反
応させることによって製造することができる。ナフタリ
ンは親電子置換のため活性化された締金環炭素同素環式
芳香族化合物の例であるが、一般にベンゼンを活性化す
るのが最も容易である。電子供与性置換基、例えばヒド
ロキシ基、ヒドロキシアルキル基、アルキル基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシアリール基、ア
ミノ基及び同様の負のハメットのシ値の基を単独で又は
組み合わせて使用することによって活性化を達成するこ
とができる。反応は、有機溶剤、例えば液体炭化水素(
例えばベンゼン又はシクロヘキサン)、ハロゲン炭化水
素(例、t ハクロロベンゼン又はクロロホルム)、ニ
トロ炭化水素(例えばニトロメタン)又はアセトニトリ
ル中で加熱還流しながら実施することができる。一般式
(IX)の出発原料の形成は、ニトロ化し、次いで還元
剤で処理することによって達成することができる。強い
還元剤を、精密に化学量論的量又はそれ以下で使用して
もよい。一般に、緩和な又は希釈した還元剤を使用する
のが好ましい。適当な希釈剤、例えば水又はカルボン酸
中の硝酸をニトロ化に使用することができ、次亜燐酸を
緩和な還元剤として使用することができる。前記の合成
法は、ニトロ化前にまず、緩和な還元前で処理し、ニト
ロ化後で、かつ二回目に緩和な還元剤を使用する前に強
い非酸化性酸を使用することによって変化させることが
できる。一般に、本明細書に記載する製造操作のこの工
程及び他の工程に使用するため考えられる強い非酸化性
酸は、塩酸、臭化水素酸、硫酸、フルオロ硼酸、スルホ
ン酸及び燐酸を包含する。
は1であり、Zは酸素であってよい。一般式(IX)の
この形態の出発原料は、親電子置換に関して活性化され
た炭素同素環式芳香族化合物を四ハロゲン化テルルと反
応させることによって製造することができる。ナフタリ
ンは親電子置換のため活性化された締金環炭素同素環式
芳香族化合物の例であるが、一般にベンゼンを活性化す
るのが最も容易である。電子供与性置換基、例えばヒド
ロキシ基、ヒドロキシアルキル基、アルキル基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシアリール基、ア
ミノ基及び同様の負のハメットのシ値の基を単独で又は
組み合わせて使用することによって活性化を達成するこ
とができる。反応は、有機溶剤、例えば液体炭化水素(
例えばベンゼン又はシクロヘキサン)、ハロゲン炭化水
素(例、t ハクロロベンゼン又はクロロホルム)、ニ
トロ炭化水素(例えばニトロメタン)又はアセトニトリ
ル中で加熱還流しながら実施することができる。一般式
(IX)の出発原料の形成は、ニトロ化し、次いで還元
剤で処理することによって達成することができる。強い
還元剤を、精密に化学量論的量又はそれ以下で使用して
もよい。一般に、緩和な又は希釈した還元剤を使用する
のが好ましい。適当な希釈剤、例えば水又はカルボン酸
中の硝酸をニトロ化に使用することができ、次亜燐酸を
緩和な還元剤として使用することができる。前記の合成
法は、ニトロ化前にまず、緩和な還元前で処理し、ニト
ロ化後で、かつ二回目に緩和な還元剤を使用する前に強
い非酸化性酸を使用することによって変化させることが
できる。一般に、本明細書に記載する製造操作のこの工
程及び他の工程に使用するため考えられる強い非酸化性
酸は、塩酸、臭化水素酸、硫酸、フルオロ硼酸、スルホ
ン酸及び燐酸を包含する。
前記の方法で製造される、本発明の新規化合物を製造す
る特に好ましい出発原料は、一般式%式%): 〔式中R1及びR2の少なくとも一方、好ましくは両方
はヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、アルキル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシアリール
基及びアミノ基のうちから選択される〕で表される。ま
た、R1及びR2ば一緒にアルカンジイルジオキシ架橋
基、例えば−O−(CHz )イー〇−架橋基(式中n
は好ましくは1〜3を表す)を形成することができる。
る特に好ましい出発原料は、一般式%式%): 〔式中R1及びR2の少なくとも一方、好ましくは両方
はヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、アルキル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシアリール
基及びアミノ基のうちから選択される〕で表される。ま
た、R1及びR2ば一緒にアルカンジイルジオキシ架橋
基、例えば−O−(CHz )イー〇−架橋基(式中n
は好ましくは1〜3を表す)を形成することができる。
Xは前記のようにハロゲン又はハロゲノイドである。
一般式(IX)の出発原料を製造したら、前記の製造方
法のうちどれを選択するかにかかわらず、これを強いア
ルカリ性還元剤、例えばアルカリ金属硼水素化?I(例
えばリチウム、ナトリウム又はカリウムの硼水素化物)
で処理する。反応生成物を次いで一般式(X)の化合物
でアシル化する。
法のうちどれを選択するかにかかわらず、これを強いア
ルカリ性還元剤、例えばアルカリ金属硼水素化?I(例
えばリチウム、ナトリウム又はカリウムの硼水素化物)
で処理する。反応生成物を次いで一般式(X)の化合物
でアシル化する。
前記のYの定義から、アシル化剤がアシルハライド、例
えば塩化アセチル若しくは臭化アセチル、又は酸無水物
、例えば酢酸無水物であってよいことは明らかである。
えば塩化アセチル若しくは臭化アセチル、又は酸無水物
、例えば酢酸無水物であってよいことは明らかである。
一般式(■)及び(X)中のRを考慮すると、アシルハ
ライド又は酸無水物も最終生成物として形成されたプロ
1−ン化テルラゾリウム塩中で2−位の置換基を提供す
ることは明らかである。一般に、このRはメチル基であ
るが、必要に応じて広範な代替基を容易に生成すること
ができる。アシル化剤がアシルハライド又は酸無水物で
ある場合には、2−位の置換基はメチル基である。使用
するアシルハライド又は酸無水物を変えることによって
テルラゾリウム塩の2−位の置換基は種々の炭化水素基
、例えばアルキル基、シクロアルキル基、アルカリール
基、アリール基、アラルキル基、及び種々の置換誘導体
、例えばアルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン、ア
ミノ基、アミド基及び類似の置換基を含むものの形をと
ることができる。
ライド又は酸無水物も最終生成物として形成されたプロ
1−ン化テルラゾリウム塩中で2−位の置換基を提供す
ることは明らかである。一般に、このRはメチル基であ
るが、必要に応じて広範な代替基を容易に生成すること
ができる。アシル化剤がアシルハライド又は酸無水物で
ある場合には、2−位の置換基はメチル基である。使用
するアシルハライド又は酸無水物を変えることによって
テルラゾリウム塩の2−位の置換基は種々の炭化水素基
、例えばアルキル基、シクロアルキル基、アルカリール
基、アリール基、アラルキル基、及び種々の置換誘導体
、例えばアルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン、ア
ミノ基、アミド基及び類似の置換基を含むものの形をと
ることができる。
単離していないが、アシル化によってテルラゾリンが生
成すると考えられる。テルルを含む環の開環を回避する
ため、強い非酸化性酸、例えば前記のもので処理するこ
とによって、安定な対応するプロトン化テルラゾリウム
塩を製造する付加的工程を採用する。
成すると考えられる。テルルを含む環の開環を回避する
ため、強い非酸化性酸、例えば前記のもので処理するこ
とによって、安定な対応するプロトン化テルラゾリウム
塩を製造する付加的工程を採用する。
一般式(■)のプロトン化テルラゾリウム塩を製造する
第二の方法は、第一の方法に比べてR又は2−位の環置
換基のいくぶん更に一般的な選択を可能にする。この方
法に使用する出発原料は、一般式(XI)で表される。
第二の方法は、第一の方法に比べてR又は2−位の環置
換基のいくぶん更に一般的な選択を可能にする。この方
法に使用する出発原料は、一般式(XI)で表される。
第二の方法を使用する場合には、一般式(XI)の出発
原料及び一般式(■)の製造されたプロトン化テルラゾ
リウム塩中のRは、第一の方法との関連で上記した場合
により置換された炭化水素基の他に、水素又は−C(0
)M基〔式中Mはアルデヒド、酸、エステル、チオエス
テル又は塩(例えば−〇 (0)H。
原料及び一般式(■)の製造されたプロトン化テルラゾ
リウム塩中のRは、第一の方法との関連で上記した場合
により置換された炭化水素基の他に、水素又は−C(0
)M基〔式中Mはアルデヒド、酸、エステル、チオエス
テル又は塩(例えば−〇 (0)H。
−C(0)O)(、−C(0)OCHs、−C(0)S
CH3又は−〇 (0) 0Na)を完成するように選
択する〕を含むことができる。Mがエステル又はチオエ
ステルを完成する場合には、エステル化基はRに関して
先に記載した炭化水素又は置換炭化水素の形をとること
ができる。
CH3又は−〇 (0) 0Na)を完成するように選
択する〕を含むことができる。Mがエステル又はチオエ
ステルを完成する場合には、エステル化基はRに関して
先に記載した炭化水素又は置換炭化水素の形をとること
ができる。
一般式(XI)中のR4は、最終的に製造されたプロト
ン化テルラゾリウム塩の一部を構成しない。従って、R
4は、塩化ホスホリルで処理したときに置換されて閉環
を可能にしうる任意の好適な基の形をとることができる
。塩化ホスホリルで処理すると、CI−R’が除去され
る。従って、塩化物として除去されうる任意の基を離脱
基として選択することができる。例えば、R4はRに関
連して上記したのと同じ炭化水素基のうちから選択する
ことができる。R4が最終的に製造されたプロトン化テ
ルラゾリウム塩の一部を構成しないので、−mには、R
−4を低級アルキル置換基から選択するのが最も好まし
い。
ン化テルラゾリウム塩の一部を構成しない。従って、R
4は、塩化ホスホリルで処理したときに置換されて閉環
を可能にしうる任意の好適な基の形をとることができる
。塩化ホスホリルで処理すると、CI−R’が除去され
る。従って、塩化物として除去されうる任意の基を離脱
基として選択することができる。例えば、R4はRに関
連して上記したのと同じ炭化水素基のうちから選択する
ことができる。R4が最終的に製造されたプロトン化テ
ルラゾリウム塩の一部を構成しないので、−mには、R
−4を低級アルキル置換基から選択するのが最も好まし
い。
一般式(XI)の出発原料を、別の若干の操作によって
公知のテルル化合物から製造することができる。一つの
好ましいアプローチは、前記のような、mがゼロであり
、2が−NCR’)−である一般式(IX)の化合物を
用いて出発することである。この化合物を前記のような
強いアルカリ性還元剤で処理する。その後、前記のよう
な一般式(X)のアシル化剤を使用してアシル化を実施
する。これにより、一般式(XI)の物質が生成する。
公知のテルル化合物から製造することができる。一つの
好ましいアプローチは、前記のような、mがゼロであり
、2が−NCR’)−である一般式(IX)の化合物を
用いて出発することである。この化合物を前記のような
強いアルカリ性還元剤で処理する。その後、前記のよう
な一般式(X)のアシル化剤を使用してアシル化を実施
する。これにより、一般式(XI)の物質が生成する。
一般式(IX)の前記の化合物を強いアルカリ還元剤で
処理した後、別の操作により一般式(XI)の出発原料
を製造するため、反応生成物をX−R’ (式中Xは
ハライドである)と反応させ、次いでギ酸でアシル化す
る。この場合に、一般式01)中のRは水素である。他
のアシル化剤を使用することによってRは一般式(Xり
の他の形態の任意のものとなりうる。
処理した後、別の操作により一般式(XI)の出発原料
を製造するため、反応生成物をX−R’ (式中Xは
ハライドである)と反応させ、次いでギ酸でアシル化す
る。この場合に、一般式01)中のRは水素である。他
のアシル化剤を使用することによってRは一般式(Xり
の他の形態の任意のものとなりうる。
一般式(■)のプロトン化テルラゾリウム塩を製造する
第三の方法は、一般式(1)の出発原料を使用すること
を含む。一般式(り中のXは、前記のようなハロゲン又
はハロゲノイドであってよい。一般式(1)の出発原料
中のRは、一般式(XI)との関連で上記したものより
多数の形をとることができる。一般式(1)の出発原料
及び一般式(■)の製造されたプロトン化テルラゾリウ
ム塩中のRは、炭化水素基(例えば、アルキル基、アリ
ール基、アルカリール基又はアラルキル基)、2価のオ
キシ、チオ又はカルボニル架橋基を介して結合された炭
化水素基(例えばアルコキシ基、アラルキル基、アルカ
リールオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルチオ基
、アリールチオ基、アルカリールチオ基、アラルキルチ
オ基又はアシル基);第一級、第二級及び第三級アミン
を含めてアミノ基;アミド基(Nえばアセトアミド基及
びブチリルアミド基);ウレイド基(例えば1−ウレイ
ド基、3−フェニル−1−ウレイド基及び3−メチル−
1−ウレイド基);ホルムアミジンジスルフィド基(例
えばホルムアミジンジスルフィド及びN9−エチル−N
1−メチル−α、α9−ジチオビスホルムアミジン基)
;又は−C(0)M基(式中Mはアルデヒド、酸、エス
テル、チオエステル又は塩を完成するように選択される
)〔例えば−C(0)Hl−C(0) O)1、C(0
)OCRs 、−C(0)SCHx又は−C(0) 0
Na)を包含することができる。出発原料を前記のよう
な強いアルカリ性還元剤と反応させ、生ずる生成物を前
記のような強い酸化性酸と反応させて、所望のプロトン
化テルラソリウム塩を生成する。プロトン化テルラソリ
ウム塩が生成したら、適当な処理(例えば還元又は加水
分解)によって、ホルムアミジンジスルフィドをチオウ
レイド基に変えることができる。(ホルムアミジンジス
ルフィドの構造は、International IJ
nionof Pure and A l1ed C
hemistr Nomenclatureof O
r anic Chemistr s ロンドンのBu
ttersworth。
第三の方法は、一般式(1)の出発原料を使用すること
を含む。一般式(り中のXは、前記のようなハロゲン又
はハロゲノイドであってよい。一般式(1)の出発原料
中のRは、一般式(XI)との関連で上記したものより
多数の形をとることができる。一般式(1)の出発原料
及び一般式(■)の製造されたプロトン化テルラゾリウ
ム塩中のRは、炭化水素基(例えば、アルキル基、アリ
ール基、アルカリール基又はアラルキル基)、2価のオ
キシ、チオ又はカルボニル架橋基を介して結合された炭
化水素基(例えばアルコキシ基、アラルキル基、アルカ
リールオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルチオ基
、アリールチオ基、アルカリールチオ基、アラルキルチ
オ基又はアシル基);第一級、第二級及び第三級アミン
を含めてアミノ基;アミド基(Nえばアセトアミド基及
びブチリルアミド基);ウレイド基(例えば1−ウレイ
ド基、3−フェニル−1−ウレイド基及び3−メチル−
1−ウレイド基);ホルムアミジンジスルフィド基(例
えばホルムアミジンジスルフィド及びN9−エチル−N
1−メチル−α、α9−ジチオビスホルムアミジン基)
;又は−C(0)M基(式中Mはアルデヒド、酸、エス
テル、チオエステル又は塩を完成するように選択される
)〔例えば−C(0)Hl−C(0) O)1、C(0
)OCRs 、−C(0)SCHx又は−C(0) 0
Na)を包含することができる。出発原料を前記のよう
な強いアルカリ性還元剤と反応させ、生ずる生成物を前
記のような強い酸化性酸と反応させて、所望のプロトン
化テルラソリウム塩を生成する。プロトン化テルラソリ
ウム塩が生成したら、適当な処理(例えば還元又は加水
分解)によって、ホルムアミジンジスルフィドをチオウ
レイド基に変えることができる。(ホルムアミジンジス
ルフィドの構造は、International IJ
nionof Pure and A l1ed C
hemistr Nomenclatureof O
r anic Chemistr s ロンドンのBu
ttersworth。
1965年、セクション951.5>。Rが第一級アミ
ノ基である場合には、実際、これを一つの互変異性体の
形でイミノ基であり、アザシアニン色素の合成のための
極めて好適な出発原料を提供する。
ノ基である場合には、実際、これを一つの互変異性体の
形でイミノ基であり、アザシアニン色素の合成のための
極めて好適な出発原料を提供する。
一般式(「)の普通に入手しうる化合物を適当な溶剤(
例えばアセトニトリル、ブチロニトリル又はクロロホル
ム)中で四塩化テルル又は四臭化テルルと共に溶融又は
加熱すると、一般式CI)の物質が生成する。少なくと
も60℃〜約140℃の温度に加熱するが、約110〜
120℃の温度が好ましい。前記のように、一般式(f
f)中のGを、完成する芳香核がマミノ置換基に対して
オルト位で活性化されるように選択する。G及びRによ
って完成される芳香核は、変化しないで一般式(II)
の化合物から一般式(■)のプロトン化テルラゾ11ウ
ム塩に進行することができる。
例えばアセトニトリル、ブチロニトリル又はクロロホル
ム)中で四塩化テルル又は四臭化テルルと共に溶融又は
加熱すると、一般式CI)の物質が生成する。少なくと
も60℃〜約140℃の温度に加熱するが、約110〜
120℃の温度が好ましい。前記のように、一般式(f
f)中のGを、完成する芳香核がマミノ置換基に対して
オルト位で活性化されるように選択する。G及びRによ
って完成される芳香核は、変化しないで一般式(II)
の化合物から一般式(■)のプロトン化テルラゾ11ウ
ム塩に進行することができる。
前記のように製造されたプロトン化テルラゾリウム塩に
対応するテルラゾールを得るために、塩基、例えば水酸
化アンモニウム、アルカリ金属水酸化物、又はアルカリ
金属炭酸塩若しくは炭酸水素塩で処理することができる
。公知のカルコゲンアゾリウム塩で同じ操作を実施する
ための操作を直接適用することができる。
対応するテルラゾールを得るために、塩基、例えば水酸
化アンモニウム、アルカリ金属水酸化物、又はアルカリ
金属炭酸塩若しくは炭酸水素塩で処理することができる
。公知のカルコゲンアゾリウム塩で同じ操作を実施する
ための操作を直接適用することができる。
欧州特許出願第0.136.847号及び同第0.13
8.362号明細書は、まず、プロトン化芳香族テルラ
ゾリウム塩を製造し、これを対応するテルラゾールに変
え、次いで第四級化することによって第四級芳香族テル
ラゾリウム塩を形成することを教示している他、別の製
造法を教示している。一般式(IV)の第四級テルラゾ
リウム塩を製造するこのアプローチは、mがゼロである
一般式(■)、特に一般式(XV) : 、以下糸白 〔式中G、X及びZは一般式(IX)に示したものを表
すゴで示される出発原料を使用することである。この出
発原料をまず強いアルカリ性還元剤(前記のものから選
択しうる)で処理する。次に:反応生成物を参加剤、例
えば酸素、過酸化物又はスルホキシドで処理して、−1
式(XVT) :の化合物を生成させ、これをアルデ
ヒドで処理し、前記のように、強いアルカリ性還元剤で
処理し、次いで前記のような一般式(X)のアシル化剤
及び前記のような強い非酸化性酸で処理する。酸化剤で
の処理は好ましいが、別の酸化工程を設ける必要はない
。周囲の空気が、自然にこのような酸化を行い、アルデ
ヒドでの処理は不活性ガス雰囲気で充分である。この方
法を使用して、一般式(R’)の塩中に、強い第四級化
剤によって提供されるもの他に、種々の第四級化1換基
を、単にアルデヒドの適切な選択によって導入すること
ができる。従って、一般式(rV)中のQはアルデヒド
第四級化置換基の場合により置換された炭化水素基、例
えばアルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアラ
ルキル基並びに置換誘導体、例えばオキシ、チオ、スル
ホ、スルホニル、スルファト、ハロ又はカルボキシ基で
置換された誘導体の形をとることができ、これらはしば
しば、溶解度又は他の物理的性質を変性するために組み
込まれる。
8.362号明細書は、まず、プロトン化芳香族テルラ
ゾリウム塩を製造し、これを対応するテルラゾールに変
え、次いで第四級化することによって第四級芳香族テル
ラゾリウム塩を形成することを教示している他、別の製
造法を教示している。一般式(IV)の第四級テルラゾ
リウム塩を製造するこのアプローチは、mがゼロである
一般式(■)、特に一般式(XV) : 、以下糸白 〔式中G、X及びZは一般式(IX)に示したものを表
すゴで示される出発原料を使用することである。この出
発原料をまず強いアルカリ性還元剤(前記のものから選
択しうる)で処理する。次に:反応生成物を参加剤、例
えば酸素、過酸化物又はスルホキシドで処理して、−1
式(XVT) :の化合物を生成させ、これをアルデ
ヒドで処理し、前記のように、強いアルカリ性還元剤で
処理し、次いで前記のような一般式(X)のアシル化剤
及び前記のような強い非酸化性酸で処理する。酸化剤で
の処理は好ましいが、別の酸化工程を設ける必要はない
。周囲の空気が、自然にこのような酸化を行い、アルデ
ヒドでの処理は不活性ガス雰囲気で充分である。この方
法を使用して、一般式(R’)の塩中に、強い第四級化
剤によって提供されるもの他に、種々の第四級化1換基
を、単にアルデヒドの適切な選択によって導入すること
ができる。従って、一般式(rV)中のQはアルデヒド
第四級化置換基の場合により置換された炭化水素基、例
えばアルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアラ
ルキル基並びに置換誘導体、例えばオキシ、チオ、スル
ホ、スルホニル、スルファト、ハロ又はカルボキシ基で
置換された誘導体の形をとることができ、これらはしば
しば、溶解度又は他の物理的性質を変性するために組み
込まれる。
炭素原子数1〜6のスルホアルキル及びスルファトアル
キル第四級化置換基が特に好ましい。
キル第四級化置換基が特に好ましい。
下記の実施例は、本発明の第四級オキサテルラジニウム
塩及び既に公表されている出発原料からのその製造方法
を更に説明するものである。既に公表されている種の化
合物の製造は、文字(例えばA、B、C等)を付して示
す。まだ公表されていない出発原料の製造を実施例に含
める。
塩及び既に公表されている出発原料からのその製造方法
を更に説明するものである。既に公表されている種の化
合物の製造は、文字(例えばA、B、C等)を付して示
す。まだ公表されていない出発原料の製造を実施例に含
める。
eC13
C,tHqC13NtTe 分子量=41
5.1821の3つロフラスコに機械的撹拌機〔テフロ
ン(商標)ブレード〕、還流冷却器及び窒素導入口を装
着した。冷却器の頂部からのガス排出口を、蒸留水20
0m1及び少量のフェノールフタレイン指示薬を含む磁
気的に攪拌される1000n+1のビーカー中に浸漬し
たガス吹き込み機に接続した。
5.1821の3つロフラスコに機械的撹拌機〔テフロ
ン(商標)ブレード〕、還流冷却器及び窒素導入口を装
着した。冷却器の頂部からのガス排出口を、蒸留水20
0m1及び少量のフェノールフタレイン指示薬を含む磁
気的に攪拌される1000n+1のビーカー中に浸漬し
たガス吹き込み機に接続した。
系は充分に気密であって、極めて穏和な窒素流で指示薬
溶液中に一貫して泡を生じた。
溶液中に一貫して泡を生じた。
フラスコ中にアゾベンゼン100g(0,55モル)、
四塩化テルル134g(0,5モル)及び無水塩化アル
ミニウム66g(0,5モル)を入れた。
四塩化テルル134g(0,5モル)及び無水塩化アル
ミニウム66g(0,5モル)を入れた。
1.2−ジクロロベンゼン(500ml)を加え、装置
を閉鎖し、窒素を流し始め、混合物を橙褐色溶液が得ら
れるまで撹拌した。IN水酸化ナトリウム5mlを指示
薬溶液に添加し、フラスコ内容物を活発に攪拌しながら
加熱還流した。反応の開始は、指示薬の色の喪失によっ
て判る。指示薬の色が消える度にビーカーにIN水酸化
ナトリウムの既知量を添加した。添加の増加量及び経過
時間を下記の表に示す。
を閉鎖し、窒素を流し始め、混合物を橙褐色溶液が得ら
れるまで撹拌した。IN水酸化ナトリウム5mlを指示
薬溶液に添加し、フラスコ内容物を活発に攪拌しながら
加熱還流した。反応の開始は、指示薬の色の喪失によっ
て判る。指示薬の色が消える度にビーカーにIN水酸化
ナトリウムの既知量を添加した。添加の増加量及び経過
時間を下記の表に示す。
一薩皿二分L 匝坦叫l」畦)
6.5 50
13.0 100
20.0 150
28.0 200
36、5 250
46.0 300
54゜0 350
70、0 400
85、0 450
94.0 475
1N水酸化ナトリウム475m1が消費されるまで、煮
沸還流を続けた。フラスコ内容物を次に約80℃に冷却
させた。次いで、急速に攪拌した溶液に、最初は激しい
反応が終わるまで、メチルアルコールを極めて徐々に添
加した。合計500I11のメタノールを添加し、混合
物を1時間以上水中で冷却した。重い粒状結晶性沈澱を
口過し、メタノールロ液が淡黄色になるまでメタノール
で洗浄した。
沸還流を続けた。フラスコ内容物を次に約80℃に冷却
させた。次いで、急速に攪拌した溶液に、最初は激しい
反応が終わるまで、メチルアルコールを極めて徐々に添
加した。合計500I11のメタノールを添加し、混合
物を1時間以上水中で冷却した。重い粒状結晶性沈澱を
口過し、メタノールロ液が淡黄色になるまでメタノール
で洗浄した。
淡黄色の光沢のある結晶を真空中で乾燥した。
融点261〜263℃の物質130.3g(理論量の6
3%)の収量が得られた。生成物は、少量の酸化物を含
んでいたので、これを1.2−ジクロロベンゼンから再
結晶して除去した。再結晶した生成物の元素分析は、構
造式と一致した。
3%)の収量が得られた。生成物は、少量の酸化物を含
んでいたので、これを1.2−ジクロロベンゼンから再
結晶して除去した。再結晶した生成物の元素分析は、構
造式と一致した。
Ca HqcI30zTe 分子量=37
1.131.2−ジメトキシベンゼン(ベラトロール、
13、8 g = 0.1モル)及び四塩化テルル(2
6,9g = 0.1モル)をクロロホルム(120m
l)中で還流下に攪拌しながら2時間加熱した。30分
後、黄色結晶が沈澱し始めた。生成物(25,2g、理
論量の67.9%)を口過によって集め、真空乾燥8中
で乾燥した。融点162〜163℃(ガスを発生しなが
ら分解)。質量スペクトルは、構造式と一致した。
1.131.2−ジメトキシベンゼン(ベラトロール、
13、8 g = 0.1モル)及び四塩化テルル(2
6,9g = 0.1モル)をクロロホルム(120m
l)中で還流下に攪拌しながら2時間加熱した。30分
後、黄色結晶が沈澱し始めた。生成物(25,2g、理
論量の67.9%)を口過によって集め、真空乾燥8中
で乾燥した。融点162〜163℃(ガスを発生しなが
ら分解)。質量スペクトルは、構造式と一致した。
C1bH+5OaTez 分子量=529.
423.4−ジメトキシフェニルテルルトリクロリド(
37,2g = 0.1モル)を無水エタノール(50
0m1)中に溶かし、僅かに混濁した溶液を口過した。
423.4−ジメトキシフェニルテルルトリクロリド(
37,2g = 0.1モル)を無水エタノール(50
0m1)中に溶かし、僅かに混濁した溶液を口過した。
急速に撹拌した溶液に室温で、できるだけ早く50%次
亜燐酸水溶液(30ml、約0.3モル)を加えた。溶
液全体が黒色繊維状結晶の塊に硬化する前は、溶液は短
時間褐色を呈していた。
亜燐酸水溶液(30ml、約0.3モル)を加えた。溶
液全体が黒色繊維状結晶の塊に硬化する前は、溶液は短
時間褐色を呈していた。
生成物をゴムダムを使用して口過によって15分後に集
めて、高度に溶媒和された結晶塊に圧縮した。生成物を
水で洗浄し、次いで、風乾して融点134〜136℃の
黒色繊維状結晶25.2g(理論量の95%)を得た。
めて、高度に溶媒和された結晶塊に圧縮した。生成物を
水で洗浄し、次いで、風乾して融点134〜136℃の
黒色繊維状結晶25.2g(理論量の95%)を得た。
イソプロパツールから再結晶すると、融点が136〜1
39℃に上昇した。
39℃に上昇した。
CSH及びTeの元素分析は、構造式と一致した。
λsex ”” 305 n1ls εasX =1.
006 X 10 ’1.3−ペンゾオキサテルラゾー
ルーN−オキシエ I ↓ Cs T(scI N O*Te 分子量=34
5.21A、製造例Cの生成物のニトロ化 ビス(3,4−ジメトキシフェニル)ジチルリド(10
g=0.018モル)を少量ずつ70モル%硝酸(15
sl)に攪拌及び水中で冷却しながら添加した。物質は
亜硝酸煙を発生しながら急速に溶解した。次いで、混合
物を約40℃で30分加熱し、その後、室温で1時間攪
拌した。橙色煙の発生はもはや観察されなかった。次い
で、橙色溶液に水(150m1)を添加すると、黄色沈
澱が生じた。これ(5g)をエタノール(100sl)
及び濃塩酸(20sl)と混合し、次に、水で200
(沈澱を起こす直前)に希釈した。次亜燐酸(50モル
%のもの5m1)を添加した。室温で15分撹拌する間
に、生じた深赤色沈澱を口過に ゛よって集めた。生
成物を無水エタノール(450sl)から再結晶して、
融点197〜200℃の赤色柱状晶(2,5g)を得た
。この操作による収率は、約32%と計算された。
006 X 10 ’1.3−ペンゾオキサテルラゾー
ルーN−オキシエ I ↓ Cs T(scI N O*Te 分子量=34
5.21A、製造例Cの生成物のニトロ化 ビス(3,4−ジメトキシフェニル)ジチルリド(10
g=0.018モル)を少量ずつ70モル%硝酸(15
sl)に攪拌及び水中で冷却しながら添加した。物質は
亜硝酸煙を発生しながら急速に溶解した。次いで、混合
物を約40℃で30分加熱し、その後、室温で1時間攪
拌した。橙色煙の発生はもはや観察されなかった。次い
で、橙色溶液に水(150m1)を添加すると、黄色沈
澱が生じた。これ(5g)をエタノール(100sl)
及び濃塩酸(20sl)と混合し、次に、水で200
(沈澱を起こす直前)に希釈した。次亜燐酸(50モル
%のもの5m1)を添加した。室温で15分撹拌する間
に、生じた深赤色沈澱を口過に ゛よって集めた。生
成物を無水エタノール(450sl)から再結晶して、
融点197〜200℃の赤色柱状晶(2,5g)を得た
。この操作による収率は、約32%と計算された。
B、製造例Bの生成物のニトロ化及び還元3.4−ジメ
トキシフェニルテルルトリクロリド(74g=0.2モ
ル)を1500 の三角フラスコ中で氷酢酸(200
sl)中に懸濁した。撹拌混合物に徐々に硝酸(70%
のもの18g=0.2モル)を添加すると、澄明な赤色
溶液が形成し、穏和な発熱反応が起こった。攪拌を室温
で1時間続け、次いでエタノール(1000sl)及び
次亜燐酸(50重量%水溶液24.0g)を順次添加し
た。30分にわたって、赤色固体が結晶した。この結晶
を口過によって集め、融点199〜200℃の物質47
.3g(理論量の68.8%)を得た。
トキシフェニルテルルトリクロリド(74g=0.2モ
ル)を1500 の三角フラスコ中で氷酢酸(200
sl)中に懸濁した。撹拌混合物に徐々に硝酸(70%
のもの18g=0.2モル)を添加すると、澄明な赤色
溶液が形成し、穏和な発熱反応が起こった。攪拌を室温
で1時間続け、次いでエタノール(1000sl)及び
次亜燐酸(50重量%水溶液24.0g)を順次添加し
た。30分にわたって、赤色固体が結晶した。この結晶
を口過によって集め、融点199〜200℃の物質47
.3g(理論量の68.8%)を得た。
この物質は、操作Aによって単離された生成物と同一で
あった。元素分析は、構造式に関して計算したものと一
致した。
あった。元素分析は、構造式に関して計算したものと一
致した。
炭l二1
例2〜5は、下記の一般式の化合物の製造を説明するも
のである。
のである。
f13−クロロナフト(2,1−c)−1,2゜I
C+ o H6CI N OTe 分子量=319
.22二酸化テルル(80g、0.5モル)を攪拌しな
がら濃塩酸(200sl、2.0モル)に溶解させた。
.22二酸化テルル(80g、0.5モル)を攪拌しな
がら濃塩酸(200sl、2.0モル)に溶解させた。
溶解が完了したら、エチルアルコール(300m1)中
のヒドロキシルアミン塩酸塩(69g、1.0モル)の
懸濁液を加えた。固体がすべて溶解したら、エチルアル
コール(1200II11)中のα−テトラロン(73
g、0.5モル)を添加した。澄明な反応混合物は、迅
速に赤色に変わり、1時間以内に暗色の結晶が形成し始
めた。反応混合物を室温に5日放置した後、生成物を口
過によって単離し、真空中で乾燥した。収51123.
2g。
のヒドロキシルアミン塩酸塩(69g、1.0モル)の
懸濁液を加えた。固体がすべて溶解したら、エチルアル
コール(1200II11)中のα−テトラロン(73
g、0.5モル)を添加した。澄明な反応混合物は、迅
速に赤色に変わり、1時間以内に暗色の結晶が形成し始
めた。反応混合物を室温に5日放置した後、生成物を口
過によって単離し、真空中で乾燥した。収51123.
2g。
ソックスレー抽出器中で溶剤約1300slを使用して
、生成物をジクロロメタンで連続的に抽出することによ
り元素状テルルから分離した。抽出液を冷却すると、ま
ず、84.9 gの生成物が得られた。口液をその2倍
量のへブタンで希釈すると、第二の収t6.1gを得た
。合した収191.0gは57%の収率に相当した。融
点182〜183℃。
、生成物をジクロロメタンで連続的に抽出することによ
り元素状テルルから分離した。抽出液を冷却すると、ま
ず、84.9 gの生成物が得られた。口液をその2倍
量のへブタンで希釈すると、第二の収t6.1gを得た
。合した収191.0gは57%の収率に相当した。融
点182〜183℃。
λ□X (ピリジン中)ば503nwであった。ε、。
=0.82X10’、C,H,CI、N、O及び元素分
析の結果及びfitスペクトルは、構造式から予測され
るものと一致した。
析の結果及びfitスペクトルは、構造式から予測され
るものと一致した。
X=Br
C,oH6BrNOTe 分子量=363.68α
−テトラロンオキシム(24g−0,05モル)、二酸
化テルル(35g=0.22モル)、臭化リチウム(6
0g)及び酢酸(350ml)を合し、混合物を20分
加熱して穏和に煮沸した。反応混合物を熱時口遇し、生
成物を水で洗浄することによって沈澱した固体を集めて
、深いえび茶色の固体38゜9g(理論量の71%)を
得た。生成物を四塩化炭素から再結晶させた(融点18
3〜185℃)。元素分析及び質量スペクトルは、構造
式から予測されるものと一致した。
−テトラロンオキシム(24g−0,05モル)、二酸
化テルル(35g=0.22モル)、臭化リチウム(6
0g)及び酢酸(350ml)を合し、混合物を20分
加熱して穏和に煮沸した。反応混合物を熱時口遇し、生
成物を水で洗浄することによって沈澱した固体を集めて
、深いえび茶色の固体38゜9g(理論量の71%)を
得た。生成物を四塩化炭素から再結晶させた(融点18
3〜185℃)。元素分析及び質量スペクトルは、構造
式から予測されるものと一致した。
fii 3−クロロ−5−メチルナフト(2,1−R’
=H,R” =CH5、X=CIC++HaCINO
Te 分子量=333.24二酸化テルル(79,
5g = 0.5モル)を濃塩酸(200+wl)に溶
解した。ヒドロキシルアミン塩酸塩(35g=0.5モ
ル)を添加し、次いでエタノールを添加して合計200
0m1にした。僅かに混濁した溶液に4−メチル−α−
テトラロン(80g−0,5モル)を添加し、攪拌混合
物を短時間加熱沸騰させた。澄明な深赤色溶液を室温で
一夜放置した。結晶性生成物の固体物質を集め、水で良
く洗浄し、真空乾燥8中で90℃で乾燥して、暗赤色針
状晶の最初の収! (111,1g’)を得た。口液を
再び加熱し、室温で24時間放置した。粗製生成物14
.3 gの第二の収量を得た。良く乾燥した生成物をソ
ックスレー装置中に入れ、塩化メチレンで抽出した。大
部分の精製した生成物を抽出の経過中に溶剤から結晶さ
せて融点196〜198℃の物質97.0 g = 5
8.3%を得た。元素分析の結果は構造式と一致した。
=H,R” =CH5、X=CIC++HaCINO
Te 分子量=333.24二酸化テルル(79,
5g = 0.5モル)を濃塩酸(200+wl)に溶
解した。ヒドロキシルアミン塩酸塩(35g=0.5モ
ル)を添加し、次いでエタノールを添加して合計200
0m1にした。僅かに混濁した溶液に4−メチル−α−
テトラロン(80g−0,5モル)を添加し、攪拌混合
物を短時間加熱沸騰させた。澄明な深赤色溶液を室温で
一夜放置した。結晶性生成物の固体物質を集め、水で良
く洗浄し、真空乾燥8中で90℃で乾燥して、暗赤色針
状晶の最初の収! (111,1g’)を得た。口液を
再び加熱し、室温で24時間放置した。粗製生成物14
.3 gの第二の収量を得た。良く乾燥した生成物をソ
ックスレー装置中に入れ、塩化メチレンで抽出した。大
部分の精製した生成物を抽出の経過中に溶剤から結晶さ
せて融点196〜198℃の物質97.0 g = 5
8.3%を得た。元素分析の結果は構造式と一致した。
ジクロロメタン中での紫外線及び可視スペクトルは3個
の最大値を示した。
の最大値を示した。
λ、−X507nm εMmX−1,21X10
’λwax 300nm tmmx =1,05
x 10’λ−X256r+n+ ε□x−2,
30xtO’R3怠OCH3、R” −H,X −CI
Cr IHacI N OzTe 分子量=349
.24この化合物は、出発ケトンとして6−ノドキシ−
α−テトラロン(88,1g = 0.5モル)を使用
したことを除いて、例4の対応する化合物と同じ−i的
方法で製造した。反応混合物を加熱沸騰する工程及び次
いで室温で放置する工程を3回繰り返して、合計84.
8 gの粗製生成物を得た。ジクロロメタンを用いてソ
ックスレー抽出物を再結晶すると、小さい暗色針状晶(
融点237〜239℃)72.5g(理論量の41.5
%)を得た。元素分析の結果は構造式と一致した。ジク
ロロメタン中での紫外線及び可視スペクトルは4個の最
大値を示した。
’λwax 300nm tmmx =1,05
x 10’λ−X256r+n+ ε□x−2,
30xtO’R3怠OCH3、R” −H,X −CI
Cr IHacI N OzTe 分子量=349
.24この化合物は、出発ケトンとして6−ノドキシ−
α−テトラロン(88,1g = 0.5モル)を使用
したことを除いて、例4の対応する化合物と同じ−i的
方法で製造した。反応混合物を加熱沸騰する工程及び次
いで室温で放置する工程を3回繰り返して、合計84.
8 gの粗製生成物を得た。ジクロロメタンを用いてソ
ックスレー抽出物を再結晶すると、小さい暗色針状晶(
融点237〜239℃)72.5g(理論量の41.5
%)を得た。元素分析の結果は構造式と一致した。ジク
ロロメタン中での紫外線及び可視スペクトルは4個の最
大値を示した。
λ−X510nm smaw =0.89xx
O’λIIIIX 454nm glmllX
=0.93 x 10’λIIIIX 312nn+
e、□=0.81 x 10’λ−−X 245
nm εmmx=2.63x 10’ア
セナフチレン−1−オン(83,5g、 0.05モル
)、ヒドロキシルアミン塩酸塩(35g。
O’λIIIIX 454nm glmllX
=0.93 x 10’λIIIIX 312nn+
e、□=0.81 x 10’λ−−X 245
nm εmmx=2.63x 10’ア
セナフチレン−1−オン(83,5g、 0.05モル
)、ヒドロキシルアミン塩酸塩(35g。
0.05モル)及び二酸化テルル(80g、0.05モ
ル)をエタノール(3り中で混合した。混合物を加熱還
流し、その温度に一時間保持した。次に、室温に冷却し
、室温で12日攪拌を続けた。
ル)をエタノール(3り中で混合した。混合物を加熱還
流し、その温度に一時間保持した。次に、室温に冷却し
、室温で12日攪拌を続けた。
固体を口過によって単離し、エタノールで洗浄し、風乾
した。褐色粉末の収量は67.6g、理論量の46%で
あった。ジクロロメタン溶液における紫外線及び可視ス
ペクトルは、4B9.6.429.372及び316
na+に4個の最大値を示した。
した。褐色粉末の収量は67.6g、理論量の46%で
あった。ジクロロメタン溶液における紫外線及び可視ス
ペクトルは、4B9.6.429.372及び316
na+に4個の最大値を示した。
五二二上上
これらの例は、1,1.1−)リハロ(置換)2.1.
4−ペンゾオキサテルラジニウム分子内塩に関する。
4−ペンゾオキサテルラジニウム分子内塩に関する。
三皇ム5分五吉N1R” = OCHs 、・R” =
I(。
I(。
R=C)!! 、X=CI
Cq H+ OCl 3 N OzTe 分子量=
398.053−メトキシアセトアニリド(34g=
0.2モル)及び四塩化テルル(54g−0,2モル)
を500m1の三角フラスコ中のクロロホルム(100
ml)中に一緒に攪拌混入する。最初溶液が形成した後
、物質は微細な黄色沈澱と共に固化した。混合物を11
5℃に保持した油浴中に浸漬した。混合物をすべての固
体が再溶解又は溶融されるまで人為的に攪拌した。はと
んどのクロロホルムが薫発した後、澄明な黄色溶融物が
生じたが、これば、ガス状MCIを発生しながら、急速
に不透明になった。温度を12(1℃に上昇させ、物質
全体が脆弱な固体に硬化するまで、場合により人為的に
攪拌しながら加熱を続けた。反応は2時間後に終わった
。まだ熱い反応混合物にエタノールを添加して生成物を
分散させた。エタノールから再結晶させると、融点24
5〜246℃の無色の針状晶が得られた(47.1g、
理論量の59%)。
398.053−メトキシアセトアニリド(34g=
0.2モル)及び四塩化テルル(54g−0,2モル)
を500m1の三角フラスコ中のクロロホルム(100
ml)中に一緒に攪拌混入する。最初溶液が形成した後
、物質は微細な黄色沈澱と共に固化した。混合物を11
5℃に保持した油浴中に浸漬した。混合物をすべての固
体が再溶解又は溶融されるまで人為的に攪拌した。はと
んどのクロロホルムが薫発した後、澄明な黄色溶融物が
生じたが、これば、ガス状MCIを発生しながら、急速
に不透明になった。温度を12(1℃に上昇させ、物質
全体が脆弱な固体に硬化するまで、場合により人為的に
攪拌しながら加熱を続けた。反応は2時間後に終わった
。まだ熱い反応混合物にエタノールを添加して生成物を
分散させた。エタノールから再結晶させると、融点24
5〜246℃の無色の針状晶が得られた(47.1g、
理論量の59%)。
C,H,N及びTeの元素分析は、構造式について計算
したものと一致した。
したものと一致した。
以下余白
■工 1.L I−トリクロロ−3,6−ジメチ王丘
皇、 R=R’ =CH3、R” =H,X二CIC9
H+ OCI :I N OTe 分子量= 3
8?、 053−メチルアセトアニリド(m−アセトト
ルイシド)(82g=0.55モル)及び四塩化テルル
(148g、0.55モル)をクロロホルム(300m
l)と合し、I(CIを連続的に除去しながら混合物を
115℃に保持した油浴中で20時間加熱した。
皇、 R=R’ =CH3、R” =H,X二CIC9
H+ OCI :I N OTe 分子量= 3
8?、 053−メチルアセトアニリド(m−アセトト
ルイシド)(82g=0.55モル)及び四塩化テルル
(148g、0.55モル)をクロロホルム(300m
l)と合し、I(CIを連続的に除去しながら混合物を
115℃に保持した油浴中で20時間加熱した。
熱い反応生成物をエタノール(200ml)中に分散さ
せ、生成物を口過によって集め、300℃より高い融点
を有する無色の柱状晶149g (理論量の71%)を
得た。分析のため、化合物を沸騰するアセトニトリルか
ら再結晶した。
せ、生成物を口過によって集め、300℃より高い融点
を有する無色の柱状晶149g (理論量の71%)を
得た。分析のため、化合物を沸騰するアセトニトリルか
ら再結晶した。
元素分析は、構造式について予測されたものと一致した
。
。
lj」辷臼並1、 R=R” =R’ =CH5、X
=C+oH+zCI3NOTe 分子量=396
.073.4−ジメチルアセトアニリド(56g=0.
37モル)をTeC14(I Q Og−0,37モル
)とアセトニトリル(100ml)中で合し、油浴中に
まず120℃で1時間、次に130℃で更に3時間浸漬
した。更にアセトニトリルを添加し、部分溶液を冷却し
た。生成物を口過によって集めて無色の結晶(280℃
より高温で暗色になった後300℃より高い温度で融解
)74.7g(理論量の52%)を得た。アセトニトリ
ルから再結晶するため、物質15gを得るのに溶剤40
0m1を必要とした。CSH,CI、N及びTeの元素
分析は、構造式について予測されたものと一致した。
=C+oH+zCI3NOTe 分子量=396
.073.4−ジメチルアセトアニリド(56g=0.
37モル)をTeC14(I Q Og−0,37モル
)とアセトニトリル(100ml)中で合し、油浴中に
まず120℃で1時間、次に130℃で更に3時間浸漬
した。更にアセトニトリルを添加し、部分溶液を冷却し
た。生成物を口過によって集めて無色の結晶(280℃
より高温で暗色になった後300℃より高い温度で融解
)74.7g(理論量の52%)を得た。アセトニトリ
ルから再結晶するため、物質15gを得るのに溶剤40
0m1を必要とした。CSH,CI、N及びTeの元素
分析は、構造式について予測されたものと一致した。
ルージニウム、 、 R=CHz、R1=SCH
3、R” =H,X=CIC9Hl0CI 3 HOS
Te 分子!=413.95市販の3−メチル
チオアニリンのアセチル化によって製造した3−メチル
チオアセトアニリド(68g=0.37モル)をTeC
1a(100g−0,37モル)とクロロホルム(10
0ml)中で合した。混合物を130℃に保持した油浴
中で3時間加熱し、熱時アセトニトリル(3001I1
1)中に導入し、急冷し、口過した。結晶性固体68g
(理論量の49%)が得られた。分析のため、物質を脱
色カーボンブラックを用いて沸騰アセトニトリル(10
0ml、約4gを溶解する)から再結晶させ、融点25
1〜253℃の光沢のある淡黄色柱状晶として回収した
。元素分析は、構造式について予測されたものと一致し
た。
3、R” =H,X=CIC9Hl0CI 3 HOS
Te 分子!=413.95市販の3−メチル
チオアニリンのアセチル化によって製造した3−メチル
チオアセトアニリド(68g=0.37モル)をTeC
1a(100g−0,37モル)とクロロホルム(10
0ml)中で合した。混合物を130℃に保持した油浴
中で3時間加熱し、熱時アセトニトリル(3001I1
1)中に導入し、急冷し、口過した。結晶性固体68g
(理論量の49%)が得られた。分析のため、物質を脱
色カーボンブラックを用いて沸騰アセトニトリル(10
0ml、約4gを溶解する)から再結晶させ、融点25
1〜253℃の光沢のある淡黄色柱状晶として回収した
。元素分析は、構造式について予測されたものと一致し
た。
−ジニウム 、 R−CH3、R”=OH。
R” =HSX=CI
Cs HIC73N OtTe 分子量= 38
3.953−ヒドロキシアセトアニリド(60g=0.
4モル)及びTeC1+ (107,6glo、4モル
)をアセトアニリド(80ml)中で合し、混合物を1
20℃に保持した油浴中に2時間浸漬した。熱い溶融物
に充分量のアセトニトリルを添加してペーストを作った
。混合物を一夜冷却し、吸引口過して、無色の結晶性固
体86.5g(理論量の56%)を得た。これを分析の
ため、熱アセトニトリルから再結晶させた。その際、固
体25gは1501Ilの溶削を必要とし、融点247
〜248℃の無色の結晶10gが回収された。元素分析
は、構造式について予測されたものと一致した。
3.953−ヒドロキシアセトアニリド(60g=0.
4モル)及びTeC1+ (107,6glo、4モル
)をアセトアニリド(80ml)中で合し、混合物を1
20℃に保持した油浴中に2時間浸漬した。熱い溶融物
に充分量のアセトニトリルを添加してペーストを作った
。混合物を一夜冷却し、吸引口過して、無色の結晶性固
体86.5g(理論量の56%)を得た。これを分析の
ため、熱アセトニトリルから再結晶させた。その際、固
体25gは1501Ilの溶削を必要とし、融点247
〜248℃の無色の結晶10gが回収された。元素分析
は、構造式について予測されたものと一致した。
C11lH2ON204Te2 分子量= 58
3.231.1.1−)リクロロー6−メトキシー3−
メチル−2,1,4−ペンゾオキサテルラジニウム分子
内塩(例11) (5,0g=0.0125モル)を
50%含水エタノール(200m1)に溶かした。
3.231.1.1−)リクロロー6−メトキシー3−
メチル−2,1,4−ペンゾオキサテルラジニウム分子
内塩(例11) (5,0g=0.0125モル)を
50%含水エタノール(200m1)に溶かした。
溶液を加熱沸騰させ、攪拌しながらヒドラジン(11)
を添加した。深橙色溶液を徐々に室温に冷却して繊維状
針状晶を沈積させ、これを口過し、乾燥すると、融点1
81〜182℃の黄褐色固体(3,25g、理論量の8
9%)が得られた。
を添加した。深橙色溶液を徐々に室温に冷却して繊維状
針状晶を沈積させ、これを口過し、乾燥すると、融点1
81〜182℃の黄褐色固体(3,25g、理論量の8
9%)が得られた。
劃」」二二17
例12〜エフは、ペンゾテルラゾリウムヒドロ塩の製造
法を説明するものである。
法を説明するものである。
R’ =R” =OCH3、X=CI
C+oH+zCINOzTe 分子量=341.2
6攪拌機、窒素導入口、還流冷却器及び粉末添加ロート
を装着した3I!の三つロフラスコを使用して、1−ク
ロロ−5,6−シメトキシー2.1゜3−ペンゾオキサ
テルラゾールーN−オキシド(例1)(103g=0.
3モル)をテトラヒドロフラン(1000+wl)及び
メタノール(150m1)の混合物中に懸濁させた。窒
素雰囲気下に、攪拌溶液に硼水素化ナトリウム(61,
5g、1.6モル)を、色が淡クリーム色になるまで、
徐々に添加した。硼水素化物の量を、出発原料の赤色が
消えることによって実験的に決定した。次に、反応混合
物を冷却し、色が明るい橙色に変わるまで、酢酸無水物
を添加した。これには、酢酸無水物41.3g = 0
.4モルが必要であった。反応を10分間進行させ、次
いで、濃塩酸(300ml)を一度に添加した。混合物
は直ちに黒色に変わり、著量のテルルが生じたことを示
した。
6攪拌機、窒素導入口、還流冷却器及び粉末添加ロート
を装着した3I!の三つロフラスコを使用して、1−ク
ロロ−5,6−シメトキシー2.1゜3−ペンゾオキサ
テルラゾールーN−オキシド(例1)(103g=0.
3モル)をテトラヒドロフラン(1000+wl)及び
メタノール(150m1)の混合物中に懸濁させた。窒
素雰囲気下に、攪拌溶液に硼水素化ナトリウム(61,
5g、1.6モル)を、色が淡クリーム色になるまで、
徐々に添加した。硼水素化物の量を、出発原料の赤色が
消えることによって実験的に決定した。次に、反応混合
物を冷却し、色が明るい橙色に変わるまで、酢酸無水物
を添加した。これには、酢酸無水物41.3g = 0
.4モルが必要であった。反応を10分間進行させ、次
いで、濃塩酸(300ml)を一度に添加した。混合物
は直ちに黒色に変わり、著量のテルルが生じたことを示
した。
黒色混合物を更に30分間、攪拌し、口過して沈澱物を
集めた。固体をジクロロメタンで短時間洗浄し、風乾し
た。粗製生成物を少量の塩酸を含む沸騰メタノール12
00m1に添加し、セライト(商標)珪藻土を用いて熱
時口過した。口液を一夜冷却し、淡灰色結晶(15,6
g)を得た。更に、2回生成物を黒色固体から抽出して
、合計21.34g(理論量の19.9%)を得た。更
に精製するため、少量の塩酸を含む沸騰水から物質を再
結晶させた。淡いクリーム色針状晶は明瞭な融点を持た
ず、150℃を越えると、徐々に分解した。
集めた。固体をジクロロメタンで短時間洗浄し、風乾し
た。粗製生成物を少量の塩酸を含む沸騰メタノール12
00m1に添加し、セライト(商標)珪藻土を用いて熱
時口過した。口液を一夜冷却し、淡灰色結晶(15,6
g)を得た。更に、2回生成物を黒色固体から抽出して
、合計21.34g(理論量の19.9%)を得た。更
に精製するため、少量の塩酸を含む沸騰水から物質を再
結晶させた。淡いクリーム色針状晶は明瞭な融点を持た
ず、150℃を越えると、徐々に分解した。
Mii 5−メトキシ−2−メチル−3H−ペンゾテル
ラゾリウムクロリド、 R’ =OCH,、R”
=H,X=CI CqH+oCINOTe 分子量=311.24
1.1.1−)サクロロー6−メトキシ−3−メチル−
2,1,4−ペンゾオキサテルラジニウム分子内塩(例
7)(40g=0.1モル)をメタノール(4,00m
1)中に懸濁し、水(75ml)中の水酸化ナトリウム
(8,0g−0,2モル)の溶液を添加した。これによ
り形成した澄明な溶液を攪拌機、窒素導入口及び′a縮
器を装着した容器中に入れた。窒素雰囲気下に硼水素化
ナトリウム(10゜6g、0.28モル)を、更に添加
しても溶液がもはや赤色又は橙色に変わらなくなり、場
合により無色に変わるまで、少量ずつ添加した。還元の
途中で、混合物は固化するが、還元が進行するに従って
、再び液化した。約10℃に冷却した懸濁液に濃塩酸(
100ml)を一度に添加した。
ラゾリウムクロリド、 R’ =OCH,、R”
=H,X=CI CqH+oCINOTe 分子量=311.24
1.1.1−)サクロロー6−メトキシ−3−メチル−
2,1,4−ペンゾオキサテルラジニウム分子内塩(例
7)(40g=0.1モル)をメタノール(4,00m
1)中に懸濁し、水(75ml)中の水酸化ナトリウム
(8,0g−0,2モル)の溶液を添加した。これによ
り形成した澄明な溶液を攪拌機、窒素導入口及び′a縮
器を装着した容器中に入れた。窒素雰囲気下に硼水素化
ナトリウム(10゜6g、0.28モル)を、更に添加
しても溶液がもはや赤色又は橙色に変わらなくなり、場
合により無色に変わるまで、少量ずつ添加した。還元の
途中で、混合物は固化するが、還元が進行するに従って
、再び液化した。約10℃に冷却した懸濁液に濃塩酸(
100ml)を一度に添加した。
15分後に沈澱を口過しく暗色の固体の収量42g)、
口液を冷却して、第二の収穫物として12gの固体を得
た。景初に得た固体を少量の塩酸を含む熱湯700m1
から再結晶させた。はぼ白色の針状晶16.1 gが回
収された。第二の収M物は塩化ナトリウムを含んでいた
。これを少量の塩酸を含むメタノール125m1から再
結晶させて、生成物3.6gを得た。合計収量19.7
gは、理論量の63%に相当した。分析のため、物質
をもう一度、酸性メタノールから結晶させた。105℃
(焼結)、130〜135℃(黒色に変わる)、明瞭な
融点なしく270℃。
口液を冷却して、第二の収穫物として12gの固体を得
た。景初に得た固体を少量の塩酸を含む熱湯700m1
から再結晶させた。はぼ白色の針状晶16.1 gが回
収された。第二の収M物は塩化ナトリウムを含んでいた
。これを少量の塩酸を含むメタノール125m1から再
結晶させて、生成物3.6gを得た。合計収量19.7
gは、理論量の63%に相当した。分析のため、物質
をもう一度、酸性メタノールから結晶させた。105℃
(焼結)、130〜135℃(黒色に変わる)、明瞭な
融点なしく270℃。
X=CI
C,H,、ClNTe 分子量=295.24窒
素導入口、凝縮器及び磁気攪拌機を装着した容器中で1
.1.1−)フクロロー3,6−シメチルー2.1.4
−ペンゾオキサテルラジニウム分子内塩(例8)(17
,3g=0.05モル)をメタノール(30On+1)
及びIN水酸化ナトリウム(100n+1.0.1モル
)の混合物中に溶解させた。
素導入口、凝縮器及び磁気攪拌機を装着した容器中で1
.1.1−)フクロロー3,6−シメチルー2.1.4
−ペンゾオキサテルラジニウム分子内塩(例8)(17
,3g=0.05モル)をメタノール(30On+1)
及びIN水酸化ナトリウム(100n+1.0.1モル
)の混合物中に溶解させた。
更に添加してももはや一時的な橙色を生じなくなるまで
硼水素化ナトリウムを凝縮器より添加した。
硼水素化ナトリウムを凝縮器より添加した。
これには、約3.0gが必要であった。混合物を窒素雰
囲気下に数分撹拌し、次いで濃塩酸(100ml)を一
度に添加した。混合物をセライト(商標)で口過して澄
明にし、減圧下に200m1になるまで蒸発させ、再び
口過して無機塩を除去し、−夜冷却した。口過により無
色の固体9.15 gが得られた。これをイソプロパツ
ールですすぎ、風乾した。物質は純粋ではなく、無機塩
の夾雑物を含んでいた。
囲気下に数分撹拌し、次いで濃塩酸(100ml)を一
度に添加した。混合物をセライト(商標)で口過して澄
明にし、減圧下に200m1になるまで蒸発させ、再び
口過して無機塩を除去し、−夜冷却した。口過により無
色の固体9.15 gが得られた。これをイソプロパツ
ールですすぎ、風乾した。物質は純粋ではなく、無機塩
の夾雑物を含んでいた。
!#Li 2,5.6−)ジメチル−3H−ペンゾテル
ーゾiウムクロリド、R’ =R” =CH3、X±C
I C+ o H+ zcI NTe 分子量=30
9.25攪拌機、窒素導入口、還流冷却器及び粉末添加
ロートを装着した10QOmlの三つロフラスコ中で、
1.1.1−)フクロロー3.6.フードリメチルー2
.1.4−ペンゾオキサテルラジニウム分子内塩(例9
) (39,6g = 0.1モル)をメタノール
400m1中に入れた。水(30ml)中の水酸化ナト
リウム(8,0g= 0.2モル)を添加し、次いで、
還元混合物が淡褐色になるまで硼水素化ナトリウム(8
,56g=0.225モル)を添加した。出発原料及び
始めの還元生成物の溶解を助成するため加熱を必要とし
た。還元が完了したら、混合物を約lO℃に冷却し、濃
塩酸(100n+1)を一度に添加した。粒状黒色沈澱
を口過によって除去した。口液を真空中で約250m1
に蒸発し、水で2倍の容量に希釈し、結晶化が完了する
まで攪拌した。29.5g(理論量の94.8%)の収
量が得られた。メタノールから2回再結晶させた後、塩
は180〜184℃(分解)で融解した。
ーゾiウムクロリド、R’ =R” =CH3、X±C
I C+ o H+ zcI NTe 分子量=30
9.25攪拌機、窒素導入口、還流冷却器及び粉末添加
ロートを装着した10QOmlの三つロフラスコ中で、
1.1.1−)フクロロー3.6.フードリメチルー2
.1.4−ペンゾオキサテルラジニウム分子内塩(例9
) (39,6g = 0.1モル)をメタノール
400m1中に入れた。水(30ml)中の水酸化ナト
リウム(8,0g= 0.2モル)を添加し、次いで、
還元混合物が淡褐色になるまで硼水素化ナトリウム(8
,56g=0.225モル)を添加した。出発原料及び
始めの還元生成物の溶解を助成するため加熱を必要とし
た。還元が完了したら、混合物を約lO℃に冷却し、濃
塩酸(100n+1)を一度に添加した。粒状黒色沈澱
を口過によって除去した。口液を真空中で約250m1
に蒸発し、水で2倍の容量に希釈し、結晶化が完了する
まで攪拌した。29.5g(理論量の94.8%)の収
量が得られた。メタノールから2回再結晶させた後、塩
は180〜184℃(分解)で融解した。
1i2−メチル−5−メチルチオ−3H−ペンゾテルラ
ゾリウムクロリド、R’ =SCH,、R” =HS
X=CI C9H1oCIN STe 分子量=321.3
01.1.1−7−ジクロロ−3−メチル−6−メチル
チオ−2,1,4−ペンゾオキサテルラジニウム分子内
塩(例10)(20,7g=O,05モル)をメタノー
ル(200ml)中に入れ、水(10ml)に溶解した
水酸化ナトリウム(4g = 0.1モル)を添加した
。物質は完全には溶解しなかった。窒素雰囲気下に攪拌
しながら硼水素化ナトリウムを少しずつ添加した。出発
原料は、還元剤を添加する毎に、橙色、次に青色に鮮明
に変色した。物質は、撹拌しがたくなった。場合により
、むしろ不溶性の出発原料が最初の還元工程をうけるに
したがって、各添加の後に橙色が戻ったが、反応混合物
はより流動性になった。反応混合物を一夜窒素雰囲気下
に放1した。翌日、硼水素化ナトリウムを添加しながら
混合物をほぼ還流温度に加熱することによって還元を続
けた。少量を添加した後に反応混合物が無色に変わり、
更に攪拌しても橙色が戻らなくなる段階に達した後(硼
水素化ナトリ° ラム6.65 g−0,175モル
を添加した後)、混合物を約10℃に冷却し、濃塩酸(
50+++1=0.5モル)を一度に添加した。混合物
は橙色に、次に黄色に変わり、多量のベージュ色沈澱が
形成した。
ゾリウムクロリド、R’ =SCH,、R” =HS
X=CI C9H1oCIN STe 分子量=321.3
01.1.1−7−ジクロロ−3−メチル−6−メチル
チオ−2,1,4−ペンゾオキサテルラジニウム分子内
塩(例10)(20,7g=O,05モル)をメタノー
ル(200ml)中に入れ、水(10ml)に溶解した
水酸化ナトリウム(4g = 0.1モル)を添加した
。物質は完全には溶解しなかった。窒素雰囲気下に攪拌
しながら硼水素化ナトリウムを少しずつ添加した。出発
原料は、還元剤を添加する毎に、橙色、次に青色に鮮明
に変色した。物質は、撹拌しがたくなった。場合により
、むしろ不溶性の出発原料が最初の還元工程をうけるに
したがって、各添加の後に橙色が戻ったが、反応混合物
はより流動性になった。反応混合物を一夜窒素雰囲気下
に放1した。翌日、硼水素化ナトリウムを添加しながら
混合物をほぼ還流温度に加熱することによって還元を続
けた。少量を添加した後に反応混合物が無色に変わり、
更に攪拌しても橙色が戻らなくなる段階に達した後(硼
水素化ナトリ° ラム6.65 g−0,175モル
を添加した後)、混合物を約10℃に冷却し、濃塩酸(
50+++1=0.5モル)を一度に添加した。混合物
は橙色に、次に黄色に変わり、多量のベージュ色沈澱が
形成した。
これを45分攪拌し、口過によって集め、固体27.5
gを得た。セライト(商標)を使用して、メタノール(
300+wl)から再結晶して溶液を澄明にすると、融
点130〜145℃(分解)のクリーム色針状晶13.
5g(理論量の81.9%)が得られた。
gを得た。セライト(商標)を使用して、メタノール(
300+wl)から再結晶して溶液を澄明にすると、融
点130〜145℃(分解)のクリーム色針状晶13.
5g(理論量の81.9%)が得られた。
R” =HSX=CI
Ca)(scINOTe 分子量=297.2
31.1.1−トリクロロ−6−ヒドロキシ−3−メチ
ル−2,1,4−ペンゾオキサテルラジニウム分子内塩
(例11)(19,2g=0.05モル)を水(20m
l)中の水酸化ナトリウム(4g)を添加してメタノー
ル(200n+1)に溶解させた。
31.1.1−トリクロロ−6−ヒドロキシ−3−メチ
ル−2,1,4−ペンゾオキサテルラジニウム分子内塩
(例11)(19,2g=0.05モル)を水(20m
l)中の水酸化ナトリウム(4g)を添加してメタノー
ル(200n+1)に溶解させた。
窒素雰囲気下に硼水素化ナトリウム(4,3g=0.1
1モル)を用いて還元を実施した。硼水素化ナトリウム
を添加した後、溶液は澄明になった。
1モル)を用いて還元を実施した。硼水素化ナトリウム
を添加した後、溶液は澄明になった。
反応混合物を約10℃に冷却し、濃塩酸(65ml)を
一度に添加した。著量の黒色沈澱(11,7g)が形成
し、これを口過によって集めた。口演を50m1に蒸発
させ、冷却して第二の収穫@J(12,3g)を得た。
一度に添加した。著量の黒色沈澱(11,7g)が形成
し、これを口過によって集めた。口演を50m1に蒸発
させ、冷却して第二の収穫@J(12,3g)を得た。
生成物をイソプロパツールから再結晶して合計9.45
g(理論量の63.9%)の、融点125〜132℃(
分解)のクリーム色粉末を得た。
g(理論量の63.9%)の、融点125〜132℃(
分解)のクリーム色粉末を得た。
]」」ニー25
例18〜25は、ペンゾテルラゾールの製造法を説明す
るものである。
るものである。
R” CH3、R’ = R” = HCsH7NTe
分子量=244.742−フェニルアゾフェ
ニルテルルトリクロリド(製造A)(20,7g、0.
05モル)及びエタノール(200ml)の混合物を窒
素導入口、粉末添加ロート及び還流冷却器を装着したI
I!の三つロフラスコ中に入れた。磁気撹拌した混合物
に、窒素雰囲気下に硼水素化ナトリウム(7,5g、0
.2モル)を温度を高めるのに充分な速度で徐々に添加
した。反応混合物がほぼ無色になったら、粉末ロートを
、窒素の流れを遮断しないように注意しながらストッパ
ーで代える。次いで、フラスコを水浴中で5℃に冷却し
た。酢酸無水!(5,5g、0、054モル)を、攪拌
を続けながら、フラスコ内の温度が10℃を越えないよ
うな速度で添加した。
分子量=244.742−フェニルアゾフェ
ニルテルルトリクロリド(製造A)(20,7g、0.
05モル)及びエタノール(200ml)の混合物を窒
素導入口、粉末添加ロート及び還流冷却器を装着したI
I!の三つロフラスコ中に入れた。磁気撹拌した混合物
に、窒素雰囲気下に硼水素化ナトリウム(7,5g、0
.2モル)を温度を高めるのに充分な速度で徐々に添加
した。反応混合物がほぼ無色になったら、粉末ロートを
、窒素の流れを遮断しないように注意しながらストッパ
ーで代える。次いで、フラスコを水浴中で5℃に冷却し
た。酢酸無水!(5,5g、0、054モル)を、攪拌
を続けながら、フラスコ内の温度が10℃を越えないよ
うな速度で添加した。
混合物を水浴中で更に20分撹拌し、濃塩酸水溶液50
m1を急速に添加した。混合物を室温で約10分撹拌し
た。酸を添加する間に形成した黒色沈澱を口過によって
除去し、エタノールで洗浄し、捨て、黄色口演を残した
。
m1を急速に添加した。混合物を室温で約10分撹拌し
た。酸を添加する間に形成した黒色沈澱を口過によって
除去し、エタノールで洗浄し、捨て、黄色口演を残した
。
黄色口演を約45℃の浴温で減圧下に濃縮した。
容量が約75n+1になったら、液体を水で約200m
1に希釈した。暖かい溶液をセライト(商標)珪藻上上
で口過することによって澄明にし、次いで、水中で2時
間冷却した。ふわふわした結晶性の固体(10,5g)
を口過によって集めた。固体を水(200wf)中に懸
濁し、水酸化アンモニウム水溶液を沈澱が完結したよう
にみえるまで添加した。
1に希釈した。暖かい溶液をセライト(商標)珪藻上上
で口過することによって澄明にし、次いで、水中で2時
間冷却した。ふわふわした結晶性の固体(10,5g)
を口過によって集めた。固体を水(200wf)中に懸
濁し、水酸化アンモニウム水溶液を沈澱が完結したよう
にみえるまで添加した。
若干ゴム状の生成物を口過によって集め、空気中中で表
面的に乾燥し、カーボンブランク及びセライト(商標)
を使用したイソプロパツール約50m1から再結晶して
澄明な0液を得た。化合物は、融点93〜95℃の棒状
針状晶として結晶した。
面的に乾燥し、カーボンブランク及びセライト(商標)
を使用したイソプロパツール約50m1から再結晶して
澄明な0液を得た。化合物は、融点93〜95℃の棒状
針状晶として結晶した。
収量5.0g、理論量の41%
酸性口演からアンモニアで沈澱させ、その後、ジエチル
エーテルで抽出することにより更に0.8gを得た。
エーテルで抽出することにより更に0.8gを得た。
■上ユ 5,6−シメトキシー2−メチルベンゾテルラ
ゾール R= CH3、Rオ==IR2−OCR,
I C+oH++NOz↑e 分子量−304,80
5,6−シメトキシー2−メチルベンゾテルラゾリウム
クロリド(例12)(10g)を等量の重炭酸ナトリウ
ム及び少量の水と共に乳鉢中で、二酸化炭素の発生が止
むまで、粉砕した。生成物を口過によって集め、水で洗
浄し、真空中で乾燥して、融点78〜80℃の無色の粉
末的8.5gを得た。シクロヘキサンから緩徐に結晶化
して、融点80〜83℃の明瞭な柱状晶を得た。質量ス
ペクトル及び核磁気共鳴スペクトルは、構造式について
予測されたものと一致した。
ゾール R= CH3、Rオ==IR2−OCR,
I C+oH++NOz↑e 分子量−304,80
5,6−シメトキシー2−メチルベンゾテルラゾリウム
クロリド(例12)(10g)を等量の重炭酸ナトリウ
ム及び少量の水と共に乳鉢中で、二酸化炭素の発生が止
むまで、粉砕した。生成物を口過によって集め、水で洗
浄し、真空中で乾燥して、融点78〜80℃の無色の粉
末的8.5gを得た。シクロヘキサンから緩徐に結晶化
して、融点80〜83℃の明瞭な柱状晶を得た。質量ス
ペクトル及び核磁気共鳴スペクトルは、構造式について
予測されたものと一致した。
LLL 5−メトキシ−2−メチルベンゾテルラゾール
R”= CHx 、R’ = OCHz、R”
=)I C9H9NOT13 分子量−274,77
5−メトキシ−2−メチルベンゾテルラゾリウムクロリ
ド([13) (3,7g=O,σ工2モlレンを水
中に懸濁し、化学量論的に必要であるより過剰の重炭酸
ナトリウムを添加し、遊離塩基生成物をジエチルエーテ
ルで抽出した。飽和硫酸ナトリウム溶液で洗浄した後、
を機相を乾燥し、減圧下に蒸発させ、残留する油(3,
2g)をその核磁気共鳴スペクトルによって同定した。
R”= CHx 、R’ = OCHz、R”
=)I C9H9NOT13 分子量−274,77
5−メトキシ−2−メチルベンゾテルラゾリウムクロリ
ド([13) (3,7g=O,σ工2モlレンを水
中に懸濁し、化学量論的に必要であるより過剰の重炭酸
ナトリウムを添加し、遊離塩基生成物をジエチルエーテ
ルで抽出した。飽和硫酸ナトリウム溶液で洗浄した後、
を機相を乾燥し、減圧下に蒸発させ、残留する油(3,
2g)をその核磁気共鳴スペクトルによって同定した。
CSH,N。
0及びTeの元素分析は、構造式について予測されたも
のと一致した。
のと一致した。
f!LLL 2.5−ジメチルベンゾールラゾールR=
R’ =CHff 、R” −HC,H,NTe
分子量−258,692,5−ジメチルベ
ンゾテルラゾリウムクロリド(例14)(3,5g)を
化学量論的に必要であるより過剰の重炭酸ナトリウムを
含む水性懸濁液で処理した。遊離塩基生成物をジエチル
エーテルで抽出して車離し、蒸発乾固した。残渣を約5
0m1のイソプロパツールから再結晶させて、融点12
6〜128℃の無色の針状晶1.7gを得た。
R’ =CHff 、R” −HC,H,NTe
分子量−258,692,5−ジメチルベ
ンゾテルラゾリウムクロリド(例14)(3,5g)を
化学量論的に必要であるより過剰の重炭酸ナトリウムを
含む水性懸濁液で処理した。遊離塩基生成物をジエチル
エーテルで抽出して車離し、蒸発乾固した。残渣を約5
0m1のイソプロパツールから再結晶させて、融点12
6〜128℃の無色の針状晶1.7gを得た。
fLLL 2.5.6− )リメチルベンゾテルラゾ≦
R= R’ = R” = Ct(sCIo
HllN Te 分子量±272.812.
5.6−)リメチルベンゾテルラゾリウムクロリド(例
15)を水中で炭酸ナトリウム(15g)で処理し、ジ
クロロメタン(300ml)で抽出することによって遊
離塩基生成物に変えた。
R= R’ = R” = Ct(sCIo
HllN Te 分子量±272.812.
5.6−)リメチルベンゾテルラゾリウムクロリド(例
15)を水中で炭酸ナトリウム(15g)で処理し、ジ
クロロメタン(300ml)で抽出することによって遊
離塩基生成物に変えた。
抽出液を前記のように洗浄し、乾燥し、蒸発してクリー
ム色の結晶性残渣(10,45g)を得、これをイソプ
ロパツール(50ml)から再結晶させた。融点101
〜103℃の僅かに黄色の針状晶を得た。
ム色の結晶性残渣(10,45g)を得、これをイソプ
ロパツール(50ml)から再結晶させた。融点101
〜103℃の僅かに黄色の針状晶を得た。
贋1工 l二11艮=」二二厳シ肚LL≦乙A元土旦ブ
ニ及 R” CH3、R’ −S G Hz、R”
=H C,H7NSTe 分子!=290.842
−メチル−5−メチルチオベンゾテルラゾリウムクロリ
ド(例16)(11,5g=0.035モル)を水中に
懸濁し、化学量論的に必要であるより過剰の重炭酸ナト
リウムを添加した。遊離塩基生成物をジクロロメタンで
抽出した。有機溶液を飽和硫酸ナトリウム溶液で洗浄し
、乾燥し、真空中で蒸発した黄色油(9,06g)を得
た。イソプロパツール(40ml)を添加すると、油は
自然にほぼ白色の針状晶に結晶し、融点64〜67℃の
結晶8.18g(理論量の79.8%)を得た。
ニ及 R” CH3、R’ −S G Hz、R”
=H C,H7NSTe 分子!=290.842
−メチル−5−メチルチオベンゾテルラゾリウムクロリ
ド(例16)(11,5g=0.035モル)を水中に
懸濁し、化学量論的に必要であるより過剰の重炭酸ナト
リウムを添加した。遊離塩基生成物をジクロロメタンで
抽出した。有機溶液を飽和硫酸ナトリウム溶液で洗浄し
、乾燥し、真空中で蒸発した黄色油(9,06g)を得
た。イソプロパツール(40ml)を添加すると、油は
自然にほぼ白色の針状晶に結晶し、融点64〜67℃の
結晶8.18g(理論量の79.8%)を得た。
、LL4−5−ヒドロキシ−2−メチルベンゾテルラゾ
ール R=CH3、R’ =OH。
ール R=CH3、R’ =OH。
R” =H
C,H,N0Te 分子量=260.755
−ヒドロキシ−2−メチルベンゾテルラゾリウムクロリ
ド(例17)(7,45g)を温湯(300ml)に溶
解させ、水中の重炭酸ナトリウム(8g’)のスラリー
を徐々に添加した。遊離塩基生成物は、クリーム色無定
形固体として分離し、これを口過によって集め、水で洗
浄し、真空中でドリーライト(Drierite、商標
)硫酸カルシウム乾燥剤上で乾燥した。収量6.3g。
−ヒドロキシ−2−メチルベンゾテルラゾリウムクロリ
ド(例17)(7,45g)を温湯(300ml)に溶
解させ、水中の重炭酸ナトリウム(8g’)のスラリー
を徐々に添加した。遊離塩基生成物は、クリーム色無定
形固体として分離し、これを口過によって集め、水で洗
浄し、真空中でドリーライト(Drierite、商標
)硫酸カルシウム乾燥剤上で乾燥した。収量6.3g。
物質をイソプロパツール(50ml)から再結晶して融
点190〜192℃の結晶約4.0gを回収した。
点190〜192℃の結晶約4.0gを回収した。
1i2−エチルベンゾテルラゾール
R=CzHs 、R’ =R” =H
CqHqNTe 分子量=258.762−
フェニルアゾフェニルテルルトリクロリド(製造A)(
10,4g=0.025モル)を、窒素導入口、磁気攪
拌機、還流冷却器及び粉末添加ロートを装着したフラス
コ中でエタノール(100ml)中に懸濁した。窒素雰
囲気下に撹拌しながら室温で、硼水素化ナトリウム(3
,8g、0.10モル)を激しい発熱反応を維持するの
に充分な速度で徐々に添加した。室温での混合物の攪拌
を窒素雰囲気を維持しながら、添加が完了した後30分
続けた。なお、窒素雰囲気を維持しながら温度計を挿入
し、プロピオン酸無水物(3,9g、0.03モル)を
滴加した。反応温度は25℃から30℃に上昇した。添
加終了後、温度が25℃に戻るまで、撹拌を続けた。濃
塩酸(25ml)を反応混合物に滴加すると、黒色固体
が形成した。温度は約50℃に上昇した。温度が25℃
に戻るまで、攪拌を続けた。黒色固体を口過によって除
去し、エタノールで洗浄し、捨てた。0液を回転蒸発器
中で濃縮し、約等量の水で希釈し、セライト(商標)バ
ッドにより口過し、重炭酸ナトリウムでpF[約7に中
和した。ジエチルエーテルで抽出し、抽出液からエーテ
ルを除去すると、赤色油状の半固体が残留した。これを
ジクロロメタンに溶解させ、厚層シリカゲルクロマトグ
ラフィプレートに施すことによって精製した。紫外線吸
収性物質は、淡黄色油として分離した。これは薄層クロ
マトグラフィによって純粋であると測定された。赤外線
及び核磁気共鳴吸収スペクトルは、構造式について予測
されたものと一致した。
フェニルアゾフェニルテルルトリクロリド(製造A)(
10,4g=0.025モル)を、窒素導入口、磁気攪
拌機、還流冷却器及び粉末添加ロートを装着したフラス
コ中でエタノール(100ml)中に懸濁した。窒素雰
囲気下に撹拌しながら室温で、硼水素化ナトリウム(3
,8g、0.10モル)を激しい発熱反応を維持するの
に充分な速度で徐々に添加した。室温での混合物の攪拌
を窒素雰囲気を維持しながら、添加が完了した後30分
続けた。なお、窒素雰囲気を維持しながら温度計を挿入
し、プロピオン酸無水物(3,9g、0.03モル)を
滴加した。反応温度は25℃から30℃に上昇した。添
加終了後、温度が25℃に戻るまで、撹拌を続けた。濃
塩酸(25ml)を反応混合物に滴加すると、黒色固体
が形成した。温度は約50℃に上昇した。温度が25℃
に戻るまで、攪拌を続けた。黒色固体を口過によって除
去し、エタノールで洗浄し、捨てた。0液を回転蒸発器
中で濃縮し、約等量の水で希釈し、セライト(商標)バ
ッドにより口過し、重炭酸ナトリウムでpF[約7に中
和した。ジエチルエーテルで抽出し、抽出液からエーテ
ルを除去すると、赤色油状の半固体が残留した。これを
ジクロロメタンに溶解させ、厚層シリカゲルクロマトグ
ラフィプレートに施すことによって精製した。紫外線吸
収性物質は、淡黄色油として分離した。これは薄層クロ
マトグラフィによって純粋であると測定された。赤外線
及び核磁気共鳴吸収スペクトルは、構造式について予測
されたものと一致した。
例26〜28
例26〜28は、ナフトテルラゾールの製造法を説明す
るものである。
るものである。
ゾール R” =R’ =H
C+zHwNTe 分子量=294.80機
械的攪拌機、凝縮器、粉末添加ロート及び窒素導入口を
装着した21の三つロフラスコ中で3−クロロナフト(
2,1−c)(1,2,5)オキサテルラゾール(例2
)(48,0g、0.15モル)をメタノール(150
m1)及びテトラヒドロフラン(700m1)の混合物
中に懸濁した。反応混合物が淡褐色になるまで、硼水素
化ナトリウム(14,2g=0.375モル)を徐々に
添加することによって出発化合物を還元した。粉末添加
ロートを取り外し、ストッパーで代える。還元された物
質の外観がもはや変化しなくなるまで、凝縮器より硼水
素化ナトリウムの最終的添加を行った。
械的攪拌機、凝縮器、粉末添加ロート及び窒素導入口を
装着した21の三つロフラスコ中で3−クロロナフト(
2,1−c)(1,2,5)オキサテルラゾール(例2
)(48,0g、0.15モル)をメタノール(150
m1)及びテトラヒドロフラン(700m1)の混合物
中に懸濁した。反応混合物が淡褐色になるまで、硼水素
化ナトリウム(14,2g=0.375モル)を徐々に
添加することによって出発化合物を還元した。粉末添加
ロートを取り外し、ストッパーで代える。還元された物
質の外観がもはや変化しなくなるまで、凝縮器より硼水
素化ナトリウムの最終的添加を行った。
混合物を窒素雰囲気下に水中で冷却し、酢酸無水物(1
5,3g=0.15モル)を滴加した。アセチル化を約
30分道行させた。濃塩酸C75m1=0.75モル)
を一度に添加した。黒色沈澱を含む混合物を、室温に達
するまで30分撹拌した後、沈澱を真空口過によって集
め、テトラヒドロフランで洗浄し、風乾した。
5,3g=0.15モル)を滴加した。アセチル化を約
30分道行させた。濃塩酸C75m1=0.75モル)
を一度に添加した。黒色沈澱を含む混合物を、室温に達
するまで30分撹拌した後、沈澱を真空口過によって集
め、テトラヒドロフランで洗浄し、風乾した。
次いで、固体をイソプロパツール350 中に懸濁し、
濃水酸化アンモニウム25 を添加し、混合物を加熱沸
騰し、急速に吸引口過した。冷却すると、0液から針状
晶(18,65g、理論量の42%)が沈澱した。分析
のため、生成物をイソプロパツールから一度再結晶させ
ると、101〜103℃の融点を示した。元素分析は、
構造式にlLL 7−メドキシー2−メチルナフト(1
゜R3= OCH3、R” = H Cl3HxNOTe 分子量−324,833
−クロロ−7−メチルナフト(2,1−C)(1,2,
5)オキサテルラゾール(N5ン(17,45g=0.
05モル)を還元し、アセチル化し、例26と同じ方法
及び試薬量を使用して塩酸で処理した。例26に記載し
た操作により、銀色のふわふわした針状晶(融点120
〜123℃)が4.93g(理論量の30.2%)得ら
れた。元素分析は、構造式について予測されたものと一
致した。
濃水酸化アンモニウム25 を添加し、混合物を加熱沸
騰し、急速に吸引口過した。冷却すると、0液から針状
晶(18,65g、理論量の42%)が沈澱した。分析
のため、生成物をイソプロパツールから一度再結晶させ
ると、101〜103℃の融点を示した。元素分析は、
構造式にlLL 7−メドキシー2−メチルナフト(1
゜R3= OCH3、R” = H Cl3HxNOTe 分子量−324,833
−クロロ−7−メチルナフト(2,1−C)(1,2,
5)オキサテルラゾール(N5ン(17,45g=0.
05モル)を還元し、アセチル化し、例26と同じ方法
及び試薬量を使用して塩酸で処理した。例26に記載し
た操作により、銀色のふわふわした針状晶(融点120
〜123℃)が4.93g(理論量の30.2%)得ら
れた。元素分析は、構造式について予測されたものと一
致した。
fLLL 2,5−ジメチルナフト(1,2−d)−テ
ルラゾー/I’ R’ =H,R” =CH3C
+ s HIt NTe 分子量= 308.
83窒素導入口、凝縮器及び粉末添加ロートを装着した
500 の三つロフラスコ中で3−クロロ−5−メチル
ナフト(2,1−cl (1,2,5)オキサテルラ
ソ゛−ル(例4)(16,7g”0.05モル)をテト
ラヒドロフラン(THF、 200m1)及びメタノー
ル(40ml)の混合物中に懸濁した。
ルラゾー/I’ R’ =H,R” =CH3C
+ s HIt NTe 分子量= 308.
83窒素導入口、凝縮器及び粉末添加ロートを装着した
500 の三つロフラスコ中で3−クロロ−5−メチル
ナフト(2,1−cl (1,2,5)オキサテルラ
ソ゛−ル(例4)(16,7g”0.05モル)をテト
ラヒドロフラン(THF、 200m1)及びメタノー
ル(40ml)の混合物中に懸濁した。
硼水素化ナトリウムを、反応混合物が淡橙黄色になるま
で、窒素雰囲気下に少量ずつ添加した。これには、約5
〜6gが必要であった。粉末添加ロートを取り除き、ス
トッパーで代えた。次に反応混合物を5℃に冷却し、凝
縮器より酢酸無水物(5,1g=0.05モル)を徐々
に添加した。反応混合物は、一時的に明るい橙色になっ
た。次いで、濃塩酸(25ml)を一度に添加し、水浴
を除去し、混合物を室温で撹拌した。反応混合物が昇温
するに従って、結晶の沈積が見え、口過によって集めた
。結晶性沈積物を、口演が無色澄明になるまでテトラヒ
ドロフランで洗浄した。口演をイソプロパツール(17
5n+1)及び濃水酸化アンモニウム(25+ml)の
混合物と共に加熱沸騰し、セライト(商標)を用いて熱
時口遇し、冷却した口演を結晶が始まるまで水で希釈し
た。融点110〜112℃の淡黄色針状晶(5,06g
)が得られた。同じ溶剤混合物で更に2回抽出すること
によって更に1.65gの生成物が得られ、合計収量は
6.71g(理論量の43.3%)となった。分析のた
め、物質をイソプロパツールから再結晶した。これによ
り融点は変化しなかった。元素分析は、構造式について
予測されたものと一致した。
で、窒素雰囲気下に少量ずつ添加した。これには、約5
〜6gが必要であった。粉末添加ロートを取り除き、ス
トッパーで代えた。次に反応混合物を5℃に冷却し、凝
縮器より酢酸無水物(5,1g=0.05モル)を徐々
に添加した。反応混合物は、一時的に明るい橙色になっ
た。次いで、濃塩酸(25ml)を一度に添加し、水浴
を除去し、混合物を室温で撹拌した。反応混合物が昇温
するに従って、結晶の沈積が見え、口過によって集めた
。結晶性沈積物を、口演が無色澄明になるまでテトラヒ
ドロフランで洗浄した。口演をイソプロパツール(17
5n+1)及び濃水酸化アンモニウム(25+ml)の
混合物と共に加熱沸騰し、セライト(商標)を用いて熱
時口遇し、冷却した口演を結晶が始まるまで水で希釈し
た。融点110〜112℃の淡黄色針状晶(5,06g
)が得られた。同じ溶剤混合物で更に2回抽出すること
によって更に1.65gの生成物が得られ、合計収量は
6.71g(理論量の43.3%)となった。分析のた
め、物質をイソプロパツールから再結晶した。これによ
り融点は変化しなかった。元素分析は、構造式について
予測されたものと一致した。
1u2−メチル−3H−ペンゾテルラゾリウムヨージド
C,T(、lNTe 分子量=372.6
7水浴中で冷却したアセトン(25ml)中の2−メチ
ルベンゾテルラゾール(例1B)(0,81g。
7水浴中で冷却したアセトン(25ml)中の2−メチ
ルベンゾテルラゾール(例1B)(0,81g。
0.0033モル)の溶液に撹拌しながら55モル%沃
化水素酸(1ml)を添加した。生成物は溶液から沈澱
し始めた。添加が完了した後、混合物を氷浴温で約10
分間攪拌した。固体を口過によって単離し、ジエチルエ
ーテルで洗浄し、真空下に室温で乾燥した。融点209
〜211”Cの黄色粉末の収量1.13g(92%)。
化水素酸(1ml)を添加した。生成物は溶液から沈澱
し始めた。添加が完了した後、混合物を氷浴温で約10
分間攪拌した。固体を口過によって単離し、ジエチルエ
ーテルで洗浄し、真空下に室温で乾燥した。融点209
〜211”Cの黄色粉末の収量1.13g(92%)。
試料のC,H及びNの元素分析並びに赤外線、核磁気共
鳴及び質量スペクトルは、構造式について予測されたも
のと一致した。
鳴及び質量スペクトルは、構造式について予測されたも
のと一致した。
列」」シヱ玉」−
例30〜59ば、N−アルキル化ペンゾテルラゾリウム
塩の製造法を説明するものである。
塩の製造法を説明するものである。
R’ =R” = H、X = CF x S OzC
+oH+oF:+N0zSTe 分子量=408.
852−メチルベンゾテルラゾール(例18)(10,
5g、0.043モル)を無水ジクロロメタン(75m
l)中に溶解させた。この溶液に新しく蒸溜したトリフ
ルオロメタンスルホン酸メチル(7,5g、0.045
モル)を添加した。発熱反応が直ちに起こった。数分後
、分離した結晶性生成物を口過によって集め、ジエチル
エーテルで洗浄し、乾燥した。収量16.86g(96
%)。淡黄色粉末をアセトン(10(1wl)中に溶解
させ、混濁するまで溶液にジエチルエーテルを添加して
再沈澱させた。冷却すると、無色板状晶が分離した。
+oH+oF:+N0zSTe 分子量=408.
852−メチルベンゾテルラゾール(例18)(10,
5g、0.043モル)を無水ジクロロメタン(75m
l)中に溶解させた。この溶液に新しく蒸溜したトリフ
ルオロメタンスルホン酸メチル(7,5g、0.045
モル)を添加した。発熱反応が直ちに起こった。数分後
、分離した結晶性生成物を口過によって集め、ジエチル
エーテルで洗浄し、乾燥した。収量16.86g(96
%)。淡黄色粉末をアセトン(10(1wl)中に溶解
させ、混濁するまで溶液にジエチルエーテルを添加して
再沈澱させた。冷却すると、無色板状晶が分離した。
収量15.33g(理論量の87%)、融点160〜1
62℃。
62℃。
生二土、 Q=CH3、R’ =R” =OCT(3、
X = CF z S O、l C+ z H+ a F 3 N Os S Te
分子it = 46F3.905.6−シメトキシー
2−メチルベンゾテルラゾール(例19)(4,8g、
0.013モル)をジクロロメタン(75ml)中に溶
解させ、トリフルオロメタンスルホン酸メチルC2,4
8g=1.66m1=o、013モル)を添加した。溶
液は曇り、数分以内に結晶が沈積し始めた。ジエチルエ
ーテルの添加により沈澱を完了させた。生成物を口過に
よって集め、融点210〜234℃の物質5.5g(理
論量の86.5%)を得た。生成物を沸騰アセトン(約
130m1必要とした)から再結晶させた。
X = CF z S O、l C+ z H+ a F 3 N Os S Te
分子it = 46F3.905.6−シメトキシー
2−メチルベンゾテルラゾール(例19)(4,8g、
0.013モル)をジクロロメタン(75ml)中に溶
解させ、トリフルオロメタンスルホン酸メチルC2,4
8g=1.66m1=o、013モル)を添加した。溶
液は曇り、数分以内に結晶が沈積し始めた。ジエチルエ
ーテルの添加により沈澱を完了させた。生成物を口過に
よって集め、融点210〜234℃の物質5.5g(理
論量の86.5%)を得た。生成物を沸騰アセトン(約
130m1必要とした)から再結晶させた。
融点242〜243℃。
下記の例32〜36で製造した第四級アンモニウム塩は
、すべて、化学量論的量のそれぞれの塩基及びトリフル
オロメタンスルホン酸メチルをジクロロメタン中で混合
し、ジエチルエーテルで沈澱させ、アセトンから再結晶
させる(若干の場合にはジエチルエーテルを添加した)
ことによって高収率で製造された。C,H,F、N及び
Teの元素分析及び核磁気共鳴スペクトルは、各第四級
塩の構造に関して予測されたちの一致した。
、すべて、化学量論的量のそれぞれの塩基及びトリフル
オロメタンスルホン酸メチルをジクロロメタン中で混合
し、ジエチルエーテルで沈澱させ、アセトンから再結晶
させる(若干の場合にはジエチルエーテルを添加した)
ことによって高収率で製造された。C,H,F、N及び
Teの元素分析及び核磁気共鳴スペクトルは、各第四級
塩の構造に関して予測されたちの一致した。
Q=CHコ、R’ =OCH3、R” =H。
X = CF s S Oi+
CIIH,tFsNOaSTe 分子量= 438
.87融点197〜198℃ !l!LLL 2,3.5−)リメチルベンゾテルラゾ
QミR’ =C)I3、R” −H。
.87融点197〜198℃ !l!LLL 2,3.5−)リメチルベンゾテルラゾ
QミR’ =C)I3、R” −H。
X =CF 3 S O3
CzH+zFsNOaSTe 分子量= 422.
77融点215〜217℃ Q = R’ = Rt= CHs 、X = CF
3 S O3C(z HIa F 3 N O3S T
o 分子量=436.9i融点230〜233℃ 上 Q=CH,、R’ =SCH3、R” =H。
77融点215〜217℃ Q = R’ = Rt= CHs 、X = CF
3 S O3C(z HIa F 3 N O3S T
o 分子量=436.9i融点230〜233℃ 上 Q=CH,、R’ =SCH3、R” =H。
X =CF s S O3
CzH+zFsNO:+5zTe 分子量=454.
94融点195〜195℃ 185−ヒドロキシ−2,3−ジメチルベンゾテルラゾ
リウムトリフルオロメタンスルホネーQ”” CH3、
R’ = OH,R” = H。
94融点195〜195℃ 185−ヒドロキシ−2,3−ジメチルベンゾテルラゾ
リウムトリフルオロメタンスルホネーQ”” CH3、
R’ = OH,R” = H。
X ” CF3S O*
C+oH+oF:+N04STe 分子量=424
.85融点171〜175℃ スルホネート Q”CzHs 、R’ =R” =OCHz、X=CF
、SO。
.85融点171〜175℃ スルホネート Q”CzHs 、R’ =R” =OCHz、X=CF
、SO。
C+sH+aF3NO5STe 分子量=482.
935.6−シメトキシー2−メチルベンゾテルラゾー
ル(例19) (15,7g、 0.005モル)を
クロロホルム(150m1)に溶解させた。化学量論的
量のトリフルオロメタンスルホン酸エチルを添加し、溶
液を乾燥管で保護された凝縮器の下で2時間還流した。
935.6−シメトキシー2−メチルベンゾテルラゾー
ル(例19) (15,7g、 0.005モル)を
クロロホルム(150m1)に溶解させた。化学量論的
量のトリフルオロメタンスルホン酸エチルを添加し、溶
液を乾燥管で保護された凝縮器の下で2時間還流した。
冷却した後、溶液を急速に撹拌しながら冷ジエチルエー
テル(700II11)中に徐々に注いだ。結晶した生
成物を口過によって集めた。収量19.3g(理論量の
77.3%)。
テル(700II11)中に徐々に注いだ。結晶した生
成物を口過によって集めた。収量19.3g(理論量の
77.3%)。
下記の3つの実施例の第四級塩は、記載したように、適
切なペンゾテルラゾールを使用する以外は、例37と同
じ一般的方法で得られた。
切なペンゾテルラゾールを使用する以外は、例37と同
じ一般的方法で得られた。
ネート、 Q = Cz Hs 、R’ =
OCH3、R” =H,X=cF−ssOs C+tt(+4F、N04STe 分子量=452
.90アルキル化をジエチルエーテル中で室温で実施し
た。数回で得られる結晶性生成物を3日かけて集めた。
OCH3、R” =H,X=cF−ssOs C+tt(+4F、N04STe 分子量=452
.90アルキル化をジエチルエーテル中で室温で実施し
た。数回で得られる結晶性生成物を3日かけて集めた。
合計収量15.0g(理論量の73%)。
ユニ、 Q−CzHs 、R’ =R” =CH51
XシCFxS O。
XシCFxS O。
C+ s ?(l & F 3N Os S Te
分子量=450.93生成物は、クロロホルムから直
接沈澱した。収量16.6g(理論量の91%)。
分子量=450.93生成物は、クロロホルムから直
接沈澱した。収量16.6g(理論量の91%)。
ホネート、 Q=CzHs 、R’ =SC)(3、
R” ” HSX = CF s S O:+ eC
+z)1+5FzNO3S2Te 分子量=468
.96沈澱を助成するためジエチルエーテルを添加した
クロロホルムから生成物を分離した。ゴム状残渣をエタ
ノールから再結晶させた。
R” ” HSX = CF s S O:+ eC
+z)1+5FzNO3S2Te 分子量=468
.96沈澱を助成するためジエチルエーテルを添加した
クロロホルムから生成物を分離した。ゴム状残渣をエタ
ノールから再結晶させた。
劃41−444
例41〜44では、四塩化炭素の乾燥溶液中で2−プロ
ペン−1−イルトリフルオロメタンスルホネートを使用
する。これは四塩化炭素中にトリフルオロメタンスルホ
ン酸無水物を溶解させ(無水物1g当たり溶剤約! 0
m1) 、溶液を約0℃に冷却することによって製造し
た。窒素雰囲気下に四塩化炭素中の等モル量の2−プロ
ペン−1−オール(アリルアルコール)及びピリジンの
溶液を冷却した無水物溶液に滴加したく無水物」g当た
り溶剤約5m1)。添加が完了した後、窒素雰囲気及び
水浴温を保持しながら約30分撹拌を続けた。
ペン−1−イルトリフルオロメタンスルホネートを使用
する。これは四塩化炭素中にトリフルオロメタンスルホ
ン酸無水物を溶解させ(無水物1g当たり溶剤約! 0
m1) 、溶液を約0℃に冷却することによって製造し
た。窒素雰囲気下に四塩化炭素中の等モル量の2−プロ
ペン−1−オール(アリルアルコール)及びピリジンの
溶液を冷却した無水物溶液に滴加したく無水物」g当た
り溶剤約5m1)。添加が完了した後、窒素雰囲気及び
水浴温を保持しながら約30分撹拌を続けた。
次いで、硫酸ナトリウムのパッドを通して反応混合物を
口過し、乾燥した溶液をその後の実施例に使用した。
口過し、乾燥した溶液をその後の実施例に使用した。
億1」−
ネート、 Q±CHz−CH= CHz 、R’
” R” = H,X= CFsS OsC+tH
ttFiNOsST6 分子量−434,90四塩
化炭素中の2−プロペン−1−イルトリフルオロメタン
スルホネート(0,008モル)の乾燥溶液を滴下ロー
トに入れ、ジクロロメタン(25n+1)中の2−メチ
ルベンゾテルラゾール(例18)(1,62g、0.0
066モル)の溶液に窒素雰囲気下に室温で添加した。
” R” = H,X= CFsS OsC+tH
ttFiNOsST6 分子量−434,90四塩
化炭素中の2−プロペン−1−イルトリフルオロメタン
スルホネート(0,008モル)の乾燥溶液を滴下ロー
トに入れ、ジクロロメタン(25n+1)中の2−メチ
ルベンゾテルラゾール(例18)(1,62g、0.0
066モル)の溶液に窒素雰囲気下に室温で添加した。
添加が完了した後、攪拌を18時間続けた。固体を口過
によって単離し、ジエチルエーテルで洗浄し、真空下に
室温で乾燥した。融点90〜93℃の@J譬の収量0.
43g(15%)。赤外線、核磁気共鳴及び質量スペク
トルは、構造式について予測されたものと一致した。
によって単離し、ジエチルエーテルで洗浄し、真空下に
室温で乾燥した。融点90〜93℃の@J譬の収量0.
43g(15%)。赤外線、核磁気共鳴及び質量スペク
トルは、構造式について予測されたものと一致した。
8.2−メチル−3−(2−プロペン−1−イル)丘>
1孟土旦ズユ皇互旦二図上 Q”” C)(z−CH= CR2、 R1冨R” =H,X= I C++H+zl NTe 分子量=412.
73前記の0液から真空下に溶剤を除去し、暗い橙色の
半固体をアセトン(約30m1)に再溶解させた。溶液
を攪拌し、冷却し、アセトン(5ml)中の沃化ナトリ
ウムの飽和溶液で処理した。固体を口過によって単離し
、アセトン、ジエチルエーテルで洗浄し、乾燥した。収
量0.52g(理論量の21%)、融点205〜207
℃。元素分析及び核磁気共鳴スペクトルは、構造式につ
いて予測されたものと一致した。
1孟土旦ズユ皇互旦二図上 Q”” C)(z−CH= CR2、 R1冨R” =H,X= I C++H+zl NTe 分子量=412.
73前記の0液から真空下に溶剤を除去し、暗い橙色の
半固体をアセトン(約30m1)に再溶解させた。溶液
を攪拌し、冷却し、アセトン(5ml)中の沃化ナトリ
ウムの飽和溶液で処理した。固体を口過によって単離し
、アセトン、ジエチルエーテルで洗浄し、乾燥した。収
量0.52g(理論量の21%)、融点205〜207
℃。元素分析及び核磁気共鳴スペクトルは、構造式につ
いて予測されたものと一致した。
Q = CHt C’H= C)(t、R’ = R
” = OCHs 、X = CF 3 S O。
” = OCHs 、X = CF 3 S O。
C+aH+l、F*N0sSTe 分子量=494
.95四塩化炭素中の2−プロペン−1−イルトリフル
オロメタンスルホネート(0,002モル)の乾燥溶液
をジクロロメタン(25m1) 中の5.6−シメトキ
シー2−メチルベンゾテルラゾール(例19)(0,5
0g、0.0016モル)の溶液に窒素雰囲気下に室温
で満願した。添加が完了した後、攪拌を7時間続けた。
.95四塩化炭素中の2−プロペン−1−イルトリフル
オロメタンスルホネート(0,002モル)の乾燥溶液
をジクロロメタン(25m1) 中の5.6−シメトキ
シー2−メチルベンゾテルラゾール(例19)(0,5
0g、0.0016モル)の溶液に窒素雰囲気下に室温
で満願した。添加が完了した後、攪拌を7時間続けた。
固体を口過によって単離し、ジエチルエーテルで洗浄し
、真空下に室温で乾燥した。収量0.38 g。化合物
の質量スペクトルは、構造式について予測されたものと
一致した。
、真空下に室温で乾燥した。収量0.38 g。化合物
の質量スペクトルは、構造式について予測されたものと
一致した。
Q=CHz CH=CHz 1
R’ =OCH3、R” =H,X=CFsSOsC+
xH+aFsNO4STe 分子量=464.92
2−プロペン−1−イルトリフルオロメタンスルホネー
ト<0.004モル)の溶液にジクロロメタン(25!
l11)に溶かした5−メトキシ−2−メチルベンゾテ
ルラゾール(例20)(0,91g。
xH+aFsNO4STe 分子量=464.92
2−プロペン−1−イルトリフルオロメタンスルホネー
ト<0.004モル)の溶液にジクロロメタン(25!
l11)に溶かした5−メトキシ−2−メチルベンゾテ
ルラゾール(例20)(0,91g。
0、033モル)を滴下ロートから窒素雰囲気下に室温
で満願した。添加が完了した後、窒素雰囲気を保持しな
がら混合物を更に21時間攪拌した。
で満願した。添加が完了した後、窒素雰囲気を保持しな
がら混合物を更に21時間攪拌した。
固体を口過によって単離し、ジエチルエーテルで洗浄し
、真空下に室温で乾燥した。収量0.90 gQ ”
CHt −CH= CHz、 R’ ” R” = CH3、X = CF 3 S
O3C1aHrbF3NO3STe 分子量=46
2.942−プロペン−1−イルトリフルオロメタンス
ルホネート(0,004モル)の溶液をジクロロメタン
(30ml)中の2.5.6−)リメチルベンゾテルラ
ゾール(例22) (9,90g、 0.0033モ
ル)の溶液に良く攪拌しながら迅速に窒素雰囲気下に室
温で満願した。添加が完了した後、la分に固体が分離
し始めた。窒素雰囲気下に攪拌を約18時間続けた。固
体を口過によって車離し、ジエチルエーテルで洗浄し、
真空下に室温で乾燥した。収it1.og、融点162
〜1154℃。質量スペクトルは示した構造式と一致し
た。
、真空下に室温で乾燥した。収量0.90 gQ ”
CHt −CH= CHz、 R’ ” R” = CH3、X = CF 3 S
O3C1aHrbF3NO3STe 分子量=46
2.942−プロペン−1−イルトリフルオロメタンス
ルホネート(0,004モル)の溶液をジクロロメタン
(30ml)中の2.5.6−)リメチルベンゾテルラ
ゾール(例22) (9,90g、 0.0033モ
ル)の溶液に良く攪拌しながら迅速に窒素雰囲気下に室
温で満願した。添加が完了した後、la分に固体が分離
し始めた。窒素雰囲気下に攪拌を約18時間続けた。固
体を口過によって車離し、ジエチルエーテルで洗浄し、
真空下に室温で乾燥した。収it1.og、融点162
〜1154℃。質量スペクトルは示した構造式と一致し
た。
1iヱ1」−
2−プロペン−ニーイルトリフルオロメタンスルホネー
トを例41〜44で製造し、使用したのと同じ方法で、
2−プロピン−ニーオール(プロパルギルアルコール)
及びトリフルオロメタンスルホン酸無水物を用いて出発
して、2−プロピン−1−イルトリフルオロメタンスル
ホネートを四塩化炭素溶液中で製造し、例〕5〜48に
乾燥溶液として使用した。
トを例41〜44で製造し、使用したのと同じ方法で、
2−プロピン−ニーオール(プロパルギルアルコール)
及びトリフルオロメタンスルホン酸無水物を用いて出発
して、2−プロピン−1−イルトリフルオロメタンスル
ホネートを四塩化炭素溶液中で製造し、例〕5〜48に
乾燥溶液として使用した。
スルホネート、 Q=CH2C=CH。
R’ ” R” = HSX =CF 、IS OIC
+tH+oF3NOsSTe 分子量=432.8
72−メチルベンゾテルラゾール(例18)(0,81
g、 0.0033モル)をジクロロメタン(30+*
I)に溶かした。四塩化炭素(25ml)中の前記のよ
うに製造した2−プロピン−1−イルトリフルオロメタ
ンスルホネート(0,004モル)の溶液を滴下ロート
に入れ、窒素雰囲気下に室温でベンゾテルラゾール溶液
に添加した。添加が完了した後、混合物を約20時間撹
拌し、形成した白色固体を口過によって単離し、ジクロ
ロメタンで洗浄し、真空下に室温で乾燥した。収10.
60g(理論量の42%)、融点150〜152℃。
+tH+oF3NOsSTe 分子量=432.8
72−メチルベンゾテルラゾール(例18)(0,81
g、 0.0033モル)をジクロロメタン(30+*
I)に溶かした。四塩化炭素(25ml)中の前記のよ
うに製造した2−プロピン−1−イルトリフルオロメタ
ンスルホネート(0,004モル)の溶液を滴下ロート
に入れ、窒素雰囲気下に室温でベンゾテルラゾール溶液
に添加した。添加が完了した後、混合物を約20時間撹
拌し、形成した白色固体を口過によって単離し、ジクロ
ロメタンで洗浄し、真空下に室温で乾燥した。収10.
60g(理論量の42%)、融点150〜152℃。
赤外線、核磁気共鳴及びfitスペクトルは、構造式と
一致した。
一致した。
Q工CHi CミCH。
R’ = R” = OCH3、X = CF :l
S O3C、H+ a F 3No、STe 分子
量= 492.925.6−シメトキシー2−メチルベ
ンゾテルラゾール(例19) (1,0g、 0.0
33モル)をジクロロメタン(25ml)に溶かした。
S O3C、H+ a F 3No、STe 分子
量= 492.925.6−シメトキシー2−メチルベ
ンゾテルラゾール(例19) (1,0g、 0.0
33モル)をジクロロメタン(25ml)に溶かした。
前記のようにして製造した2−プロピン−1−イルトリ
フルオロメタンスルホネートの溶液を滴下ロートから窒
素雰囲気下に添加した。添加が完了した後、混合物を室
温で16時間攪拌した。固体を口過にょって単離し、ジ
エチルエーテルで洗浄し、真空下に室温で乾燥した。収
t1.14g(理論量の70%ン。赤外線、核磁気共鳴
及び質量スペクトルは、構造式について予測されたもの
と一致した。
フルオロメタンスルホネートの溶液を滴下ロートから窒
素雰囲気下に添加した。添加が完了した後、混合物を室
温で16時間攪拌した。固体を口過にょって単離し、ジ
エチルエーテルで洗浄し、真空下に室温で乾燥した。収
t1.14g(理論量の70%ン。赤外線、核磁気共鳴
及び質量スペクトルは、構造式について予測されたもの
と一致した。
Q = CHz C= CH、R’ = OCH3、R
”−H,X=CFffSO3 CI 3 H+ z F 3 N Oa S Te
分子量=462.89この化合物は、5.6−シメト
キシー2−メチルベンゾテルラゾールの代わりに5−メ
トキシ−2−メチルベンゾテルラゾールを使用する以外
は、例46の化合物と同じ方法及び同じ量で製造した。
”−H,X=CFffSO3 CI 3 H+ z F 3 N Oa S Te
分子量=462.89この化合物は、5.6−シメト
キシー2−メチルベンゾテルラゾールの代わりに5−メ
トキシ−2−メチルベンゾテルラゾールを使用する以外
は、例46の化合物と同じ方法及び同じ量で製造した。
融点172〜174℃(分解)の淡黄褐色粉末の収ii
1.23g(理論量の80%)。赤外線、核磁気共鳴及
び質量スペクトルは、構造式について予測されたものと
一致した。
1.23g(理論量の80%)。赤外線、核磁気共鳴及
び質量スペクトルは、構造式について予測されたものと
一致した。
■±82.5.6−ト1メチルー3−(2−プロピン−
1−イル)ペンゾテルラソ゛リウムトリフルオロメタン
スルホネート、 Q ” CHz C= CH、R’ = R” = C
H3、X = CF3S O。
1−イル)ペンゾテルラソ゛リウムトリフルオロメタン
スルホネート、 Q ” CHz C= CH、R’ = R” = C
H3、X = CF3S O。
Cr 4HI4 F x N O3S Tf3 分
子量=460.93この化合物は、5,6−シメトキシ
ー2−メチルベンゾテルラゾールの代わりに2. 5.
6−1−リメチルベンゾテルラゾール(例22)を使
用する以外は、例4Gの化合物と同じ方法及び同じモル
量で製造した。融点189〜192℃(分解)のクリー
ム色粉末の収fi1.IOg(理論量の72%)。赤外
線、核磁気共鳴及び質量スペクトルは、構造式について
予測されたものと一致した。
子量=460.93この化合物は、5,6−シメトキシ
ー2−メチルベンゾテルラゾールの代わりに2. 5.
6−1−リメチルベンゾテルラゾール(例22)を使
用する以外は、例4Gの化合物と同じ方法及び同じモル
量で製造した。融点189〜192℃(分解)のクリー
ム色粉末の収fi1.IOg(理論量の72%)。赤外
線、核磁気共鳴及び質量スペクトルは、構造式について
予測されたものと一致した。
斑土l二52
ヒドロキシ酢酸エチルエステル(エチルグリコレート)
を用いて出発し、例41〜44において2−プロペン−
1−イルトリフルオロメタンスルホネートを製造し、使
用したのと同様の方法で四塩化炭素溶液中でエトキシカ
ルボニルメチルトリフルオロメタンスルホネートを製造
し、例49〜52に乾燥溶液として使用した。
を用いて出発し、例41〜44において2−プロペン−
1−イルトリフルオロメタンスルホネートを製造し、使
用したのと同様の方法で四塩化炭素溶液中でエトキシカ
ルボニルメチルトリフルオロメタンスルホネートを製造
し、例49〜52に乾燥溶液として使用した。
fiu3−エトキシカルボニルメチル−2−メQ =
C”Hz COCz Hs、R’ =R” =H,X
=CFffSO3C1ffHr a F 3 N Os
S Te 分子量=480.912−メチルベ
ンゾテルラゾール(例18)<0.81 g、 0.0
033モル)をジクロロメタン(30ml)に溶かした
。前記のようにして製造した四塩化炭素中のエトキシカ
ルボニルメチルトリフルオロメタンスルホネート(0,
004モル)の溶液を滴下ロートに入れ、窒素雰囲気下
に室温でペンゾテルラゾール?8液に添加した。添加が
完了した後、混合物を窒素雰囲気を22時間維持しなが
ら室温で攪拌した。固体を口過によって集め、真空下に
室温で乾燥した。収量は、融点156〜158℃の白色
粉末0.62g(理論量の39%)であった。C,H,
N及びSの元素分析並びに赤外線、核磁気共鳴及び質量
スペクトルは、構造式について予測されたものと一致し
た。
C”Hz COCz Hs、R’ =R” =H,X
=CFffSO3C1ffHr a F 3 N Os
S Te 分子量=480.912−メチルベ
ンゾテルラゾール(例18)<0.81 g、 0.0
033モル)をジクロロメタン(30ml)に溶かした
。前記のようにして製造した四塩化炭素中のエトキシカ
ルボニルメチルトリフルオロメタンスルホネート(0,
004モル)の溶液を滴下ロートに入れ、窒素雰囲気下
に室温でペンゾテルラゾール?8液に添加した。添加が
完了した後、混合物を窒素雰囲気を22時間維持しなが
ら室温で攪拌した。固体を口過によって集め、真空下に
室温で乾燥した。収量は、融点156〜158℃の白色
粉末0.62g(理論量の39%)であった。C,H,
N及びSの元素分析並びに赤外線、核磁気共鳴及び質量
スペクトルは、構造式について予測されたものと一致し
た。
Q −CHt −COCz Hs、
R’ =R” =OCH3、X= 1
CI4HI8 I N0aTe 分子量= 5
18.815.6−シメトキシー2−メチルベンゾテル
ラゾール(例19)(1,22g、0.004モル)を
ジクロロメタン(25ml)に溶かした。前記のように
して製造した四塩化炭素中のエトキシカルボニルメチル
トリフルオロメタンスルホネート(0,004モル)の
溶液を滴下ロートに入れ、窒素雰囲気下に室温でペンゾ
テルラゾール溶液に徐々に添加した。反応混合物を口過
して、形成した少量の固体を除去した。0液から減圧下
に溶剤を除去し、残渣をアセトンに再溶解した。溶液を
アセトン中の飽和沃化ナトリウムで処理した。結晶化が
始まった後、混合物を冷却し9次いで口過した。固体を
ジエチルエーテルで洗浄し、真空下に室温で乾燥した。
18.815.6−シメトキシー2−メチルベンゾテル
ラゾール(例19)(1,22g、0.004モル)を
ジクロロメタン(25ml)に溶かした。前記のように
して製造した四塩化炭素中のエトキシカルボニルメチル
トリフルオロメタンスルホネート(0,004モル)の
溶液を滴下ロートに入れ、窒素雰囲気下に室温でペンゾ
テルラゾール溶液に徐々に添加した。反応混合物を口過
して、形成した少量の固体を除去した。0液から減圧下
に溶剤を除去し、残渣をアセトンに再溶解した。溶液を
アセトン中の飽和沃化ナトリウムで処理した。結晶化が
始まった後、混合物を冷却し9次いで口過した。固体を
ジエチルエーテルで洗浄し、真空下に室温で乾燥した。
収量は、融点184〜186℃の淡黄色結晶0.45g
(理論量の22%)であった。赤外線、核磁気共鳴及び
質量スペクトルは、構造式について予測されたものと一
致した。
(理論量の22%)であった。赤外線、核磁気共鳴及び
質量スペクトルは、構造式について予測されたものと一
致した。
Q = CHz −C−OCz Hs、R’ =OCR
,、R” =H1X= ICl5HI& I NO37
e 分子量=4B8.78この化合物は、5,
6−シメトキシー2−メチルベンゾテルラゾールの代わ
りに5−メトキシ−2−メチルベンゾテルラゾール(例
20)を使用する以外は、例50の化合物と同じ方法及
び同じ量で製造した。収量は、融点215〜217℃(
分解)の帯緑黄色粉末0.45g(理論量の28%)で
あった。赤外線、核磁気共鳴及び質量スペクトルは、構
造式について予測されたものと一致した。
,、R” =H1X= ICl5HI& I NO37
e 分子量=4B8.78この化合物は、5,
6−シメトキシー2−メチルベンゾテルラゾールの代わ
りに5−メトキシ−2−メチルベンゾテルラゾール(例
20)を使用する以外は、例50の化合物と同じ方法及
び同じ量で製造した。収量は、融点215〜217℃(
分解)の帯緑黄色粉末0.45g(理論量の28%)で
あった。赤外線、核磁気共鳴及び質量スペクトルは、構
造式について予測されたものと一致した。
R’ ” R” = C)(3、X = CF s
S O。
S O。
Cr5HIsFzNOsSTe 分子量=508
.962.5.6−ドリメチルベンゾテルラゾール(例
22)(0,90g、O,OO33モル)をジクロロメ
タン(25n+1)に溶かした。エトキシカルボニルメ
チルトリフルオロメタンスルホネートの溶液を滴下ロー
トに入れ、窒素雰囲気下に室温でペンゾテルラゾール溶
液に迅速に添加した。添加が完了した後、窒素雰囲気を
維持しながら室温で攪拌を20時間続けた。固体を口過
によって集め、ジエチルエーテルで洗浄し、真空下に室
温で乾燥した。収量は、融点177〜179℃(分解)
の灰白色粉末0.83g(理論量の49%)であった。
.962.5.6−ドリメチルベンゾテルラゾール(例
22)(0,90g、O,OO33モル)をジクロロメ
タン(25n+1)に溶かした。エトキシカルボニルメ
チルトリフルオロメタンスルホネートの溶液を滴下ロー
トに入れ、窒素雰囲気下に室温でペンゾテルラゾール溶
液に迅速に添加した。添加が完了した後、窒素雰囲気を
維持しながら室温で攪拌を20時間続けた。固体を口過
によって集め、ジエチルエーテルで洗浄し、真空下に室
温で乾燥した。収量は、融点177〜179℃(分解)
の灰白色粉末0.83g(理論量の49%)であった。
赤外線、核磁気共鳴及びiti!スペクトルは、構造式
について予測されたものと一致した。
について予測されたものと一致した。
更に、0液から溶剤を減圧下に除去し、残渣をアセトン
に再溶解させ、アセトン中の沃化ナトリウムの飽和溶液
で処理することによって沃化物塩として化合物を得た。
に再溶解させ、アセトン中の沃化ナトリウムの飽和溶液
で処理することによって沃化物塩として化合物を得た。
形成した黄色固体を口過によって単離し、洗浄し、前記
のように乾燥した。
のように乾燥した。
収iF0.30g、融点222〜224℃(分解)。
種々のスペクトルは、構造式について予測されたものと
一致した。
一致した。
豆玉ユニエエ
ベンジルアルコール及びトリフルオロメタンスルホン酸
無水物を用いて出発し、例41〜44において2−プロ
ペン−1−イルトリフルオロメタンスルホネートを製造
し、使用したのと同様の方法で四塩化炭素溶液中でベン
ジルトリフルオロメタンスルホネートを製造し、例53
〜55に乾燥溶液として使用した。
無水物を用いて出発し、例41〜44において2−プロ
ペン−1−イルトリフルオロメタンスルホネートを製造
し、使用したのと同様の方法で四塩化炭素溶液中でベン
ジルトリフルオロメタンスルホネートを製造し、例53
〜55に乾燥溶液として使用した。
■ll 3−ベンジル−2−メチルベンゾテルラゾリウ
ムトリフルオロメタンスルホネートR’ −R”
=H,X=CF、5OffCr 6HIa F s N
Ox S Te 分子量=484.942−メ
チルベンゾテルラゾール(例1B)(0,81g、0.
0033モル)をジクロロメタン(25)に溶かした。
ムトリフルオロメタンスルホネートR’ −R”
=H,X=CF、5OffCr 6HIa F s N
Ox S Te 分子量=484.942−メ
チルベンゾテルラゾール(例1B)(0,81g、0.
0033モル)をジクロロメタン(25)に溶かした。
前記のようにして製造した四塩化炭素中のベンジルトリ
フルオロメタンスルホネート(0,004モル)の溶液
を滴下ロートに入れ、窒素雰囲気下に室温でペンゾテル
ラゾール溶液に添加した。添加が完了した後、窒素雰囲
気を維持しながら室温で18時間攪拌を続けた。
フルオロメタンスルホネート(0,004モル)の溶液
を滴下ロートに入れ、窒素雰囲気下に室温でペンゾテル
ラゾール溶液に添加した。添加が完了した後、窒素雰囲
気を維持しながら室温で18時間攪拌を続けた。
固体を口過によって集め、ジエチルエーテルで洗浄し、
真空下に室温で乾燥した。収量は、融点120〜122
℃の白色粉末0.30g(理論量の19%)であった。
真空下に室温で乾燥した。収量は、融点120〜122
℃の白色粉末0.30g(理論量の19%)であった。
この化合物の赤外線、核磁気共鳴及び′ItIスペクト
ルは、構造式について予測されたものと一致した。
ルは、構造式について予測されたものと一致した。
543−ベンジル−56−シメトキシー2R’ ”’
R” = OCH3、X = CF 3 S O3C,
、H,、F、No、STe 分子量=544.99
この化合物は、2−メチルベンゾテルラゾールの代わり
に5.6−シメトキシー2−メチルベンゾテルラゾール
(例19)を使用する以外は、例53の化合物と同じ方
法及び同じ量で製造した。
R” = OCH3、X = CF 3 S O3C,
、H,、F、No、STe 分子量=544.99
この化合物は、2−メチルベンゾテルラゾールの代わり
に5.6−シメトキシー2−メチルベンゾテルラゾール
(例19)を使用する以外は、例53の化合物と同じ方
法及び同じ量で製造した。
収量は、融点179〜182℃(分解)の淡灰色粉末0
.50 gであった。赤外線、核磁気共鳴及び質量スペ
クトルは、所望の化合物及び5.6−シメトキシー2−
メチルベンゾテルラゾールのヒドロ塩の混合物について
予測されたものと一致した。
.50 gであった。赤外線、核磁気共鳴及び質量スペ
クトルは、所望の化合物及び5.6−シメトキシー2−
メチルベンゾテルラゾールのヒドロ塩の混合物について
予測されたものと一致した。
五55 3−ベンジル−2,5,6−ト1メチルベンゾ
ールラゾリウムヨージド R’ ”’R” =CH5、X= 1C+d’Ls
I NTe 分子量=490.84この化
合物は、2−メチルベンゾテルラゾールの代わりに2.
5.6−)リメチルベンゾテルラゾール(例22)を使
用する以外は、例53の化合物と同じ方法及び同じ量で
製造したものであり、反応混合物から直接単離された生
成物は主として2.5.6−ドリメチルベンゾテルラゾ
ールのヒドロ塩であった。口演から溶剤を減圧下に除去
した。残渣をアセトンに再溶解させ、アセトン中の沃化
ナトリウムの飽和溶液で処理した。単離した固体を前記
のように洗浄し、乾燥した。収量は、融点203〜20
6℃(分解)の物質0.10 gであった。赤外線、核
磁気共鳴及び質量スペクトルは、構造式について予測さ
れたものと一致した。
ールラゾリウムヨージド R’ ”’R” =CH5、X= 1C+d’Ls
I NTe 分子量=490.84この化
合物は、2−メチルベンゾテルラゾールの代わりに2.
5.6−)リメチルベンゾテルラゾール(例22)を使
用する以外は、例53の化合物と同じ方法及び同じ量で
製造したものであり、反応混合物から直接単離された生
成物は主として2.5.6−ドリメチルベンゾテルラゾ
ールのヒドロ塩であった。口演から溶剤を減圧下に除去
した。残渣をアセトンに再溶解させ、アセトン中の沃化
ナトリウムの飽和溶液で処理した。単離した固体を前記
のように洗浄し、乾燥した。収量は、融点203〜20
6℃(分解)の物質0.10 gであった。赤外線、核
磁気共鳴及び質量スペクトルは、構造式について予測さ
れたものと一致した。
ペンゾールーゾリウムヨージド
R’ =R” =H,X=I
C+s Hto I N OzTe 分子量−
500,842−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキ
ソラン−4−イル)エチルトリフルオロメタンスルホネ
ートは、2.2−ジメチル−4−(2−ヒドロキシエチ
ル)1.3−ジオキソラン及びトリフルオロメタンスル
ホネートを用いて出発し、例41〜44において2−プ
ロペン−1−イルトリフルオロメタンスルホネートを製
造し、使用したのと同じ方法で、四塩化炭素溶液中で製
造し、この例に乾燥溶液として使用した。
500,842−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキ
ソラン−4−イル)エチルトリフルオロメタンスルホネ
ートは、2.2−ジメチル−4−(2−ヒドロキシエチ
ル)1.3−ジオキソラン及びトリフルオロメタンスル
ホネートを用いて出発し、例41〜44において2−プ
ロペン−1−イルトリフルオロメタンスルホネートを製
造し、使用したのと同じ方法で、四塩化炭素溶液中で製
造し、この例に乾燥溶液として使用した。
2−メチルベンゾテルラゾール(例18)(0,81g
、 0.0033モル)をジクロロメタン(20ml)
に溶かし、四塩化炭素中の2− (2゜2−ジメチル−
1,3−ジオキソラン−4−イル)エチルトリフルオロ
メタンスルホネートの溶液を滴下ロートから窒素雰囲気
下に室温で添加した。
、 0.0033モル)をジクロロメタン(20ml)
に溶かし、四塩化炭素中の2− (2゜2−ジメチル−
1,3−ジオキソラン−4−イル)エチルトリフルオロ
メタンスルホネートの溶液を滴下ロートから窒素雰囲気
下に室温で添加した。
添加が完了した後、混合物を窒素雰囲気を維持しながら
室温で21時間攪拌した。反応混合物を口過し、溶剤を
口演から減圧下に除去した。残渣を少量のアセトンに溶
かし、アセトン中の沃化ナトリウムの飽和溶液で処理し
た。ジエチルエーテルを添加して生成物を沈澱させ、こ
れを口過によって単離し、ジエチルエーテルで洗浄し、
真空下に室温で乾燥した。融点158〜160℃の淡黄
色粉末の収量は、0.67g(理論量の41%)であっ
た。この試料のCSH及びNの元素分析並びに赤外線、
核磁気共鳴及び質量スペクトルは、構造式について予測
されたものと一致した。
室温で21時間攪拌した。反応混合物を口過し、溶剤を
口演から減圧下に除去した。残渣を少量のアセトンに溶
かし、アセトン中の沃化ナトリウムの飽和溶液で処理し
た。ジエチルエーテルを添加して生成物を沈澱させ、こ
れを口過によって単離し、ジエチルエーテルで洗浄し、
真空下に室温で乾燥した。融点158〜160℃の淡黄
色粉末の収量は、0.67g(理論量の41%)であっ
た。この試料のCSH及びNの元素分析並びに赤外線、
核磁気共鳴及び質量スペクトルは、構造式について予測
されたものと一致した。
lエニ59
下記の例57〜5gの3種の化合物は、同じ一触的操作
によって製造した。適切な2−メチルベンゾテルラゾー
ル塩基、耶ち、例57にば2−メチルベンゾテルラゾー
ル、例58には5,6−シメトキシー2−メチルベンゾ
テルラゾール、例59には5−メトキシ−2−メチルベ
ンゾテルラゾールを、磁気攪拌機及び還流冷却器を装着
したフラスコ中で等モル量のトリメチレンスルフェート
と共に75〜80℃で18時間(例59には3時間)加
熱した。反応体は最初は溶融液を形成したが、最終的に
は、物質は固体となった。室温に冷却した後、固体を取
り出し、次いでつぶし、均一なスラリーが得られるまで
、アセトン中で攪拌した。固体を口過によって単離し、
更にアセトンで洗浄し、真空下に室温で乾燥した。少な
くとも1種の生成物、例59は、空気中に放置すると分
解するのが観察された。これらの3つの例のそれぞれの
赤外線、核磁気共鳴及び質量スペクトルは、構造式につ
いて予測されたものと一致した。
によって製造した。適切な2−メチルベンゾテルラゾー
ル塩基、耶ち、例57にば2−メチルベンゾテルラゾー
ル、例58には5,6−シメトキシー2−メチルベンゾ
テルラゾール、例59には5−メトキシ−2−メチルベ
ンゾテルラゾールを、磁気攪拌機及び還流冷却器を装着
したフラスコ中で等モル量のトリメチレンスルフェート
と共に75〜80℃で18時間(例59には3時間)加
熱した。反応体は最初は溶融液を形成したが、最終的に
は、物質は固体となった。室温に冷却した後、固体を取
り出し、次いでつぶし、均一なスラリーが得られるまで
、アセトン中で攪拌した。固体を口過によって単離し、
更にアセトンで洗浄し、真空下に室温で乾燥した。少な
くとも1種の生成物、例59は、空気中に放置すると分
解するのが観察された。これらの3つの例のそれぞれの
赤外線、核磁気共鳴及び質量スペクトルは、構造式につ
いて予測されたものと一致した。
キシド、 R’ =R” =H
CxH+5NOaSTe 分子量=382.8
8融点202〜204℃(分解)の黄褐色粉末、収率7
9% R’ =R’ −0CR。
8融点202〜204℃(分解)の黄褐色粉末、収率7
9% R’ =R’ −0CR。
C13HI?N06ST(I 分子量=442
.93融点〉250℃の黄褐色粉末、 収率61%R’
=OCH3、R” =H C+zH+5NOsSTe 分子量=412.
91黄褐色粉末、 収率79% ■エユニエ又 例60〜62は3−置換ナフト(1,2−d)−テルラ
ゾリウム塩の製造法を説明するものである。
.93融点〉250℃の黄褐色粉末、 収率61%R’
=OCH3、R” =H C+zH+5NOsSTe 分子量=412.
91黄褐色粉末、 収率79% ■エユニエ又 例60〜62は3−置換ナフト(1,2−d)−テルラ
ゾリウム塩の製造法を説明するものである。
R’ =R” =H
Cr s Ht z F s N Oa S Te
分子量= 458.922−メチルナフト(1,2
−d)テルラゾール(例26)(14,8g−0,05
モル)を無水ジクロロメタンに溶かし、トリフルオロメ
タンスルホン酸メチル(5,52m1= 0.05モル
)を添加した。
分子量= 458.922−メチルナフト(1,2
−d)テルラゾール(例26)(14,8g−0,05
モル)を無水ジクロロメタンに溶かし、トリフルオロメ
タンスルホン酸メチル(5,52m1= 0.05モル
)を添加した。
フラスコを密封し、週末にわたって放置した。淡黄色板
状晶(16,1g、理論量の70%)が形成した。生成
物をジエチルエーテルの添加によりアセトン150m1
から再結晶させた(融点178〜183℃)。質量及び
核磁気共鳴スペクトルは、構造式について予測されたも
のと一致した。
状晶(16,1g、理論量の70%)が形成した。生成
物をジエチルエーテルの添加によりアセトン150m1
から再結晶させた(融点178〜183℃)。質量及び
核磁気共鳴スペクトルは、構造式について予測されたも
のと一致した。
1LLL7−メドキシー1,2−ジメチルナフトンスル
ホネート R” =OCH3、R” =HC、s H
Ia F 3 N Oa S Te 分子量=4
88.937−メドキシー2−メチルナフト(1,2−
d)テルラゾール(例27)(0,98g=0.03モ
ル)を例60に関して上記したようにアルキル化した。
ホネート R” =OCH3、R” =HC、s H
Ia F 3 N Oa S Te 分子量=4
88.937−メドキシー2−メチルナフト(1,2−
d)テルラゾール(例27)(0,98g=0.03モ
ル)を例60に関して上記したようにアルキル化した。
反応混合物を室温で5日間保持して、黄色のふわふわし
た針状晶(融点174〜183℃)0.68g(理論量
の46%)を得た。質量及び核磁気共鳴スペクトルは、
構造式について予測されたものと一致した。
た針状晶(融点174〜183℃)0.68g(理論量
の46%)を得た。質量及び核磁気共鳴スペクトルは、
構造式について予測されたものと一致した。
ネート R3=H,R” =CH5
CIs Hla F 3 N Os S Te
分子量= 472.932.5−ジメチルナフトC1,
2−d)テルラゾール(例28)(0,93g=0.0
03モル)を無水ジクロロメタンに溶かし、トリフルオ
ロメタンスルホン酸メチル(0,33m1−0.003
モル)を添加した。フラスコを密封し、週末にわたって
放置した。明るい黄色板状晶(0,88g、理論量の6
1%)が形成した。生成物をジエチルエーテル20m1
の添加によりアセトン10m1から再結晶させた。融点
は224〜230℃であった。質量及び核磁気共鳴スペ
クトルは、構造式について予測されたものと一致した。
分子量= 472.932.5−ジメチルナフトC1,
2−d)テルラゾール(例28)(0,93g=0.0
03モル)を無水ジクロロメタンに溶かし、トリフルオ
ロメタンスルホン酸メチル(0,33m1−0.003
モル)を添加した。フラスコを密封し、週末にわたって
放置した。明るい黄色板状晶(0,88g、理論量の6
1%)が形成した。生成物をジエチルエーテル20m1
の添加によりアセトン10m1から再結晶させた。融点
は224〜230℃であった。質量及び核磁気共鳴スペ
クトルは、構造式について予測されたものと一致した。
2.3−ジメチルベンゾテルラゾリウムトリフルオロメ
チルスルホネー) (2,0g、 0.005モル)を
水及び最少量のメタノールに溶解させた。
チルスルホネー) (2,0g、 0.005モル)を
水及び最少量のメタノールに溶解させた。
水(1ml)中の臭素(1,2g So、0075モル
)を添加した。形成した黄色沈澱を口過によって単離し
た。収量は1.2gであった。生成物を再沈澱を助成す
るためジエチルエーテルを使用してアセトニトリルから
再結晶させた。収量は0.64gであった。
)を添加した。形成した黄色沈澱を口過によって単離し
た。収量は1.2gであった。生成物を再沈澱を助成す
るためジエチルエーテルを使用してアセトニトリルから
再結晶させた。収量は0.64gであった。
■エエ 1.I、1−トTブロモー4−エチル−3,6
−シメチルー2.1.4−ペンゾテルラジCr t H
IJr3 N OTe 分子量=543.5
43−エチル−2,5−ジメチルベンゾテルラゾリウム
トリフルオロメタンスルホネー)(2,0g。
−シメチルー2.1.4−ペンゾテルラジCr t H
IJr3 N OTe 分子量=543.5
43−エチル−2,5−ジメチルベンゾテルラゾリウム
トリフルオロメタンスルホネー)(2,0g。
0、 OO46モル)をメタノール(20ml)に溶解
させた。メタノール(10o1)に溶かした臭素(1,
1g、 O,G O69モル)を水(10ral)で希
釈し、室温で激しく攪拌しながら満願した。添加が約1
/3終わった時に、橙色〜黄色固体が形成し始めた。添
加が完了した後、攪拌を10分続けた。固体を口過によ
って単離し、水で洗浄し、吸引ロート上で数時間風乾し
た。収量は1.34g(理論量の54%)であった、1
.05部を3:1のメタノール−水溶剤混合物(501
11)から再結晶することによって精製した。酢酸(3
ml)中のHBrを冷溶液に添加して結晶を開始させた
。赤外線及び質量スペクトルは、構造式について予測さ
れたものと一致した。
させた。メタノール(10o1)に溶かした臭素(1,
1g、 O,G O69モル)を水(10ral)で希
釈し、室温で激しく攪拌しながら満願した。添加が約1
/3終わった時に、橙色〜黄色固体が形成し始めた。添
加が完了した後、攪拌を10分続けた。固体を口過によ
って単離し、水で洗浄し、吸引ロート上で数時間風乾し
た。収量は1.34g(理論量の54%)であった、1
.05部を3:1のメタノール−水溶剤混合物(501
11)から再結晶することによって精製した。酢酸(3
ml)中のHBrを冷溶液に添加して結晶を開始させた
。赤外線及び質量スペクトルは、構造式について予測さ
れたものと一致した。
l工 1,1.1−ト!ブロモー4.6フートリメチル
チオー3−メチルチオ−2,1,4−C++H+Jr:
+NOSTe 分子量=575.603.5.6
−ドリメチルー2−メチルチオベンゾテルラゾリウムト
リフルオロメタンスルホネート(2,0g、 0.00
49モル)を1:1のメタノールと水との溶剤混合物(
75ml)中に溶解させた。メタノール(5ml)に溶
かした臭素(0,79g、0.0049モル)を室温で
激しく攪拌しながら満願した。添加が完了した後、攪拌
を30分続けた。分離した固体を口過によって単離し、
メタノール及びエチルエーテルで洗浄し、風乾した。
チオー3−メチルチオ−2,1,4−C++H+Jr:
+NOSTe 分子量=575.603.5.6
−ドリメチルー2−メチルチオベンゾテルラゾリウムト
リフルオロメタンスルホネート(2,0g、 0.00
49モル)を1:1のメタノールと水との溶剤混合物(
75ml)中に溶解させた。メタノール(5ml)に溶
かした臭素(0,79g、0.0049モル)を室温で
激しく攪拌しながら満願した。添加が完了した後、攪拌
を30分続けた。分離した固体を口過によって単離し、
メタノール及びエチルエーテルで洗浄し、風乾した。
収量は1.91g(理論量の67%)であった。化合物
を1:1のメタノールと水との混合物(75ml)から
再結晶することによって精製した。酢酸(約7m1)中
のHBrを冷溶液に満願して結晶を開始させた。赤外線
及び質量スペクトルは、構造式について予測されたもの
と一致した。
を1:1のメタノールと水との混合物(75ml)から
再結晶することによって精製した。酢酸(約7m1)中
のHBrを冷溶液に満願して結晶を開始させた。赤外線
及び質量スペクトルは、構造式について予測されたもの
と一致した。
以下余白
■1立 カブtJ の牙゛
^
1、 R=C21(S
2、 R=H
化合物」を硫黄十金増悪臭沃化乳剤中で評価した。化合
物を示した濃度で添加し、酢酸セルロース支持体上に被
覆して銀被覆量4.9g/rrr及びゼラチン被覆量1
1.1g/mを達成した。被覆の試料をイーストマンI
B感度計でくさび分光写真機を介してタングステン光源
に露光した。被覆をエロン(E 1 o n %商標)
(N−メチルp−アミノフェノールヘミスルフェート)
−ヒドロキノン現像剤中で5分現像し、定着し、洗浄し
、乾燥した。各被覆の試料を、前記のように露光し、処
理する前に49℃、相対湿度50%で2週間インキュベ
ーションした。各被覆に対して濃度:対数露光曲線をプ
ロットした。これらの直線から感度及びカブ 化合物り
(D−n+in)を測定した。化合物1の他に化合物
対照2、本発明に属さない化合物及び4−ヒドロキシ
1−6−メチルチトラザインデンナトリウム塩3(
公知カブリ抑制剤)を同じ乳剤及び処理条件を使用して
同じ方法で評価した。評価の結果を下記 2の第1表
にまとめる。
物を示した濃度で添加し、酢酸セルロース支持体上に被
覆して銀被覆量4.9g/rrr及びゼラチン被覆量1
1.1g/mを達成した。被覆の試料をイーストマンI
B感度計でくさび分光写真機を介してタングステン光源
に露光した。被覆をエロン(E 1 o n %商標)
(N−メチルp−アミノフェノールヘミスルフェート)
−ヒドロキノン現像剤中で5分現像し、定着し、洗浄し
、乾燥した。各被覆の試料を、前記のように露光し、処
理する前に49℃、相対湿度50%で2週間インキュベ
ーションした。各被覆に対して濃度:対数露光曲線をプ
ロットした。これらの直線から感度及びカブ 化合物り
(D−n+in)を測定した。化合物1の他に化合物
対照2、本発明に属さない化合物及び4−ヒドロキシ
1−6−メチルチトラザインデンナトリウム塩3(
公知カブリ抑制剤)を同じ乳剤及び処理条件を使用して
同じ方法で評価した。評価の結果を下記 2の第1表
にまとめる。
以下余白 3
第1表
なし 100 0.12 6B 0.4
40゜05 94 0.12 82 0゜340
.15 B9 0.12 112 0.240.
50 B5 0.12 123 0.140゜0
5 91 0.13 94 0.320.15
95 0.11 132 0.190.50
B5 0.12 95 0.100.05 8
7 0.12 6B 0.430.15 95
0.12 71 0.400.50 74 0
.11 94 0.31(以下余白) これらの結果は、本発明の化合物がカブリ抑制剤として
極めて有効であり、化合物2と同様に周知のカプリ抑制
剤3より著しく低い濃度で有効であることを明らかに示
す。また、カブリ抑制作用は、感度を損失することなく
達成され、実際、インキヱベーションすると、化合物1
は使用した濃度で感度を向上していると考えられる。
40゜05 94 0.12 82 0゜340
.15 B9 0.12 112 0.240.
50 B5 0.12 123 0.140゜0
5 91 0.13 94 0.320.15
95 0.11 132 0.190.50
B5 0.12 95 0.100.05 8
7 0.12 6B 0.430.15 95
0.12 71 0.400.50 74 0
.11 94 0.31(以下余白) これらの結果は、本発明の化合物がカブリ抑制剤として
極めて有効であり、化合物2と同様に周知のカプリ抑制
剤3より著しく低い濃度で有効であることを明らかに示
す。また、カブリ抑制作用は、感度を損失することなく
達成され、実際、インキヱベーションすると、化合物1
は使用した濃度で感度を向上していると考えられる。
前記の実施例は、第四級オキサテルラジニウム塩がハロ
ゲン化銀写真要素用のカプリ抑制剤として有用であるこ
とを示す。
ゲン化銀写真要素用のカプリ抑制剤として有用であるこ
とを示す。
以下承白
Claims (1)
- 1、感輻射線ハロゲン化銀乳剤及び有効量のカブリ抑制
剤を含む写真要素において、カブリ抑制剤が第四級芳香
族オキサテルラジニウム塩であることを特徴とする写真
要素。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US71984185A | 1985-04-04 | 1985-04-04 | |
| US719841 | 1985-04-04 | ||
| US824751 | 1986-01-31 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61264335A true JPS61264335A (ja) | 1986-11-22 |
Family
ID=24891565
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7686986A Pending JPS61263965A (ja) | 1985-04-04 | 1986-04-04 | 第四級テルル塩 |
| JP7687086A Pending JPS61264335A (ja) | 1985-04-04 | 1986-04-04 | 写真要素 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7686986A Pending JPS61263965A (ja) | 1985-04-04 | 1986-04-04 | 第四級テルル塩 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JPS61263965A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01205152A (ja) * | 1988-02-12 | 1989-08-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
-
1986
- 1986-04-04 JP JP7686986A patent/JPS61263965A/ja active Pending
- 1986-04-04 JP JP7687086A patent/JPS61264335A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01205152A (ja) * | 1988-02-12 | 1989-08-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61263965A (ja) | 1986-11-21 |
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