JPS6128449B2 - - Google Patents
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- JPS6128449B2 JPS6128449B2 JP52002806A JP280677A JPS6128449B2 JP S6128449 B2 JPS6128449 B2 JP S6128449B2 JP 52002806 A JP52002806 A JP 52002806A JP 280677 A JP280677 A JP 280677A JP S6128449 B2 JPS6128449 B2 JP S6128449B2
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- JP
- Japan
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- pulse
- machining
- pulses
- inspection
- processing
- Prior art date
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- Expired
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H1/00—Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
- B23H1/02—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges
- B23H1/024—Detection of, and response to, abnormal gap conditions, e.g. short circuits
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電極と被加工体を対向した加工間隙に
加工パルスによる繰返放電を行なつて加工する放
電加工（電蝕加工を含む）に於て、行なわれてい
る放電の状態が良いか悪いか、即ち、加工間隙の
状態変化、その良否を正確に検出し、判別するこ
と、そして更に加工状態を最良に制御することを
目的とする。
加工パルスによる繰返放電を行なつて加工する放
電加工（電蝕加工を含む）に於て、行なわれてい
る放電の状態が良いか悪いか、即ち、加工間隙の
状態変化、その良否を正確に検出し、判別するこ
と、そして更に加工状態を最良に制御することを
目的とする。
放電加工に於ては、間隙状態（放電状態）に応
じて加工パルスを制御したり、加工液の流速、電
導度の制御、加工屑が堆積したとき電極振動、電
極引上げによる洗浄作業、間隙長を加工に追従さ
せるためのサーボ制御等を最適に行なうことが必
要である。従来、加工間隙の状態、放電状態、放
電の良否等を検出するのに、加工パルスの印加さ
れている間隙の電圧、電流、インピーダンス等を
検出し判別するようにしていた。信号の検出は平
均的な電圧、電流を検出するものと、繰返し供給
されるパルス、各パルスをこのパルスによる電
圧、電流変化をパルス的に検出するものとがあ
る。前者の平均的信号の検出では迅速な状態判
別、それによる迅速な対応制御ができない。後者
ではパルス的にデジタルに検出し判別するから変
化に対して対応が早くでき、従つて加工効果も高
まるが、加工パルスは通常は間隙状態の変化に対
応してパルス幅等が変更制御され、又、加工パル
スは目的加工に応じて最適な条件に設定制御され
るもので、この加工パルスによる検出、加工パル
スを加えたときの加工間隙の状態、放電状態を電
圧、電流変化を信号として検出し、判別しても適
確な判別ができない。即ち、加わる加工パルスの
変化をも信号に加えてやらなければ実際に正確な
判別ができないことになる。
じて加工パルスを制御したり、加工液の流速、電
導度の制御、加工屑が堆積したとき電極振動、電
極引上げによる洗浄作業、間隙長を加工に追従さ
せるためのサーボ制御等を最適に行なうことが必
要である。従来、加工間隙の状態、放電状態、放
電の良否等を検出するのに、加工パルスの印加さ
れている間隙の電圧、電流、インピーダンス等を
検出し判別するようにしていた。信号の検出は平
均的な電圧、電流を検出するものと、繰返し供給
されるパルス、各パルスをこのパルスによる電
圧、電流変化をパルス的に検出するものとがあ
る。前者の平均的信号の検出では迅速な状態判
別、それによる迅速な対応制御ができない。後者
ではパルス的にデジタルに検出し判別するから変
化に対して対応が早くでき、従つて加工効果も高
まるが、加工パルスは通常は間隙状態の変化に対
応してパルス幅等が変更制御され、又、加工パル
スは目的加工に応じて最適な条件に設定制御され
るもので、この加工パルスによる検出、加工パル
スを加えたときの加工間隙の状態、放電状態を電
圧、電流変化を信号として検出し、判別しても適
確な判別ができない。即ち、加わる加工パルスの
変化をも信号に加えてやらなければ実際に正確な
判別ができないことになる。
そこで本発明は、正常加工間隙に放電を発生さ
せるのに、充分な電圧及びパルス幅にし、しかも
検出判別し易いように放電したときの波高値（
ｐ）、パルス幅（τ〜ｎ）、波形等を一定に選択設
定した検査用のパルスを加工パルスの列に組入れ
て加工間隙に供給するようにし、一定に設定した
検査用パルスによつて間隙状態の検査、検出判別
をするようにしたことを特徴とするものである。
せるのに、充分な電圧及びパルス幅にし、しかも
検出判別し易いように放電したときの波高値（
ｐ）、パルス幅（τ〜ｎ）、波形等を一定に選択設
定した検査用のパルスを加工パルスの列に組入れ
て加工間隙に供給するようにし、一定に設定した
検査用パルスによつて間隙状態の検査、検出判別
をするようにしたことを特徴とするものである。
検査用パルスは第１図に示すように、加工パル
スとは異なる設定された波高値（ｐ）、パルス
幅（τon）、又は波形の設定された値を有するも
ので、これを加工パルス列に組込んで加工間隙に
供給する。検査パルスは加工パルス列に少なくと
も検査用パルス数が加工パルス数より少ない比率
で組入れ、加工間隙に供給する。そしてこの検査
用パルスによる放電発生の有無、放電発生したと
きの電圧、電流等の信号を検出判別する。
スとは異なる設定された波高値（ｐ）、パルス
幅（τon）、又は波形の設定された値を有するも
ので、これを加工パルス列に組込んで加工間隙に
供給する。検査パルスは加工パルス列に少なくと
も検査用パルス数が加工パルス数より少ない比率
で組入れ、加工間隙に供給する。そしてこの検査
用パルスによる放電発生の有無、放電発生したと
きの電圧、電流等の信号を検出判別する。
(イ) 図は矩形波の検査パルスで、加工パルスと比
較して波高値が小さい。
較して波高値が小さい。
(ロ) 図は検査用パルスのパルス幅が加工パルスよ
り長い、勿論この反対に小さい場合もある。
り長い、勿論この反対に小さい場合もある。
(ハ) 図は検査用パルスを１つ、又は２つ、３つ続
けて発生供給し、色々な検査用パルスの供給の
仕方が考えられる。何れも検査用パルス数が加
工パルス数より少ない比率で組入れ供給するよ
うにしている。
けて発生供給し、色々な検査用パルスの供給の
仕方が考えられる。何れも検査用パルス数が加
工パルス数より少ない比率で組入れ供給するよ
うにしている。
このように検査パルスは、加工間隙に放電を発
生させるのに充分な値で且つ一定基準値に電圧及
びパルス幅を設定してあり、イ図のように、加工
パルスの電圧が高い、例えば荒加工の場合、検査
パルスは加工間隙に放電を発生させて検査できれ
ばよいから、図のように加工パルスより電圧を低
く設定し、設定した一定の電圧及びパルス幅をも
つて検査する。又、ロ図のように、加工パルスの
電圧が低い、例えば仕上加工の場合（勿論仕上加
工の場合はパルス幅も短かくなる。ロ図とイ図は
横軸寸法を異にする）、加工パルスの電圧及びパ
ルス幅が小さくなるから、検査パルスのパルス幅
はこの加工パルスより大きく設定され、必ず放電
を発生して検査ミスがなくなるよう設定される。
このように検査パルスは加工パルスに関係なく、
電圧及びパルス幅を一定基準値に設定し、荒加工
から仕上加工までを一定パルスによつて検査する
ことができる。又、一定の設定パルスによつて検
査することによつて、加工パルスが変更制御され
て変化するような加工の場合でも安定した正確な
検査が行なえる。検出信号の判別は検査パルスが
一定であるから、一定基準値で判別して常に正確
な判別検査をすることができる。又ハ図のよう
に、検査パルスの組入れを１つ若しくは複数に制
御御しながら発生するものでは、検査パルスを複
数個続けて発生することにより検査ミスをなく
し、又、加工間隙の変化する傾向等を知ることが
できる。
生させるのに充分な値で且つ一定基準値に電圧及
びパルス幅を設定してあり、イ図のように、加工
パルスの電圧が高い、例えば荒加工の場合、検査
パルスは加工間隙に放電を発生させて検査できれ
ばよいから、図のように加工パルスより電圧を低
く設定し、設定した一定の電圧及びパルス幅をも
つて検査する。又、ロ図のように、加工パルスの
電圧が低い、例えば仕上加工の場合（勿論仕上加
工の場合はパルス幅も短かくなる。ロ図とイ図は
横軸寸法を異にする）、加工パルスの電圧及びパ
ルス幅が小さくなるから、検査パルスのパルス幅
はこの加工パルスより大きく設定され、必ず放電
を発生して検査ミスがなくなるよう設定される。
このように検査パルスは加工パルスに関係なく、
電圧及びパルス幅を一定基準値に設定し、荒加工
から仕上加工までを一定パルスによつて検査する
ことができる。又、一定の設定パルスによつて検
査することによつて、加工パルスが変更制御され
て変化するような加工の場合でも安定した正確な
検査が行なえる。検出信号の判別は検査パルスが
一定であるから、一定基準値で判別して常に正確
な判別検査をすることができる。又ハ図のよう
に、検査パルスの組入れを１つ若しくは複数に制
御御しながら発生するものでは、検査パルスを複
数個続けて発生することにより検査ミスをなく
し、又、加工間隙の変化する傾向等を知ることが
できる。
尚、検査パルスは、電圧又はパルス幅の一方を
一定基準値に設定し、他方を加工条件に対応させ
て切換えるようにすることができる。例えば、パ
ルス幅の大きい荒加工条件からパルス幅の小さい
仕上条件に加工パルスを切換えるとき、検査パル
スのパルス幅を検査に最適な一定値にし電圧もそ
のままにしたとすると検査パルスにより加工面が
悪化することがあるが、そのときは検査パルスの
電圧を下げて波高値（ｐ）を小さくすることに
より仕上加工面を維持して検査することができ
る。
一定基準値に設定し、他方を加工条件に対応させ
て切換えるようにすることができる。例えば、パ
ルス幅の大きい荒加工条件からパルス幅の小さい
仕上条件に加工パルスを切換えるとき、検査パル
スのパルス幅を検査に最適な一定値にし電圧もそ
のままにしたとすると検査パルスにより加工面が
悪化することがあるが、そのときは検査パルスの
電圧を下げて波高値（ｐ）を小さくすることに
より仕上加工面を維持して検査することができ
る。
又、検査用パルスは何れも加工パルスが無いと
き、休止中に、又は加工パルスを停止して検査用
パルスを加えることが必要である。
き、休止中に、又は加工パルスを停止して検査用
パルスを加えることが必要である。
以下図面の一実施例によつて説明する。第２図
に於て、１及び２は電極及び被加工体で、対向し
て加工間隙を形成する。３は加工電力を供給する
電圧源、４はトランジスタ等のスイツチ素子で、
電圧源３と直列に接続され、加工間隙に接続され
て、これのオン、オフスイツチングによつて加工
パルスを発生し供給する。５がスイツチ４にスイ
ツチ制御パルスを発生し加えるパルサで、独立発
振器を用いる場合もあるが、加工間隙の電圧、電
流等検出信号に応答してパルス幅、休止幅、周波
数等が変化する従属発振器が用いられることもあ
る。又、間隙の検出信号をパルス化変換する変換
回路を用いる場合もある。以上の、３，４，５等
により加工用パルス電源を形成している。６は検
査用の電圧源、７はスイツチで、パルサ８の制御
によりオン、オフスイツチングして検査用パルス
を発生する。
に於て、１及び２は電極及び被加工体で、対向し
て加工間隙を形成する。３は加工電力を供給する
電圧源、４はトランジスタ等のスイツチ素子で、
電圧源３と直列に接続され、加工間隙に接続され
て、これのオン、オフスイツチングによつて加工
パルスを発生し供給する。５がスイツチ４にスイ
ツチ制御パルスを発生し加えるパルサで、独立発
振器を用いる場合もあるが、加工間隙の電圧、電
流等検出信号に応答してパルス幅、休止幅、周波
数等が変化する従属発振器が用いられることもあ
る。又、間隙の検出信号をパルス化変換する変換
回路を用いる場合もある。以上の、３，４，５等
により加工用パルス電源を形成している。６は検
査用の電圧源、７はスイツチで、パルサ８の制御
によりオン、オフスイツチングして検査用パルス
を発生する。
検査用パルスは、正常加工間隙に放電を発生さ
せるのに充分な電圧及びパルス幅で、しかも検出
判別の検査が容易で正確なように放電時の波高値
及びパルス幅等が一定に設定され、即ち、波高値
（ｐ）は電源６の電圧によつて、又、パルス幅
（τon）はパルサ８によつて選択設定される。波
高値（p+は200A以下、好ましくは10A程度、
又はそれ以下で、又パルス幅（τon）５〜20μ
ｓ程度に設定される。検査パルスの電圧及びパル
ス幅は一定基準値に設定されるが、電圧又はパル
ス幅を一定に設定し、他方を切換える場合は、必
要により加工特性がその加工条件とほぼ等しくな
るように制御する。例えば加工面粗さはRa≒Ｋ
τｐで表わされるので、例えば加工パルスをτ
on3μs.p10Aとするとき、検査用パルスはτ
on10μs.p44〜5Aと設定する如くである。波形
は通常矩形波パルスであるが、パルサ８の制御に
より三角波、その他任意の波形パルスを発生でき
る。９は検査用パルスを加工パルスの列に組込む
アンドゲート回路で、パルサ５の出力パルスと、
パルサ８の出力パルスとをアンド結合することに
よつて組込み、パルサ８の出力パルスをノツトゲ
ート１０で反転して結合することにより検査用パ
ルスの加工パルス列への組込みが、加工パルスが
無いとき、即ち、加工パルスの休止中に、或いは
加工パルスを中断して休止するときに、検査用パ
ルスが加工間隙に加わるように組込まれ、加工パ
ルスが加わらない間に加工間隙の状態判別を行な
う。１１は間隙の電圧信号を検出する抵抗、１２
は検出信号の判別装置で、パルサ８によつて制御
され、検査用パルスが間隙に加わつたときに、同
期して検出信号を判別することによつて正確な検
査を行なうよう作動する。
せるのに充分な電圧及びパルス幅で、しかも検出
判別の検査が容易で正確なように放電時の波高値
及びパルス幅等が一定に設定され、即ち、波高値
（ｐ）は電源６の電圧によつて、又、パルス幅
（τon）はパルサ８によつて選択設定される。波
高値（p+は200A以下、好ましくは10A程度、
又はそれ以下で、又パルス幅（τon）５〜20μ
ｓ程度に設定される。検査パルスの電圧及びパル
ス幅は一定基準値に設定されるが、電圧又はパル
ス幅を一定に設定し、他方を切換える場合は、必
要により加工特性がその加工条件とほぼ等しくな
るように制御する。例えば加工面粗さはRa≒Ｋ
τｐで表わされるので、例えば加工パルスをτ
on3μs.p10Aとするとき、検査用パルスはτ
on10μs.p44〜5Aと設定する如くである。波形
は通常矩形波パルスであるが、パルサ８の制御に
より三角波、その他任意の波形パルスを発生でき
る。９は検査用パルスを加工パルスの列に組込む
アンドゲート回路で、パルサ５の出力パルスと、
パルサ８の出力パルスとをアンド結合することに
よつて組込み、パルサ８の出力パルスをノツトゲ
ート１０で反転して結合することにより検査用パ
ルスの加工パルス列への組込みが、加工パルスが
無いとき、即ち、加工パルスの休止中に、或いは
加工パルスを中断して休止するときに、検査用パ
ルスが加工間隙に加わるように組込まれ、加工パ
ルスが加わらない間に加工間隙の状態判別を行な
う。１１は間隙の電圧信号を検出する抵抗、１２
は検出信号の判別装置で、パルサ８によつて制御
され、検査用パルスが間隙に加わつたときに、同
期して検出信号を判別することによつて正確な検
査を行なうよう作動する。
加工間隙の状態検査は定められた大きさの検査
用パルスを加えて間隙の電圧を検出し、検出信号
を判別して行なわれるから、加える検査パルスは
常に一定であり、これに対して間隙から放電の有
無、放電発生時の間隙状態変化に対応して変化す
る信号を検出し、判別するから、検出、判別の正
確度は極めて高く、しかも検査用パルスは波高値
（ｐ）、パルス幅（τon）が検査し易く、検査
に最適な値に設定されたものであつて、これによ
つても検査を容易にし、且つ検査正確度を向上す
る。
用パルスを加えて間隙の電圧を検出し、検出信号
を判別して行なわれるから、加える検査パルスは
常に一定であり、これに対して間隙から放電の有
無、放電発生時の間隙状態変化に対応して変化す
る信号を検出し、判別するから、検出、判別の正
確度は極めて高く、しかも検査用パルスは波高値
（ｐ）、パルス幅（τon）が検査し易く、検査
に最適な値に設定されたものであつて、これによ
つても検査を容易にし、且つ検査正確度を向上す
る。
尚、検査用パルスは独立発振パルサ８により所
定の時間間隔で、又加工用のパルサ５と関係的
に、例えばパルサ５の発振出力を分周して、加工
パルスが何個発生する毎に検査用パルスを１つ、
又は複数個発生させるというように発生させ、或
いは間隙の加工状態に応じてパルサ８を制御し、
加工状態に応じた時間間隔で発生させるが、発生
パルスは１パルスに限らず、複数パルスを続けて
発生し供給してもよく、この検査パルスの発生間
隔、パルス数はパルサ８の選択設定により任意に
発生させることができ、常に最適な検査ができる
よう設定制御する。通常の放電加工では検査パル
スの発生は時間的に１秒に１〜10個程度加えて検
査するとよい。尚、パルサ８を加工用パルサ５の
発振周波数より低周波発振とすることにより加工
パルスより少ない比率で検査パルスを発生でき
る。
定の時間間隔で、又加工用のパルサ５と関係的
に、例えばパルサ５の発振出力を分周して、加工
パルスが何個発生する毎に検査用パルスを１つ、
又は複数個発生させるというように発生させ、或
いは間隙の加工状態に応じてパルサ８を制御し、
加工状態に応じた時間間隔で発生させるが、発生
パルスは１パルスに限らず、複数パルスを続けて
発生し供給してもよく、この検査パルスの発生間
隔、パルス数はパルサ８の選択設定により任意に
発生させることができ、常に最適な検査ができる
よう設定制御する。通常の放電加工では検査パル
スの発生は時間的に１秒に１〜10個程度加えて検
査するとよい。尚、パルサ８を加工用パルサ５の
発振周波数より低周波発振とすることにより加工
パルスより少ない比率で検査パルスを発生でき
る。
又、この検査パルスを加えて加工間隙から検出
する信号は、電圧、電流、インピーダンス、又は
その時間的変化、又は発生高周波等でもよく、検
査パルスの継続中だけでなく、検査パルスのある
一定時期にチエツクし、又検査パルスが停止した
直後の信号を、例えば電圧、電流、抵抗、インピ
ーダンス、又はこれらの振動状態を、又、変化状
態を検出することもよく、検出回路は適宜に構成
し、利用することができる。そして検出信号の判
別は、その大、小、レベル、又その有無により、
又複合判別により、例えば検出判別した出力をカ
ウンタ、プリセツトカウンタ、アツプダウンカウ
ンタ等によりカウントして複数集合して集団とし
て判別し、プリセツトカウンタ等がプリセツト数
にカウントすると判別演算信号を出力して、放電
状態、加工状態の良否を判別し、又、加工状態の
推移、全体的傾向等を判定は、又、判定結果に対
応した制御等を行なうようにする。このように検
出判別、そして集合、演算処理は、集合して良否
の分布を求め全体を判別するものである。又、10
μｓ程度のパルス幅の検査用パルスを加え、放電
を行なわせ、放電発生後、３〜５μｓ程度後の放
電コラム中に含まれている３〜30MHz程度の高周
波成分を検出しこれを含んでいるときは良、含ま
れない、或いは一定以下であるときは不良と判定
する。
する信号は、電圧、電流、インピーダンス、又は
その時間的変化、又は発生高周波等でもよく、検
査パルスの継続中だけでなく、検査パルスのある
一定時期にチエツクし、又検査パルスが停止した
直後の信号を、例えば電圧、電流、抵抗、インピ
ーダンス、又はこれらの振動状態を、又、変化状
態を検出することもよく、検出回路は適宜に構成
し、利用することができる。そして検出信号の判
別は、その大、小、レベル、又その有無により、
又複合判別により、例えば検出判別した出力をカ
ウンタ、プリセツトカウンタ、アツプダウンカウ
ンタ等によりカウントして複数集合して集団とし
て判別し、プリセツトカウンタ等がプリセツト数
にカウントすると判別演算信号を出力して、放電
状態、加工状態の良否を判別し、又、加工状態の
推移、全体的傾向等を判定は、又、判定結果に対
応した制御等を行なうようにする。このように検
出判別、そして集合、演算処理は、集合して良否
の分布を求め全体を判別するものである。又、10
μｓ程度のパルス幅の検査用パルスを加え、放電
を行なわせ、放電発生後、３〜５μｓ程度後の放
電コラム中に含まれている３〜30MHz程度の高周
波成分を検出しこれを含んでいるときは良、含ま
れない、或いは一定以下であるときは不良と判定
する。
又、検出判別は、検査用パルスの入力、即ち、
加工間隙に加えた検査パルスの大きさ、数、波形
等に対して、間隙から検出した信号の大きさ、数
波形等を比較し判別する。これによつて加工間隙
の状態、変化又は良否等を検出し判別する。
加工間隙に加えた検査パルスの大きさ、数、波形
等に対して、間隙から検出した信号の大きさ、数
波形等を比較し判別する。これによつて加工間隙
の状態、変化又は良否等を検出し判別する。
第３図は検査用パルスの発生を加工用パルス電
源の一部分を兼用させてパルス発生を行なうよう
にした実施例で、第２図と同符号は同一部分を示
す。１３はパルサ５の出力を分周するカウンタ、
プリセツトカウンタで、プリセツト数のカウンタ
数が行なわれると信号を出力し、パルサ１４を作
動させる。パルサ１４は検査用のパルサで、この
出力をオアゲート１７を通してスイツチ４１に加
え、オン、オフスイツチング制御して検査用パル
スを発生する。
源の一部分を兼用させてパルス発生を行なうよう
にした実施例で、第２図と同符号は同一部分を示
す。１３はパルサ５の出力を分周するカウンタ、
プリセツトカウンタで、プリセツト数のカウンタ
数が行なわれると信号を出力し、パルサ１４を作
動させる。パルサ１４は検査用のパルサで、この
出力をオアゲート１７を通してスイツチ４１に加
え、オン、オフスイツチング制御して検査用パル
スを発生する。
この検査用パルスの発生時にはパルサ１４の出
力をノツトゲート１６で反転してアンドゲート１
５に加え、加工パルスのパルサ５出力とアンド結
合することにより加工パルスを中断させる。勿論
加工パルスの休止中に検査パルスが発生するよう
関連作動させるよう回路構成しておけば加工パル
スを中断制御する必要はない。尚、スイツチは複
数、４１，４２を並列接続し、スイツチの並列個
数によつて波高値（ｐ）が制御されるから、電
圧源３を一定としても、スイツチの作動させる数
の切換によつて任意の波高値パルスが得られ、図
では加工パルスを発生するときはスイツチ４１と
４２を並列作動させ、検査パルスの発生にはオア
ゲート１７からスイツチ４１のみを作動して波高
値を設定し、加工パルスよりも小さい波高値パル
スを発生するように構成している。勿論加工パル
スと検査用パルスは波高値が等しくてよいもので
あれば同数のスイツチを利用すればよい。検査用
パルスのパルス幅はパルサ１４によつて任意に制
御され、又、加工パルス数と検査用パルス数の比
率関係はカウンタ１３のプリセツトによつて任意
に設定される。又、加工間隙の状態と関連制御し
て検査パルスを発生させる場合はカウンタ１３の
プリセツトを自動制御するように構成すればよ
い。
力をノツトゲート１６で反転してアンドゲート１
５に加え、加工パルスのパルサ５出力とアンド結
合することにより加工パルスを中断させる。勿論
加工パルスの休止中に検査パルスが発生するよう
関連作動させるよう回路構成しておけば加工パル
スを中断制御する必要はない。尚、スイツチは複
数、４１，４２を並列接続し、スイツチの並列個
数によつて波高値（ｐ）が制御されるから、電
圧源３を一定としても、スイツチの作動させる数
の切換によつて任意の波高値パルスが得られ、図
では加工パルスを発生するときはスイツチ４１と
４２を並列作動させ、検査パルスの発生にはオア
ゲート１７からスイツチ４１のみを作動して波高
値を設定し、加工パルスよりも小さい波高値パル
スを発生するように構成している。勿論加工パル
スと検査用パルスは波高値が等しくてよいもので
あれば同数のスイツチを利用すればよい。検査用
パルスのパルス幅はパルサ１４によつて任意に制
御され、又、加工パルス数と検査用パルス数の比
率関係はカウンタ１３のプリセツトによつて任意
に設定される。又、加工間隙の状態と関連制御し
て検査パルスを発生させる場合はカウンタ１３の
プリセツトを自動制御するように構成すればよ
い。
又、この回路構成のパルサ１４はパルサ５に関
連制御されない独立パルサであつてもよい。又、
加工間隙の状態によつて制御されるものであつて
もよい。出力パルス波形は矩形波、三角波、半円
形波等任意である。
連制御されない独立パルサであつてもよい。又、
加工間隙の状態によつて制御されるものであつて
もよい。出力パルス波形は矩形波、三角波、半円
形波等任意である。
以上のようにして本発明によれば、加工パルス
とは別の正常間隙に放電を発生させるのに充分な
値で、且つ一定基準値に電圧及びパルス幅を設定
した検査パルスを用い、これを加工間隙に供給し
放電を発生して加工間隙の状態を検査するから、
従来の正常間隙では放電を発生しないようなパル
スによる加工間隙の導通テストに比較して加工間
隙の状態変化を検出判別パラメータの増加によつ
て極めて正確に検査できる。
とは別の正常間隙に放電を発生させるのに充分な
値で、且つ一定基準値に電圧及びパルス幅を設定
した検査パルスを用い、これを加工間隙に供給し
放電を発生して加工間隙の状態を検査するから、
従来の正常間隙では放電を発生しないようなパル
スによる加工間隙の導通テストに比較して加工間
隙の状態変化を検出判別パラメータの増加によつ
て極めて正確に検査できる。
又、検査パルスは加工パルスとは別に独立して
発生するものであるから、従来の加工パルスを利
用するものに比べて、検出判別がし易いように、
且つ正確な判別ができるように、電圧及びパルス
幅を任意に一定に設定することができ、加工条件
の切換、加工パルスの変化によつて信号検出、判
別が変化したり、誤差が多くなり正確な検査がで
きなくなつたりすることなく、一定基準値で常に
正確な判別ができる。
発生するものであるから、従来の加工パルスを利
用するものに比べて、検出判別がし易いように、
且つ正確な判別ができるように、電圧及びパルス
幅を任意に一定に設定することができ、加工条件
の切換、加工パルスの変化によつて信号検出、判
別が変化したり、誤差が多くなり正確な検査がで
きなくなつたりすることなく、一定基準値で常に
正確な判別ができる。
又、検査パルスを、正常間隙に放電を発生させ
るのに充分な値で歛つ一定基準値に電圧又はパル
ス幅を設定した場合は、何れか一方のパルス幅又
は電圧を加工条件に対応させて切換えることによ
り、検査パルスによつて加工面粗さを悪化させた
り、加工精度、電極消耗を悪化させたりすること
なく、正確な検査ができる。
るのに充分な値で歛つ一定基準値に電圧又はパル
ス幅を設定した場合は、何れか一方のパルス幅又
は電圧を加工条件に対応させて切換えることによ
り、検査パルスによつて加工面粗さを悪化させた
り、加工精度、電極消耗を悪化させたりすること
なく、正確な検査ができる。
又、検査用パルスは加工パルス列に加工パルス
数よりも少ない比率で組任れて加工間隙に供給す
るようにしたので検査のために放電加工を犠性に
することがなく、高速で高性能の加工が続けら
れ、間隙の良、不良、推移、傾向等の検出検査が
できる。そしてこの検出判別出力を信号として、
この信号によつて、又、カウンタ等でカウントし
た集団信号によつて、例えば間隙のサーボ、追従
制御、レシプロ制御による間隙洗浄、加工パルス
のパルス幅、休止幅、デユーテイフアクタ等の制
御、又寄せ加工送り、傾斜加工送り制御等を行な
えば、それらの制御は常に最適に行なわれ、例え
ば、加工間隙のサーボを行なうとき、正常間隙で
は静止させ、放電が発生しないとき間隙を狭め、
間隙が狭くて異常放電では間隙を広げるように制
御することができる如く、常に最適状態で安定し
た加工ができ、加工スピード、加工能率、加工精
度等加工効果は極めて向上する効果が得られる。
数よりも少ない比率で組任れて加工間隙に供給す
るようにしたので検査のために放電加工を犠性に
することがなく、高速で高性能の加工が続けら
れ、間隙の良、不良、推移、傾向等の検出検査が
できる。そしてこの検出判別出力を信号として、
この信号によつて、又、カウンタ等でカウントし
た集団信号によつて、例えば間隙のサーボ、追従
制御、レシプロ制御による間隙洗浄、加工パルス
のパルス幅、休止幅、デユーテイフアクタ等の制
御、又寄せ加工送り、傾斜加工送り制御等を行な
えば、それらの制御は常に最適に行なわれ、例え
ば、加工間隙のサーボを行なうとき、正常間隙で
は静止させ、放電が発生しないとき間隙を狭め、
間隙が狭くて異常放電では間隙を広げるように制
御することができる如く、常に最適状態で安定し
た加工ができ、加工スピード、加工能率、加工精
度等加工効果は極めて向上する効果が得られる。
図面の第１図は本発明の一実施例説明図パルス
列波形図、第２図は本発明の一実施例回路構成
図、第３図は他の実施例の回路構成図である。 １……電極、２……被加工体、３……加工用電
極、４……スイツチ、５……パルサ、６……検査
電源、７……スイツチ、８……パルサ、９……ア
ンドゲート、１０……ノツトゲート、１１……電
圧検出抵抗、１２……判別装置、１３……プリセ
ツトカウンタ、１４……パルサ、１５……アンド
ゲート、１６……ノツトゲート、４１，４２……
スイツチ。
列波形図、第２図は本発明の一実施例回路構成
図、第３図は他の実施例の回路構成図である。 １……電極、２……被加工体、３……加工用電
極、４……スイツチ、５……パルサ、６……検査
電源、７……スイツチ、８……パルサ、９……ア
ンドゲート、１０……ノツトゲート、１１……電
圧検出抵抗、１２……判別装置、１３……プリセ
ツトカウンタ、１４……パルサ、１５……アンド
ゲート、１６……ノツトゲート、４１，４２……
スイツチ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 電極と被加工体を対向した間隙に加工用パル
スによつて繰返しパルス放電を行なつて加工する
放電加工に於て、前記加工用パルスとは別の正常
加工間隙に放電を発生させるのに充分な値で且つ
一定基準値に電圧及びパルス幅を設定した検査用
パルスを発生せしめ、該検査用パルスを前記加工
用パルスの列に検査用パルス数が加工用パルス数
よりも少ない比率で組入れて加工間隙に供給し、
該検査用パルスによつて加工間隙の状態を検出す
ることを特徴とする放電加工方法。 ２ 電極と被加工体を対向した間隙に加工再パル
スによつて繰返しパルス放電を行なつて加工する
放電加工に於て、前記加工用パルスとは別の正常
加工間隙に放電を発生させるのに充分な値で且つ
一定基準値に電圧又はパルス幅を設定した検査用
パルスを発生せしめ、該検査用パルスを前記加工
用パルスの列に検査用パルス数が加工用パルス数
よりも少ない比率で組入れて加工間隙に供給し、
該検査用パルスによつて加工間隙の状態を検出す
ることを特徴とする放電加工方法。 ３ 電極と被加工体を対向した加工間隙と、該加
工間隙に加工用パルスを供給する加工用パルス電
源と、正常加工間隙に放電を発生させるのに充分
な値で且つ一定基準値に電圧及びパルス幅又はそ
の何れかを設定した検査用パルスを発生する前記
加工用パルス電源の一部分を兼用した、又はこれ
とは別のパルス発生電源と、前記検査用パルスを
前記加工用パルス列に検査用パルス数が加工用パ
ルス数より少ない比率で組入れたパルス列を加工
間隙に供給する回路と、前記検査用パルスによつ
て加工間隙の状態を検出判別する判別装置とを設
けたことを特徴とする放電加工装置。 ４ 検査用パルスを発生する前記加工用パルス電
源の一部分を兼用した、又はこれとは別のパルス
発生電源は、加工用パルスに独立したパルス数で
検査用パルスを発生することを特徴とする特許請
求の範囲第３項に記載の放電加工装置。 ５ 検査用パルスを発生する前記加工用パルス電
源の一部分を兼用した、又はこれとは別のパルス
発生電源は、加工用パルスに従属したパルス数で
検査用パルスを発生することを特徴とする特許請
求の範囲第３項に記載の放電加工装置。 ６ 検査用パルスを発生する前記加工用パルス電
源の一部分を兼用した、又はこれとは別のパルス
発生電源は、加工間隙の加工状態に対応したパル
ス数で検査用パルスを発生することを特徴とする
特許請求の範囲第３項に記載の放電加工装置。 ７ 検査用パルスを発生する前記加工用パルス電
源の一部分を兼用した、又はこれとは別のパルス
発生電源は、検査用パルス発生時に続けて複数パ
ルスを発生することを特徴とする特許請求の範囲
第３項に記載の放電加工装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP280677A JPS5388295A (en) | 1977-01-12 | 1977-01-12 | Discharge working method and device therefor |
| US05/860,164 US4236057A (en) | 1976-12-14 | 1977-12-13 | Apparatus for detecting gap conditions in EDM processes with monitoring pulses |
| DE2755772A DE2755772C2 (de) | 1976-12-14 | 1977-12-14 | Verfahren und Vorrichtung zum Steuern der Werkstückbearbeitung mittels Elektroerosion |
| FR7737723A FR2374130A1 (fr) | 1976-12-14 | 1977-12-14 | Procede et appareil de detection des conditions d'intervalle d'un usinage par decharges electriques |
| IT5243577A IT1091758B (it) | 1977-01-12 | 1977-12-30 | Metodo ed apparecchiatura per rile vare le condizioni dell' interspazio in un processo di lavorazione a scarica elettrica con l'ausilio di impulsi di controllo |
| US06/112,460 US4376880A (en) | 1976-12-14 | 1980-01-16 | Method of and apparatus for detecting gap conditions in EDM process with monitoring pulses |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP280677A JPS5388295A (en) | 1977-01-12 | 1977-01-12 | Discharge working method and device therefor |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5388295A JPS5388295A (en) | 1978-08-03 |
| JPS6128449B2 true JPS6128449B2 (ja) | 1986-06-30 |
Family
ID=11539616
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP280677A Granted JPS5388295A (en) | 1976-12-14 | 1977-01-12 | Discharge working method and device therefor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5388295A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57138531A (en) * | 1981-02-13 | 1982-08-26 | Mitsubishi Electric Corp | Electric source apparatus for machining by electrical discharge |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51104695A (ja) * | 1975-03-11 | 1976-09-16 | Inoue Japax Res | Hodenkakosochi |
-
1977
- 1977-01-12 JP JP280677A patent/JPS5388295A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5388295A (en) | 1978-08-03 |
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