JPS61284352A - 圧電アクチユエイタ−を用いた微動ステ−ジ - Google Patents

圧電アクチユエイタ−を用いた微動ステ−ジ

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Publication number
JPS61284352A
JPS61284352A JP60125062A JP12506285A JPS61284352A JP S61284352 A JPS61284352 A JP S61284352A JP 60125062 A JP60125062 A JP 60125062A JP 12506285 A JP12506285 A JP 12506285A JP S61284352 A JPS61284352 A JP S61284352A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
spring
actuator
displacement
piezo
Prior art date
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Pending
Application number
JP60125062A
Other languages
English (en)
Inventor
Akio Kumada
熊田 明生
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Maxell Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Maxell Ltd filed Critical Hitachi Maxell Ltd
Priority to JP60125062A priority Critical patent/JPS61284352A/ja
Publication of JPS61284352A publication Critical patent/JPS61284352A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70758Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23QDETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q1/00Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
    • B23Q1/25Movable or adjustable work or tool supports
    • B23Q1/26Movable or adjustable work or tool supports characterised by constructional features relating to the co-operation of relatively movable members; Means for preventing relative movement of such members
    • B23Q1/34Relative movement obtained by use of deformable elements, e.g. piezoelectric, magnetostrictive, elastic or thermally-dilatable elements
    • B23Q1/36Springs

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野1発明の目的〕 本発明は微動ステージの改良に係り、圧電アクチュエイ
ターを駆動素子と微動するステージであり、1!動機構
が簡単、堅牢、小型にできるという圧電アクチュエイタ
ーの特長を活かし、しかも駆動電圧を大幅に低電圧化し
た微動ステージを提供することを目的とする。
〔技術の背景〕
最近の半導体工業の飛躍的な進歩は超微細技術の進展を
促し、また超微細技術が半導体工業を進展させている。
このような中で、tSr、vL−s工などのマスク合わ
せ、素子観測用電子顕微鏡などにおいてはサブミクロン
の位置決め精度を必要とし、微小変位を正確に制御する
圧電アクチュエイタが用いられてきた。
〔従来の技術〕
精密位置決め用素子として、圧電アクチュエイターは構
造が簡単、堅牢であり小型にできるという利点のため注
目を集めているが、1μmの変位を発生させねのに2,
000 ボルト程度の高電圧を要することが実用上の致
命的欠陥であった。
この点で、低電圧化を自重した積層型アクチュエイター
は注目に値するが、長さ10++wn50層のアクチュ
エイターの変位率は約1μm / 50 V 。
最大限界ストローク4μm / 200 Vであり、実
用上の所望量より変位量がまだ一桁小さいことが欠点で
ある。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明は上述した従来技術の欠点を解消するもので、
圧電アクチュエイターで駆動される微動ステージを動か
す手段として、圧電アクチュエイターと座屈ばねとを組
合わせ、アクチュエイターが作る変位を座屈ばねで拡大
するように構成したことを特徴とする微動ステージによ
って目的を達成したものである。
以下、本発明の実施例を図面に従って説明する。
〔実施例〕
実施例1 第1図は、本発明に係る圧電アクチュエイターを用いた
微動ステージの一実施例を示す原理説明図である。この
微動ステージ1は30mmX50wnの大きさで枠2に
嵌め込まれており、直径2moのボールベアリング3に
よって支持されているので。
引戸のように左右に動くようになっている。
ステージ1の両側中心にはばね受けのための0.5mの
凸部9があり、開側面から平ばね4および5で押されて
いる。厚さ0 、4 rtta 、幅3 m 。
長さ551I111の平ばね4および5のうち、ばね5
は一端が枠2に埋め込み固定されており、他端は枠2に
ねじ込まれた無頭ねじによって圧縮されている。
枠2にもステージ1の凸部に対向した0、5mの凸部が
作られているので、枠2とステージ1の隙間2mに挿入
された平ばね4および5は凸部間のInmの隙間に挟ま
れて、可動範囲が0.6mになっている。平ばね4,5
は枠2の凸部に押されて常に反っているので、ねじ8を
締めると平ばね5は座屈変形してステージ1を右側に移
動する。
ステージ1の右側にも平ばね4があり2一端には圧縮力
調整用の無頭ねじ7がセットされており。
他端は2 ywr X 3 m X 9 mmの大きさ
で50層の圧電アクチュエイタ−6で支持されている。
アクチュエイタ−6に電圧を印圧すると、平ばね4が印
加電圧の大きさに応じて座屈変形し、ステージ1を左側
に押し返す。印加電圧を一定値に保持すると、ステージ
1もその位置に保持される。
印加電圧と圧電アクチュエイタ−6の変位の関係は飽和
曲線で示されるが、ばねのバランスを利用しているため
より直線性が保てる。
実施例2 第2図は実施例1で説明した微動ステージの電圧・変位
特性の直線性を改善した前であり、基本的には第1図と
同じである。異なる点は圧電アクチュエイター2個6,
6を対にして用いたことだけである。ステージ1を差動
することで直線性を改善したものであり、印加電圧を1
00ボルド一定とし、左右のアクチュエイタ−6,6に
はそれぞれχボルト、100−χボルトを印加すること
により、ステージ1を0.1μmの分解能で±50μm
微動することができた。
〔発明の効果〕
以上説明したように、圧電アクチュエイターで駆動され
るステージにおいて、ステージを動かす手段として、圧
電アクチュエイターと座屈ばねとを組み合わせアクチュ
エイターが作る変位を座屈ばねで拡大するように構成し
た。そのため本発明の圧電アクチュエイターを用いた微
動ステージは。
駆動機構の構造が簡単で堅牢であり、小型にできるとい
う圧電アクチュエイターの特長を活かしたままで、変位
を数倍ないし数十倍拡大したものであり、しかも印加電
圧に対する変位が飽和特性を示したり、ヒステリシスを
示したりする圧電アクチュエイターの宿命的欠陥を大幅
にカバーすることができたので、実用上のニーズはほぼ
総ての点において満足したと言って良いであろう。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例1に係る微動ステージ面図であ
る。 1・・・・・・ステージ、2・・・・・・枠、4,5・
・・・・平ばね。 6・・・・・・圧電アクチュエイター。 第1図 第3図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 圧電アクチュエイターで駆動される微動ステージにおい
    て、ステージを動かす手段として、圧電アクチュエイタ
    ーと座屈ばねとを組み合わせ、アクチュエイターが作る
    変位を座屈ばねで拡大するように構成したことを特徴と
    する微動ステージ。
JP60125062A 1985-06-11 1985-06-11 圧電アクチユエイタ−を用いた微動ステ−ジ Pending JPS61284352A (ja)

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ID=14900874

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102714474A (zh) * 2009-11-10 2012-10-03 麻省理工学院 相控阵屈曲致动器

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102714474A (zh) * 2009-11-10 2012-10-03 麻省理工学院 相控阵屈曲致动器
EP2499734A4 (en) * 2009-11-10 2014-05-07 Massachusetts Inst Technology PHASE-CONTROLLED KNOCK ACTUATOR

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