JPS61265455A - 熱駆動ヒ−トポンプ - Google Patents
熱駆動ヒ−トポンプInfo
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- JPS61265455A JPS61265455A JP10628085A JP10628085A JPS61265455A JP S61265455 A JPS61265455 A JP S61265455A JP 10628085 A JP10628085 A JP 10628085A JP 10628085 A JP10628085 A JP 10628085A JP S61265455 A JPS61265455 A JP S61265455A
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- low
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- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Central Heating Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は熱駆動ヒートポンプに係り、特に、作動ガスを
高温と低温の熱源で加熱、冷却することによって発生す
る作動ガス圧力の上昇、下降を、機械動力を介すること
なく直接ヒートポンプにおける作動ガスの圧縮、膨張に
利用して吸熱、排熱を行う方式のヒートポンプに関する
。
高温と低温の熱源で加熱、冷却することによって発生す
る作動ガス圧力の上昇、下降を、機械動力を介すること
なく直接ヒートポンプにおける作動ガスの圧縮、膨張に
利用して吸熱、排熱を行う方式のヒートポンプに関する
。
2個のディスプレーサを適切な時間ずれをもって変位す
るように、対向状に配置した2個のシリンダ内に収容し
、各ディスプレーサの往復変位に伴って、各シリンダに
付属する加熱器、リジェネレータおよび冷却器を含む流
路を経て、両シリンダ内の作動ガスを、両シリンダの端
部の高温室および低温室と、両シリンダの中間の中温室
との間を往復させるようにしたヒートポンプは、米国特
許第1275507号明細書に記載されているように公
知である。
るように、対向状に配置した2個のシリンダ内に収容し
、各ディスプレーサの往復変位に伴って、各シリンダに
付属する加熱器、リジェネレータおよび冷却器を含む流
路を経て、両シリンダ内の作動ガスを、両シリンダの端
部の高温室および低温室と、両シリンダの中間の中温室
との間を往復させるようにしたヒートポンプは、米国特
許第1275507号明細書に記載されているように公
知である。
この公知のヒートポンプでは、両ディスプレーサは、両
シリンダの中間部に設けた駆動軸によりクランク機構を
介して強制的に時間ずれをもって変位する。
シリンダの中間部に設けた駆動軸によりクランク機構を
介して強制的に時間ずれをもって変位する。
また、2個のディスプレーサを外部から別々のモータで
駆動するようにしたものは、米国特許第3630041
号明III書により、2個のディスプレーサに永久磁石
を取付けて電磁石の力でディスプレーサを駆動するよう
にしたものは、米国特許第3774405号明m1ll
により、それぞれ公知である。
駆動するようにしたものは、米国特許第3630041
号明III書により、2個のディスプレーサに永久磁石
を取付けて電磁石の力でディスプレーサを駆動するよう
にしたものは、米国特許第3774405号明m1ll
により、それぞれ公知である。
一方、ディスプレーサの変位を作動ガスからの力によっ
て行い、ディスプレーサの動きをそれに連係されたクラ
ンク軸を介して動力として取出せるようにしたヒートポ
ンプは、米国特許第3379026号明III書記載り
公知である。
て行い、ディスプレーサの動きをそれに連係されたクラ
ンク軸を介して動力として取出せるようにしたヒートポ
ンプは、米国特許第3379026号明III書記載り
公知である。
また、中温室をフローティングピストンで仕切ったもの
が、米国特許第4455841号明細書に記載されてい
る。
が、米国特許第4455841号明細書に記載されてい
る。
さらにまた、低温ディスプレーサをフリーピストンとし
、かつガスばねで支持し、受圧面積差によって作動ガス
圧力で駆動するようにしたものも、米国特許第4024
27号明m書に記載されている。
、かつガスばねで支持し、受圧面積差によって作動ガス
圧力で駆動するようにしたものも、米国特許第4024
27号明m書に記載されている。
(発明が解決しようとする問題点)
以上に述べた公知のヒートポンプは、いずれも、クラン
ク機構を有し、少くとも一方のディスプレーサは外部か
らの機械力または電磁力により駆動される。したがって
、ヒートポンプは機構的に複雑になり、外部に動力源が
ないと運転することができないという問題がある。
ク機構を有し、少くとも一方のディスプレーサは外部か
らの機械力または電磁力により駆動される。したがって
、ヒートポンプは機構的に複雑になり、外部に動力源が
ないと運転することができないという問題がある。
本発明は、このような問題を解決することができ、構造
が簡単で、熱源のみがあれば運転することが可能で、し
かも高い性能を期待することができる熱駆動ヒートポン
プを提供することを主目的とする。
が簡単で、熱源のみがあれば運転することが可能で、し
かも高い性能を期待することができる熱駆動ヒートポン
プを提供することを主目的とする。
また、本発明は、中温室フローティングピストンで仕切
る前記公知の方式に対して、ピストンの摺動による摩擦
ロスがない、ピストンの慣性抵抗や摩擦抵抗によって生
じるピストン前後面間の圧力差によるピストン前後面間
の作動ガスのもれによるロスがない、等の利点をさらに
・有する熱駆動ヒートポンプを提供することをも目的と
する。
る前記公知の方式に対して、ピストンの摺動による摩擦
ロスがない、ピストンの慣性抵抗や摩擦抵抗によって生
じるピストン前後面間の圧力差によるピストン前後面間
の作動ガスのもれによるロスがない、等の利点をさらに
・有する熱駆動ヒートポンプを提供することをも目的と
する。
本発明による熱駆動ヒートポンプは、同軸的に配置され
、内部に作動ガスを充填した高温シリンダおよび低温シ
リンダと、高温シリンダの低温シリンダと反対の側に高
温室を形成しかつ高温シリンダの低温シリンダ側に中温
室を形成するように、高温シリンダの内部に摺動自在に
挿入されたi温ディスプレーサと、前記高温室と中温室
とを連通させる高温側作動ガス流路と、高温室から中温
室へ向かう方向に関して高温側作動ガス流路内に順次配
列された高温熱交換器、高温リジェネレータおよび高温
側中温熱交換器と、低温シリンダの高温シリンダと反対
の側に低温室を形成しかつ低温シリンダの高温シリンダ
側に中温室を形成するように、低温シリンダの内部にW
I勤自在に挿入された低温ディスプレーサと、前記低温
室と中温室とを連通させる低温側作動ガス流路と、低温
室から中温室へ向かう方向に関して低温側作動ガス流路
内に順次配列された低温熱交換器、低温リジェネレータ
および低温側中温熱交換器と、前記高温シリンダおよび
低温シリンダの間に固定状態で設けられた高温側ディス
プレーサガイドおよび低温側ディスプレーサガイドとを
備え、高温側ディスプレーサガイドおよび低温側ディス
プレーサガイドは、それぞれ高温ディスプレーサおよび
低温ディスプレーサと摺動自在にかん合して両ディスプ
レーサを軸方向に案内し、かつ両ディスプレーサとの間
にガスを収容したガスばね室を形成していることを特徴
とする。
、内部に作動ガスを充填した高温シリンダおよび低温シ
リンダと、高温シリンダの低温シリンダと反対の側に高
温室を形成しかつ高温シリンダの低温シリンダ側に中温
室を形成するように、高温シリンダの内部に摺動自在に
挿入されたi温ディスプレーサと、前記高温室と中温室
とを連通させる高温側作動ガス流路と、高温室から中温
室へ向かう方向に関して高温側作動ガス流路内に順次配
列された高温熱交換器、高温リジェネレータおよび高温
側中温熱交換器と、低温シリンダの高温シリンダと反対
の側に低温室を形成しかつ低温シリンダの高温シリンダ
側に中温室を形成するように、低温シリンダの内部にW
I勤自在に挿入された低温ディスプレーサと、前記低温
室と中温室とを連通させる低温側作動ガス流路と、低温
室から中温室へ向かう方向に関して低温側作動ガス流路
内に順次配列された低温熱交換器、低温リジェネレータ
および低温側中温熱交換器と、前記高温シリンダおよび
低温シリンダの間に固定状態で設けられた高温側ディス
プレーサガイドおよび低温側ディスプレーサガイドとを
備え、高温側ディスプレーサガイドおよび低温側ディス
プレーサガイドは、それぞれ高温ディスプレーサおよび
低温ディスプレーサと摺動自在にかん合して両ディスプ
レーサを軸方向に案内し、かつ両ディスプレーサとの間
にガスを収容したガスばね室を形成していることを特徴
とする。
また、併合発明によれば、上記構成において、両ディス
プレーサガイドは両シリンダ間に固設された隔壁に設け
られ、隔壁は連通開口を有し、この連通開口内に中温リ
ジェネレータが設けられ、隔壁の両側に中温室が形成さ
れている。
プレーサガイドは両シリンダ間に固設された隔壁に設け
られ、隔壁は連通開口を有し、この連通開口内に中温リ
ジェネレータが設けられ、隔壁の両側に中温室が形成さ
れている。
以上の構成により、本発明の熱駆動ヒートポンプは、デ
ィスプレーサ外部から機械的駆動力を与えなくても、作
動ガスの作用と、両ディスプレーサに作用するガスばね
の作用とにより、ディスプレーサガイドやシリンダとの
摩擦、流路を作動ガスが流れるときの抵抗などに起因す
る減衰力と作動ガスからの力がつり合った状態で持続振
動をする。
ィスプレーサ外部から機械的駆動力を与えなくても、作
動ガスの作用と、両ディスプレーサに作用するガスばね
の作用とにより、ディスプレーサガイドやシリンダとの
摩擦、流路を作動ガスが流れるときの抵抗などに起因す
る減衰力と作動ガスからの力がつり合った状態で持続振
動をする。
つぎに、図面について本発明の詳細な説明する。
第1図において、1は本発明の熱駆動ヒートポンプの筒
状ケーシングで、このケーシング1の内部には、それと
一体的に高温シリンダ2Hおよび低温シリンダ2Lが同
軸的に設けられている。図示の例では低温シリンダ2L
の方が高温シリンダ2日より径が大となっている。ケー
シング1内には、たとえばヘリウムガスのような作動ガ
スが封入されている。
状ケーシングで、このケーシング1の内部には、それと
一体的に高温シリンダ2Hおよび低温シリンダ2Lが同
軸的に設けられている。図示の例では低温シリンダ2L
の方が高温シリンダ2日より径が大となっている。ケー
シング1内には、たとえばヘリウムガスのような作動ガ
スが封入されている。
高温シリンダ2Hの内部には高温ディスプレーサ3Hが
摺動自在に収容され、この高温ディスプレーサ3Hによ
って、高温シリンダ2Hの低温シリンダ2Lと反対の側
に高温室4Hが形成され、また低温シリンダ2Lの側に
中温室4Mが形成されている。
摺動自在に収容され、この高温ディスプレーサ3Hによ
って、高温シリンダ2Hの低温シリンダ2Lと反対の側
に高温室4Hが形成され、また低温シリンダ2Lの側に
中温室4Mが形成されている。
高温室4Hと中温室4Mは、高温シリンダ2Hの外周に
形成した環状の′B温側作動ガス流路5Hにより連通し
ている。そして、この流路5Hの内部には、高温室4日
から中温室4Mへ向かって高温熱交換器7H,高温リジ
ェネレータ8Hおよび高温側中温熱交換G!19Hが順
次設けられている。
形成した環状の′B温側作動ガス流路5Hにより連通し
ている。そして、この流路5Hの内部には、高温室4日
から中温室4Mへ向かって高温熱交換器7H,高温リジ
ェネレータ8Hおよび高温側中温熱交換G!19Hが順
次設けられている。
低温シリンダ2Lの側においても同様な構成がとられ、
低温シリンダ2Lの内部に低温ディスプレーサ3Lが摺
動自在に収容され、この低温ディスプレーサ3Lによっ
て、低温シリンダ2Lの高温シリンダ2日と反対の側に
低温室4Lが形成され、また高温シリンダ2Hの側に中
温室4Mが形成されている。
低温シリンダ2Lの内部に低温ディスプレーサ3Lが摺
動自在に収容され、この低温ディスプレーサ3Lによっ
て、低温シリンダ2Lの高温シリンダ2日と反対の側に
低温室4Lが形成され、また高温シリンダ2Hの側に中
温室4Mが形成されている。
さらに、低温室4Lと中温室4Mは、低温シリンダ2L
の外周に形成した環状の低温側作動ガス流路5Lにより
連通している。そして、この流路5Lの内部には、低温
室4Lから中編室4Mへ向かって低温熱交換器7L、低
温リジェネレータ8Lおよび低温側中1熱交換器9 L
、が順次設けられている。
の外周に形成した環状の低温側作動ガス流路5Lにより
連通している。そして、この流路5Lの内部には、低温
室4Lから中編室4Mへ向かって低温熱交換器7L、低
温リジェネレータ8Lおよび低温側中1熱交換器9 L
、が順次設けられている。
両シリンダ2H,2Lの中間部には、ケーシング1と一
体をなして隔壁10が設けられ、この隔壁10からは高
温側および低温側ディスプレーサガイド11H,11L
が軸方向に突設されている。
体をなして隔壁10が設けられ、この隔壁10からは高
温側および低温側ディスプレーサガイド11H,11L
が軸方向に突設されている。
図示の例ではこれらのガイド11H,11Lはロッドと
して形成され、それぞれのロッド11H111Lは高温
および低温ディスプレーサ3H。
して形成され、それぞれのロッド11H111Lは高温
および低温ディスプレーサ3H。
3Lに形成した凹穴12H,12Lに摺動自在に挿入さ
れ、これにより凹穴12H,12L内にガスばね室13
H,13Lが形成されている。ガスばね室内には、たと
えばヘリウムガスが封入される。なお、ガイドと凹穴の
雌雄関係は逆にすることも可能であるが、図示の構造の
方が好ましい。
れ、これにより凹穴12H,12L内にガスばね室13
H,13Lが形成されている。ガスばね室内には、たと
えばヘリウムガスが封入される。なお、ガイドと凹穴の
雌雄関係は逆にすることも可能であるが、図示の構造の
方が好ましい。
隔壁10には連通関口14が形成され、雨中温室4M、
4Mは連通し、1つの中温室のように機能するようにな
っている。
4Mは連通し、1つの中温室のように機能するようにな
っている。
前記高温熱交換器7日は、その外部から高温の熱源、た
とえばプロパンガスの燃焼ガスによって矢印Aで示すよ
うに加熱され、内部の作動ガスへその熱が伝わるように
される。また、高m室4日は高温熱交換器7Hによって
高温に保持される。
とえばプロパンガスの燃焼ガスによって矢印Aで示すよ
うに加熱され、内部の作動ガスへその熱が伝わるように
される。また、高m室4日は高温熱交換器7Hによって
高温に保持される。
一方、高温側中温熱交換器9日は、外部の低温熱源、た
とえば上水通水に接し、それによって冷却され、内部の
作動ガスを中門温度、たとえば40℃程度にするように
機能する。
とえば上水通水に接し、それによって冷却され、内部の
作動ガスを中門温度、たとえば40℃程度にするように
機能する。
作動ガスは、2個のディスプレーサ3H,3Lの動きに
応じて、それぞれの作動ガス流路5H。
応じて、それぞれの作動ガス流路5H。
5L内をいずれの方向にも自由に流れることもできる。
そして、高温室4日と中温室4M、および低温室4Lと
中温室4Mの圧力の間には、作動ガスが流路5H,5L
を流れるときに発生する圧力降下に起因する圧力差のみ
が存在する。
中温室4Mの圧力の間には、作動ガスが流路5H,5L
を流れるときに発生する圧力降下に起因する圧力差のみ
が存在する。
両リジェネレータ88.81は蓄熱性能に優れた材料か
らなり、そこを流通ずる作動ガスに、蓄えた熱を放出し
たり、熱を奪ったりする。
らなり、そこを流通ずる作動ガスに、蓄えた熱を放出し
たり、熱を奪ったりする。
つぎに、以上に説明したヒートポンプの作用を説明する
。
。
前述のように、高温ディスプレーサ3Hおよび低温ディ
スプレーサ3Lは、それぞれガスばね室13H,13L
内のガスばねを介してケーシング1内に支持されており
、いわゆるばね質点系を構成している。また、高温室4
H,中温室4Mおよび低温室4Lは流路51−1.5L
を通じて互いに連通しており、各室の作動ガス圧力間に
は流路5H。
スプレーサ3Lは、それぞれガスばね室13H,13L
内のガスばねを介してケーシング1内に支持されており
、いわゆるばね質点系を構成している。また、高温室4
H,中温室4Mおよび低温室4Lは流路51−1.5L
を通じて互いに連通しており、各室の作動ガス圧力間に
は流路5H。
5Lの圧力降下分の圧力差があるのみであり、全作動ガ
スの圧力はほぼ均一とみなせる。
スの圧力はほぼ均一とみなせる。
一方、ディスプレーサ3H,3Lが作動ガスから圧力を
受ける面積は、高温、低温いずれのディスプレーサにお
いても、中温室4M側の方がケーシング端(高温室4H
,低温室4L)側よリロッド11H,11Lの断面積分
だけ小さくなってぃる。よって、いずれのディスプレー
サも、作動ガス圧力が上昇すると圧力上昇分にロッド断
面積を乗じただりの力を中温室4Mに向かう方向へ受け
、作動ガス圧力が低下すると圧力の低下分にOラド断面
積を乗じただけの力を中温室4Mから遠ざかる方向へ受
ける。
受ける面積は、高温、低温いずれのディスプレーサにお
いても、中温室4M側の方がケーシング端(高温室4H
,低温室4L)側よリロッド11H,11Lの断面積分
だけ小さくなってぃる。よって、いずれのディスプレー
サも、作動ガス圧力が上昇すると圧力上昇分にロッド断
面積を乗じただりの力を中温室4Mに向かう方向へ受け
、作動ガス圧力が低下すると圧力の低下分にOラド断面
積を乗じただけの力を中温室4Mから遠ざかる方向へ受
ける。
作動ガスの温度は、前述のように高温室4日では高温に
保持され、中温室4Mでは中間的な温度に保持され、低
温室4Lは、後述のような本ヒートポンプの作動の結果
低温に保持される。
保持され、中温室4Mでは中間的な温度に保持され、低
温室4Lは、後述のような本ヒートポンプの作動の結果
低温に保持される。
このような状態の下で、高温ディスプレーサ3Hと低温
ディスプレーサ3Lは、後で詳述するように自励娠勤を
開始し、このヒートポンプは低温熱交換器7Lを介して
外部から熱を吸収し、2つの中温熱交換!198.9L
から外部へ熱を排出する。
ディスプレーサ3Lは、後で詳述するように自励娠勤を
開始し、このヒートポンプは低温熱交換器7Lを介して
外部から熱を吸収し、2つの中温熱交換!198.9L
から外部へ熱を排出する。
以下、それについて詳述する。なお、表現の便宜上、中
温室4Mから高温室4日へ向かう方向を上方向、中温室
4Mから低温室4Lへ向かう方向を下方向と呼ぶ。
温室4Mから高温室4日へ向かう方向を上方向、中温室
4Mから低温室4Lへ向かう方向を下方向と呼ぶ。
まず、低温ディスプレー+j3Lの動きが高温ディスプ
レーサ3Hに及ぼす影響ついて述べる。
レーサ3Hに及ぼす影響ついて述べる。
いま、低温ディスプレーサ3Lが周期的に往復運動をし
ているとする。低温ディスプレーサ3Lが上方向へ移動
すると、中温室4Mの一部の作動ガスは低温ディスプレ
ーサ3Lに押しのけられて、低温側中温熱交換器9し、
低温リジェネレータ8L、低温熱交換器7Lを通り、低
・潟リジェネレータ8Lに熱を奪われて低温になり低温
室4Lへ流入する。この過程で、中間温度の作動ガスの
一部が低温に冷却されることになるため、作動ガスの圧
力は下り、また各室48.4M、4Lの作動ガスは流路
5)(,5Lを通じて連通しているために、各室の圧力
が互いに均一になった状態で全作動ガスの圧力の低下が
起る。
ているとする。低温ディスプレーサ3Lが上方向へ移動
すると、中温室4Mの一部の作動ガスは低温ディスプレ
ーサ3Lに押しのけられて、低温側中温熱交換器9し、
低温リジェネレータ8L、低温熱交換器7Lを通り、低
・潟リジェネレータ8Lに熱を奪われて低温になり低温
室4Lへ流入する。この過程で、中間温度の作動ガスの
一部が低温に冷却されることになるため、作動ガスの圧
力は下り、また各室48.4M、4Lの作動ガスは流路
5)(,5Lを通じて連通しているために、各室の圧力
が互いに均一になった状態で全作動ガスの圧力の低下が
起る。
作動ガス圧力が低下すると、前述のように高温ディスプ
レーサ3Hには、圧力の低下分にロッド11Hの断面積
を乗じた力が中温室4Mから遠ざかる方向すなわち上方
向へ加わる。
レーサ3Hには、圧力の低下分にロッド11Hの断面積
を乗じた力が中温室4Mから遠ざかる方向すなわち上方
向へ加わる。
逆に低温ディスプレーサ3Lが下方向へ移動すると、低
温室4Lの作動ガスは低温ディスプレーサ3Lに押しの
けられて、低温熱交換器7L、低温リジェネレータ8L
、低温側中温熱交換器9[を通り、低温リジェネレータ
8Lから熱を受けとり中間温度となって中温室4Mへ流
入する。この過程で低温の作動ガスの一部が中間温度に
加熱されることになるため、作動ガスの圧力は上がり、
また各室4H,4M、4Lの作動ガスは流路5H。
温室4Lの作動ガスは低温ディスプレーサ3Lに押しの
けられて、低温熱交換器7L、低温リジェネレータ8L
、低温側中温熱交換器9[を通り、低温リジェネレータ
8Lから熱を受けとり中間温度となって中温室4Mへ流
入する。この過程で低温の作動ガスの一部が中間温度に
加熱されることになるため、作動ガスの圧力は上がり、
また各室4H,4M、4Lの作動ガスは流路5H。
5Lを通じて連通しているために圧力の上昇は各室の圧
力が均一になった状態で起る。
力が均一になった状態で起る。
作動ガスの圧力が上昇すると、前述のように高温ディス
プレーサ3Hには圧力の上昇分にロッド11Hの断面積
を乗じただけの力が下方向に加わる。
プレーサ3Hには圧力の上昇分にロッド11Hの断面積
を乗じただけの力が下方向に加わる。
以上より、低温ディスプレーサ3Lが往復運動をすると
、高温ディスプレーサ3Hには低温ディスプレーサ3L
の変位と同方向の力が加わることがわかる。
、高温ディスプレーサ3Hには低温ディスプレーサ3L
の変位と同方向の力が加わることがわかる。
高温ディスプレーサ3Hは、ディスプレーサ自身を質点
、ガスばね室13H内のガスばねをばねとするばね質点
系の質点とみなすことができるため、周期的な力を受け
ると、ばね質点系の一般的な特性に基づいて、加えられ
た力に時間的に遅れて追従して変位する。ただし、この
rR1il的な遅れは、変位が力の逆方向となるまでは
遅れない。
、ガスばね室13H内のガスばねをばねとするばね質点
系の質点とみなすことができるため、周期的な力を受け
ると、ばね質点系の一般的な特性に基づいて、加えられ
た力に時間的に遅れて追従して変位する。ただし、この
rR1il的な遅れは、変位が力の逆方向となるまでは
遅れない。
よって、高温ディスプレーサ3Hは低温ディスプレーサ
3Lの変位と同方向の力を受け、その結果高温ディスプ
レーサ3Hの変位は低温ディスプレーサ3Lの変位に時
間的に遅れつつ追従することになる。
3Lの変位と同方向の力を受け、その結果高温ディスプ
レーサ3Hの変位は低温ディスプレーサ3Lの変位に時
間的に遅れつつ追従することになる。
つぎに、高温ディスプレーサ3Hの動きが低温ディスプ
レーサ3Lに及ぼす影響について述べる。
レーサ3Lに及ぼす影響について述べる。
高温ディスプレーサ3Hが周期的に往復運動をしている
とする。いま、高温ディスプレーサ3Hが上方向へ移動
すると、高温室4Hの作動ガスの一部は高温ディスプレ
ーサに押しのけられて、高温熱交換器7H,高温リジェ
ネレータ8H,高温側中温熱交換器9日を通り、高温リ
ジェネレータ8Hに熱を与えて中Illll色度って中
温室4Mへ流入する。この過程で高温の作動ガスの一部
が中量温度に冷却されることになるため、作動ガスの圧
力は下り、各室4H,4M、4Lの作動ガスは流路5H
,5Lによって互いに連通しているためこの圧力の低下
は全作動ガスに及ぶ。
とする。いま、高温ディスプレーサ3Hが上方向へ移動
すると、高温室4Hの作動ガスの一部は高温ディスプレ
ーサに押しのけられて、高温熱交換器7H,高温リジェ
ネレータ8H,高温側中温熱交換器9日を通り、高温リ
ジェネレータ8Hに熱を与えて中Illll色度って中
温室4Mへ流入する。この過程で高温の作動ガスの一部
が中量温度に冷却されることになるため、作動ガスの圧
力は下り、各室4H,4M、4Lの作動ガスは流路5H
,5Lによって互いに連通しているためこの圧力の低下
は全作動ガスに及ぶ。
作動ガス圧力が低下すると、低温ディスプレーサ3Lに
は圧力の低下分にロッド11[の断面積を乗じた力が下
方向へ加わる。
は圧力の低下分にロッド11[の断面積を乗じた力が下
方向へ加わる。
逆に、高温ディスプレーサ3Hが下方向へ移動すると、
中温室4Mの作動ガスの一部は高温ディスプレーサに押
しのけられて、高温側中温熱交換器9H,高温リジェネ
レータ8 H、高温熱交換器7日を通り交換リジェネレ
ータ8日から熱を受けとって高温となって高温室4Hへ
流入する。この過程で、中間温度の作動ガスが一部加熱
されることになるため、全作動ガスの圧力は上る。
中温室4Mの作動ガスの一部は高温ディスプレーサに押
しのけられて、高温側中温熱交換器9H,高温リジェネ
レータ8 H、高温熱交換器7日を通り交換リジェネレ
ータ8日から熱を受けとって高温となって高温室4Hへ
流入する。この過程で、中間温度の作動ガスが一部加熱
されることになるため、全作動ガスの圧力は上る。
作動ガス圧力が上昇すると、低温ディスプレーサ3Lに
は圧力の上昇分にロッド11Lの断面積を乗じた力が上
方向に加わる。
は圧力の上昇分にロッド11Lの断面積を乗じた力が上
方向に加わる。
以上より、高温ディスプレーサ3Hが周期運動をすると
、低温ディスプレーサ3Lには高温ディスプレーサの変
位と逆向きの力が加わることがわかる。
、低温ディスプレーサ3Lには高温ディスプレーサの変
位と逆向きの力が加わることがわかる。
低温ディスプレーサ3Lも高温ディスプレーサ3Hと同
じくばね質点系の質点とみな仕るため、受けた力が、時
間的に遅れて変位が追従するが、その遅れは、受けた力
に対して変位が逆方向になるほどではない。このことは
次のように言いかえられる。すなわち、ばね質点系の質
1点が周期的な力を受けると、受けた力と逆向きの波形
に対しては先行して変位する。この関係を第2図に示す
。
じくばね質点系の質点とみな仕るため、受けた力が、時
間的に遅れて変位が追従するが、その遅れは、受けた力
に対して変位が逆方向になるほどではない。このことは
次のように言いかえられる。すなわち、ばね質点系の質
1点が周期的な力を受けると、受けた力と逆向きの波形
に対しては先行して変位する。この関係を第2図に示す
。
同図において、力Fによる変位りは力Fに対してBだけ
遅れるが、力Fと逆向きの波形Rに対してはCだけ先行
する。
遅れるが、力Fと逆向きの波形Rに対してはCだけ先行
する。
一方、高温ディスプレーサ3Hの動きに対して低温ディ
スプレーサ3Lが受ける力は、高温ディスプレーサ3H
の変位と逆方向であるため、低温ディスプレーサ3Lの
変位は、高温ディスプレーサ3Hの変位と逆方向の力と
は逆向きの波形に先行する。すなわち、低温ディスプレ
ーサ3Lは高温ディスプレーサ3Hの変位に先行した波
形で変位する。
スプレーサ3Lが受ける力は、高温ディスプレーサ3H
の変位と逆方向であるため、低温ディスプレーサ3Lの
変位は、高温ディスプレーサ3Hの変位と逆方向の力と
は逆向きの波形に先行する。すなわち、低温ディスプレ
ーサ3Lは高温ディスプレーサ3Hの変位に先行した波
形で変位する。
以上より、
a) 低温ディスプレーサ3Lが周期運動をすると、高
温ディスプレーサ3Hは低温ディスプレーサ3Lの変位
に遅れて追従する波形で変位し、 b) 高温ディスプレーサ3Hが周期運動をすると、低
温ディスプレーサ3Lは高温ディスプレーサ3の変位に
先行する波形で変位する、ことが明らかである。
温ディスプレーサ3Hは低温ディスプレーサ3Lの変位
に遅れて追従する波形で変位し、 b) 高温ディスプレーサ3Hが周期運動をすると、低
温ディスプレーサ3Lは高温ディスプレーサ3の変位に
先行する波形で変位する、ことが明らかである。
よって、低温ディスプレーサ3Lが周期運動をした場合
も、高温ディスプレーサ3Hが周期運動をした場合も、
いずれもその結果引き起される両ディスプレーサの運動
の相対関係は同じで、必ず低温ディスプレーサ3Lの変
位は高温ディスプレーサ3Hの変位に先行する。
も、高温ディスプレーサ3Hが周期運動をした場合も、
いずれもその結果引き起される両ディスプレーサの運動
の相対関係は同じで、必ず低温ディスプレーサ3Lの変
位は高温ディスプレーサ3Hの変位に先行する。
一方、高温ディスプレーサ3Hも低温ディスプレーサ3
Lもばねでケーシング1内に支持されているため、何ら
かの外力たとえば衝撃力や電磁力などの人為的な力が加
わると、その外力が消滅した後に継続して振動する性質
を持つが、この撮動においては上述のように、低温ディ
スプレーサ3Lの変位は高温ディスプレーサ3Hの変位
に先行する。また、この振動はもし、2個のディスプレ
ーサの運動を促進する力を作動ガスが発生しなければ、
ディスプレーサとシリンダ2H,2Lやロッド11H,
11Lとの摩擦力、前記流路5H。
Lもばねでケーシング1内に支持されているため、何ら
かの外力たとえば衝撃力や電磁力などの人為的な力が加
わると、その外力が消滅した後に継続して振動する性質
を持つが、この撮動においては上述のように、低温ディ
スプレーサ3Lの変位は高温ディスプレーサ3Hの変位
に先行する。また、この振動はもし、2個のディスプレ
ーサの運動を促進する力を作動ガスが発生しなければ、
ディスプレーサとシリンダ2H,2Lやロッド11H,
11Lとの摩擦力、前記流路5H。
5Lの抵抗などにより減衰し、停止することになる。
この熱駆動ヒートポンプでは、高温および低温ディスプ
レーサ3H,3Lに対する作動ガスの作用により、上述
のような外力の消滅後も、両ディスプレーサの振動は減
衰せずに持続する。
レーサ3H,3Lに対する作動ガスの作用により、上述
のような外力の消滅後も、両ディスプレーサの振動は減
衰せずに持続する。
両ディスプレーサ3H,3Lのいずれかに外力を与えて
両者を振動させたとすると、外力を除いた後、両者は第
3図に示すように、低温ディスプレーサ3Lの変位が高
温ディスプレーサ3Hの変位にCだけ先行する形で振動
する。以下、第3図にaないしhで示す状態におけるヒ
ートポンプの作動状態を第4八図ないし第4H図を参照
して説明する。なお、aないしhの状態は第4八図ない
し第4H図の状態にそれぞれ対応する。
両者を振動させたとすると、外力を除いた後、両者は第
3図に示すように、低温ディスプレーサ3Lの変位が高
温ディスプレーサ3Hの変位にCだけ先行する形で振動
する。以下、第3図にaないしhで示す状態におけるヒ
ートポンプの作動状態を第4八図ないし第4H図を参照
して説明する。なお、aないしhの状態は第4八図ない
し第4H図の状態にそれぞれ対応する。
(I)状態aから状態Cに至るまで
(第4八図ないし第4C図)
この間、高温ディスプレーサ3Hは上方から下方への方
向転換をし、動きは緩やかであるため作動ガスの状態に
与える影響は小さく、作動ガスの状態は下方へ向かって
移動する低温ディスプレーサ3Lの動きの影響を受ける
。
向転換をし、動きは緩やかであるため作動ガスの状態に
与える影響は小さく、作動ガスの状態は下方へ向かって
移動する低温ディスプレーサ3Lの動きの影響を受ける
。
第4A図の状態においては、高温室4Hの作動ガスは容
積が最小となりつつあり、低温室4Lの作動ガスは容積
が最大から減少しかけているところ工ある。よって、第
4A図の状態は作動ガスが低温側へ最も偏った状態であ
り、サイクル中で作動ガス圧力が最も低くなった状態で
ある。
積が最小となりつつあり、低温室4Lの作動ガスは容積
が最大から減少しかけているところ工ある。よって、第
4A図の状態は作動ガスが低温側へ最も偏った状態であ
り、サイクル中で作動ガス圧力が最も低くなった状態で
ある。
低温ディスプレーサ3Lが下方へ向って移動する第4B
図の過程で、低温室4Lの低温の作動ガスは低温熱交換
器7L、低温リジェネレータ8L、低温側中温熱交換器
9Lを順に通り、低温熱交換器7Lを介して外部から熱
を奪い、さらに低温リジェネレータ8Lからも熱を受け
とり、中間温度となって中温室4Mへ流入する。この結
果、低温の作動ガスが一部中間温度にまで加熱されるた
め、作動ガス圧力は上昇する。圧力が上昇する過程で、
第4A図の時点で中温室を占めていた作動ガスもまた圧
力が上昇すなわち、圧縮されることになり、中温室4M
においては断熱圧縮と類似の状態変化が起り、中温室4
Mの温度は上昇する。この温度上昇分に見合った熱量が
引き続く過程で、高温側および低温側の中温熱交換器9
H,,9Lから低温熱源に排出される。
図の過程で、低温室4Lの低温の作動ガスは低温熱交換
器7L、低温リジェネレータ8L、低温側中温熱交換器
9Lを順に通り、低温熱交換器7Lを介して外部から熱
を奪い、さらに低温リジェネレータ8Lからも熱を受け
とり、中間温度となって中温室4Mへ流入する。この結
果、低温の作動ガスが一部中間温度にまで加熱されるた
め、作動ガス圧力は上昇する。圧力が上昇する過程で、
第4A図の時点で中温室を占めていた作動ガスもまた圧
力が上昇すなわち、圧縮されることになり、中温室4M
においては断熱圧縮と類似の状態変化が起り、中温室4
Mの温度は上昇する。この温度上昇分に見合った熱量が
引き続く過程で、高温側および低温側の中温熱交換器9
H,,9Lから低温熱源に排出される。
第4八図ないし第4C図の過程での圧力上昇幅は、上述
から明らかなように、低温室4Lと中温室4Mの温度差
が大なるほど大きく、したがって、この過程での中温室
4Mの温度上昇幅すなわち引続く過程での中温熱交換!
191−1,9Lがらの排出熱量は、低温室4Lと中温
室4Mの温度差が大なるほど大きい。
から明らかなように、低温室4Lと中温室4Mの温度差
が大なるほど大きく、したがって、この過程での中温室
4Mの温度上昇幅すなわち引続く過程での中温熱交換!
191−1,9Lがらの排出熱量は、低温室4Lと中温
室4Mの温度差が大なるほど大きい。
(n)状態Cから状9eに至るまで
(第4C図ないし第4E図)
この間、低温ディスプレーサ3しは下方から上方への方
向転換をし、動きは緩やかであるため、作動ガスの状態
に与える影響は少なく、作動ガスの状態は下方へ向かっ
て移動する高温ディスプレーサ3Hの動きの影響を受け
る。
向転換をし、動きは緩やかであるため、作動ガスの状態
に与える影響は少なく、作動ガスの状態は下方へ向かっ
て移動する高温ディスプレーサ3Hの動きの影響を受け
る。
第4C図の状態においては高温室4日、低温室4Lとも
、容積が最小の状態に近く、中温室4Mの容積は最大の
状態である。よってこの状態は、サイクルの中で作動圧
力が平均値に近い値になっている状態である。
、容積が最小の状態に近く、中温室4Mの容積は最大の
状態である。よってこの状態は、サイクルの中で作動圧
力が平均値に近い値になっている状態である。
高温ディスプレーサ3Hが下方へ向かって移動する第4
D図の過程で、中温室4Mの中間温度の作動ガスは高温
ディスプレーサ3H1,:#L、のけられて高温側中温
熱交換器9H1高温りジェネレータ8日、高温熱交換器
7日を順に通り、前記(I)の過程での中温室4Mの温
度上昇に見合った熱量を高温側中温熱交換器9日へ排出
し、高温りジェネレータ8Hから熱を受けとり高温とな
って高温94)−1へ流入する。この結果、中間温度の
作動ガスが一部高温に熱せられるため、作動ガスの圧力
は前記(I)の過程に引き続いて上昇する。このように
圧力が上昇する過程で、第4C図の状態で中温室4Mと
低温室4Lをそれぞれ占めていた作動ガス圧力も上昇す
ることになり、わずかの作動ガスが中温v4Mから低温
室4Lへも流れ込む。
D図の過程で、中温室4Mの中間温度の作動ガスは高温
ディスプレーサ3H1,:#L、のけられて高温側中温
熱交換器9H1高温りジェネレータ8日、高温熱交換器
7日を順に通り、前記(I)の過程での中温室4Mの温
度上昇に見合った熱量を高温側中温熱交換器9日へ排出
し、高温りジェネレータ8Hから熱を受けとり高温とな
って高温94)−1へ流入する。この結果、中間温度の
作動ガスが一部高温に熱せられるため、作動ガスの圧力
は前記(I)の過程に引き続いて上昇する。このように
圧力が上昇する過程で、第4C図の状態で中温室4Mと
低温室4Lをそれぞれ占めていた作動ガス圧力も上昇す
ることになり、わずかの作動ガスが中温v4Mから低温
室4Lへも流れ込む。
このとき、前記(I)の過程での中温室4Mの温度上昇
に見合った熱量の一部が低温側中温熱交換器9Lからも
排出される。これと同時に、中温室4Mでは圧縮に伴い
断熱圧縮と類似の状態変化が起り、中温室4Mの温度は
上昇する。この温度上昇分に見合った熱量が引き続く過
程で低温側中温熱交換器9Lから低温熱源に排出される
。
に見合った熱量の一部が低温側中温熱交換器9Lからも
排出される。これと同時に、中温室4Mでは圧縮に伴い
断熱圧縮と類似の状態変化が起り、中温室4Mの温度は
上昇する。この温度上昇分に見合った熱量が引き続く過
程で低温側中温熱交換器9Lから低温熱源に排出される
。
第4C図ないし第4E図の過程での圧力上昇幅は上述か
ら明らかなように中温室と高温室の温度差が大なるほど
大きく、したがって、この過程での中温室の温度上昇幅
、すなわち引続く過程での中温熱交換器からの排出熱量
は中温室と高温室の温度差が大なるほど大きい。
ら明らかなように中温室と高温室の温度差が大なるほど
大きく、したがって、この過程での中温室の温度上昇幅
、すなわち引続く過程での中温熱交換器からの排出熱量
は中温室と高温室の温度差が大なるほど大きい。
<III)状態eから状態qに至るまで(第4E図ない
し第4G図) この間、高温ディスプレーサ3Hは下方から上方への方
向転換をし、動きは緩やかであるため作動ガスの状態に
与える影響は小さく、作動ガスの状態は、上方へ向かっ
て移動する低温ディスプレーサ3Lの動きの影響を受け
る。
し第4G図) この間、高温ディスプレーサ3Hは下方から上方への方
向転換をし、動きは緩やかであるため作動ガスの状態に
与える影響は小さく、作動ガスの状態は、上方へ向かっ
て移動する低温ディスプレーサ3Lの動きの影響を受け
る。
第4E図の状態においては、高温室4Hの作動ガスの容
積は最大になりつつあり、低温室4Lの作動ガスの容積
は最小から増大しかけているところである。よって、第
4E図の状態は作動ガスが高温側へ最も偏った状態であ
り、サイクル中で作動ガス圧力が最も高くなった状態で
ある。
積は最大になりつつあり、低温室4Lの作動ガスの容積
は最小から増大しかけているところである。よって、第
4E図の状態は作動ガスが高温側へ最も偏った状態であ
り、サイクル中で作動ガス圧力が最も高くなった状態で
ある。
低温ディスプレーサ3Lが上方へ向かって移動する第4
F図の過程で、中温室4Mの中間温度の作動ガスは、低
温ディスプレーサ3Lに押しのけられて低温側中温熱交
換器9L、低温リジェネレータ8L、低温熱交換器7L
を順に通り、前記(I)の過程での中温室4Mの温度上
昇に見合った熱量を低温側中温熱交換39Lに排出し、
さらに低温リジェネレータ8Lに熱を奪われて低温とな
って低温室4Lへ流入する。この結果、中間温度の作動
ガスが一部低温に冷却されることになるため、作動ガス
圧力は低下する。
F図の過程で、中温室4Mの中間温度の作動ガスは、低
温ディスプレーサ3Lに押しのけられて低温側中温熱交
換器9L、低温リジェネレータ8L、低温熱交換器7L
を順に通り、前記(I)の過程での中温室4Mの温度上
昇に見合った熱量を低温側中温熱交換39Lに排出し、
さらに低温リジェネレータ8Lに熱を奪われて低温とな
って低温室4Lへ流入する。この結果、中間温度の作動
ガスが一部低温に冷却されることになるため、作動ガス
圧力は低下する。
このように作動ガス圧力が低下する過程で、高温室4H
の作動ガスも流路5Hを通り中温室4Mへ流入し圧力が
低下し、全作動ガスの圧力の低下が起ることになる。す
なわち、この過程においては、高温室4日は容積変化が
ほとんどない状態で、作動ガスが引き抜かれることにな
り1、高温室4Hの作動ガスには断熱膨張と類似の状態
変化が起り、高温室4Hの温度は低下する。この高温室
4Hの温度低下に見合った熱量が引き続く過程で高温熱
源から高温熱交換器7日を介して作動ガスに加えられる
。
の作動ガスも流路5Hを通り中温室4Mへ流入し圧力が
低下し、全作動ガスの圧力の低下が起ることになる。す
なわち、この過程においては、高温室4日は容積変化が
ほとんどない状態で、作動ガスが引き抜かれることにな
り1、高温室4Hの作動ガスには断熱膨張と類似の状態
変化が起り、高温室4Hの温度は低下する。この高温室
4Hの温度低下に見合った熱量が引き続く過程で高温熱
源から高温熱交換器7日を介して作動ガスに加えられる
。
第4E図から第4G図の過程での圧力低下の幅は、上述
から明らかなように、低温室4Lと中温室4Mの温度差
が大なるほど大きく、したがってこの過程での高温室4
Hの温度低下幅すなわち引き続く過程での高温熱交換器
7Hからの吸収熱量は、低温室4Lと中温v4Mの温度
差が大なるほど大きい。
から明らかなように、低温室4Lと中温室4Mの温度差
が大なるほど大きく、したがってこの過程での高温室4
Hの温度低下幅すなわち引き続く過程での高温熱交換器
7Hからの吸収熱量は、低温室4Lと中温v4Mの温度
差が大なるほど大きい。
(IV)状!lloから状1hに至るまで(第4G図お
よび第4H図) この間、低温ディスプレーサ3Lは上方から下方への方
向転換をし、動きは緩やかであるため、作動ガスの状態
に与える影響は小さく、作動ガスの状態は上方へ向かっ
て移動する高温ディスプレーサ3Hの動きの影響を受け
る。
よび第4H図) この間、低温ディスプレーサ3Lは上方から下方への方
向転換をし、動きは緩やかであるため、作動ガスの状態
に与える影響は小さく、作動ガスの状態は上方へ向かっ
て移動する高温ディスプレーサ3Hの動きの影響を受け
る。
第4G図の状態においては、低温室4L、高温室4日と
もに容積がほぼ最大の圧力が平均値に近い値になってい
る状態である。
もに容積がほぼ最大の圧力が平均値に近い値になってい
る状態である。
高温ディスプレーサ3Hが上方へ向かって移動する第4
H図の過程で、高温室4Hの高温の作動ガスは高温ディ
スプレーサ3Hに押しのけられて高温熱交換器7H,高
温リジェネレータ8日、高温側中温熱交換i!9Hを順
に通り、前記(T[I)の過程での高温室4Hの温度低
下に見合った熱量を高温熱交換器7日から吸収し、さら
に高温リジェネレータ8Hに熱を与えて中間温度となっ
て中温室4Mへ流入する。この結果、高温の作動ガスが
一部中間温度に冷却されることになるため、作動ガス圧
力は前記(II[)の過程に続き低下する作動ガス圧力
の変化は前述のように全作動ガスについて起るために、
この作動ガス圧力が低下する過程においては低温室4L
の作動ガスも一部が流路5Lを通り中温室4Mへ流れ込
み、低温室4Lの圧力も低下することになる。よって、
この過程では、低温室4Lは容積変化がほとんどない状
態で作動ガスが一部引抜かれることになり、低温室4L
内の作動ガスは断熱膨張と類似の状態変化が起り、低湿
室4Lの温度は低下する。この温度の低下によって、低
温室4Lは低温に保たれることになる。
H図の過程で、高温室4Hの高温の作動ガスは高温ディ
スプレーサ3Hに押しのけられて高温熱交換器7H,高
温リジェネレータ8日、高温側中温熱交換i!9Hを順
に通り、前記(T[I)の過程での高温室4Hの温度低
下に見合った熱量を高温熱交換器7日から吸収し、さら
に高温リジェネレータ8Hに熱を与えて中間温度となっ
て中温室4Mへ流入する。この結果、高温の作動ガスが
一部中間温度に冷却されることになるため、作動ガス圧
力は前記(II[)の過程に続き低下する作動ガス圧力
の変化は前述のように全作動ガスについて起るために、
この作動ガス圧力が低下する過程においては低温室4L
の作動ガスも一部が流路5Lを通り中温室4Mへ流れ込
み、低温室4Lの圧力も低下することになる。よって、
この過程では、低温室4Lは容積変化がほとんどない状
態で作動ガスが一部引抜かれることになり、低温室4L
内の作動ガスは断熱膨張と類似の状態変化が起り、低湿
室4Lの温度は低下する。この温度の低下によって、低
温室4Lは低温に保たれることになる。
また、この低温室4Lの温度低下に見合った熱量を、引
き続く過程で作動ガスは低温熱交換器7Lから吸収する
。
き続く過程で作動ガスは低温熱交換器7Lから吸収する
。
第4G図から第4A図の過程での圧力低下の幅は、上述
から明らかなように高温室4日と中温室4Mの温度差が
大なるほど大きく、したがってこの過程での低温室4L
の温度低下幅すなわち引き続く過程での低温熱交換2!
7Lからの吸収熱量は、高温室4Hと中温室4Mの温度
差が大なるほど大きい。
から明らかなように高温室4日と中温室4Mの温度差が
大なるほど大きく、したがってこの過程での低温室4L
の温度低下幅すなわち引き続く過程での低温熱交換2!
7Lからの吸収熱量は、高温室4Hと中温室4Mの温度
差が大なるほど大きい。
以上が、高温ディスプレーサ3Hと低温ディスプレーサ
3Lとが1サイクル分運動したときの本ヒートポンプの
状態の変化である。
3Lとが1サイクル分運動したときの本ヒートポンプの
状態の変化である。
前記(I)から(EV )までの過程をまとめると次の
ようになる。
ようになる。
(A>ディスプレー1jに対する作動ガスの作用作動ガ
ス圧力は第4A図の状態で最低値、第4C図の状態で中
間的な値、第4E図の状態で最高値、第4G図の状態で
再び中間的値をとりつつ変動する。高温ディスプレー+
j−3Hの変位、低温ディスプレーサ3Lの変位に関連
して作動ガス圧力Pがどのように変動するかを第3図に
示す。
ス圧力は第4A図の状態で最低値、第4C図の状態で中
間的な値、第4E図の状態で最高値、第4G図の状態で
再び中間的値をとりつつ変動する。高温ディスプレー+
j−3Hの変位、低温ディスプレーサ3Lの変位に関連
して作動ガス圧力Pがどのように変動するかを第3図に
示す。
高温ディスプレーサおよび低温ディスプレーサは、ケー
シング端側と中温室側との間の受圧面積の差によって作
動ガスから次のような力を受ける。
シング端側と中温室側との間の受圧面積の差によって作
動ガスから次のような力を受ける。
a) 第3図の状態Cから状態Qまで、作動ガス圧力は
平均的な値より高いために、高温ディスプレーサ3H,
低温ディスプレーサ3L共にケーシング端から中温室4
Mの方向に作動ガスから力を受ける。すなわち、高温デ
ィスプレーサ3Hは下向き、低温ディスプレーサ3Lは
上向きの力をそれぞれ作動ガスから受ける。
平均的な値より高いために、高温ディスプレーサ3H,
低温ディスプレーサ3L共にケーシング端から中温室4
Mの方向に作動ガスから力を受ける。すなわち、高温デ
ィスプレーサ3Hは下向き、低温ディスプレーサ3Lは
上向きの力をそれぞれ作動ガスから受ける。
高温ディスプレーサ3Hは、この間はとんどの門下向き
に移動しつつあり、作動ガスは高温ディスプレーサ3H
の下向きの運動をさらに加速する方向に作用する。また
、低温ディスプレーサ3Lはこの間はとんどの同上向き
に移動、しつつあり、作動ガスは低温ディスプレーサ3
Lの上向きの運動をさらに加速する方向に作用する。
に移動しつつあり、作動ガスは高温ディスプレーサ3H
の下向きの運動をさらに加速する方向に作用する。また
、低温ディスプレーサ3Lはこの間はとんどの同上向き
に移動、しつつあり、作動ガスは低温ディスプレーサ3
Lの上向きの運動をさらに加速する方向に作用する。
b) 第3図の状態Qから状lcまで、作動ガス圧力は
平均的な値より低いために、ディスプレーサには前記a
)の場合と逆向きの力、すなわち高温ディスプレーサ3
Hには上向き、低温ディスプレーサ3Lには下向きの力
が作動ガスから加わる。
平均的な値より低いために、ディスプレーサには前記a
)の場合と逆向きの力、すなわち高温ディスプレーサ3
Hには上向き、低温ディスプレーサ3Lには下向きの力
が作動ガスから加わる。
高温ディスプレーサ3Hはこの間はとんどの同上向きに
移動しつつあり、作動ガスは高温ディスプレーサ3Hの
上向きの運動をさらに加速する方向に作用する。また、
低温ディスプレーサ3Lはこの間はとんどの門下向きに
移動しつつあり、作動ガスは低温ディスプレーサ3Lの
下向きの運動をさらに加速する方向に作用する。
移動しつつあり、作動ガスは高温ディスプレーサ3Hの
上向きの運動をさらに加速する方向に作用する。また、
低温ディスプレーサ3Lはこの間はとんどの門下向きに
移動しつつあり、作動ガスは低温ディスプレーサ3Lの
下向きの運動をさらに加速する方向に作用する。
すなわち、前記a)、b)より高温ディスプレーサ3H
および低温ディスプレーサ3Lの運動は作動ガスからの
力によって促進されることになる。
および低温ディスプレーサ3Lの運動は作動ガスからの
力によって促進されることになる。
第5A図および第5B図に高温ディスプレーサ3Hの変
位と高温ディスプレーサに対する作動ガスの力の線図、
および低温ディスプレーサ3Lの変位と低温ディスプレ
ーサに対する作動ガスの力の絵図を示す。これらの図中
、aないしhは前述の状態aないしhにそれぞれ相当す
る。
位と高温ディスプレーサに対する作動ガスの力の線図、
および低温ディスプレーサ3Lの変位と低温ディスプレ
ーサに対する作動ガスの力の絵図を示す。これらの図中
、aないしhは前述の状態aないしhにそれぞれ相当す
る。
高温ディスプレーサと低温ディスプレーサとは、これら
の絵図で囲まれた面積に相当するエネルギーを作動ガス
から受は取る。
の絵図で囲まれた面積に相当するエネルギーを作動ガス
から受は取る。
よって、高温ディスプレーサ3Hと低温ディスプレーサ
3Lとは、上述の作動ガスからの力と、ロッド11H,
11Lやシリンダ2H,2mとの11!擦、流路51−
1.5Lを作動ガスが流れるときの抵抗などに起因する
減衰力とがつり合った状態で持続振動をする。
3Lとは、上述の作動ガスからの力と、ロッド11H,
11Lやシリンダ2H,2mとの11!擦、流路51−
1.5Lを作動ガスが流れるときの抵抗などに起因する
減衰力とがつり合った状態で持続振動をする。
(8)熱交換器における熱の授受
第3図のaないしh(第4図ないし第4H図)の過程に
おいて各熱交換器での熱の授受は次の通りである。
おいて各熱交換器での熱の授受は次の通りである。
a) aからCの過程では、hからaの過程における
低温室4Lの膨張仕事相当分の熱量を低温熱交換器7L
から吸収する。この熱量は高温室4日と中温室4Mの温
度差に比例する。また、同。
低温室4Lの膨張仕事相当分の熱量を低温熱交換器7L
から吸収する。この熱量は高温室4日と中温室4Mの温
度差に比例する。また、同。
時に中温室4Mの作動ガスは圧力上昇により圧縮仕事を
受ける。
受ける。
b) cからeの過程では、aからCの過程における
中温室4Mに対する圧縮仕事相当分の熱量を主に高温側
中温熱交換器9日から排出する。この熱量は低温室4L
と中温室4Mの温度差に比例する。また、同時に中温室
4Mの作動ガスはaか・らCに引き続いて圧縮仕事を受
ける。
中温室4Mに対する圧縮仕事相当分の熱量を主に高温側
中温熱交換器9日から排出する。この熱量は低温室4L
と中温室4Mの温度差に比例する。また、同時に中温室
4Mの作動ガスはaか・らCに引き続いて圧縮仕事を受
ける。
c) eからQの過程では、Cからeの過程における
中温室4Mに対する圧縮仕事相当分の熱mを低温側中温
熱交換器9Lから排出する。この熱量は高温室4Hと中
温室4Mの一度差に比例する。
中温室4Mに対する圧縮仕事相当分の熱mを低温側中温
熱交換器9Lから排出する。この熱量は高温室4Hと中
温室4Mの一度差に比例する。
また、同時に高温室4日は中温室4Mへ向かって作動ガ
スを排出することによる膨張仕事をする。
スを排出することによる膨張仕事をする。
d) qからaの過程では、eから9の過程における高
温室4Hの膨張仕事相当分の熱量を高温熱交換器7日か
ら吸収する。この熱量は中温室4Mと低温室4Lの温度
差に比例する。また同時に、低温室4Lは中温室4Mへ
向かって作動ガスを排出することによる膨張仕事をする
。この膨張仕事相当分の熱量は上述のように、aからC
の過程で低温熱交換器7Lから吸収される。
温室4Hの膨張仕事相当分の熱量を高温熱交換器7日か
ら吸収する。この熱量は中温室4Mと低温室4Lの温度
差に比例する。また同時に、低温室4Lは中温室4Mへ
向かって作動ガスを排出することによる膨張仕事をする
。この膨張仕事相当分の熱量は上述のように、aからC
の過程で低温熱交換器7Lから吸収される。
以上より概路次のことが成立する。
高温熱交換器7日・・・
中温室4Mと低温室4Lの温度
差に比例する熱mを吸収。
高温側中温熱交換器9日・・・
中温室4Mと低温室4Lの温度
差に比例する熱量を排出。
低温側中温熱交換器9L・・・
高温室4日と中温室4Mのm度
差に比例する熱量を排出。
低温熱交換器7L・・・
高温室4日と中温室4Mの温度
差に比例する熱量を吸収。
よって、本装置がヒートポンプとして作動することは以
上より明らかである。そして、本ヒートポンプは、 (i) 高温室4日と中温室4Mの温度差に比例した熱
量を低温室4Lの温度レベ・ルから中温室4Mの温度レ
ベルにまで汲み上げる。
上より明らかである。そして、本ヒートポンプは、 (i) 高温室4日と中温室4Mの温度差に比例した熱
量を低温室4Lの温度レベ・ルから中温室4Mの温度レ
ベルにまで汲み上げる。
(ii) そのために必要なエネルギーは、中温室4
Mと低温室4Lの温度差すなわち汲み上げの温度揚程に
比例する。
Mと低温室4Lの温度差すなわち汲み上げの温度揚程に
比例する。
(iii) したがって、
(a) 汲上げの出力の温度レベルが高いほど、すな
わち中温室4Mの温度が高いほど投入エネルギーに対す
る汲上げ熱量の比率は低くなる。
わち中温室4Mの温度が高いほど投入エネルギーに対す
る汲上げ熱量の比率は低くなる。
(b) 高温室4Hの温度が高いほど、投入エネルギ
ーに対する汲上げ熱量の比率は高くなる。
ーに対する汲上げ熱量の比率は高くなる。
(C) 汲上げの入力の温度レベルが低いほど、すな
わち低温室4[の温度が低いほど投入エネルギーに対す
る汲上げ熱aの比率は低くなる。
わち低温室4[の温度が低いほど投入エネルギーに対す
る汲上げ熱aの比率は低くなる。
などの性質がある。
第6図は本発明のヒートポンプの他の例を示す。
このヒートポンプにおいては、第1図のヒートポンプに
おいて、連通開口14内に中温リジェネレータ16が挿
入されて、中温室は2つの室4M1゜4M2に分けられ
ている。また、互いに温度の異なる2種の低温熱源が用
いられ、高温側中温熱交換器9日は高温側の低温熱交換
器によって冷却され、低温側中温熱交換器9Lは低温側
の低温熱交換器によって冷却される。したがって中温室
4M1.4M2の温度は異なってくる。
おいて、連通開口14内に中温リジェネレータ16が挿
入されて、中温室は2つの室4M1゜4M2に分けられ
ている。また、互いに温度の異なる2種の低温熱源が用
いられ、高温側中温熱交換器9日は高温側の低温熱交換
器によって冷却され、低温側中温熱交換器9Lは低温側
の低温熱交換器によって冷却される。したがって中温室
4M1.4M2の温度は異なってくる。
作動ガスは中温リジェネレータ16を自由に通過できる
ようになっており、作動ガスの状態の変化は第1図の場
合と同じく全作動ガスが均圧状態をとる。
ようになっており、作動ガスの状態の変化は第1図の場
合と同じく全作動ガスが均圧状態をとる。
中温リジェネレータ16は、高温側中温室4M1の温度
と低温側中温室4M2の温度が異なっているため、温度
の高い側から温度の低い側へ作動ガスが流れるときには
、作動ガスから熱を奪い蓄熱材にその熱を一旦たくわえ
て作動ガスの温度を低温側の温度にまで下げ、逆に温度
の低い側から温度の高い側へ作動ガスが流れるときには
上述の一旦たくわえた熱を作動ガスに与えて作動ガスの
温度を高温側の温度にまで高める。すなわち、中温リジ
ェネレータ16は高温側中温室4M1と低温側中温室4
M2の温度差を保持する働きをする。したがって、高温
側中温v4M1は2つの低温熱源の温度差に応じて低温
側中温室4M2よりも高い温度に保持される。
と低温側中温室4M2の温度が異なっているため、温度
の高い側から温度の低い側へ作動ガスが流れるときには
、作動ガスから熱を奪い蓄熱材にその熱を一旦たくわえ
て作動ガスの温度を低温側の温度にまで下げ、逆に温度
の低い側から温度の高い側へ作動ガスが流れるときには
上述の一旦たくわえた熱を作動ガスに与えて作動ガスの
温度を高温側の温度にまで高める。すなわち、中温リジ
ェネレータ16は高温側中温室4M1と低温側中温室4
M2の温度差を保持する働きをする。したがって、高温
側中温v4M1は2つの低温熱源の温度差に応じて低温
側中温室4M2よりも高い温度に保持される。
第1図に示した装置の作動に関する前記説明は、第6図
に示す装置についても該当し、高温ディスプレーサ3H
の運動と低温ディスプレーサ3Lの運動の相互干渉の仕
組、および高温ディスプレーサ3Hおよび低温ディスプ
レーサ3Lの変位と作動ガス圧力との相対関係は中温室
4Mの温度が一様である場合と全く同じであり、第6図
の装置においても高温ディスプレーサ3Hおよび低温デ
ィスプレーサ3Lは振動を持続する。
に示す装置についても該当し、高温ディスプレーサ3H
の運動と低温ディスプレーサ3Lの運動の相互干渉の仕
組、および高温ディスプレーサ3Hおよび低温ディスプ
レーサ3Lの変位と作動ガス圧力との相対関係は中温室
4Mの温度が一様である場合と全く同じであり、第6図
の装置においても高温ディスプレーサ3Hおよび低温デ
ィスプレーサ3Lは振動を持続する。
一方、熱交換器における熱の授受に関しては概路次のこ
とが言える。
とが言える。
高温熱交換器7日・・・
低温側中温室4M2と低温室
4Lの温度差に比例する熱量を
吸収。
高温側中温熱交換器9H・・・
低温側中温室4M2と低温室
4Lの温度差に比例する熱量を
排出。
低温側中温熱交換器9L・・・
高温側中温室4M1と高温室
4Hの温度差に比例する熱量を
排出。
低温熱交換器7L・・・
高温側中温室4M1と高温室
4Hの温度差に比例する熱量を
吸収。
したがって、第6図に示した装置はヒートポンプとして
は、 (t) Ji6m空4Hとi温側中m’J4M1の温
度差に比例する熱量を低温室4Lの温度レベルから汲み
上げる。
は、 (t) Ji6m空4Hとi温側中m’J4M1の温
度差に比例する熱量を低温室4Lの温度レベルから汲み
上げる。
(11) そのために必要なエネルギーは、低温側中
温室4M2と低温室4Lの温度差に比例する。
温室4M2と低温室4Lの温度差に比例する。
(iii) 汲み上げた熱の出力温度レベルは、高温
側中温室4M1の温度と低温側中温室4M2の温度の2
段階があり、各段における出力熱量は、(a) 低温
側中温室4M2と低温室4Lの温度差が小さいほど高温
側中温室4M1の温度レベルでの出力は小さくなり、 (b) 高温側中温室4M1と高温室4Hの温度差が
小さいほど低温側中温ff4M2のli1度レベルの出
力は小さくなる。
側中温室4M1の温度と低温側中温室4M2の温度の2
段階があり、各段における出力熱量は、(a) 低温
側中温室4M2と低温室4Lの温度差が小さいほど高温
側中温室4M1の温度レベルでの出力は小さくなり、 (b) 高温側中温室4M1と高温室4Hの温度差が
小さいほど低温側中温ff4M2のli1度レベルの出
力は小さくなる。
などの性質があり、第1図の装置と比較して次のことが
言える。
言える。
(1) 第6図の装置において、高温側中温室4M1の
温度を第1図の装置の中温室4Mの温度と等しくし、低
温側中温室4M2の温度をそれよりも低くすることによ
り、第6図の装置においては、第1図の装置よりも少な
い所要エネルギーによって第1図の装置と等しい低温室
の温度レベルから同mの熱量を汲み上げ、第1図の装置
よりも熱量は少ないが温度レベルの等しい熱出力が得ら
れる。 (2) 第6図の装置において、高温側中温
室4M1の温度を第1図の装置の中温室4Mの温度と等
しくし、低温側中温室4M2の温度はそれよりも低くし
、低温室4Lの温度も第1図の装置の低温室4Lの温度
よりも低くすることにより、第1図の装置と同量の所要
エネルギーによって、第1図の装置と同盟の熱量をより
低温から汲み上げることができる。
温度を第1図の装置の中温室4Mの温度と等しくし、低
温側中温室4M2の温度をそれよりも低くすることによ
り、第6図の装置においては、第1図の装置よりも少な
い所要エネルギーによって第1図の装置と等しい低温室
の温度レベルから同mの熱量を汲み上げ、第1図の装置
よりも熱量は少ないが温度レベルの等しい熱出力が得ら
れる。 (2) 第6図の装置において、高温側中温
室4M1の温度を第1図の装置の中温室4Mの温度と等
しくし、低温側中温室4M2の温度はそれよりも低くし
、低温室4Lの温度も第1図の装置の低温室4Lの温度
よりも低くすることにより、第1図の装置と同量の所要
エネルギーによって、第1図の装置と同盟の熱量をより
低温から汲み上げることができる。
以上に述べたように、本発明のヒートポンプは、外部か
ら機械的動力を与えなくても持続振動するので、構造的
に簡単であり、クランク機構等の外部動力機構の保守等
が不要となり、高い性能が期待できる。
ら機械的動力を与えなくても持続振動するので、構造的
に簡単であり、クランク機構等の外部動力機構の保守等
が不要となり、高い性能が期待できる。
第1図は本発明の熱駆動ヒートポンプの原理的軸方向断
面図、第2図はばね質点系の振動の説明図、第3図は本
発明における高温および低温ディスプレーサの変位およ
び作動ガス圧力の変動の関係を示す縮図、第4八図ない
し第4H図は本発明の熱駆動ヒートポンプの作動経過を
順次示す図、第5A図は高温ディスプレーサの変位と作
動ガスがそれに及ぼす力の関係を示すグラフ、第5B図
は低温ディスプレーサの変位と作動ガスがそれに及ぼす
力の関係を示すグラフ、第6図は本発明の熱駆動ヒート
ポンプの他の例を示す原理的軸方向断面図である。 1・・・ケーシング、2日・・・高温シリンダ、2L・
・・低温シリンダ、3日・・・高温ディスプレーサ、3
L・・・低温ディスプレーサ、4日・・・高温室、4L
・・・低温室、4M、4M1.4M2・・・中温室、5
H・・・高温側作動ガス流路、5L・・・低温側作動ガ
ス流路、7日・・・高温熱交換器、7し・・・低温熱交
換器、8H・・・高温リジェネレータ、8L・・・低温
リジエネレータ、9H・・・高温側中温熱交換器、9L
・・・低温側中温熱交換器、10・・・隔壁、11H・
・・高温側ディスプレーサガイド、11L・・・低温側
ディスプレーサガイド、121−1.12L・・・凹穴
、131−1.131・・・ガスばね室、14・・・連
通開口、16・・・中温リジェネレータ。 出願人代理人 猪 股 情 感1園 $2図 弔3目 第4A図 第4B目 第4C目 第4D目 弔4E目 第4F図 懇4G目 も4H図 第5A目 第58園
面図、第2図はばね質点系の振動の説明図、第3図は本
発明における高温および低温ディスプレーサの変位およ
び作動ガス圧力の変動の関係を示す縮図、第4八図ない
し第4H図は本発明の熱駆動ヒートポンプの作動経過を
順次示す図、第5A図は高温ディスプレーサの変位と作
動ガスがそれに及ぼす力の関係を示すグラフ、第5B図
は低温ディスプレーサの変位と作動ガスがそれに及ぼす
力の関係を示すグラフ、第6図は本発明の熱駆動ヒート
ポンプの他の例を示す原理的軸方向断面図である。 1・・・ケーシング、2日・・・高温シリンダ、2L・
・・低温シリンダ、3日・・・高温ディスプレーサ、3
L・・・低温ディスプレーサ、4日・・・高温室、4L
・・・低温室、4M、4M1.4M2・・・中温室、5
H・・・高温側作動ガス流路、5L・・・低温側作動ガ
ス流路、7日・・・高温熱交換器、7し・・・低温熱交
換器、8H・・・高温リジェネレータ、8L・・・低温
リジエネレータ、9H・・・高温側中温熱交換器、9L
・・・低温側中温熱交換器、10・・・隔壁、11H・
・・高温側ディスプレーサガイド、11L・・・低温側
ディスプレーサガイド、121−1.12L・・・凹穴
、131−1.131・・・ガスばね室、14・・・連
通開口、16・・・中温リジェネレータ。 出願人代理人 猪 股 情 感1園 $2図 弔3目 第4A図 第4B目 第4C目 第4D目 弔4E目 第4F図 懇4G目 も4H図 第5A目 第58園
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、同軸的に配置され、内部に作動ガスを充填した高温
シリンダおよび低温シリンダと、高温シリンダの低温シ
リンダと反対の側に高温室を形成しかつ高温シリンダの
低温シリンダ側に中温室を形成するように、高温シリン
ダの内部に摺動自在に挿入された高温ディスプレーサと
、前記高温室と中温室とを連通させる高温側作動ガス流
路と、高温室から中温室へ向かう方向に関して高温側作
動ガス流路内に順次配列された高温熱交換器、高温リジ
ェネレータおよび高温側中温熱交換器と、低温シリンダ
の高温シリンダと反対の側に低温室を形成しかつ低温シ
リンダの高温シリンダ側に中温室を形成するように、低
温シリンダの内部に摺動自在に挿入された低温ディスプ
レーサと、前記低温室と中温室とを連通させる低温側作
動ガス流路と、低温室から中温室へ向かう方向に関して
低温側作動ガス流路内に順次配列された低温熱交換器、
低温リジェネレータおよび低温側中温熱交換器と、前記
高温シリンダおよび低温シリンダの間に固定状態で設け
られた高温側ディスプレーサガイドおよび低温側ディス
プレーサガイドとを備え、高温側ディスプレーサガイド
および低温側ディスプレーサガイドは、それぞれ高温デ
ィスプレーサおよび低温ディスプレーサと摺動自在にか
ん合して両ディスプレーサを軸方向に案内し、かつ両デ
ィスプレーサとの間にガスを収容したガスばね室を形成
していることを特徴とする熱駆動ヒートポンプ。 2、高温側および低温側ディスプレーサガイドがいずれ
も軸方向に突出するロッドからなり、高温および低温デ
ィスプレーサはそれぞれのロッドを摺動自在に受ける凹
穴を有し、この凹穴内にガスばね室が形成されている特
許請求の範囲第1項記載の熱駆動ヒートポンプ。 3、両ディスプレーサガイドが、両シリンダの間に固設
された隔壁に設けられ、隔壁は連通開口を有し、隔壁の
両側に中温室が形成されている特許請求の範囲第1項ま
たは第2項記載の熱駆動ヒートポンプ。 4、高温側作動ガス流路および低温側作動ガス流路がそ
れぞれ高温シリンダおよび低温シリンダの外周に形成さ
れている特許請求の範囲第1項または第2項記載の熱駆
動ヒートポンプ。 5、同軸的に配置され、内部に作動ガスを充填した高温
シリンダおよび低温シリンダと、高温シリンダの低温シ
リンダと反対の側に高温室を形成しかつ高温シリンダの
低温シリンダ側に中温室を形成するように、高温シリン
ダの内部に摺動自在に挿入された高温ディスプレーサと
、前記高温室と中温室とを連通させる高温側作動ガス流
路と、高温室から中温室へ向かう方向に関して高温側作
動ガス流路内に順次配列された高温熱交換器、高温リジ
ェネレータおよび高温側中温熱交換器と、低温シリンダ
の高温シリンダと反対の側に低温室を形成しかつ低温シ
リンダの高温シリンダ側に中温室を形成するように、低
温シリンダの内部に摺動自在に挿入された低温ディスプ
レーサと、前記低温室と中温室とを連通させる低温側作
動ガス流路と、低温室から中温室へ向かう方向に関して
低温側作動ガス流路内に順次配列された低温熱交換器、
低温リジェネレータおよび低温側中温熱交換器と、前記
高温シリンダおよび低温シリンダの間に固定状態で設け
られた高温側ディスプレーサガイドおよび低温側ディス
プレーサガイドとを備え、高温側ディスプレーサガイド
および低温側ディスプレーサガイドは、それぞれ高温デ
ィスプレーサおよび低温ディスプレーサと摺動自在にか
ん合して両ディスプレーサを軸方向に案内し、かつ両デ
ィスプレーサとの間にガスを収容したガスばね室を形成
しており、両ディスプレーサガイドは両シリンダ間に固
設された隔壁に設けられ、隔壁は連通開口を有し、この
連通開口内に中温リジェネレータが設けられ、隔壁の両
側に中温室が形成されていることを特徴とする熱駆動ヒ
ートポンプ。 6、高温側および低温側ディスプレーサガイドがいずれ
も軸方向に突出するロッドからなり、高温および低温デ
ィスプレーサはそれぞれのロッドを摺動自在に受ける凹
穴を有し、この凹穴内にガスばね室が形成されている特
許請求の範囲第5項記載の熱駆動ヒートポンプ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10628085A JPS61265455A (ja) | 1985-05-18 | 1985-05-18 | 熱駆動ヒ−トポンプ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10628085A JPS61265455A (ja) | 1985-05-18 | 1985-05-18 | 熱駆動ヒ−トポンプ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61265455A true JPS61265455A (ja) | 1986-11-25 |
| JPH05626B2 JPH05626B2 (ja) | 1993-01-06 |
Family
ID=14429661
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10628085A Granted JPS61265455A (ja) | 1985-05-18 | 1985-05-18 | 熱駆動ヒ−トポンプ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61265455A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01501674A (ja) * | 1986-12-22 | 1989-06-08 | サンドストランド・コーポレーション | 発電機の固定子保持システム |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6014064A (ja) * | 1983-07-05 | 1985-01-24 | 川崎重工業株式会社 | 冷暖房装置 |
-
1985
- 1985-05-18 JP JP10628085A patent/JPS61265455A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6014064A (ja) * | 1983-07-05 | 1985-01-24 | 川崎重工業株式会社 | 冷暖房装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01501674A (ja) * | 1986-12-22 | 1989-06-08 | サンドストランド・コーポレーション | 発電機の固定子保持システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05626B2 (ja) | 1993-01-06 |
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