JPS61271382A - フオトクロミツク光学材料 - Google Patents
フオトクロミツク光学材料Info
- Publication number
- JPS61271382A JPS61271382A JP60113779A JP11377985A JPS61271382A JP S61271382 A JPS61271382 A JP S61271382A JP 60113779 A JP60113779 A JP 60113779A JP 11377985 A JP11377985 A JP 11377985A JP S61271382 A JPS61271382 A JP S61271382A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- photochromic
- inorganic
- substance
- optical material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 29
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 7
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 abstract description 7
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 abstract description 7
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 abstract description 3
- 229910004829 CaWO4 Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229920003217 poly(methylsilsesquioxane) Polymers 0.000 abstract description 2
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 abstract 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 abstract 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 37
- -1 silver halide Chemical class 0.000 description 13
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 12
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 7
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 3
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000000374 eutectic mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- JHQVCQDWGSXTFE-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoxycarbonyloxyethoxy)ethyl prop-2-enyl carbonate Chemical compound C=CCOC(=O)OCCOCCOC(=O)OCC=C JHQVCQDWGSXTFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- 229910003781 PbTiO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/257—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers
- G11B2007/25705—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers consisting essentially of inorganic materials
- G11B2007/25708—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers consisting essentially of inorganic materials containing group 13 elements (B, Al, Ga)
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/257—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers
- G11B2007/25705—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers consisting essentially of inorganic materials
- G11B2007/2571—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers consisting essentially of inorganic materials containing group 14 elements except carbon (Si, Ge, Sn, Pb)
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/257—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers
- G11B2007/25705—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers consisting essentially of inorganic materials
- G11B2007/25715—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers consisting essentially of inorganic materials containing oxygen
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/243—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising inorganic materials only, e.g. ablative layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
Landscapes
- Eyeglasses (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、無機物質または有機物質、あるいはそれら両
方からなるフォトクロミック薄膜を有するフォトクロミ
ック光学材料の製法に関する。
方からなるフォトクロミック薄膜を有するフォトクロミ
ック光学材料の製法に関する。
本発明は、フォトクロミック薄膜を有するフォトクロミ
ック光学材料において、フォトクロミック物質からなる
層を任意のパターン形状を持つ層とし、回りを無機物質
あるいは有機物質からなる層でとり囲み、強度的に７オ
トクロミツク層を補強した。さらに最上層には無機物質
あるいは有機物質からなるハードコート層および／また
は反射防止層を設け、耐久性、耐擦傷性の向上、透過率
の向上をはかったものである。
ック光学材料において、フォトクロミック物質からなる
層を任意のパターン形状を持つ層とし、回りを無機物質
あるいは有機物質からなる層でとり囲み、強度的に７オ
トクロミツク層を補強した。さらに最上層には無機物質
あるいは有機物質からなるハードコート層および／また
は反射防止層を設け、耐久性、耐擦傷性の向上、透過率
の向上をはかったものである。
現在、光学材料として、無機ガラス製と合成樹脂製の物
質が広く用いられている。フォトクロミック機能を付与
した光学材料で特に有用で消費者の要望が強いのは眼鏡
レンズ材料である。たとえば無機ガラス材料でハロゲン
化銀を用いたフォトクロミックレンズなどはすでに市販
されている。
質が広く用いられている。フォトクロミック機能を付与
した光学材料で特に有用で消費者の要望が強いのは眼鏡
レンズ材料である。たとえば無機ガラス材料でハロゲン
化銀を用いたフォトクロミックレンズなどはすでに市販
されている。
従来、無機ガラス材料にフォトクロミック機能を付与さ
せる場合、材料にハロゲン化銀を混入する方法が用いら
れている。
せる場合、材料にハロゲン化銀を混入する方法が用いら
れている。
一方、合成樹脂製材料の場合、材料にハロゲン化銀を混
入する方法が用いると、ハロゲン化銀は樹脂に溶けにく
く粒子状になるため透明感がなく、また、前記の混入の
場合、重合開始剤として一般的に用いられるパーオキシ
ドによりハロゲン化銀の７オトクロミツク機能が失活す
る。そこでこれまで、ハロゲン化銀主体の７オトクロミ
ツク機能を合成樹脂に付与させる技術がいくつか提案さ
れている。例えば、特公昭４５−１２７１６ではフォト
トロピーガラスを合成樹脂やコーティング組成物に混入
する方法がとられている。特公昭５４−５５２５８の真
空蒸着では、ハロゲン化銀と二酸化スズとで薄膜を作成
している。特開昭５１−４５５４１では、ハロゲン化銀
粒子を無機物質で被覆している。特開昭５２−１５２８
８７では、銀イオンとハロゲンイオン含有の溶液の交互
浸漬法をあげている。さらに特公昭５４−３４７７０に
は Ａｇ−Ｃｕ−Ｘ（ＸはＯｔ、Ｂｒ ） 共融混合
物を用いた７オトトロ一プ薄層についての技術が開示さ
れている。
入する方法が用いると、ハロゲン化銀は樹脂に溶けにく
く粒子状になるため透明感がなく、また、前記の混入の
場合、重合開始剤として一般的に用いられるパーオキシ
ドによりハロゲン化銀の７オトクロミツク機能が失活す
る。そこでこれまで、ハロゲン化銀主体の７オトクロミ
ツク機能を合成樹脂に付与させる技術がいくつか提案さ
れている。例えば、特公昭４５−１２７１６ではフォト
トロピーガラスを合成樹脂やコーティング組成物に混入
する方法がとられている。特公昭５４−５５２５８の真
空蒸着では、ハロゲン化銀と二酸化スズとで薄膜を作成
している。特開昭５１−４５５４１では、ハロゲン化銀
粒子を無機物質で被覆している。特開昭５２−１５２８
８７では、銀イオンとハロゲンイオン含有の溶液の交互
浸漬法をあげている。さらに特公昭５４−３４７７０に
は Ａｇ−Ｃｕ−Ｘ（ＸはＯｔ、Ｂｒ ） 共融混合
物を用いた７オトトロ一プ薄層についての技術が開示さ
れている。
〔発明が解決しようとする問題点及び目的〕無機ガラス
材料において、材料にハロゲン化銀を規入するという方
法の場合、光学材料の厚みの違いによって着色時に濃淡
が生じ、レンズ材料として用いると外観上好ましくない
という欠点を生じる。さらにハロゲン化銀ｅ Ａｇ
Ｃ！ ｕ ｘ （ｘはＯＬ 、 Ｂ ｒ ）共融混合
物１等を用いてフォトクロミック薄膜を形成した場合、
上記の様な問題点はなくなるものの、フォトクロミック
の薄膜の強度が無い、あるいは光学材料との密着性が劣
るなどし、薄膜として十分な耐久性が得られなかったそ
こで、本発明は従来のこのような問題点を解決するため
、光学材料において、無機ガラス材料、合成樹脂材料に
かかわらず、均一な着色を示し、耐久性、基材材料との
密着性に優れたフォトクロミック光学材料を提供するこ
とを目的としている。
材料において、材料にハロゲン化銀を規入するという方
法の場合、光学材料の厚みの違いによって着色時に濃淡
が生じ、レンズ材料として用いると外観上好ましくない
という欠点を生じる。さらにハロゲン化銀ｅ Ａｇ
Ｃ！ ｕ ｘ （ｘはＯＬ 、 Ｂ ｒ ）共融混合
物１等を用いてフォトクロミック薄膜を形成した場合、
上記の様な問題点はなくなるものの、フォトクロミック
の薄膜の強度が無い、あるいは光学材料との密着性が劣
るなどし、薄膜として十分な耐久性が得られなかったそ
こで、本発明は従来のこのような問題点を解決するため
、光学材料において、無機ガラス材料、合成樹脂材料に
かかわらず、均一な着色を示し、耐久性、基材材料との
密着性に優れたフォトクロミック光学材料を提供するこ
とを目的としている。
本発明の７オトクロミツク元学材料は、光学材料表面に
、無機あるいは有機物質からなる層と、任意ツバターン
形状を持つフォトクロミック物質からなる層を少なくと
も一層設け、多層膜を形成し、さらに最上層として無機
あるいは有機物質かラナルハードコート層および／また
は反射防止層を設けたことを特徴とする。
、無機あるいは有機物質からなる層と、任意ツバターン
形状を持つフォトクロミック物質からなる層を少なくと
も一層設け、多層膜を形成し、さらに最上層として無機
あるいは有機物質かラナルハードコート層および／また
は反射防止層を設けたことを特徴とする。
本発明で用いるフォトクロミック物質’ｆ、Ａｇ−０ｕ
−Ｂｒ等、ハロゲン化銀を用いた物質、あるいはＢａＴ
ｉＯ３、ＣａＴｉ０．、ＰｂＴｉＯ３にドーピング物質
として １１Ｆｅ、Ｚｎ、Ｖ、Ｓｂ、Ｍｏ。
−Ｂｒ等、ハロゲン化銀を用いた物質、あるいはＢａＴ
ｉＯ３、ＣａＴｉ０．、ＰｂＴｉＯ３にドーピング物質
として １１Ｆｅ、Ｚｎ、Ｖ、Ｓｂ、Ｍｏ。
Ｎｉ 、Ｗ、 Ｃｏを含有する金属酸化物から選ばれる
少なくとも１種以上を含有する物質、０ａＷＯ。
少なくとも１種以上を含有する物質、０ａＷＯ。
にＢ１をドーピングした物質等、無機の７オトクロミツ
ク物質全般を用いることができる。
ク物質全般を用いることができる。
光学材料表面上に上記の物質を用いて任意のパターン形
状を持つ層を形成してもよいが、予め光学材料上に光学
材料と密着性の良好な光硬化性樹脂、あるいは、熱硬化
性樹脂で薄層を形成するか、Ｓ：ＬＯ，、ＡＡ、Ｏ，、
ＺｒＯ，等の無機物質で薄層を形成すると密着性の向上
に役立つ。
状を持つ層を形成してもよいが、予め光学材料上に光学
材料と密着性の良好な光硬化性樹脂、あるいは、熱硬化
性樹脂で薄層を形成するか、Ｓ：ＬＯ，、ＡＡ、Ｏ，、
ＺｒＯ，等の無機物質で薄層を形成すると密着性の向上
に役立つ。
任意のパターン形状を有する薄層は、適当なマスクを光
学材料表面に施し、フォトクロミック物質を真空蒸着法
、スパッタリング法、あるいはイオンブレーティング法
などを用いて、光学材料表面に付着させることにより形
成される。パターン形状は、図１に示す様に、フォトク
ロミック物質１１からなる最小単位のブロックを規則正
しく光学材料全面に並べたパターンを形成してもよいし
、任意の文字、絵柄等を形成することもできる。
学材料表面に施し、フォトクロミック物質を真空蒸着法
、スパッタリング法、あるいはイオンブレーティング法
などを用いて、光学材料表面に付着させることにより形
成される。パターン形状は、図１に示す様に、フォトク
ロミック物質１１からなる最小単位のブロックを規則正
しく光学材料全面に並べたパターンを形成してもよいし
、任意の文字、絵柄等を形成することもできる。
パターン形成に用いる最小単位のブロックの大きさ、形
状、さらに、ブロック間の間隔は、＠層性、強度との兼
合いで最適なものを選ぶのが望ましい。
状、さらに、ブロック間の間隔は、＠層性、強度との兼
合いで最適なものを選ぶのが望ましい。
本発明では、任意のパターン形状を持つ薄層上に、有機
物質である光硬化性樹脂あるいは熱硬化性樹脂、または
Ｓｉｎ、、Ａｕｔｏ、、ＺｒＯ２、Ｔａ２０１等の無機
物質で薄層を形成している。
物質である光硬化性樹脂あるいは熱硬化性樹脂、または
Ｓｉｎ、、Ａｕｔｏ、、ＺｒＯ２、Ｔａ２０１等の無機
物質で薄層を形成している。
以上の様な膜構成をくり返すことにより、パターンを変
化させ、色々なパターンを重ね合わせることはもちろん
可能である。これは、光照射により色調の異なる着色を
示すフォトクロミック物質を用い、異なりたパターンを
重ね合わせたりする際に有用である。
化させ、色々なパターンを重ね合わせることはもちろん
可能である。これは、光照射により色調の異なる着色を
示すフォトクロミック物質を用い、異なりたパターンを
重ね合わせたりする際に有用である。
さらに、本発明では最上層に、有機物質として光硬化性
樹脂、あるいは熱硬化性樹脂、無機物質として、５ｉ０
２ 、Ａｔ、０３ 、ＺｒＯ，。
樹脂、あるいは熱硬化性樹脂、無機物質として、５ｉ０
２ 、Ａｔ、０３ 、ＺｒＯ，。
Ｙｂｔ”３ 、Ｔａ２Ｏ，等のうち少なくとも１つヲ
用イて、八−ドコート層、あるいは反射防止層、または
両方を設けている。反射防止層は単層。
用イて、八−ドコート層、あるいは反射防止層、または
両方を設けている。反射防止層は単層。
多層、いづれを用いてもよい。
無機物質で薄層を形成する場合、真空蒸着法。
スパッタリング法、あるいはイオンブレーティング法等
を用いることができる。有機物質で薄層を形成する場合
は、ディッピング法、スピンコード法等を用いることが
できる。又、薄層の形成は光学材料の片面１両面どちら
でも行なうことが可能である。
を用いることができる。有機物質で薄層を形成する場合
は、ディッピング法、スピンコード法等を用いることが
できる。又、薄層の形成は光学材料の片面１両面どちら
でも行なうことが可能である。
光学材料基板と薄膜との密着性を向上させるために、基
材表面をアルカリや酸で化学処理したり、プラズマ処理
することは有効である。
材表面をアルカリや酸で化学処理したり、プラズマ処理
することは有効である。
尚、本発明に使用しうる光学材料は、合成樹脂製、無機
ガラス製、いづれでも可能である。
ガラス製、いづれでも可能である。
本発明の上記の構成によれば、強度的に弱いフォトクロ
ミック物質からなる最小単位のブロック間を強度的にす
ぐれた有機物質、無機物質で埋めることにより膜強度の
向上に役立つ。さらにフォトクロミック物質のみで形成
した薄膜の場合、薄膜内部で破壊が起こり、薄膜の密着
性の低下につながりでいたが、上記構成によれば密着性
も向上する。よって、本発明の構成によれば、膜強度、
密着性が飛躍的に向上したフォトクロミック膜を得るこ
とができる。
ミック物質からなる最小単位のブロック間を強度的にす
ぐれた有機物質、無機物質で埋めることにより膜強度の
向上に役立つ。さらにフォトクロミック物質のみで形成
した薄膜の場合、薄膜内部で破壊が起こり、薄膜の密着
性の低下につながりでいたが、上記構成によれば密着性
も向上する。よって、本発明の構成によれば、膜強度、
密着性が飛躍的に向上したフォトクロミック膜を得るこ
とができる。
以下、実施例に基づいて、本発明の詳細な説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明はこれらに限定されるものではない。
〔実施例１〕
以下に本発明の実施例１を図面に基づいて説明する。有
機層２２．２４に使用する塗液は次の様にしてｗ：４整
された。
機層２２．２４に使用する塗液は次の様にしてｗ：４整
された。
ビニルトリメトキシシラン５１重量部、イソプロピルア
ルコール分散コロイダルシリカ（触媒化成工業（株）製
”Ｏ３（：！ＡＩＪ−１ｇ５２″固形分濃度３０％）８
６重量部、メチルセロソルブ９０重量部からなる溶液に
、０．０５Ｎ塩酸を除々に滴下し、室温で１時間かく拌
を行なった。この溶液にフローコントロール剤（日本ユ
ニカー（ｎ）Ｍ”Ｉ、−７６０４”）を０．０６重量部
加え、かく拌し塗液とした。
ルコール分散コロイダルシリカ（触媒化成工業（株）製
”Ｏ３（：！ＡＩＪ−１ｇ５２″固形分濃度３０％）８
６重量部、メチルセロソルブ９０重量部からなる溶液に
、０．０５Ｎ塩酸を除々に滴下し、室温で１時間かく拌
を行なった。この溶液にフローコントロール剤（日本ユ
ニカー（ｎ）Ｍ”Ｉ、−７６０４”）を０．０６重量部
加え、かく拌し塗液とした。
まづ、ジエチレングリコールビス（アリルカーボネート
製光学材料２１に４％ＮａＯＨ溶液で５分間アルカリ処
理を施し、イソプロピルアルコールで洗浄した。その後
、上記の様にして得られた有機塗液をＤｉｐｐｉｎｇ法
により引き上げ速度１０（ｙＨ／ ｌＫｍで光学材料に
塗布した。塗布後７０℃の熱風乾燥器で５０分、更に１
００℃で１時間３０分加熱硬化させた。得られた被膜の
厚さは１．５μｍであった。硬化後、（２００＃）メツ
シュ状マスクを光学材料表面に施し、電子ビーム蒸発源
を持つ、真空蒸着機にセットした。電子ビーム蒸発源に
はフォトクロミック物質として、０ａＷＯ４にＢ１を［
１２％ドーピングした物質が予めセットされている。次
に、光学材料をハロゲンランプで加熱し、材料温度が６
０℃、真空度が１０″″’ Ｔｏｒｒになったところで
電子銃を用い、Ｂ１をドープされたＣａＷＯ４を溶解し
、真空蒸着を行なった。膜厚のコントロールは、蒸発源
上に位置したシャッターの開閉により行ない、フォトク
ロミック物質からなるブロック２３の厚みをａ、５μと
した。材料冷却後、材料を真空蒸着機よりとりだし、マ
スクを除去し、再び前記に示した方法と同様に塗液を塗
布し、硬化させ有機層２４を形成した。
製光学材料２１に４％ＮａＯＨ溶液で５分間アルカリ処
理を施し、イソプロピルアルコールで洗浄した。その後
、上記の様にして得られた有機塗液をＤｉｐｐｉｎｇ法
により引き上げ速度１０（ｙＨ／ ｌＫｍで光学材料に
塗布した。塗布後７０℃の熱風乾燥器で５０分、更に１
００℃で１時間３０分加熱硬化させた。得られた被膜の
厚さは１．５μｍであった。硬化後、（２００＃）メツ
シュ状マスクを光学材料表面に施し、電子ビーム蒸発源
を持つ、真空蒸着機にセットした。電子ビーム蒸発源に
はフォトクロミック物質として、０ａＷＯ４にＢ１を［
１２％ドーピングした物質が予めセットされている。次
に、光学材料をハロゲンランプで加熱し、材料温度が６
０℃、真空度が１０″″’ Ｔｏｒｒになったところで
電子銃を用い、Ｂ１をドープされたＣａＷＯ４を溶解し
、真空蒸着を行なった。膜厚のコントロールは、蒸発源
上に位置したシャッターの開閉により行ない、フォトク
ロミック物質からなるブロック２３の厚みをａ、５μと
した。材料冷却後、材料を真空蒸着機よりとりだし、マ
スクを除去し、再び前記に示した方法と同様に塗液を塗
布し、硬化させ有機層２４を形成した。
さらに、反射防止層として真空蒸着により、Ｙｂ、Ｏ，
層２５を光学的膜厚％ｄ＝し４ 。
層２５を光学的膜厚％ｄ＝し４ 。
”ｇｏｓＪ台２６全２６＝λ／２．ＳｉＯ，Ｊ’１２７
を外ｄ＝λ／４．順次コーティングした。
を外ｄ＝λ／４．順次コーティングした。
得られたレンズの特性を調べ、表１に示した。
尚、それぞれの特性についての評価は次の方法に従って
行なった。
行なった。
（イ）減光率ニアオドクロミックレンズ調光テスター：
ａｘ−２３５（ハセガワビコー社製）を用いて行い、−
回の照射テストでの平均減光率（４００〜７５０％ｍの
平均）を示した。
ａｘ−２３５（ハセガワビコー社製）を用いて行い、−
回の照射テストでの平均減光率（４００〜７５０％ｍの
平均）を示した。
（ロ） 消色速度；前記フォトクロミックレンズ調光テ
スターで一回照射後、２０℃でレンズを暗所に放置し、
減光率が試験前の減光率に回復する亥での時間を測定し
た。
スターで一回照射後、２０℃でレンズを暗所に放置し、
減光率が試験前の減光率に回復する亥での時間を測定し
た。
（ハ）耐久性（減光率）：キセノンランプによるフェー
ドメーターに２００時間暴露したのち、０）の減光率試
験を行い、平均減光率を示した。
ドメーターに２００時間暴露したのち、０）の減光率試
験を行い、平均減光率を示した。
に）耐久性（消色速度）：キセノンランプによるフェー
ドメーターに２００時間暴露した後（ロ）の消色速度試
験を行い時間を表示した。
ドメーターに２００時間暴露した後（ロ）の消色速度試
験を行い時間を表示した。
（ホ）耐久性（着色度）：キセノンランプによる７エー
ドメーターに２００時間暴露した後、２０℃の暗室に２
４時間放置し、測定した平均透過率（４００〜７５０％
ｍ）の値を、フェードメーターに暴露する前に２０℃の
暗室に２４時間放置した時の平均透過率より減じた値を
示した。
ドメーターに２００時間暴露した後、２０℃の暗室に２
４時間放置し、測定した平均透過率（４００〜７５０％
ｍ）の値を、フェードメーターに暴露する前に２０℃の
暗室に２４時間放置した時の平均透過率より減じた値を
示した。
（へ）密着性：密着性は、Ｊ工５Ｄ−０２０２にじクロ
スカットテープ試験によって行なった。
スカットテープ試験によって行なった。
即ち、ナイフを用いてレンズ表面に１間間隔に切れ目を
入れ、１−のマス目を１００個形成させる。次にその上
へセロファン粘着テープ（日東化学（株）製“セロテー
プ１）を強くおしつけた後、表面から９０°方向へ急に
引りばり剥離したのち、コート被膜の残っているマス目
をもって密着性指標とした。
入れ、１−のマス目を１００個形成させる。次にその上
へセロファン粘着テープ（日東化学（株）製“セロテー
プ１）を強くおしつけた後、表面から９０°方向へ急に
引りばり剥離したのち、コート被膜の残っているマス目
をもって密着性指標とした。
（ト）耐摩耗性：＃００００スチールウールで１９の荷
重をかけ、１０往復表面を摩擦し傷のついた程度をガラ
スを１、ポリメチルメタクリレート板を１０とし、１０
段階に分け、目視により評価した。
重をかけ、１０往復表面を摩擦し傷のついた程度をガラ
スを１、ポリメチルメタクリレート板を１０とし、１０
段階に分け、目視により評価した。
〔実施例２〕
イソプロピルアルコールで洗浄したジエチレングリコー
ルビス（アリルカーボネート製光学材料表面に、（１０
０＃）メツシュ状マスクを施し、７ｅを［１０２％、か
つ、ＭｏＱ、０１％をドープした８ｒＴ１０３を電子銃
加熱により［Ｌ５μの厚さに真空蒸着した。次にマスク
を除去し８１０□を１μ真空蒸着し、さらに実施例１と
同様の反射防止膜を設けた。基板温度は６０℃に設定し
、蒸着中の真空度は１０””Ｔｏｒｒ程度であった。
ルビス（アリルカーボネート製光学材料表面に、（１０
０＃）メツシュ状マスクを施し、７ｅを［１０２％、か
つ、ＭｏＱ、０１％をドープした８ｒＴ１０３を電子銃
加熱により［Ｌ５μの厚さに真空蒸着した。次にマスク
を除去し８１０□を１μ真空蒸着し、さらに実施例１と
同様の反射防止膜を設けた。基板温度は６０℃に設定し
、蒸着中の真空度は１０””Ｔｏｒｒ程度であった。
実施例１において、フォトクロミック物質の蒸着の際に
マスクを施すことなしに膜厚ｕ５μフォトクロミック物
質０ａＷＯ，（Ｂｉ：Ｄｏｐｅｄ ）を蒸着した以外は
すべて実施例１と同様に行なった。
マスクを施すことなしに膜厚ｕ５μフォトクロミック物
質０ａＷＯ，（Ｂｉ：Ｄｏｐｅｄ ）を蒸着した以外は
すべて実施例１と同様に行なった。
表 １
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明によれば、任意のパターン泡状
を持つフォトクロミック層の回りを有機あるいは無機物
質の層で補強したことにより、膜強度、密着性の優れた
膜を得ることができた。
を持つフォトクロミック層の回りを有機あるいは無機物
質の層で補強したことにより、膜強度、密着性の優れた
膜を得ることができた。
さらに最上層に無機物質あるいは有機物質からなるハー
ドコート層および／または反射防止層を設けたことによ
り、耐摩耗性、耐久性、の向上および透過率が向上した
フォトクロミック光学材料を得ることができた。
ドコート層および／または反射防止層を設けたことによ
り、耐摩耗性、耐久性、の向上および透過率が向上した
フォトクロミック光学材料を得ることができた。
第１図は本発明の一実施例を示すフォトクｗ ミック光
学材料の平面図。 第２図は本発明の一実施例を示すフォトクロミック光学
材料の断面図。 １１・・・・・・フォトクロミック物質２１・・・・・
・光学材料 ２２・・・・・・有機層 ２５・・・・・・フォトクロミック物質２４・・・・・
・有機層 ２５・・・・・・Ｙｂ、０３層 ２６・・・・・・Ｔａ、Ｏ，層 ２７・・・・・・Ｓ １０７層 以 上
学材料の平面図。 第２図は本発明の一実施例を示すフォトクロミック光学
材料の断面図。 １１・・・・・・フォトクロミック物質２１・・・・・
・光学材料 ２２・・・・・・有機層 ２５・・・・・・フォトクロミック物質２４・・・・・
・有機層 ２５・・・・・・Ｙｂ、０３層 ２６・・・・・・Ｔａ、Ｏ，層 ２７・・・・・・Ｓ １０７層 以 上
Claims (1)
- 光学材料表面に、無機物質あるいは有機物質からなる層
と、任意のパターン形状を持つフォトクロミック物質か
らなる層を少なくとも一層設け、多層膜とし、さらに最
上層として、無機物質あるいは有機物質からなるハード
コート層および／または反射防止層を設けたことを特徴
とするフォトクロミック光学材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60113779A JPS61271382A (ja) | 1985-05-27 | 1985-05-27 | フオトクロミツク光学材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60113779A JPS61271382A (ja) | 1985-05-27 | 1985-05-27 | フオトクロミツク光学材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61271382A true JPS61271382A (ja) | 1986-12-01 |
Family
ID=14620896
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60113779A Pending JPS61271382A (ja) | 1985-05-27 | 1985-05-27 | フオトクロミツク光学材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61271382A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004080714A1 (ja) * | 2003-03-10 | 2004-09-23 | Tokuyama Corporation | フォトクロミック積層体及びその製造方法 |
| JP2008076884A (ja) * | 2006-09-22 | 2008-04-03 | National Institute For Materials Science | 可逆光応答素子並びにそれを用いた撮像装置及び並列アナログ演算装置 |
| JP2012063507A (ja) * | 2010-09-15 | 2012-03-29 | Nikon-Essilor Co Ltd | 光学レンズの製造方法 |
-
1985
- 1985-05-27 JP JP60113779A patent/JPS61271382A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004080714A1 (ja) * | 2003-03-10 | 2004-09-23 | Tokuyama Corporation | フォトクロミック積層体及びその製造方法 |
| AU2004220183B2 (en) * | 2003-03-10 | 2009-09-03 | Tokuyama Corporation | Photochromic multilayer body and method for producing same |
| AU2004220183B9 (en) * | 2003-03-10 | 2009-10-01 | Tokuyama Corporation | Photochromic multilayer body and method for producing same |
| JP2010033069A (ja) * | 2003-03-10 | 2010-02-12 | Tokuyama Corp | フォトクロミック積層体 |
| JP2008076884A (ja) * | 2006-09-22 | 2008-04-03 | National Institute For Materials Science | 可逆光応答素子並びにそれを用いた撮像装置及び並列アナログ演算装置 |
| JP2012063507A (ja) * | 2010-09-15 | 2012-03-29 | Nikon-Essilor Co Ltd | 光学レンズの製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2536764A (en) | Method of forming a reflection reducing coating | |
| US3895155A (en) | Surface protective coating on an article at least surface of which is formed of a synthetic resin | |
| DE69318279T2 (de) | Optische Komponente für Röntgenbestrahlungen | |
| JP2003522092A (ja) | 膜が酸化セリウムを有する防反射性ｕｖ遮断多層コーティング | |
| US3604784A (en) | Antireflection coatings | |
| DE2738044C2 (de) | Linse aus einem synthetischen Polymerisat | |
| AU8555001A (en) | Composition for vapor deposition, method for forming antireflection film using it, and optical element with antireflection film | |
| JPH05215905A (ja) | 撥水性薄膜を有する光学部材及びその製造方法 | |
| JP4796264B2 (ja) | 表面ミラーコーティングを備える光学エレメントおよびこのコーティングを形成する方法 | |
| JPH0798414A (ja) | 偏光板および偏光板の製造方法 | |
| EP1786851A1 (en) | Method for preparing photochromic film or plate | |
| US3715244A (en) | Chromium film microcircuit mask | |
| US4112142A (en) | Method for the production of light-reflecting layers on a surface of a transparent glass article | |
| JPH04230710A (ja) | 光導波路アッセンブリおよびその製造方法 | |
| JPS61271382A (ja) | フオトクロミツク光学材料 | |
| JP4964584B2 (ja) | 高屈折率の光学的層を製造するための蒸着材料の使用、その蒸着材料、及びその蒸着材料を調製する方法 | |
| JP2011084819A (ja) | 高屈折率光学層を製造するための蒸着材料 | |
| JP3355786B2 (ja) | 赤外線用光学部品の製造方法 | |
| US4246337A (en) | Photosensitive medium for optical information storage | |
| US2427592A (en) | Thorium compound protective coatings for reflecting surfaces | |
| KR20110098720A (ko) | 하프늄 산화물 또는 지르코늄 산화물 코팅 | |
| JP3762108B2 (ja) | 防曇反射防止光学物品 | |
| JP2561955B2 (ja) | プラスチックレンズ用多層反射防止膜 | |
| US4307181A (en) | Masking agent for the deposition of a material and method for such a deposition using this masking agent | |
| JPS6053937A (ja) | フォトクロミックガラスの製造方法 |