JPS61285201A - 活性エネルギ−線硬化型樹脂組成物 - Google Patents
活性エネルギ−線硬化型樹脂組成物Info
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- JPS61285201A JPS61285201A JP60127125A JP12712585A JPS61285201A JP S61285201 A JPS61285201 A JP S61285201A JP 60127125 A JP60127125 A JP 60127125A JP 12712585 A JP12712585 A JP 12712585A JP S61285201 A JPS61285201 A JP S61285201A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、紫外線、電子線等の活性エネルギー線の照射
により硬化する樹脂組成物、とりわけガラス、セラミク
ス、プラスチックフィルム等の支持体への密着性と耐薬
品性および機械的強度に優れ、パターン形成の可能な活
性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。この活性エ
ネルギ２線硬化型樹脂組成物は、固体状の感光体シート
（ドライフィルム）に賦形することが可能な樹脂組成物
である。硬化は、活性エネルギー線の照射と、引続いて
の加熱によって成されることを特徴とする。
により硬化する樹脂組成物、とりわけガラス、セラミク
ス、プラスチックフィルム等の支持体への密着性と耐薬
品性および機械的強度に優れ、パターン形成の可能な活
性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。この活性エ
ネルギ２線硬化型樹脂組成物は、固体状の感光体シート
（ドライフィルム）に賦形することが可能な樹脂組成物
である。硬化は、活性エネルギー線の照射と、引続いて
の加熱によって成されることを特徴とする。
（従来の技術）
近年、活性エネルギー線硬化型樹脂は、塗料、インキ、
封止材料、レジスト材料、パターン形成材料として多用
されている。また、パターン形成材料としての活性エネ
ルギー線硬化型樹脂は、初期には印刷版の作成などに用
いられできたが、最近ではプリント配線、集積回路等の
電子産業分野での利用に加え、特開昭５７−４３８７６
号に開示されたようにインクジェット記録ヘッドのよう
な精密機器の構造材料としでも利用もされつつある。
封止材料、レジスト材料、パターン形成材料として多用
されている。また、パターン形成材料としての活性エネ
ルギー線硬化型樹脂は、初期には印刷版の作成などに用
いられできたが、最近ではプリント配線、集積回路等の
電子産業分野での利用に加え、特開昭５７−４３８７６
号に開示されたようにインクジェット記録ヘッドのよう
な精密機器の構造材料としでも利用もされつつある。
しかし、これまでに知られているパターン形成用に用い
られている活性エネルギー線硬化型樹脂、殊にドライフ
ィルムタイプのものには、ガラス、セラミックスあるい
はプラスチックフィルム等の支持体に対する密着性に優
れたものはなかった。一方、ガラス、余圧、セラミック
ス等に対して用いられる光硬化型の塗料や接着剤として
知られるものは、硬化物の密着性には優れているものの
、強い活性エネルギー線の照射あるいは長時間の照射を
必要とし、しかも一般にパターン形成に適した性状を有
していない、すなわち、これらを用いてパターン状に活
性エネルギー線を照射し、現像によって非露光部を除去
してパターンを得ようとしても、精密で高解像度のパタ
ーンを得ることはできなかった。
られている活性エネルギー線硬化型樹脂、殊にドライフ
ィルムタイプのものには、ガラス、セラミックスあるい
はプラスチックフィルム等の支持体に対する密着性に優
れたものはなかった。一方、ガラス、余圧、セラミック
ス等に対して用いられる光硬化型の塗料や接着剤として
知られるものは、硬化物の密着性には優れているものの
、強い活性エネルギー線の照射あるいは長時間の照射を
必要とし、しかも一般にパターン形成に適した性状を有
していない、すなわち、これらを用いてパターン状に活
性エネルギー線を照射し、現像によって非露光部を除去
してパターンを得ようとしても、精密で高解像度のパタ
ーンを得ることはできなかった。
このように従来技術においては、各種の支持体上に２着
性に優れた精密なパターンが形成でき、しかもそのパタ
ーンが構造材料としての高い耐久性を持つようなものは
存在しなかった。
性に優れた精密なパターンが形成でき、しかもそのパタ
ーンが構造材料としての高い耐久性を持つようなものは
存在しなかった。
本発明の目的は、このような従来の活性エネルギー線硬
化型樹脂では達成することができなかった、支持体に対
する密着性に優れ、精密で高解像度のパターンを形成し
得る活性エネルギー線硬化型の樹脂組成物を提供するこ
とにある。
化型樹脂では達成することができなかった、支持体に対
する密着性に優れ、精密で高解像度のパターンを形成し
得る活性エネルギー線硬化型の樹脂組成物を提供するこ
とにある。
本発明の他の目的は、パターンの形成に便宜なドライフ
ィルム状に賦形することができ、活性エネルギー線の照
射および引続く加熱によって硬化形成されたパターンが
耐薬品性および機械的強度に優れ、構造材料としての高
い耐久性を持つよう−な活性エネルギー線硬化型の樹脂
組成物を提供することにある。
ィルム状に賦形することができ、活性エネルギー線の照
射および引続く加熱によって硬化形成されたパターンが
耐薬品性および機械的強度に優れ、構造材料としての高
い耐久性を持つよう−な活性エネルギー線硬化型の樹脂
組成物を提供することにある。
本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は（ｉ）共
重合体構成成分として下記一般式１で表わされるモノマ
ー５〜３０モル％および下記一般式■で表わされるモノ
マー５〜５０モル％を含有する熱架橋性線状共重合高分
子と、 ＣＨ２＝Ｃ−−−（Ｉ） ０＝Ｃ−ＮＨ−ＣＨ２−０−Ｒ２ （ただし、Ｒ１は水素または炭素原子数が１〜３のアル
キルもしくはヒドロキシアルキル基、Ｒ２は水素または
炭素原子数が１〜４のヒドロキシ基を有してもよいアル
キルもしくはアシル基、Ｒ３は水素または炭素原子数が
１〜３のアルキル基、Ｒ４はその内部にエーテル結合を
有してもよく、且つハロゲン原子で置換されてもよい２
価の炭化水素基、Ｒ５は炭素原子数が３〜１２のアルキ
ルもしくはフェニルアルキル基床たはフェニル基を表わ
す、）（ｉｉ）エチレン性不飽和結合を有する単量体、
とを必須成分として含有するものである。
重合体構成成分として下記一般式１で表わされるモノマ
ー５〜３０モル％および下記一般式■で表わされるモノ
マー５〜５０モル％を含有する熱架橋性線状共重合高分
子と、 ＣＨ２＝Ｃ−−−（Ｉ） ０＝Ｃ−ＮＨ−ＣＨ２−０−Ｒ２ （ただし、Ｒ１は水素または炭素原子数が１〜３のアル
キルもしくはヒドロキシアルキル基、Ｒ２は水素または
炭素原子数が１〜４のヒドロキシ基を有してもよいアル
キルもしくはアシル基、Ｒ３は水素または炭素原子数が
１〜３のアルキル基、Ｒ４はその内部にエーテル結合を
有してもよく、且つハロゲン原子で置換されてもよい２
価の炭化水素基、Ｒ５は炭素原子数が３〜１２のアルキ
ルもしくはフェニルアルキル基床たはフェニル基を表わ
す、）（ｉｉ）エチレン性不飽和結合を有する単量体、
とを必須成分として含有するものである。
（発明を実施するための好適な態様〕
本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の必須成分
である（ｉ）熱架橋性線状共重合高分子は、親木性およ
び熱架橋性を有する上記一般式Ｉと、該組成物を硬化し
て得られるパターンに十分な密着性と機械的強度を付与
する上記一般式■で示されるモノマーを共重合の成分と
して、それぞれ５〜３０モル％および５〜５０モル％有
するものであり、上記親水性によって支持体への優れた
密着性を、また熱架橋性によって構造材料としての優れ
た性状、例えば耐熱性、耐薬品性、あるいは機械的強度
等を発揮し得るように成したものである。一般式１およ
び■で表わされるモノマーは、その合計量が約５０モル
％以下となるような範囲で熱架橋性線状共重合高分子に
含有されることが好ましい。
である（ｉ）熱架橋性線状共重合高分子は、親木性およ
び熱架橋性を有する上記一般式Ｉと、該組成物を硬化し
て得られるパターンに十分な密着性と機械的強度を付与
する上記一般式■で示されるモノマーを共重合の成分と
して、それぞれ５〜３０モル％および５〜５０モル％有
するものであり、上記親水性によって支持体への優れた
密着性を、また熱架橋性によって構造材料としての優れ
た性状、例えば耐熱性、耐薬品性、あるいは機械的強度
等を発揮し得るように成したものである。一般式１およ
び■で表わされるモノマーは、その合計量が約５０モル
％以下となるような範囲で熱架橋性線状共重合高分子に
含有されることが好ましい。
上記熱架橋性線状共重合高分子を構成するに際して用い
られる一般式■で表わされるモノマーを具体的に示せば
、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド（以下、（メ
タ）アクリルアミドと記す場合、アクリアミドおよびメ
タアクリアミドの双方を含むこと意味するものとする。
られる一般式■で表わされるモノマーを具体的に示せば
、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド（以下、（メ
タ）アクリルアミドと記す場合、アクリアミドおよびメ
タアクリアミドの双方を含むこと意味するものとする。
）、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−
ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、β−ヒド
ロキシエトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エ
トキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメ
チル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アセトキシメチル（
メタ）アクリルアミド、α−ヒドロキシメチル−Ｎ−メ
チロールアクリルアミド、α−ヒドロキシエチル−Ｎ−
ブトキシメチルアクリルアミド、α−ヒドロキシプロと
ルーＮ−プロポキシメチルアクリルアミド、α−エチル
−Ｎ−メチロールアクリルアミド、α−プロピル−Ｎ−
メチロールアクリルアミド等のアクリルアミド誘導体が
挙げられる。
ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、β−ヒド
ロキシエトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エ
トキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメ
チル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アセトキシメチル（
メタ）アクリルアミド、α−ヒドロキシメチル−Ｎ−メ
チロールアクリルアミド、α−ヒドロキシエチル−Ｎ−
ブトキシメチルアクリルアミド、α−ヒドロキシプロと
ルーＮ−プロポキシメチルアクリルアミド、α−エチル
−Ｎ−メチロールアクリルアミド、α−プロピル−Ｎ−
メチロールアクリルアミド等のアクリルアミド誘導体が
挙げられる。
これら一般式Ｉで表わされるモノマーは、５〜３０モル
％が熱架橋性線状共重合高分子に含有されることが必要
である。含有量が５モル％未満では、本発明の組成物を
硬化しで得られるバターに十分な耐薬品性が付与されな
い、これに対して、含有量が３０モル％を越えると、硬
化しで得られるパターンが脆くなる等の問題を生じる。
％が熱架橋性線状共重合高分子に含有されることが必要
である。含有量が５モル％未満では、本発明の組成物を
硬化しで得られるバターに十分な耐薬品性が付与されな
い、これに対して、含有量が３０モル％を越えると、硬
化しで得られるパターンが脆くなる等の問題を生じる。
一方、一般式■で表わされるモノマーは、５〜５０モル
％が熱架橋性線状共重合高分子に含有されることが必要
である。含有量が５モル％未満では、本発明の組成物を
硬化して得られるパターに十分な密着性および機械的強
度が付与されない。
％が熱架橋性線状共重合高分子に含有されることが必要
である。含有量が５モル％未満では、本発明の組成物を
硬化して得られるパターに十分な密着性および機械的強
度が付与されない。
これに対して、含有量が５０モル％を越えると、得られ
る組成物の軟化点の低下が顕著になり、該組成物を硬化
して得られるパターンの表面硬度の低下や、膨潤による
耐薬品性の劣化等の問題を生じる。
る組成物の軟化点の低下が顕著になり、該組成物を硬化
して得られるパターンの表面硬度の低下や、膨潤による
耐薬品性の劣化等の問題を生じる。
本発明に用いられる一般式■で表わされるモノマーにお
けるＲ４は、その内部にエーテル結合を有してもよく、
且つハロゲン原子で置換されてもよい２価の任意の炭化
水素基とすることができるが、好ましいＲ４としでは、
炭素原子数が２〜１２のハロゲン原子でＮ換されてもよ
いアルキレン基、１．４−ビスメチレンシクロヘキサン
のような脂環式炭化水素基、ビスフェニルジメチルメタ
ンのような芳香環を含む炭化水素基等を挙げることがで
きる。
けるＲ４は、その内部にエーテル結合を有してもよく、
且つハロゲン原子で置換されてもよい２価の任意の炭化
水素基とすることができるが、好ましいＲ４としでは、
炭素原子数が２〜１２のハロゲン原子でＮ換されてもよ
いアルキレン基、１．４−ビスメチレンシクロヘキサン
のような脂環式炭化水素基、ビスフェニルジメチルメタ
ンのような芳香環を含む炭化水素基等を挙げることがで
きる。
本発明に用いられる一般式ＩＩで表わされるモノマーを
具体的に示せば、１分子中に水酸基を１個含有する（α
−アルキル）アクリル酸エステルにモノインシアナート
化合物を反応させて成る、１分子中にウレタン結合を１
個以上有する（α−アルキル）アクリル酸エステルが挙
げられる。
具体的に示せば、１分子中に水酸基を１個含有する（α
−アルキル）アクリル酸エステルにモノインシアナート
化合物を反応させて成る、１分子中にウレタン結合を１
個以上有する（α−アルキル）アクリル酸エステルが挙
げられる。
上記一般式■で表わされるモノマーを製造するに際し用
いられる１分子中１こ水酸基を少なくとも１個含有する
（メタ）アクリル酸エステルとしでは、２−ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル
（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプ
ロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（
メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）ア
クリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレ
ート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレートあ
るいはライトエステル）１０−ｍｐρ（共栄社油脂化学
工業■製）などが挙げられる。
いられる１分子中１こ水酸基を少なくとも１個含有する
（メタ）アクリル酸エステルとしでは、２−ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル
（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプ
ロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（
メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）ア
クリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレ
ート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレートあ
るいはライトエステル）１０−ｍｐρ（共栄社油脂化学
工業■製）などが挙げられる。
１分子中に水酸基を１個含有する（α−アルキル）アク
リル酸エステルとしは、上記以外に（ａ）脂肪族または
芳香族の二価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエス
テルや（ｂ）モノエポキシ化合物の（メタ）アクリル酸
エステルを同様に使用することができる。
リル酸エステルとしは、上記以外に（ａ）脂肪族または
芳香族の二価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエス
テルや（ｂ）モノエポキシ化合物の（メタ）アクリル酸
エステルを同様に使用することができる。
上記（ａ）に用いられる二価アルコールとしては、１．
４−シクロヘキサンジメタツール、１．１０−デカンジ
オール、ネオペンチルグリコール、ビス（２−ヒドロキ
シエチル）テレフタレート、ビスフェノールＡへのエチ
レンオキシドまたはプロピレンオキシドの２〜１０モル
付加反応物などが挙げられる。また、上記（ｂ）に用い
られるモノエポキシ化合物としては、エポライトＭ−１
２３０（商品名、共栄社油脂化学工業■製）、フェニル
グリシジルエーテル、クレシルグリシジルエーテル、ブ
チルグリシジルエーテル、オクチレンオキサイド、ｎ−
ブチルフェノールグリシジルエーテルなどが挙げられる
。
４−シクロヘキサンジメタツール、１．１０−デカンジ
オール、ネオペンチルグリコール、ビス（２−ヒドロキ
シエチル）テレフタレート、ビスフェノールＡへのエチ
レンオキシドまたはプロピレンオキシドの２〜１０モル
付加反応物などが挙げられる。また、上記（ｂ）に用い
られるモノエポキシ化合物としては、エポライトＭ−１
２３０（商品名、共栄社油脂化学工業■製）、フェニル
グリシジルエーテル、クレシルグリシジルエーテル、ブ
チルグリシジルエーテル、オクチレンオキサイド、ｎ−
ブチルフェノールグリシジルエーテルなどが挙げられる
。
また、一般式■で表わされるモノマーを製造するに際し
用いられるモノイソシアナート化合物としでは、炭素原
子数が３〜１２のアルキル基に１個のイソシアナート基
を付与しでなるアルキルモノイソシアナート、およびフ
ェニルイソシアナート、クレジルモノイソシアナートな
どが挙げられる。
用いられるモノイソシアナート化合物としでは、炭素原
子数が３〜１２のアルキル基に１個のイソシアナート基
を付与しでなるアルキルモノイソシアナート、およびフ
ェニルイソシアナート、クレジルモノイソシアナートな
どが挙げられる。
これらの一般式■で表わされるモノマーは、１分子中に
水酸基を１個含有するアクリル酸エステルとモノインシ
アナート化合物とを、触媒、例えばジブチルスズジウラ
レートの存在下において反応させる等により、容易に製
造することができる。
水酸基を１個含有するアクリル酸エステルとモノインシ
アナート化合物とを、触媒、例えばジブチルスズジウラ
レートの存在下において反応させる等により、容易に製
造することができる。
本発明における熱架橋性線状共重合高分子を構成するに
際しで用いられる一般式１で示されるモノマーは親水セ
を有しており、本発明の組成物がガラス、セラミックス
、プラスチックなどの支持体に接着する際に、強固な密
着性を付与するものである。また、上記一般式１で表わ
されるモノマーは加熱による縮合架橋性を有しており、
一般には１００℃以上の温度で水分子あるいはアルコー
ルが脱離し架橋結合を形成して硬化後に熱架橋性共重合
高分子自体にも網目構造を形成させ、硬化して得られる
パターンに優れた耐薬品性および機械的強度を付与する
ものである。
際しで用いられる一般式１で示されるモノマーは親水セ
を有しており、本発明の組成物がガラス、セラミックス
、プラスチックなどの支持体に接着する際に、強固な密
着性を付与するものである。また、上記一般式１で表わ
されるモノマーは加熱による縮合架橋性を有しており、
一般には１００℃以上の温度で水分子あるいはアルコー
ルが脱離し架橋結合を形成して硬化後に熱架橋性共重合
高分子自体にも網目構造を形成させ、硬化して得られる
パターンに優れた耐薬品性および機械的強度を付与する
ものである。
本発明の組成物にあける熱架橋性線状共重合高分子には
、上記一般式１および■で表わされるモノマーの他、例
えばアクリル樹脂、ビニル樹脂等の製造に際して一般に
用いられでいる種々のモノマーが、２０〜９０モル％の
範囲内で共重合の成分として用いられる。これらモノマ
ーは、本発明の組成物に高い凝集強度を付与する等の種
々の目的で用いられるものである。
、上記一般式１および■で表わされるモノマーの他、例
えばアクリル樹脂、ビニル樹脂等の製造に際して一般に
用いられでいる種々のモノマーが、２０〜９０モル％の
範囲内で共重合の成分として用いられる。これらモノマ
ーは、本発明の組成物に高い凝集強度を付与する等の種
々の目的で用いられるものである。
本発明の組成物は、溶液状あるいは固形のフィルム状等
、使用目的に応じた種々の形状で提供することができる
が、ドライフィルムとして実用に供するのであれば、該
組成物をフィルム状で維持するために、約５０°Ｑ以上
のガラス転移温度を有する比較的剛直な性質を与えるモ
ノマーを一般式１および■のモノマーに加えて共重合し
で得られる熱架橋性線状共重合高分子を用いることが好
ましい、このような目的に好適な熱架橋性線状共重合高
分子を製造する際して用いられる一般式１および■以外
のモノマーを示せば、メチルメタアクリレート、エチル
メタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、ｔ−
ブチルメタアクリレートなどのアルキル基の炭素数が１
〜４のアルキルメタアクリレート、アクリロニトリル、
イソボルニルメタアクリレート、インボルニルアクリレ
ート、スチレン等の、そのホモポリマーのガラス転移温
度が約５０℃以上のモノマーが挙げられる。もちろん、
これらモノマーは、その一種以上を適宜選択して用いる
ことができる。更に、これらモノマーに加えて、ヒドロ
キシ基、アミノ基、カルボキシル基あるいはグリシジル
基を有する他の公知のモノマーや、ポリマーのガラス転
移温度が約５０℃以上のモノマーをも適宜選択して使用
することができる。
、使用目的に応じた種々の形状で提供することができる
が、ドライフィルムとして実用に供するのであれば、該
組成物をフィルム状で維持するために、約５０°Ｑ以上
のガラス転移温度を有する比較的剛直な性質を与えるモ
ノマーを一般式１および■のモノマーに加えて共重合し
で得られる熱架橋性線状共重合高分子を用いることが好
ましい、このような目的に好適な熱架橋性線状共重合高
分子を製造する際して用いられる一般式１および■以外
のモノマーを示せば、メチルメタアクリレート、エチル
メタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、ｔ−
ブチルメタアクリレートなどのアルキル基の炭素数が１
〜４のアルキルメタアクリレート、アクリロニトリル、
イソボルニルメタアクリレート、インボルニルアクリレ
ート、スチレン等の、そのホモポリマーのガラス転移温
度が約５０℃以上のモノマーが挙げられる。もちろん、
これらモノマーは、その一種以上を適宜選択して用いる
ことができる。更に、これらモノマーに加えて、ヒドロ
キシ基、アミノ基、カルボキシル基あるいはグリシジル
基を有する他の公知のモノマーや、ポリマーのガラス転
移温度が約５０℃以上のモノマーをも適宜選択して使用
することができる。
上記ヒドロキシ基含有モノマーとしては、２−ヒドロキ
シエチル（メタ）アクリレート、３−クロ０−２−ヒド
ロキシ（メタ）アクリレートなどが、またアミノ基含有
モノマーとしでは、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチル（メ
タ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、Ｎ、Ｎ−
ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ、Ｎ
−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチル
アミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジ１
−ブチルアミノエチル（メタ）アクリルアミドなどが挙
げられる。また、カルボキシル基含有モノマーとしては
、（メタ）アクリル酸、フマール酸、イタコン酸あるい
は東亜合成化学■製品の商品名アロニツクスＭ−５４０
０、アロニツクスＭ−５５００等で知られるものが挙げ
られ、グリシジル基を有するモノ“？−としては、グリ
シジル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
シエチル（メタ）アクリレート、３−クロ０−２−ヒド
ロキシ（メタ）アクリレートなどが、またアミノ基含有
モノマーとしでは、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチル（メ
タ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、Ｎ、Ｎ−
ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ、Ｎ
−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチル
アミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジ１
−ブチルアミノエチル（メタ）アクリルアミドなどが挙
げられる。また、カルボキシル基含有モノマーとしては
、（メタ）アクリル酸、フマール酸、イタコン酸あるい
は東亜合成化学■製品の商品名アロニツクスＭ−５４０
０、アロニツクスＭ−５５００等で知られるものが挙げ
られ、グリシジル基を有するモノ“？−としては、グリ
シジル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
また、本発明の組成物を溶液状にて用いるのであれば、
該組成物に柔軟性を与えるようなガラス転移温度の低い
熱架橋性線状共重合高分子を用いることも可能である。
該組成物に柔軟性を与えるようなガラス転移温度の低い
熱架橋性線状共重合高分子を用いることも可能である。
しかしながら、この場合にも、優れた耐薬品性と高い機
械的強度を有するパターンを得るためには、ガラス転移
温度の高い熱架橋性線状共重合高分子を用いることが好
ましい。
械的強度を有するパターンを得るためには、ガラス転移
温度の高い熱架橋性線状共重合高分子を用いることが好
ましい。
何れにしても、本発明に用いられる熱架橋性線状共重合
高分子は、本発明の組成物の硬化工程（すなわち、活性
エネルギー線照射によるパターンの形成および引続いて
の熱硬化）においで、該組成物に形態保持性を付与して
精密なバターニングを可能にするとともに、硬化して得
られるパターンに対しては優れた密着性、耐薬品性なら
びに高い機械的強度を与えるものである。
高分子は、本発明の組成物の硬化工程（すなわち、活性
エネルギー線照射によるパターンの形成および引続いて
の熱硬化）においで、該組成物に形態保持性を付与して
精密なバターニングを可能にするとともに、硬化して得
られるパターンに対しては優れた密着性、耐薬品性なら
びに高い機械的強度を与えるものである。
本発明の組成物に用いるもう一つの成分であるエチレン
性不飽和結合を有する単量体（ｉｉ）とは、本発明の組
成物に活性エネルギー線による硬化性を発揮させるため
の成分であり、好ましくは大気圧下で１００℃以上の沸
点を有し、また好ましくはエチレン性不飽和結合を２個
以上有するものであって、活性エネルギー線の照射で硬
化する公知の種々の単量体を用いることができる。
性不飽和結合を有する単量体（ｉｉ）とは、本発明の組
成物に活性エネルギー線による硬化性を発揮させるため
の成分であり、好ましくは大気圧下で１００℃以上の沸
点を有し、また好ましくはエチレン性不飽和結合を２個
以上有するものであって、活性エネルギー線の照射で硬
化する公知の種々の単量体を用いることができる。
そのような２個以上のエチレン性不飽和結合を有する単
量体を具体的に示せば、例えば■１分子中に２個以上の
エポキシ基を有する多官能エポキシ樹脂のアクリル酸エ
ステルまたはメタアクリル酸エステル、■多価アルコー
ルのアルキレンオキシド付加物のアクリル酸エステルま
たはメタアクリル酸エステル、■二塩基酸と二価アルコ
ールがら成る分子量５００〜３０００のポリエステルの
分子鎖末端にアクリル酸エステル基を持つポリエステル
アクリレート、■多価イソシアネートと水酸基を有する
アクリル酸モノマーとの反応物が挙げられる。上記■〜
■の単量体は、分子内にウレタン結合を有するウレタン
変性物であってもよい。
量体を具体的に示せば、例えば■１分子中に２個以上の
エポキシ基を有する多官能エポキシ樹脂のアクリル酸エ
ステルまたはメタアクリル酸エステル、■多価アルコー
ルのアルキレンオキシド付加物のアクリル酸エステルま
たはメタアクリル酸エステル、■二塩基酸と二価アルコ
ールがら成る分子量５００〜３０００のポリエステルの
分子鎖末端にアクリル酸エステル基を持つポリエステル
アクリレート、■多価イソシアネートと水酸基を有する
アクリル酸モノマーとの反応物が挙げられる。上記■〜
■の単量体は、分子内にウレタン結合を有するウレタン
変性物であってもよい。
■に属する単量体としては、ビスフェノールＡ型、ノボ
ラック型、脂環型に代表されるエポキシ樹脂、あるいは
ビスフェノールＳ、ビスフェノールＦ、テトラヒドロキ
シフェニルメタンテトラグリシジルエーテル、レゾルシ
ノールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジ
ルエーテル、ペンタエリストールトリグリシジルエーテ
ル、イソシアヌール酸トリグリシジルエーテルおよび下
記一般式■ Ｕ υ （ただし、Ｒはアルキル基またはオキシアルキルキル基
を表わす） で表わされるエポキシウレタン樹脂のアクリル酸または
メタアクリル酸エステルなどが挙げられる。
ラック型、脂環型に代表されるエポキシ樹脂、あるいは
ビスフェノールＳ、ビスフェノールＦ、テトラヒドロキ
シフェニルメタンテトラグリシジルエーテル、レゾルシ
ノールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジ
ルエーテル、ペンタエリストールトリグリシジルエーテ
ル、イソシアヌール酸トリグリシジルエーテルおよび下
記一般式■ Ｕ υ （ただし、Ｒはアルキル基またはオキシアルキルキル基
を表わす） で表わされるエポキシウレタン樹脂のアクリル酸または
メタアクリル酸エステルなどが挙げられる。
■に属する単量体としでは、エチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ジエチレングリコール（メタ）アク
リレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、 １．６ヘキサンジオール（メタ）アクリレート
、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペ
ンタエリストールトリ（メタ）アクリレートなどが挙げ
られ、商品名にＡＹＡＲＡＡＤ ＨＸ−２２０、ＨＸ
−６２０、Ｄ−３１０、Ｄ−３２０、Ｄ−３３０、ＤＰ
ＨＡ、 Ｒ−６０４、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０
、ＤＰＣＡ−６０、ＤＰＣＡ−１２０Ｃ以上、日本化薬
■製）、商品名ＮＫエステル８ＰＥ−２００，８ＰＥ−
５００，８ＰＥ−１３００、Ａ−ＢＰＥ−４（以上、新
中村化学■製）等で知られるものを使用できる。
タ）アクリレート、ジエチレングリコール（メタ）アク
リレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、 １．６ヘキサンジオール（メタ）アクリレート
、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペ
ンタエリストールトリ（メタ）アクリレートなどが挙げ
られ、商品名にＡＹＡＲＡＡＤ ＨＸ−２２０、ＨＸ
−６２０、Ｄ−３１０、Ｄ−３２０、Ｄ−３３０、ＤＰ
ＨＡ、 Ｒ−６０４、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０
、ＤＰＣＡ−６０、ＤＰＣＡ−１２０Ｃ以上、日本化薬
■製）、商品名ＮＫエステル８ＰＥ−２００，８ＰＥ−
５００，８ＰＥ−１３００、Ａ−ＢＰＥ−４（以上、新
中村化学■製）等で知られるものを使用できる。
■に属する単量体としては、商品名アロニツクスＭ−６
１００、Ｍ−６２００、Ｍ−６２５０、Ｍ−６３００、
閘−６４００、Ｍ−７１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０
６０、Ｍ−８１００（以上、東亜合成化学■製）などが
挙げられる。■に属し、ポリエステルのウレタン結合含
有するものとしては、商品名アロニツクスＭ−１１００
、アロニツクスＭ−１２００（以上、東亜合成化学■製
）等として知られるものが挙げられる。
１００、Ｍ−６２００、Ｍ−６２５０、Ｍ−６３００、
閘−６４００、Ｍ−７１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０
６０、Ｍ−８１００（以上、東亜合成化学■製）などが
挙げられる。■に属し、ポリエステルのウレタン結合含
有するものとしては、商品名アロニツクスＭ−１１００
、アロニツクスＭ−１２００（以上、東亜合成化学■製
）等として知られるものが挙げられる。
■に属する単量体としては、トリレンジイソシアナート
、インホロンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソ
シアナート、トリメチルへキサメチレンジイソシアナー
ト、リジンジイソシアナート、ジフェニルメタンジイソ
シアナートなどのポリイソシアナートと水酸基含有アク
リルモノマーとの反応物が挙げられ、商品名スミジュー
ルＮ（ヘキサメチレンジイソシアナートのビユレット誘
導体）、スミジュールしくトリレンジイソシアナートの
トリメチロールプロパン変性体）（以上、住友バイエル
ウレタン■製）等で知られるポリイソシアナート化合物
に水酸基含有の（メタ）アクリル酸エステルを付加した
反応物などを使用できる。ここで言う水酸基含有アクリ
ルモノマーとしでは（メタ）アクリル酸エステルが代表
的なもので、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキ
シエチルメタアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリ
レートが好ましい、また、先に熱架橋性線状共重合高分
子の式１で表わされるモノマーを製造するためのものと
しで挙げた水酸基含有の他のアクリルモノマーも使用す
ることができる。
、インホロンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソ
シアナート、トリメチルへキサメチレンジイソシアナー
ト、リジンジイソシアナート、ジフェニルメタンジイソ
シアナートなどのポリイソシアナートと水酸基含有アク
リルモノマーとの反応物が挙げられ、商品名スミジュー
ルＮ（ヘキサメチレンジイソシアナートのビユレット誘
導体）、スミジュールしくトリレンジイソシアナートの
トリメチロールプロパン変性体）（以上、住友バイエル
ウレタン■製）等で知られるポリイソシアナート化合物
に水酸基含有の（メタ）アクリル酸エステルを付加した
反応物などを使用できる。ここで言う水酸基含有アクリ
ルモノマーとしでは（メタ）アクリル酸エステルが代表
的なもので、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキ
シエチルメタアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリ
レートが好ましい、また、先に熱架橋性線状共重合高分
子の式１で表わされるモノマーを製造するためのものと
しで挙げた水酸基含有の他のアクリルモノマーも使用す
ることができる。
上記したような２個以上のエチレン性不飽和結合を有す
る単量体の他、これ等と共に例えば以下に列挙するよう
なエチレン性不飽和結合を１個だけ有する単量体も用い
ることができる。そのような１個のエチレン性不飽和結
合を有する単量体を例示すれば、例えばアクリル酸、メ
タアクリル酸などのカルボキシル基含有不飽和モノマー
：グリシジルアクリレート、グリシジルメタアクリレー
トなどのグリシジル基含有不飽和モノマー：ヒドロキシ
エチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタアクリレー
ト、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロ
ピルメタアクリレート等のアクリル酸またはメタクリル
酸の０２〜Ｃ８ヒドロキシアルキルエステル：ポリエチ
レングリコールモノアクリレート、ポリエチレングリコ
ールモノメタアクリレート、ポリプロピレングリコール
モノアクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタ
アクリレート等のアクリル酸またはメタクリル酸とポリ
エチレングリコールまたはポリプロピレングリコールと
のモノエステル：アクリル酸メチル、アクリル酸エチル
、アクリル酸プロピル、アクリル酸インプロピル、アク
リル酸ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチ
ル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸シクロヘキシル、
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル
酸プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸
ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸オクチル
、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸シクロヘキシル
等のアクリル酸またはメタクリル酸のＣｌ＝ＣＩ２アル
キルまたはシクロアルキルエステル；その他のモノマー
とじて、例えばスチレン、ビニルトルエン、メチルスチ
レン、酢酸ビニル、塩化ビニル、ビニルイソブチルエー
テル、アクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリル
アミド、アルキルグリシジルエーテルのアクリル酸また
はメタクリル酸付加物、ビニルとロリドン、ジシクロペ
ンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ε−カプ
ロラクトン変性ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシ
エチルアクリレートなど：が挙げられる。
る単量体の他、これ等と共に例えば以下に列挙するよう
なエチレン性不飽和結合を１個だけ有する単量体も用い
ることができる。そのような１個のエチレン性不飽和結
合を有する単量体を例示すれば、例えばアクリル酸、メ
タアクリル酸などのカルボキシル基含有不飽和モノマー
：グリシジルアクリレート、グリシジルメタアクリレー
トなどのグリシジル基含有不飽和モノマー：ヒドロキシ
エチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタアクリレー
ト、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロ
ピルメタアクリレート等のアクリル酸またはメタクリル
酸の０２〜Ｃ８ヒドロキシアルキルエステル：ポリエチ
レングリコールモノアクリレート、ポリエチレングリコ
ールモノメタアクリレート、ポリプロピレングリコール
モノアクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタ
アクリレート等のアクリル酸またはメタクリル酸とポリ
エチレングリコールまたはポリプロピレングリコールと
のモノエステル：アクリル酸メチル、アクリル酸エチル
、アクリル酸プロピル、アクリル酸インプロピル、アク
リル酸ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチ
ル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸シクロヘキシル、
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル
酸プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸
ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸オクチル
、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸シクロヘキシル
等のアクリル酸またはメタクリル酸のＣｌ＝ＣＩ２アル
キルまたはシクロアルキルエステル；その他のモノマー
とじて、例えばスチレン、ビニルトルエン、メチルスチ
レン、酢酸ビニル、塩化ビニル、ビニルイソブチルエー
テル、アクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリル
アミド、アルキルグリシジルエーテルのアクリル酸また
はメタクリル酸付加物、ビニルとロリドン、ジシクロペ
ンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ε−カプ
ロラクトン変性ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシ
エチルアクリレートなど：が挙げられる。
何れにしても、上記エチレン性不飽和結合を有する単量
体を使用することにより、本発明の組成物に活性エネル
ギー線による硬化牲が付与される。
体を使用することにより、本発明の組成物に活性エネル
ギー線による硬化牲が付与される。
本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化に用
いる活性エネルギー線としては、既に広く実用化されて
いる紫外線あるいは電子線などが挙げられる。紫外線光
源としては、波長２５０ｎｍ〜４５０ｎｍの光を多く含
む高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ等
が挙げられ、実用的に許容されるランブー被照射物間の
距離において３６５ｎｍの近傍の光の強度が１ｍＷ／ｃ
ｍ２〜１００ｍＷ／ｃｍ２程度のものが好ましい。電子
線照射製雪としては、特に限定はないが、０．５〜２０
Ｍ Ｒａｄの範囲の線Ｎを有する装置が実用的１こ適
している。
いる活性エネルギー線としては、既に広く実用化されて
いる紫外線あるいは電子線などが挙げられる。紫外線光
源としては、波長２５０ｎｍ〜４５０ｎｍの光を多く含
む高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ等
が挙げられ、実用的に許容されるランブー被照射物間の
距離において３６５ｎｍの近傍の光の強度が１ｍＷ／ｃ
ｍ２〜１００ｍＷ／ｃｍ２程度のものが好ましい。電子
線照射製雪としては、特に限定はないが、０．５〜２０
Ｍ Ｒａｄの範囲の線Ｎを有する装置が実用的１こ適
している。
本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は上記のよ
うな活性エネルギー線によって硬化されるか、波長２５
０ｍｒｎ〜４５０ｍｍの活性エネルギー線を用いる場合
には、光重合開始剤を該樹脂組成物中に添加しでおくこ
とが好ましい、光重合開始剤としては、光重合に用いら
れる公知の物貢を特に限定することなく使用できる。
うな活性エネルギー線によって硬化されるか、波長２５
０ｍｒｎ〜４５０ｍｍの活性エネルギー線を用いる場合
には、光重合開始剤を該樹脂組成物中に添加しでおくこ
とが好ましい、光重合開始剤としては、光重合に用いら
れる公知の物貢を特に限定することなく使用できる。
そのような光重合開始剤を具体的に示せば、ベンジル、
ヘンジインアルキルエーテル類：ベンゾイシイソブチル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイ
ン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ヘンジインメチルエーテルなど、ベンゾフェノン頚：ベ
ンゾフェノン、４．４′−どス（ｆｆ、 Ｎ−ジエチル
アミノ）ベンゾフェノン、ベンゾフェノンメチルエーテ
ルなど、アントラキノン類：２−エチルアントラキノン
、２−ｔブチルアントラキノンなど、キサントンｆｉ：
２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジイソプロ
ピルチオキサントンなど、アセトフェノンｍ：２．２−
ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、α、α−ジ
クロロー４−フエノキシアセトフェノシ、ｐ−ｔａｒｔ
−ブチルトリクロロアセトフェノン、Ｏ−ｔｅｒｔ−ブ
チルジクロロアセトフェノン、２．２−ジェトキシアセ
トフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノンなど、
あるいはヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン（イ
ルガキュア１８４ チバ・ガイギー■製）、１−（４
−イソプロピルフェニル〕−２−ヒドロキシ−２−メチ
ルプロパシー１−オン（ダロキュア１１１６ メルク
（ＭＥＲＣＫ）■製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−
１−フェニル−プロパシー１−オン（ダロキュア１１７
３ メルク■製）等が好適に用いられるものとして挙
げられる。これらの光重合開始剤に加えで、光重合促進
剤としてアミノ化合物を添加しでもよい。
ヘンジインアルキルエーテル類：ベンゾイシイソブチル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイ
ン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ヘンジインメチルエーテルなど、ベンゾフェノン頚：ベ
ンゾフェノン、４．４′−どス（ｆｆ、 Ｎ−ジエチル
アミノ）ベンゾフェノン、ベンゾフェノンメチルエーテ
ルなど、アントラキノン類：２−エチルアントラキノン
、２−ｔブチルアントラキノンなど、キサントンｆｉ：
２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジイソプロ
ピルチオキサントンなど、アセトフェノンｍ：２．２−
ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、α、α−ジ
クロロー４−フエノキシアセトフェノシ、ｐ−ｔａｒｔ
−ブチルトリクロロアセトフェノン、Ｏ−ｔｅｒｔ−ブ
チルジクロロアセトフェノン、２．２−ジェトキシアセ
トフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノンなど、
あるいはヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン（イ
ルガキュア１８４ チバ・ガイギー■製）、１−（４
−イソプロピルフェニル〕−２−ヒドロキシ−２−メチ
ルプロパシー１−オン（ダロキュア１１１６ メルク
（ＭＥＲＣＫ）■製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−
１−フェニル−プロパシー１−オン（ダロキュア１１７
３ メルク■製）等が好適に用いられるものとして挙
げられる。これらの光重合開始剤に加えで、光重合促進
剤としてアミノ化合物を添加しでもよい。
光重合促進剤に用いられるアミン化合物とじては、エタ
ノールアミンエチル−４−ジメチルアミノヘンゾエート
、２−（ジメチルアミノ）エチルベンゾエート、ｐ−ジ
メチルアミノ安息香酸ｎ−アミルエステル、ｐ−ジメチ
ルアミノ安息香酸インアミルエステル等が挙げられる。
ノールアミンエチル−４−ジメチルアミノヘンゾエート
、２−（ジメチルアミノ）エチルベンゾエート、ｐ−ジ
メチルアミノ安息香酸ｎ−アミルエステル、ｐ−ジメチ
ルアミノ安息香酸インアミルエステル等が挙げられる。
本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を構成する
前記材料の構成比率は、熱架橋性線状共重合高分子２０
〜８帽１％、好ましくは２０〜５０重量％、エチレン性
不飽和結合を有する単量体８０〜２０重里％、好ましく
は５０〜８０重量％であり、光重合開始剤を用いる場合
において光重合開始剤は、熱架橋性線状共重合高分子お
よびエチレン性不飽和結合を有する単量体より成る樹脂
成分１００重量部に対して０．１〜２０重量部、好まし
くは１〜１０重量部の範囲である。
前記材料の構成比率は、熱架橋性線状共重合高分子２０
〜８帽１％、好ましくは２０〜５０重量％、エチレン性
不飽和結合を有する単量体８０〜２０重里％、好ましく
は５０〜８０重量％であり、光重合開始剤を用いる場合
において光重合開始剤は、熱架橋性線状共重合高分子お
よびエチレン性不飽和結合を有する単量体より成る樹脂
成分１００重量部に対して０．１〜２０重量部、好まし
くは１〜１０重量部の範囲である。
本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を溶液状で
用いる際、あるいはドライフィルムとする際のフィルム
基材であるプラスチックフィルム上（こ塗布する場合な
どに用いる溶剤としては、アルコール類、グリコールエ
ーテル類、グリコールエーテル類等の親木性溶剤などが
挙げられる。もちろん、これら親木性溶剤を主体とし、
それらに必要に応じてメチルエチルケトン、メチルイン
ブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸イソブチ
ル等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素及びそのハロゲン置換体、塩化メチレン、１，１．
１−ｔ−リクロルエタン等の塩素含有の脂肪族溶剤等を
適宜混合したものを用いることもできる。尚、これら溶
剤は、本発明の組成物の現像液として用いることもでき
る。
用いる際、あるいはドライフィルムとする際のフィルム
基材であるプラスチックフィルム上（こ塗布する場合な
どに用いる溶剤としては、アルコール類、グリコールエ
ーテル類、グリコールエーテル類等の親木性溶剤などが
挙げられる。もちろん、これら親木性溶剤を主体とし、
それらに必要に応じてメチルエチルケトン、メチルイン
ブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸イソブチ
ル等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素及びそのハロゲン置換体、塩化メチレン、１，１．
１−ｔ−リクロルエタン等の塩素含有の脂肪族溶剤等を
適宜混合したものを用いることもできる。尚、これら溶
剤は、本発明の組成物の現像液として用いることもでき
る。
本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物には、上記
光重合開始剤あるいは溶剤の他、例えば縮合架橋の触媒
、熱重合禁止剤、着色剤（染料及び顔料）、微粒子状充
填剤、密着促進剤、可塑剤等の添加物を必要に応じて含
有させることができる。
光重合開始剤あるいは溶剤の他、例えば縮合架橋の触媒
、熱重合禁止剤、着色剤（染料及び顔料）、微粒子状充
填剤、密着促進剤、可塑剤等の添加物を必要に応じて含
有させることができる。
縮合架橋触媒としては、パラトルエンスルホン酸に代表
されるスルホン酸、ギ酸などのカルボン酸等が挙げられ
る。熱重合禁止剤としては、ハイドロキノンおよびその
誘導体、パラメトキシフェノール、フェノチアジン等が
挙げられる。着色剤としては、油溶性染料及び顔料が活
性エネルギー線の透過を実質的に防げない範囲で添加さ
れ得る。充填剤は、塗膜の硬度上昇、着色、密着性、機
械的強度上昇のために、塗料一般で使用される体質顔料
、プラスチック微粒子等が用いられる。
されるスルホン酸、ギ酸などのカルボン酸等が挙げられ
る。熱重合禁止剤としては、ハイドロキノンおよびその
誘導体、パラメトキシフェノール、フェノチアジン等が
挙げられる。着色剤としては、油溶性染料及び顔料が活
性エネルギー線の透過を実質的に防げない範囲で添加さ
れ得る。充填剤は、塗膜の硬度上昇、着色、密着性、機
械的強度上昇のために、塗料一般で使用される体質顔料
、プラスチック微粒子等が用いられる。
密着促進剤としては、無機貢表面改貢剤としてのシラン
カップリング剤、低合子界面活性剤が本発明の組成物に
有効である。
カップリング剤、低合子界面活性剤が本発明の組成物に
有効である。
本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、ガラス
の保護被覆、７４着剤、液晶表示素子の絶縁層、あるい
はガラス板上への透明着色または不透明着色、防水性付
与、澄水性付与、耐汚染性付与等の表面改質に用いるこ
とができる。また、耐薬品性のすぐれた点を利用しガラ
スのエツチングまたは無電解銅メッキ等のメタライジン
グへのマスキング材料、プリント配線基板のはんだマス
ク等に有用である。また、耐水性を利用した微細な液流
路、冷却路、あるいはノズル、特にインクジェット記録
ヘッドにあけるノズルの形成に有用である。更には、水
性、油性の両方のインクに用いられるスクリーン印刷版
用感光液ないしドライフィルムとして他に類例のない耐
久性のものを得ることもできる。
の保護被覆、７４着剤、液晶表示素子の絶縁層、あるい
はガラス板上への透明着色または不透明着色、防水性付
与、澄水性付与、耐汚染性付与等の表面改質に用いるこ
とができる。また、耐薬品性のすぐれた点を利用しガラ
スのエツチングまたは無電解銅メッキ等のメタライジン
グへのマスキング材料、プリント配線基板のはんだマス
ク等に有用である。また、耐水性を利用した微細な液流
路、冷却路、あるいはノズル、特にインクジェット記録
ヘッドにあけるノズルの形成に有用である。更には、水
性、油性の両方のインクに用いられるスクリーン印刷版
用感光液ないしドライフィルムとして他に類例のない耐
久性のものを得ることもできる。
上記の如き各種用途に本発明の活性エネルギー線硬化型
樹脂組成物を供する場合の使用方法を例示すれば、例え
ば以下のようである。
樹脂組成物を供する場合の使用方法を例示すれば、例え
ば以下のようである。
１）本発明の組成物を支持体上に１〜１００μの範囲の
所望の厚さに塗布し、溶剤を蒸発乾燥し、しかる後に活
性エネルギー線を照射する０次いで、支持体を少なくと
も１００℃の温度で５分〜６０分程度加熱する。
所望の厚さに塗布し、溶剤を蒸発乾燥し、しかる後に活
性エネルギー線を照射する０次いで、支持体を少なくと
も１００℃の温度で５分〜６０分程度加熱する。
２）本発明の組成物を支持体上に１〜１００μｍの範囲
の所望の厚さに塗布し、溶剤を蒸発乾燥する。
の所望の厚さに塗布し、溶剤を蒸発乾燥する。
しかる後に活性エネルギー線の透過率が少なくとも１％
以下のマスクパターンを該組成物上にと着し、マスク上
方から活性エネルギー線を照射する０次いで、該組成物
を溶解する現像液で現像し非照射部を除去する。次いで
、支持体を少なくとも１００°Ｃの温度で５分〜６０分
加熱する。
以下のマスクパターンを該組成物上にと着し、マスク上
方から活性エネルギー線を照射する０次いで、該組成物
を溶解する現像液で現像し非照射部を除去する。次いで
、支持体を少なくとも１００°Ｃの温度で５分〜６０分
加熱する。
以上のようにして得られる硬化膜は、解像度はもとより
、２着性、機械的強度、耐水性および耐薬品性にも優れ
たものである。
、２着性、機械的強度、耐水性および耐薬品性にも優れ
たものである。
本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、パター
ン形成材料としての優れた感度と解像度を有しでおり、
高密度で高解像度のパターンを形成することができる。
ン形成材料としての優れた感度と解像度を有しでおり、
高密度で高解像度のパターンを形成することができる。
しかも形成されたパターンは、被覆材として見るとき、
密着性、機械的強度、耐薬品性にすぐれているので、長
期の耐久性を求められる保護被覆ないし構造部材として
使用することが可能である。
密着性、機械的強度、耐薬品性にすぐれているので、長
期の耐久性を求められる保護被覆ないし構造部材として
使用することが可能である。
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例］
メチルメタアクリレートとＮ−メチロールアクリルアミ
ドとニラソーキュアＵＭ−Ｉ Ｍ京１とをメチルセロソ
ルブ中、（メチルメタアクリレート／Ｎ−メチロールア
クリルアミド／ニラソーキュアＵ Ｍ、−Ｉ Ｍ ＝
５０／２５／２５モル比）の割合で溶液重合し、重量平
均分子量５．７Ｘ＋Ｏ’の熱架橋性を有する線状高分子
（これをＰ−１とする）を得た。
ドとニラソーキュアＵＭ−Ｉ Ｍ京１とをメチルセロソ
ルブ中、（メチルメタアクリレート／Ｎ−メチロールア
クリルアミド／ニラソーキュアＵ Ｍ、−Ｉ Ｍ ＝
５０／２５／２５モル比）の割合で溶液重合し、重量平
均分子量５．７Ｘ＋Ｏ’の熱架橋性を有する線状高分子
（これをＰ−１とする）を得た。
１１１：新日槽化工（株）の製品名で
ＣＨ３
ＣＨ２＝Ｃ
Ｃ０Ｏ−ＣＨｚＣＨ２−ＯＪＯＮＨ−（ＣＨ２ｈ ＣＨ
３の構造を有するモノマーである。
３の構造を有するモノマーである。
この線状高分子Ｐ−１％用い下記組成の活性エネルギー
線便化型樹脂組成物を調整した。
線便化型樹脂組成物を調整した。
Ｐ−１１００重量部
ライトエステル３００２Ｍ本２ ９０ 〃ペンタ
エリスリトールトリアクリレート５Ｑ ｌ／ ベンゾフェノン ９〃ミヒラーのケ
トン ３〃パラトルエンスルホン酸
２．５〃クリスタルバイオレツト
０，５〃メチルセロソルブ ２５０
／／本２：共栄社油脂化学工業（株）製のエポキシ樹
脂のメタクリル酸エステル この組成物を、洗浄液グイフロン（ダイキンエ業■製）
中で超音波清浄処理し乾燥させたＩＯｃｍＸｌｏｃｍの
パイレックス基板上に、乾燥後の厚さが約５０μｍとな
るようにパーコーターで塗布した。この組成物の表面上
に厚さ１６ｕ＋のポリエチレンテレフタレートフィルム
（ルミラーＴタイプ）をラミネートした。次いで解像度
テスト用のマスクを用い、中心波長が３６５ｎｍ近傍で
光のエネルギーが照射表面てＩ ２ｍＷ／ ｃｍ２であ
るような超高圧水銀灯を用いた半導体用露光光源「マス
クアライメント装置ｆＭＡ−１０Ｊ （ミカサ■製）
によって２０秒間露光した。露光後１．１．１− トリ
クロルエタンを用いて超音波清浄機中で４５秒間の現像
を実施した。現像後の樹脂組成物の解像度は幅５０鱗の
線／間隔のパターンを正確に再現していた。
エリスリトールトリアクリレート５Ｑ ｌ／ ベンゾフェノン ９〃ミヒラーのケ
トン ３〃パラトルエンスルホン酸
２．５〃クリスタルバイオレツト
０，５〃メチルセロソルブ ２５０
／／本２：共栄社油脂化学工業（株）製のエポキシ樹
脂のメタクリル酸エステル この組成物を、洗浄液グイフロン（ダイキンエ業■製）
中で超音波清浄処理し乾燥させたＩＯｃｍＸｌｏｃｍの
パイレックス基板上に、乾燥後の厚さが約５０μｍとな
るようにパーコーターで塗布した。この組成物の表面上
に厚さ１６ｕ＋のポリエチレンテレフタレートフィルム
（ルミラーＴタイプ）をラミネートした。次いで解像度
テスト用のマスクを用い、中心波長が３６５ｎｍ近傍で
光のエネルギーが照射表面てＩ ２ｍＷ／ ｃｍ２であ
るような超高圧水銀灯を用いた半導体用露光光源「マス
クアライメント装置ｆＭＡ−１０Ｊ （ミカサ■製）
によって２０秒間露光した。露光後１．１．１− トリ
クロルエタンを用いて超音波清浄機中で４５秒間の現像
を実施した。現像後の樹脂組成物の解像度は幅５０鱗の
線／間隔のパターンを正確に再現していた。
次にこの基板を熱乾燥し、ＩＯＪ／ｃｍ２の後露光を実
施した。この基板に工業用セロテハンテーブを用いたク
ロス力・ントテーブ剥離試験を実施したところ、＋００
／＋００の密着性を示し、クロスカットの明瞭な傷取外
は完全にと着していた。
施した。この基板に工業用セロテハンテーブを用いたク
ロス力・ントテーブ剥離試験を実施したところ、＋００
／＋００の密着性を示し、クロスカットの明瞭な傷取外
は完全にと着していた。
また、この基板をＰＨ＝９．０のＮａＯＨ水溶液中に浸
漬し、４時間煮沸試験を実施した。煮沸試験後に、再度
クロスカットテープ剥Ｍ試験および５０μのパターンの
部分の剥離試験を実施したが、いづれにおいても剥離、
浮き等のと着性の低下はみられなかった。また、塗膜の
白化等の変質も全く認められなかった。
漬し、４時間煮沸試験を実施した。煮沸試験後に、再度
クロスカットテープ剥Ｍ試験および５０μのパターンの
部分の剥離試験を実施したが、いづれにおいても剥離、
浮き等のと着性の低下はみられなかった。また、塗膜の
白化等の変質も全く認められなかった。
実施例２
メチルメタアクリレートとブトキシメチルアクリルアミ
ドとニツソキュアＵＭ−１京３とをメチルセロソルブ中
、（メチルメタアクリレート／ブトキシメチルアクリル
アミド／二・ンソーキュアＵＭ−１＝５０／＋５／３５
）の割合で溶液重合し、重量平均分子量８．７ＸＩＯ’
の熱架橋性を有する線状高分子（これをＰ−２とする）
を得た。
ドとニツソキュアＵＭ−１京３とをメチルセロソルブ中
、（メチルメタアクリレート／ブトキシメチルアクリル
アミド／二・ンソーキュアＵＭ−１＝５０／＋５／３５
）の割合で溶液重合し、重量平均分子量８．７ＸＩＯ’
の熱架橋性を有する線状高分子（これをＰ−２とする）
を得た。
京３：新日槽化工（株）の製品名で
ＣＨ２・ＣＨ
Ｃ０Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−０−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−
ＣＨ３の構造を有するモノマーである。
ＣＨ３の構造を有するモノマーである。
この線状高分子Ｐ−２を用い、下記組成の活性エネルギ
ー線硬化型樹脂組成物を調整した。
ー線硬化型樹脂組成物を調整した。
Ｐ’−２１００重量部
ＫＡＹＡ 日ＡＤ ＤＰＣＡ−６０寧４５０〃
アゾアレジン ＥＰＵ−６車５
のアクリル酸エステル １００〃ベンゾフエノ
ン ９ 〃ミヒラーのケトン
３ 〃パラトルエンスルホン酸２．５１／ クリスタルバイオレット ０．５〃メチルセ
ロソルブ ３００〃京４：日本化薬（
株）製の脂肪族系多官能アクリルオリゴマ一 本５：旭電化（株）製のウレタン変性エポキシ樹脂 この組成物を用い、ＩＯｃｍｘ ｌ０ｃｍパイレックス
基板上・に実施例１と同様にして膜厚４０μで５０−の
線および間隔のパターンを形成した。現像液を蒸発乾燥
後、同一の光源を使用して１０分間の後露光を実施した
０次いで１５０℃で１５分間熱処理実施した。
ン ９ 〃ミヒラーのケトン
３ 〃パラトルエンスルホン酸２．５１／ クリスタルバイオレット ０．５〃メチルセ
ロソルブ ３００〃京４：日本化薬（
株）製の脂肪族系多官能アクリルオリゴマ一 本５：旭電化（株）製のウレタン変性エポキシ樹脂 この組成物を用い、ＩＯｃｍｘ ｌ０ｃｍパイレックス
基板上・に実施例１と同様にして膜厚４０μで５０−の
線および間隔のパターンを形成した。現像液を蒸発乾燥
後、同一の光源を使用して１０分間の後露光を実施した
０次いで１５０℃で１５分間熱処理実施した。
このようにして形成された硬化パターンを有する基板を
、ＰＨ＝９．０のＮａＯＨ水溶液中に浸漬し、４時間煮
沸試験を実施した。煮沸試験終了後、基板を水洗、乾燥
し、クロスカットテープ剥Ｎ試験およびパターン部分の
剥離試験を実施した。その結果、密着性は＋００／＋０
０およびパターン部分の剥離はなかった。
、ＰＨ＝９．０のＮａＯＨ水溶液中に浸漬し、４時間煮
沸試験を実施した。煮沸試験終了後、基板を水洗、乾燥
し、クロスカットテープ剥Ｎ試験およびパターン部分の
剥離試験を実施した。その結果、密着性は＋００／＋０
０およびパターン部分の剥離はなかった。
実施例３〜１゜
上記実施例で得られた線状高分子Ｐ−１，Ｐ−２を用い
、表１のような組成の活性エネルギー線硬化型樹脂組成
物（Ｎｏ、 ３〜１０）を調整した。
、表１のような組成の活性エネルギー線硬化型樹脂組成
物（Ｎｏ、 ３〜１０）を調整した。
これらの組成物を用い、ＩＯｃｍＸ ｌ０ｃｍパイレッ
クス基板上に実施例１と同様にしで膜厚４０μで５０鱗
の線および間隔のパターンを形成した。現像液を蒸発乾
燥後、同一の光源を使用して１０分間の後露光８実施し
た。次いで１５０°Ｃで１５分間熱宛理実施した。
クス基板上に実施例１と同様にしで膜厚４０μで５０鱗
の線および間隔のパターンを形成した。現像液を蒸発乾
燥後、同一の光源を使用して１０分間の後露光８実施し
た。次いで１５０°Ｃで１５分間熱宛理実施した。
このようにして形成された硬化パターンを有する基板を
、ＰＨ＝ ９．０のＮａＯＨ水溶液中に浸漬し、４時間
煮沸試験を実施した。煮沸試験終了後、基板を水洗、乾
燥し、クロスカットテープ剥Ｈ試験およびパターン部分
の剥離試験を実施した。その結果、Ｎｏ、 ３〜１０の
すべてにおいで２着性は＋００／１００およびパターン
部分の剥離はなかった。
、ＰＨ＝ ９．０のＮａＯＨ水溶液中に浸漬し、４時間
煮沸試験を実施した。煮沸試験終了後、基板を水洗、乾
燥し、クロスカットテープ剥Ｈ試験およびパターン部分
の剥離試験を実施した。その結果、Ｎｏ、 ３〜１０の
すべてにおいで２着性は＋００／１００およびパターン
部分の剥離はなかった。
比較例１
メチルメタクリレートと２−ヒドロキシエチルメタクリ
レートとブチルアクリレート（＝ ６０／３０／１０モ
ル比）をメチルメンブチルケトン中で重合し重量平均分
子量 ８．８ＸＩＯ’の熱可塑在線状高分子化合物を得
た（これをＬＰ−１とする）。
レートとブチルアクリレート（＝ ６０／３０／１０モ
ル比）をメチルメンブチルケトン中で重合し重量平均分
子量 ８．８ＸＩＯ’の熱可塑在線状高分子化合物を得
た（これをＬＰ−１とする）。
ＬＰ−１を用いた他は実施例１と全く同様にしで活性エ
ネルギー線硬化型樹脂組成物を調整しかつパターン形成
を行なった。
ネルギー線硬化型樹脂組成物を調整しかつパターン形成
を行なった。
得られたパターンは、実施例１とほぼ同様の解像度を有
しでいた。しかしながら、煮沸試験においでは、剥離試
験開始前に基板からのパターンの剥離が生じ、耐水性、
茫＠性の低いものであった。
しでいた。しかしながら、煮沸試験においでは、剥離試
験開始前に基板からのパターンの剥離が生じ、耐水性、
茫＠性の低いものであった。
比較例２
メチルメタアクリレートとテトラヒドロフルフリ−ルア
クリレートとブトキシメチルアクリルアミド（＝ ７５
／＋５／１０） ！メチルメソブチルケトンで重合し重
量平均分子量１．２Ｘ １０’の熱硬化性を有する線状
高分子化合物（これをＬＰ−２とする）を得た。
クリレートとブトキシメチルアクリルアミド（＝ ７５
／＋５／１０） ！メチルメソブチルケトンで重合し重
量平均分子量１．２Ｘ １０’の熱硬化性を有する線状
高分子化合物（これをＬＰ−２とする）を得た。
Ｐ−１のわりにＬＰ−２を用いた他は実施例］と全く同
様にして活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を調整し、
かつパターン形成を行なった。
様にして活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を調整し、
かつパターン形成を行なった。
得られたパターンは、実施例１とほぼ同様の解像度を暮
しでいた。しかしながら、煮沸試験においでは、剥離試
験開始前に基板からのパターンの剥離が生じ、と着性の
低いものであった。
しでいた。しかしながら、煮沸試験においでは、剥離試
験開始前に基板からのパターンの剥離が生じ、と着性の
低いものであった。
以上の実施例および比較例から明らかなように、本発明
の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、高解像度のパ
ターンの形成が可能であると同時に、支持体にしで高い
三着性を有しており、また優れた機械的強度ならびに耐
薬品性を有するものであることがわかる。
の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、高解像度のパ
ターンの形成が可能であると同時に、支持体にしで高い
三着性を有しており、また優れた機械的強度ならびに耐
薬品性を有するものであることがわかる。
ぐつ
−〇
ニー
匡
手続補正書（自発）
昭和６０年７月１９日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）（ｉ）共重合体構成成分として下記一般式 I で表
わされるモノマー５〜３０モル％および下記一般式IIで
表わされるモノマー５〜５０モル％を含有する熱架橋性
線状共重合高分子と、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （ただし、Ｒ＾１は水素または炭素原子数が１〜３のア
ルキルもしくはヒドロキシアルキル基、Ｒ＾２は水素ま
たは炭素原子数が１〜４のヒドロキシ基を有してもよい
アルキルもしくはアシル基、Ｒ＾３は水素または炭素原
子数が１〜３のアルキル基、Ｒ＾４はその内部にエーテ
ル結合を有してもよく、且つハロゲン原子で置換されて
もよい２価の炭化水素基、Ｒ＾５は炭素原子数が３〜１
２のアルキルもしくはフェニルアルキル基またはフェニ
ル基を表わす。）（ｉｉ）エチレン性不飽和結合を有す
る単量体とを有してなる活性エネルギー線硬化型樹脂組
成物。 ２）前記（ｉ）の熱架橋性線状共重合高分子２０〜８０
重量部、および前記（ｉｉ）のエチレン性不飽和結合を
有する単量体８０〜２０重量部を含有することを特徴と
する特許請求の範囲第１項に記載の活性エネルギー線硬
化型樹脂組成物。 ３）前記（ｉ）の熱架橋性線状共重合高分子及び前記（
ｉｉ）のエチレン性不飽和結合を有する単量体の合計量
１００重量部に対して、０．１〜２０重量％の光重合開
始剤を配合して成ることを特徴とする特許請求の範囲第
１項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60127125A JPS61285201A (ja) | 1985-06-13 | 1985-06-13 | 活性エネルギ−線硬化型樹脂組成物 |
| DE19863619914 DE3619914A1 (de) | 1985-06-13 | 1986-06-13 | Durch strahlen mit wirksamer energie haertbare harzmischung |
| US07/581,084 US5043363A (en) | 1985-06-13 | 1990-09-12 | Active energy ray-curing resin composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60127125A JPS61285201A (ja) | 1985-06-13 | 1985-06-13 | 活性エネルギ−線硬化型樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61285201A true JPS61285201A (ja) | 1986-12-16 |
| JPH0415242B2 JPH0415242B2 (ja) | 1992-03-17 |
Family
ID=14952226
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60127125A Granted JPS61285201A (ja) | 1985-06-13 | 1985-06-13 | 活性エネルギ−線硬化型樹脂組成物 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5043363A (ja) |
| JP (1) | JPS61285201A (ja) |
| DE (1) | DE3619914A1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0268519A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-03-08 | Fujimori Kogyo Kk | 液晶表示パネル用電極基板製造用の反応性耐透気性ポリマーおよびそれを用いた液晶表示パネル用電極基板 |
| JP2002294215A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-10-09 | Sekisui Chem Co Ltd | 一液型光硬化性樹脂又は一液型光・熱硬化性樹脂を用いた封止方法 |
| US6783809B2 (en) | 1992-01-27 | 2004-08-31 | Huntsman Advanced Materials Americas Inc. | Photosensitive diacrylate and dimethacrylate compositions |
| WO2017208555A1 (ja) * | 2016-05-30 | 2017-12-07 | 協立化学産業株式会社 | エポキシ樹脂、完全変性エポキシ樹脂及びそれらを含む硬化性組成物 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2604173B2 (ja) * | 1987-02-25 | 1997-04-30 | 東京応化工業株式会社 | 耐熱性感光性樹脂組成物 |
| JP2604174B2 (ja) * | 1987-03-25 | 1997-04-30 | 東京応化工業株式会社 | 耐熱性感光性樹脂組成物 |
| DE4003435A1 (de) * | 1990-02-06 | 1991-08-08 | Bayer Ag | Carbonsaeure-(meth)acryloylaminoalkylester in adhaesivkomponenten zur behandlung kollagenhaltiger materialien |
| US5994425A (en) * | 1996-08-29 | 1999-11-30 | Xerox Corporation | Curable compositions containing photosensitive high performance aromatic ether polymers |
| US6093455A (en) * | 1997-05-23 | 2000-07-25 | Deco Patents, Inc. | Method and compositions for decorating glass |
| US6852241B2 (en) | 2001-08-14 | 2005-02-08 | Lexmark International, Inc. | Method for making ink jet printheads |
| US7329773B2 (en) * | 2002-12-12 | 2008-02-12 | Surface Specialties, S.A. | Process for producing carbamoyloxy (meth) acrylates and new carbamoyloxy (meth)acrylates |
| JP4697197B2 (ja) * | 2006-10-30 | 2011-06-08 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット記録方法 |
| JP5997758B2 (ja) | 2011-03-29 | 2016-09-28 | エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド | 有機電子装置の製造方法 |
| JP5474020B2 (ja) | 2011-09-29 | 2014-04-16 | 富士フイルム株式会社 | 撮影装置、撮影プログラム、及び撮影方法 |
Family Cites Families (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1095288A (en) * | 1963-08-01 | 1967-12-13 | Ici Ltd | Polymer dispersions |
| US3450613A (en) * | 1964-03-09 | 1969-06-17 | Bausch & Lomb | Epoxy adhesive containing acrylic acid-epoxy reaction products and photosensitizers |
| US3607977A (en) * | 1968-09-12 | 1971-09-21 | Shell Oil Co | Block copolymer compositions exhibiting altered surface activity |
| US3655826A (en) * | 1969-05-08 | 1972-04-11 | Rohm & Haas | Acrylic elastomer impact modifier |
| JPS495229B1 (ja) * | 1970-02-06 | 1974-02-06 | ||
| US3764324A (en) * | 1972-04-13 | 1973-10-09 | Mc Call Corp | Photographic polymer composition and process for crosslinking |
| DE2411753A1 (de) * | 1974-03-12 | 1975-10-16 | Hoechst Ag | Strahlenhaertende massen |
| DE2610437A1 (de) * | 1975-03-13 | 1976-09-16 | Continental Can Co | Fotopolymerisierbare verbindungen mit einem darin eingebrachten carboxylhaltigen polymeren zur verbesserten haftung auf metallsubstraten |
| US4163809A (en) * | 1975-10-06 | 1979-08-07 | Scm Corporation | Radiation polymerization of polymeric binder coating compositions |
| US4125503A (en) * | 1976-10-12 | 1978-11-14 | Mobil Oil Corporation | Ultraviolet curing emulsion systems |
| JPS53130779A (en) * | 1977-04-20 | 1978-11-15 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Molded metallized plastic article and its manufacture |
| JPS6037140B2 (ja) * | 1977-11-29 | 1985-08-24 | 三菱レイヨン株式会社 | アクリロニトリル系重合体組成物 |
| US4424100A (en) * | 1979-05-04 | 1984-01-03 | Mobil Oil Corporation | Method for producing articles by deformation substrates having a radiation cured substrate |
| US4429076A (en) * | 1979-06-13 | 1984-01-31 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Thermoplastic polymer composition |
| US4299938A (en) * | 1979-06-19 | 1981-11-10 | Ciba-Geigy Corporation | Photopolymerizable and thermally polymerizable compositions |
| JPS5743876A (en) * | 1980-08-29 | 1982-03-12 | Canon Inc | Ink jet head |
| US4417251A (en) * | 1980-03-06 | 1983-11-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet head |
| US4343919A (en) * | 1980-03-10 | 1982-08-10 | The Dow Chemical Company | Addition polymerizable polyethylenic polymers having pendant acryloyl urethane groups |
| JPS5739244A (en) * | 1980-08-20 | 1982-03-04 | Dainippon Screen Mfg | Automatic patterning needle selector in knitting machine |
| JPS5787409A (en) * | 1980-11-20 | 1982-05-31 | Hitachi Chem Co Ltd | Photo-setting resin composition |
| JPS57102366A (en) * | 1980-12-18 | 1982-06-25 | Canon Inc | Ink jet head |
| US4366289A (en) * | 1981-04-20 | 1982-12-28 | The Dow Chemical Company | Acrylate-grafted elastomers as polymer modifiers |
| US4437100A (en) * | 1981-06-18 | 1984-03-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink-jet head and method for production thereof |
| JPS58220754A (ja) * | 1982-06-18 | 1983-12-22 | Canon Inc | インクジエツト記録ヘツド |
| JPS5919168A (ja) * | 1982-07-26 | 1984-01-31 | Canon Inc | インクジエツト記録ヘツド |
| US4524183A (en) * | 1983-10-31 | 1985-06-18 | Union Carbide Corporation | High solids acrylic coating systems |
| US4533975A (en) * | 1983-12-27 | 1985-08-06 | North American Philips Corporation | Radiation hardenable coating and electronic components coated therewith |
| JPS60141753A (ja) * | 1983-12-28 | 1985-07-26 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | 低収縮性不飽和ポリエステル樹脂組成物 |
| US4554322A (en) * | 1984-03-20 | 1985-11-19 | Westinghouse Electric Corp. | Room temperature curable polybutadiene resins with copper ethylacetoacetate catalyst |
| US4688054A (en) * | 1985-07-09 | 1987-08-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid jet recording head |
| US4688052A (en) * | 1985-07-13 | 1987-08-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid jet recording head having a layer of a resin composition curable with an active energy ray |
| JPS6216147A (ja) * | 1985-07-13 | 1987-01-24 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘツド |
| US4688053A (en) * | 1985-07-13 | 1987-08-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid jet recording head having a layer of a resin composition curable with an active energy ray |
| US4688056A (en) * | 1985-07-13 | 1987-08-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid jet recording head having a layer of a resin composition curable with an active energy ray |
-
1985
- 1985-06-13 JP JP60127125A patent/JPS61285201A/ja active Granted
-
1986
- 1986-06-13 DE DE19863619914 patent/DE3619914A1/de active Granted
-
1990
- 1990-09-12 US US07/581,084 patent/US5043363A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0268519A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-03-08 | Fujimori Kogyo Kk | 液晶表示パネル用電極基板製造用の反応性耐透気性ポリマーおよびそれを用いた液晶表示パネル用電極基板 |
| US6783809B2 (en) | 1992-01-27 | 2004-08-31 | Huntsman Advanced Materials Americas Inc. | Photosensitive diacrylate and dimethacrylate compositions |
| JP2002294215A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-10-09 | Sekisui Chem Co Ltd | 一液型光硬化性樹脂又は一液型光・熱硬化性樹脂を用いた封止方法 |
| WO2017208555A1 (ja) * | 2016-05-30 | 2017-12-07 | 協立化学産業株式会社 | エポキシ樹脂、完全変性エポキシ樹脂及びそれらを含む硬化性組成物 |
| JP2017214462A (ja) * | 2016-05-30 | 2017-12-07 | 協立化学産業株式会社 | エポキシ樹脂、完全変性エポキシ樹脂及びそれらを含む硬化性組成物 |
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