JPS61284657A - 亀裂検査方法 - Google Patents

亀裂検査方法

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Publication number
JPS61284657A
JPS61284657A JP60127633A JP12763385A JPS61284657A JP S61284657 A JPS61284657 A JP S61284657A JP 60127633 A JP60127633 A JP 60127633A JP 12763385 A JP12763385 A JP 12763385A JP S61284657 A JPS61284657 A JP S61284657A
Authority
JP
Japan
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sensors
circuit
pulse
filters
crack
Prior art date
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Pending
Application number
JP60127633A
Other languages
English (en)
Inventor
Ikuo Kiyonaga
郁夫 清永
Masanori Tanaka
正規 田中
Masatake Tomita
富田 正威
Takao Yoneyama
米山 隆雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Hitachi Ltd
Sumitomo Metal Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Sumitomo Metal Industries Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP60127633A priority Critical patent/JPS61284657A/ja
Publication of JPS61284657A publication Critical patent/JPS61284657A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)
  • Testing Of Devices, Machine Parts, Or Other Structures Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はプレス装置等の亀裂をアコースティックエミッ
ションにて検査する方法に関する。
〔従来技術〕
大径鋼管を製造する方法にUO法がある。この方法は鋼
板の幅方向端部を上側へ少し曲げ、次いでU字状をなし
て端部が対向するようにプレス成形し、接合端縁を溶接
して管にする方法である。このような加工に用いられる
プレス装置は溶接構造物のため繰返し加えられる荷重に
より亀裂が生じることがある。従ってプレス装置の異常
を早期に検出するために定期的に診断することが行われ
るがその一手法としてアコースティックエミッションを
利用する方法がある。
〔発明が解決しようとする問題点〕
この方法は亀裂又はその前駆現象を音響的に捉えんとす
る方法であるが、プレス装置ではその可動部が発する音
、又は被加工材と接触部の摺接音があり、これらの雑音
と亀裂部からのアコースティックエミッションとが混じ
った状態となって、そのために正確な診断ができないと
いう問題点があった。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明はこのような問題点を解決するためになされたも
のであって、21固1組のアコースティックエミッショ
ンのセンサと空間フィルタとを用いることによって規定
される監視領域を亀裂発生の可能性が高い部分に設定し
ておき、雑音を排除して正確に亀裂発生の有無、大小な
どの評価を行なえる亀裂検査方法を提供することを目的
とする。
本発明に係る亀裂検査方法は、被検査物に発生するアコ
ースティックエミッションを検出し、これに基づいて被
検査物に発生する亀裂の検査をする方法において、アコ
ースティックエミッションを検出するセンサを2個1組
として被検査物に装着し、該センサが出力する信号を空
間フィルタに入力し、空間フィルタにて規定される1次
元的監視空間からのアコースティックエミッションを抽
出することを特徴とする。
〔実施例〕
以下本発明をその実施例を示す図面に基づいて詳述する
第1図に示すようにプレス装置20は固設された下金型
21と、図示しない油圧シリンダにて昇降される上金型
22とを備え、対向面夫々に形成した半円溝状のダイス
部21a、22a間にU成形された管素材30が対向端
縁を上側に位置させて装入される。
而して上金型の対向側面の上下2個所にアコースティッ
クエミッション(以下AHという)のセンサ1^、IB
、IC,LDがIAとICが上側に位置して正対し、I
BとIDが下側に位置して正対するように装着しである
。センサの装着位置及び数は上述したところに限るもの
ではないが、2個のセンサを1組とし、その位置と、後
述する空間フィルタの設定によって規定される1次元的
監視領域が亀裂発生の可能性の高い処となるようにする
。この実施例ではセンサIAとIBとを1組とし、セン
サIcとIDとを1組としている。
各AEセンサIA、lB、1c、LDからの出力信号は
プリアンプ2A、2B、2C,2Dにて増幅されて信号
処理回路3に入力される。
信号処理回路3はプリアンプ出力をフィルタに通して雑
音を除去し、これを増幅検波、パルス化してなるAEパ
ルスを出力する。この回路はAEセンサ又はプリアンプ
の数に応じて4チャネル分設けられている。信号処理回
路3のAEパルス出力は、センサIA、 IBからのも
のが空間フィルタ4Aへ、またセンサIG、 10から
のものが空間フィルタ4Bに入力される。
空間フィルタ4A、4Bは入力される信号のうち設定し
た時間中に現れるもののみを有効なものとして出力する
公知のものである。いまセンサl^、IBからの入力信
号についての設定時間を第2図に基づいて説明する。
第2図はセンサIA、 IBを結ぶ線分(以下X軸とい
う)及びセンサIC,10を結ぶ線分(以下Y軸という
、第4図参照)を含む平面を表わしている。
X軸は上金型22の側面上にある。X軸の中心を通る垂
線Hは両センサIA、 IBが捉えたAE倍信号時間差
がない場合のAH源軌跡の平面(X、Y軸を含む第2図
の平面と直交する平面)を表わしている。
いま第3図(イ)、(ロ)に示すようにセンサIAが捉
えたAEパルスとセンサIBが捉えたAEパルスとの時
間差がΔT(但しセンサIAの検出が早いものとする)
であり、これに相当するAE伝播距離をΔLとするとこ
の場合のAE源は垂線Hからの距離がΔLのX軸上の点
を通る双曲面(第2図には線で現れる)上にある。
空間フィルタ4^はセンサIAからのAE倍信号パルス
を基準に、それよりΔT、(伝播距離換算でΔL+)遅
れた時点から、該時点より更にΔT2(伝播距離換算で
ΔL2)遅れた時点までの時間を、ΔT1.ΔT2を可
変として設定できるようにしである。つまりこの時間内
に現れた信号、換言すれば第2図にハツチングを付して
示す、垂線HからΔL1〜ΔL1+ΔL2の領域(両駅
曲面に囲まれた領域)からのAEが有効なものとして出
力されるのである。
第3図はこれを可能とする空間フィルタ内の回路の機能
を示す説明図である。センサIAからのAEパルスにて
第3図(ハ)に示す如く設定時間幅ΔT1のパルスを切
出すパルス回路及び該パルスの立下りにて立上り、第3
図(ホ)に示すように設定時間ΔT2のパルスを切出す
パルス回路及び第3図(ニ)に示すようにセンサIBか
らの^Eパルスにて設定時間幅ΔT2のパルスを切出す
パルス回路が空間フィルタに設けられている。従って第
3図(ホ)に示すΔT2の時間が監視期間となり、この
間にセンサIBのAHパルスが入力されると、これに呼
応する第3図(ニ)のパルスが現れ、(ニ)。
(ホ)の論理積をとるAND回路から第3図(へ)に示
すパルスが出力信号として得られることになる。即ち第
2図に示すハンチング領域にAE発生源があった場合に
のみ第3図(へ)に示す如きパルスが出力されるのであ
る。
なお上述の説明はセンサIAを基準として述べたが逆に
センサIBを基準として同様に監視領域が設定できる(
第2図右側)。またΔT、=Oと設定する場合はΔT2
のみによって垂線Hを中心とする監視空間を設定できる
(第2図中央)、これら監視領域は択一的に選定できる
ようにしてあり、亀裂発生の可能性が高い処が監視領域
に含まれるように設定すればよい。
このような監視領域の設定はセンサIC,10に係るY
軸についても行なえるようになっている。なお空間フィ
ルタ4A、4Bの監視領域はX軸、Y軸上にて1次元的
に決定されるが、実際に監視される領域は2つの双曲面
で囲まれる3次元の空間であることは言うまでもない。
空間フィルタ4A、4Bの出力は論理和回路5へ入力さ
れ、その出力はカウント回路6に入力される。
カウント回路6は単位時間当たりの入力パルス数及び累
積総数を計数し、これを記録計9に記録させる。
一方カウント回路60計数結果は比較器8に与えられ、
制御盤から与えられるプレス荷重にて定まる比較基準値
と比較され、これを超える場合は図示しない警報器を作
動させる。
プレス装置の場合その亀裂は最大応力が働く上金型22
のと面に集中しており、雑音の大部分はダイス部21a
、22aに集中しており、突発型信号のため空間フィル
タ処理により雑音の除去が可能となる。第4図は空間フ
ィルタ4A、 4Bの監視領域を上金型の上部に設定し
たものであり、ハンチングを付した監視領域に亀裂に起
因して発生した八Eのみが有効に検出され、雑音の影響
から解放されることになる。
〔効果〕
本発明は以上のように空間フィルタを1次元的に用いて
監視領域を設定するものであるから、監視領域を、雑音
が発生し易い位置を避け、また亀裂が発生し易い位置を
含むように設定することにより雑音に影響されることな
く、精度の高い監視が行なえ、プレス装置が破壊に至る
前に亀裂発生を早期に検知でき、不測の事態に至ること
を防止できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法の実施に使用する装置の模式図、第
2. 3. 4図は空間フィルタの説明図である。 IA、 IB、 IC,10・・・センサ 3・・・信
号処理回路4A、4B・・・空間フィルタ 6・・・カ
ウント回路7・・・記録部 8・・・比較器 特 許 出願人  住友金属工業株式会社外1名

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、被検査物に発生するアコースティックエミッション
    を検出し、これに基づいて被検査物に発生する亀裂の検
    査をする方法において、アコースティックエミッション
    を検出するセンサを2個1組として被検査物に装着し、
    該センサが出力する信号を空間フィルタに入力し、空間
    フィルタにて規定される1次元的監視空間からのアコー
    スティックエミッションを抽出することを特徴とする亀
    裂検査方法。
JP60127633A 1985-06-11 1985-06-11 亀裂検査方法 Pending JPS61284657A (ja)

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JP60127633A JPS61284657A (ja) 1985-06-11 1985-06-11 亀裂検査方法

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04310857A (ja) * 1991-04-09 1992-11-02 Pub Works Res Inst Ministry Of Constr Ae法を利用した鋼製橋梁構造物の亀裂進展を検出する方法
US8316712B2 (en) 2010-11-19 2012-11-27 Margan Physical Diagnostics Ltd. Quantitative acoustic emission non-destructive inspection for revealing, typifying and assessing fracture hazards
RU2715476C2 (ru) * 2018-02-07 2020-02-28 Федеральное государственное казенное военное образовательное учреждение высшего образования "Военный учебно-научный центр Военно-Морского Флота "Военно-морская академия им. Адмирала Флота Советского Союза Н.Г. Кузнецова" Способ оценки степени разрушения материалов при акустико-эмиссионном контроле процесса трения твёрдых, жидких и газообразных тел
US11073498B2 (en) 2018-07-13 2021-07-27 Kabushiki Kaisha Toshiba Detection system, detection device, and detection method
US11385203B2 (en) 2019-01-09 2022-07-12 Kabushiki Kaisha Toshiba Detection device, detection system, detection method, and information processing device

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