JPS61285381A - 局部加熱室を有する真空炉 - Google Patents
局部加熱室を有する真空炉Info
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- JPS61285381A JPS61285381A JP12785285A JP12785285A JPS61285381A JP S61285381 A JPS61285381 A JP S61285381A JP 12785285 A JP12785285 A JP 12785285A JP 12785285 A JP12785285 A JP 12785285A JP S61285381 A JPS61285381 A JP S61285381A
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
- F27B9/02—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity of multiple-track type; of multiple-chamber type; Combinations of furnaces
- F27B9/028—Multi-chamber type furnaces
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/0006—Details, accessories not peculiar to any of the following furnaces
- C21D9/0018—Details, accessories not peculiar to any of the following furnaces for charging, discharging or manipulation of charge
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/0062—Heat-treating apparatus with a cooling or quenching zone
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- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
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- F27B9/14—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本願発明は次に述べる問題点の解決を目的とする。
（産業上の利用分野） この発明は被処理物を炉の入口
から炉内を通して炉の出口へ向けて搬送する過程で、炉
内に備わった加熱手段によってその被処理物に高温の熱
処理を加えることができるようにした真空炉に関するも
のである。
から炉内を通して炉の出口へ向けて搬送する過程で、炉
内に備わった加熱手段によってその被処理物に高温の熱
処理を加えることができるようにした真空炉に関するも
のである。
（従来の技術） この種の真空炉においては炉内に備え
られる加熱手段によって被処理物が加熱されるのみでな
く、被処理物を搬送する為の搬送手段も加熱されてしま
う為、その搬送手段には高温に対する防護が必要となっ
て構成が複雑化する上に、加熱の為に必要な熱エネルギ
ーも多量に必要となる不経済性があり、更には、炉内の
温度分布も斑になり易く被処理物に対する熱処理の品質
が低下し易い問題点があった。
られる加熱手段によって被処理物が加熱されるのみでな
く、被処理物を搬送する為の搬送手段も加熱されてしま
う為、その搬送手段には高温に対する防護が必要となっ
て構成が複雑化する上に、加熱の為に必要な熱エネルギ
ーも多量に必要となる不経済性があり、更には、炉内の
温度分布も斑になり易く被処理物に対する熱処理の品質
が低下し易い問題点があった。
（発明が解決しようとする問題点） この発明は上記従
来の問題点を除き、搬送手段に対する熱の防護措置が不
要でその構成を簡易化でき、その上加熱に必要な熱エネ
ルギーが少なくて良く、更には被処理物に対し高品質の
熱処理を加え得るようにした真空炉を提供しようとする
ものである。
来の問題点を除き、搬送手段に対する熱の防護措置が不
要でその構成を簡易化でき、その上加熱に必要な熱エネ
ルギーが少なくて良く、更には被処理物に対し高品質の
熱処理を加え得るようにした真空炉を提供しようとする
ものである。
本願発明の構成は次の通りである。
（問題点を解決する為の手段） 本願発明は前記請求の
範囲記載の通りの手段を講じたものであってその作用は
次の通りである。
範囲記載の通りの手段を講じたものであってその作用は
次の通りである。
（作用） 被処理物を乗せた台が真空容器の入口から入
ると、その台を搬送手段によって局部加熱室の下へ搬送
し、そこで上昇手段により台を持上げて被処理物を局部
加熱室内に位置させ高温の熱処理を加える。次にその台
を下降させたならば再び搬送手段によりそれを次の局部
加熱室の下へ搬送し、そこで同様の操作を行なって被処
理物に高温の熱処理を加える。このような操作を繰り返
し行ない、被処理物に対する所定の熱処理を終えると、
台は出口へ送り出される。
ると、その台を搬送手段によって局部加熱室の下へ搬送
し、そこで上昇手段により台を持上げて被処理物を局部
加熱室内に位置させ高温の熱処理を加える。次にその台
を下降させたならば再び搬送手段によりそれを次の局部
加熱室の下へ搬送し、そこで同様の操作を行なって被処
理物に高温の熱処理を加える。このような操作を繰り返
し行ない、被処理物に対する所定の熱処理を終えると、
台は出口へ送り出される。
（実施例） 以下本願の実施例を示す図面について説明
する。連続式真空炉の一例として示す焼結炉ｌにおいて
、２は真空容器でその内部には脱ワツクス室３、焼結室
４、真空冷却室５、ガス冷却室６、置換室７等を有して
いる。上記真空容器２は金属材料で形成され、各室毎に
分離できるようになっている。またこれは必要に応じて
水冷構造にされる。向上記各室は金属製の仕切壁８，８
・・・によって他の室と仕切られている。９は装入口、
１０は搬出口、１１．１１・・・は連通口を夫々示し、
各々昇降自在の扉１２．１３．１４．１４・・・によっ
て開閉自在になっている。次に１５．１５・・・は上記
各界の開閉装置を示す。これにおいて１６は昇降枠で、
真空容器２に取付けられた図示外のガイドによって一定
の位置を上下動し得るようになっている。 １７は昇降
枠１６用の昇降装置（例えばエアシリンダー）を示す、
１８は扉と昇降枠１６とを連結する平行リンクを示す、
このような構成の開閉装置１５によれば、昇降装置１７
により昇降枠１６が下降し扉１２（又は１３．１４）が
装入口９ （又は搬出口１０、連通口１１）と対向した
状態においてその扉の下部が図示外の受止部材によって
受は止められると扉のそれ以上の下降が阻止される。こ
の状態において、昇降枠１６が更に下降すると扉にはそ
れを上記冬目の周縁に押し付ける力が加わる。その結果
真空容器２の内部あるいは仕切壁８によって仕切られた
各室の内部の密閉状態が達成される。一方昇降枠１６が
上昇すると上記押し付は力が消失した後、扉は昇降枠１
６と共に上方へ移動し、冬目が開放される。次に２０は
搬送手段として例示する搬送用ローラを示し、何れも軸
受２１により真空容器２に対して回動自在に取付けたシ
ャフト２２とそのシャフト２２に取付けた受部材２３か
ら成る。上記シャフト２２の一端はシール体２４を通し
て真空容器２の外部に突出させてあり、そこにはチェー
ン等の連動手段２５を介して駆動装置２６が連結しであ
る。
する。連続式真空炉の一例として示す焼結炉ｌにおいて
、２は真空容器でその内部には脱ワツクス室３、焼結室
４、真空冷却室５、ガス冷却室６、置換室７等を有して
いる。上記真空容器２は金属材料で形成され、各室毎に
分離できるようになっている。またこれは必要に応じて
水冷構造にされる。向上記各室は金属製の仕切壁８，８
・・・によって他の室と仕切られている。９は装入口、
１０は搬出口、１１．１１・・・は連通口を夫々示し、
各々昇降自在の扉１２．１３．１４．１４・・・によっ
て開閉自在になっている。次に１５．１５・・・は上記
各界の開閉装置を示す。これにおいて１６は昇降枠で、
真空容器２に取付けられた図示外のガイドによって一定
の位置を上下動し得るようになっている。 １７は昇降
枠１６用の昇降装置（例えばエアシリンダー）を示す、
１８は扉と昇降枠１６とを連結する平行リンクを示す、
このような構成の開閉装置１５によれば、昇降装置１７
により昇降枠１６が下降し扉１２（又は１３．１４）が
装入口９ （又は搬出口１０、連通口１１）と対向した
状態においてその扉の下部が図示外の受止部材によって
受は止められると扉のそれ以上の下降が阻止される。こ
の状態において、昇降枠１６が更に下降すると扉にはそ
れを上記冬目の周縁に押し付ける力が加わる。その結果
真空容器２の内部あるいは仕切壁８によって仕切られた
各室の内部の密閉状態が達成される。一方昇降枠１６が
上昇すると上記押し付は力が消失した後、扉は昇降枠１
６と共に上方へ移動し、冬目が開放される。次に２０は
搬送手段として例示する搬送用ローラを示し、何れも軸
受２１により真空容器２に対して回動自在に取付けたシ
ャフト２２とそのシャフト２２に取付けた受部材２３か
ら成る。上記シャフト２２の一端はシール体２４を通し
て真空容器２の外部に突出させてあり、そこにはチェー
ン等の連動手段２５を介して駆動装置２６が連結しであ
る。
次に上記脱ワツクス室３において、３０は真空容器２に
取付けられた局部加熱室で、その内部には被処理物の存
置空間３１を有すると共に、下面には開放部３２を有し
ている。この局部加熱室３０は例えば黒鉛等の断熱材料
で形成され、又その内面は輻射熱が良好に反射されるよ
うにしである。３３は加熱室３０の内側に取付けられた
加熱手段として例示する電熱線で、その一端及び他端は
真空容器２に取付けられた電極３４．３４に接続しであ
る。向上記加熱手段としては赤外ランプを用いてもよい
。３５は真空容器２に取付けられた温度計、３６は同じ
く覗き窓で、これらは局部加熱室の内部の温度を計測し
たり、その内部の状態を監視する為に設けられたもので
ある。次に３８は上記局部加熱室３０の下方に設けられ
た上昇手段を示す。これにおいて４０はシリンダで、フ
レーム３９を介して真空容器２に取付けである。上記シ
リンダ４０における進退自在のピストンロッド４１はシ
ール装Ｗ４２を通して真空容器２の内部に挿入されてお
り、その先端には搬送用ローラを避けて上昇できるよう
Ｕ字形に形成された持上枠４３が取付けである。
取付けられた局部加熱室で、その内部には被処理物の存
置空間３１を有すると共に、下面には開放部３２を有し
ている。この局部加熱室３０は例えば黒鉛等の断熱材料
で形成され、又その内面は輻射熱が良好に反射されるよ
うにしである。３３は加熱室３０の内側に取付けられた
加熱手段として例示する電熱線で、その一端及び他端は
真空容器２に取付けられた電極３４．３４に接続しであ
る。向上記加熱手段としては赤外ランプを用いてもよい
。３５は真空容器２に取付けられた温度計、３６は同じ
く覗き窓で、これらは局部加熱室の内部の温度を計測し
たり、その内部の状態を監視する為に設けられたもので
ある。次に３８は上記局部加熱室３０の下方に設けられ
た上昇手段を示す。これにおいて４０はシリンダで、フ
レーム３９を介して真空容器２に取付けである。上記シ
リンダ４０における進退自在のピストンロッド４１はシ
ール装Ｗ４２を通して真空容器２の内部に挿入されてお
り、その先端には搬送用ローラを避けて上昇できるよう
Ｕ字形に形成された持上枠４３が取付けである。
次に焼結室４においては上記脱ワツクス室と同様の局部
加熱室及び上昇手段が備ねうている。これらは上記脱ワ
ツクス室のものと略同様の構成である為、脱ワツクス室
３における各部材と同−又は均等構成と考えられる部材
には脱ワツクス室３の場合と同一の符号を付して重複す
る説明を省略する。尚この焼結室４においては被処理物
を極めて高温に加熱する必要がある為、加熱手段として
は広幅の電熱帯が用いてあり、又局部加熱室３０はモリ
ブデンやタングステン等の材料で形成しである次にガス
冷却室６において、４６はファン、４７はモータ、４８
はクーラ、４９は案内板を示し、モータ４７の作動によ
ってファン４６が回動させられると内部のガスが第２図
において矢印で示される如く流動し、クーラ４８で冷却
されたガスが被処理物に接してそれを冷却するようにな
っている。
加熱室及び上昇手段が備ねうている。これらは上記脱ワ
ツクス室のものと略同様の構成である為、脱ワツクス室
３における各部材と同−又は均等構成と考えられる部材
には脱ワツクス室３の場合と同一の符号を付して重複す
る説明を省略する。尚この焼結室４においては被処理物
を極めて高温に加熱する必要がある為、加熱手段として
は広幅の電熱帯が用いてあり、又局部加熱室３０はモリ
ブデンやタングステン等の材料で形成しである次にガス
冷却室６において、４６はファン、４７はモータ、４８
はクーラ、４９は案内板を示し、モータ４７の作動によ
ってファン４６が回動させられると内部のガスが第２図
において矢印で示される如く流動し、クーラ４８で冷却
されたガスが被処理物に接してそれを冷却するようにな
っている。
次に５０は被処理物を乗載させる為の台を示す、これに
おいて５１は基枠、５２は遮蔽板、５３は蓋板、５４は
乗載板で、これらは連結部材５５によって相互に間隔を
おいた状態で連結されている。上記乗載板５４は耐熱性
の高い材料で形成されてその上に被処理物５６を置くよ
うになっている。又遮蔽板５２、蓋ｖｉ５３は何れも断
熱材で形成されている。これらの内蓋板５３は前記局部
加熱室３０を熱的に密閉できるよう、自体の下部部分５
３ａは局部加熱室３０の開放部３２よりも広い面積に形
成してあり、更にその下部部分５３ａの上に上記開放部
３２の内側に入り込むようにした上部部分５３ｂを備え
て構成されている。
おいて５１は基枠、５２は遮蔽板、５３は蓋板、５４は
乗載板で、これらは連結部材５５によって相互に間隔を
おいた状態で連結されている。上記乗載板５４は耐熱性
の高い材料で形成されてその上に被処理物５６を置くよ
うになっている。又遮蔽板５２、蓋ｖｉ５３は何れも断
熱材で形成されている。これらの内蓋板５３は前記局部
加熱室３０を熱的に密閉できるよう、自体の下部部分５
３ａは局部加熱室３０の開放部３２よりも広い面積に形
成してあり、更にその下部部分５３ａの上に上記開放部
３２の内側に入り込むようにした上部部分５３ｂを備え
て構成されている。
これら上部部分５３ｂ及び下部部分５３ａは何れも耐、
熱性が高くかつ充分な断熱性が得られるよう、上部部
分５３ｂに関してはタングステンの仮を積層して構成し
てあり、又下部部分５３ａはモリブデンの板を積層して
構成しである。
熱性が高くかつ充分な断熱性が得られるよう、上部部
分５３ｂに関してはタングステンの仮を積層して構成し
てあり、又下部部分５３ａはモリブデンの板を積層して
構成しである。
次に５８は搬送台車を示し、その上面には台５０を載せ
る為のローラ５９が備わつていると共に、その台車は紙
面と垂直な方向に移動して被処理物の搬送を行い得るよ
うになっている。
る為のローラ５９が備わつていると共に、その台車は紙
面と垂直な方向に移動して被処理物の搬送を行い得るよ
うになっている。
上記構成のものの通常の運転方式にあっては、脱ワツク
ス室３を大気圧状態にし一方焼結室４、真空冷却室５及
びガス冷却室６を真空状態にして運転が開始される。ま
ず、被処理物５６を乗せた状態で搬送台車５８によって
送られて来た台５０は、扉１２が開かれると装入口９か
ら脱ワツクス３の搬送ローラ２０上に導入され、扉１２
が再び閉じられ、脱ワツクス室３が真空状態に排気され
る。この状態において、上昇手段３８におけるシリンダ
４０が作動してピストンロンド４１が上昇し、持上枠４
３によって台５０が局部加熱室３０に向けて持上げられ
る。その結果乗載板５４に乗っている被処理物５６は図
示される如く局部加熱室３０内の存置空間３１に位置す
ると共に開放部３２は蓋板５３によって閉ざされる。こ
のようになった後電熱線３３に通電がなされ、それから
放射される輻射熱によって被処理物５６が加熱される。
ス室３を大気圧状態にし一方焼結室４、真空冷却室５及
びガス冷却室６を真空状態にして運転が開始される。ま
ず、被処理物５６を乗せた状態で搬送台車５８によって
送られて来た台５０は、扉１２が開かれると装入口９か
ら脱ワツクス３の搬送ローラ２０上に導入され、扉１２
が再び閉じられ、脱ワツクス室３が真空状態に排気され
る。この状態において、上昇手段３８におけるシリンダ
４０が作動してピストンロンド４１が上昇し、持上枠４
３によって台５０が局部加熱室３０に向けて持上げられ
る。その結果乗載板５４に乗っている被処理物５６は図
示される如く局部加熱室３０内の存置空間３１に位置す
ると共に開放部３２は蓋板５３によって閉ざされる。こ
のようになった後電熱線３３に通電がなされ、それから
放射される輻射熱によって被処理物５６が加熱される。
この加熱は例えば６００℃程度まで行われる。上記のよ
うな加熱を所定の時間行ったならばシリンダ４０により
持上枠４３が下降させられて、被処理物５Ｇを乗せた台
５０は再び搬送用ローラ２０の上に載せられる。次に脱
ワツクス室３と焼結室４との間の連通口１１の扉１４が
開かれ、上記被処理物が乗った台５０は搬送用ローラ２
０の上を焼結室４内に向けて搬送される０次に上記界１
４が再び閉じられ上昇手段３８によって台５０が局部加
熱室３０に向けて上昇させられ、前記脱ワツクス室３の
場合と同様の状態となる。そして加熱手段から放射され
る輻射熱によって被処理物５６が加熱される。その加熱
は例えば２０００℃程度で行われる。上記のような加熱
を所定時間継続したならば上記被処理物５６を乗せた台
５０は再び搬送用ローラ２０の上に戻され、真空冷却室
５との間の扉１４が開かれ、上記被処理物５６を乗せた
台５０は搬送用ローラ２０によって真空冷却室５に送ら
れ、そこで所定の゛温度まで冷却が行われる６次に真空
冷却室とガス冷却室６の間の扉１４が開かれ、被処理物
５６が乗った台５０は搬送用ローラ２０によってガス冷
却室６に搬送される。そして上記界１４が閉じられた後
冷却用ガスが導入され、上記ファン４６及びクーラ４８
が作動させられて上記被処理物５６の冷却が行われる。
うな加熱を所定の時間行ったならばシリンダ４０により
持上枠４３が下降させられて、被処理物５Ｇを乗せた台
５０は再び搬送用ローラ２０の上に載せられる。次に脱
ワツクス室３と焼結室４との間の連通口１１の扉１４が
開かれ、上記被処理物が乗った台５０は搬送用ローラ２
０の上を焼結室４内に向けて搬送される０次に上記界１
４が再び閉じられ上昇手段３８によって台５０が局部加
熱室３０に向けて上昇させられ、前記脱ワツクス室３の
場合と同様の状態となる。そして加熱手段から放射され
る輻射熱によって被処理物５６が加熱される。その加熱
は例えば２０００℃程度で行われる。上記のような加熱
を所定時間継続したならば上記被処理物５６を乗せた台
５０は再び搬送用ローラ２０の上に戻され、真空冷却室
５との間の扉１４が開かれ、上記被処理物５６を乗せた
台５０は搬送用ローラ２０によって真空冷却室５に送ら
れ、そこで所定の゛温度まで冷却が行われる６次に真空
冷却室とガス冷却室６の間の扉１４が開かれ、被処理物
５６が乗った台５０は搬送用ローラ２０によってガス冷
却室６に搬送される。そして上記界１４が閉じられた後
冷却用ガスが導入され、上記ファン４６及びクーラ４８
が作動させられて上記被処理物５６の冷却が行われる。
このようにして被処理物５６が所定の温度まで冷却した
ならば、置換室７との間の扉１４が開かれ、被処理物５
６を乗せた台５０は搬送用ローラ２０によって置換室７
に運ばれ、上記の扉１４が閉じられる０次に置換室７に
おいては大気との置換がなされた後扉１３が開かれて、
被処理物５６を乗せた台５０は搬出口１０から次の工程
に送り出される。
ならば、置換室７との間の扉１４が開かれ、被処理物５
６を乗せた台５０は搬送用ローラ２０によって置換室７
に運ばれ、上記の扉１４が閉じられる０次に置換室７に
おいては大気との置換がなされた後扉１３が開かれて、
被処理物５６を乗せた台５０は搬出口１０から次の工程
に送り出される。
向上記脱ワックス室３は上記と同様の構成のものを被処
理物の搬送経路に沿って二つを連続状に設けてもよく、
又第１図において脱ワツクス室３と焼結室４との間に上
記焼結室４と同様の構成の予備焼結室を設けて、そこで
被処理物を上記焼結室における焼結温度（例えば２００
０℃）よりも′やや低い温度（例えば１６００℃）で予
備焼結するようにしても良い。
理物の搬送経路に沿って二つを連続状に設けてもよく、
又第１図において脱ワツクス室３と焼結室４との間に上
記焼結室４と同様の構成の予備焼結室を設けて、そこで
被処理物を上記焼結室における焼結温度（例えば２００
０℃）よりも′やや低い温度（例えば１６００℃）で予
備焼結するようにしても良い。
更に又上記搬送手段としては、搬送用ローラに代えて真
空容器２内を台車が移動するようにし、その台車を移動
手段として用いるようにしてもよい（発明の効果） 以
上のように本発明にあっては被処理物５６を熱処理する
場合、真空容器２の入口９から入った台５０上の被処理
物５６を搬送手段２ｏによって局部加熱室３０の下へ搬
送し、そこで上昇手段３８により台５０ごと持上げ、局
部加熱室３０内に位置させて高温の熱処理を加え、更に
その台５０上の被処理物５６を下降させたならば再び搬
送手段２ｏによりそれを次の局部加熱室３０の下へ搬送
しそこで同様に高温の熱処理を加えるという一連の操作
を繰り返して出口１０へ送ることができ、真空容器内を
搬送手段２０によって通過させる過程において一連の熱
処理を施し得る効果がある。
空容器２内を台車が移動するようにし、その台車を移動
手段として用いるようにしてもよい（発明の効果） 以
上のように本発明にあっては被処理物５６を熱処理する
場合、真空容器２の入口９から入った台５０上の被処理
物５６を搬送手段２ｏによって局部加熱室３０の下へ搬
送し、そこで上昇手段３８により台５０ごと持上げ、局
部加熱室３０内に位置させて高温の熱処理を加え、更に
その台５０上の被処理物５６を下降させたならば再び搬
送手段２ｏによりそれを次の局部加熱室３０の下へ搬送
しそこで同様に高温の熱処理を加えるという一連の操作
を繰り返して出口１０へ送ることができ、真空容器内を
搬送手段２０によって通過させる過程において一連の熱
処理を施し得る効果がある。
しかも上記の如く被処理物５６に高温の熱処理を加える
ものであっても、それは上昇手段３８により台５０を持
ち上げて、台上の被処理物５６を局部加熱室３０内に位
置させると共に台５０により局部加熱室３０の開放部を
塞いだ状態で行なえるから、搬送手段２０には何ら高温
の熱影響が及ばない特長がある。
ものであっても、それは上昇手段３８により台５０を持
ち上げて、台上の被処理物５６を局部加熱室３０内に位
置させると共に台５０により局部加熱室３０の開放部を
塞いだ状態で行なえるから、搬送手段２０には何ら高温
の熱影響が及ばない特長がある。
このことは搬送手段は高温に対する防護が不要で、その
構成を簡易化できる効果がある。
構成を簡易化できる効果がある。
更に上記の如く被処理物５６に高温の熱処理を加える場
合、被処理物５６を局部加熱室３０内に位置させると共
に台５０により局部加熱室３０の開放部を塞いだ状態で
加熱できる構造であるから、高温に加熱すべき空間は被
処理物５６を入れるに必要充分な最小限のもので足りる
特長があると共に、加熱すべき空間の熱的な密封性を高
め得る特長がある。これらのことは、加熱に必要な熱エ
ネルギーの量は局部加熱室内という小空間を熱効率良く
加熱するのみの最小限でよい経済性を発揮すると共に、
局部加熱室内の温度分布が良好で被処理物の高品質の熱
処理を可能にできる効果がある。
合、被処理物５６を局部加熱室３０内に位置させると共
に台５０により局部加熱室３０の開放部を塞いだ状態で
加熱できる構造であるから、高温に加熱すべき空間は被
処理物５６を入れるに必要充分な最小限のもので足りる
特長があると共に、加熱すべき空間の熱的な密封性を高
め得る特長がある。これらのことは、加熱に必要な熱エ
ネルギーの量は局部加熱室内という小空間を熱効率良く
加熱するのみの最小限でよい経済性を発揮すると共に、
局部加熱室内の温度分布が良好で被処理物の高品質の熱
処理を可能にできる効果がある。
図面は本願の実施例を示すもので、第１図は焼結炉にお
ける脱ワツクス室と焼結室を示す縦断面図、第２図は焼
結炉における真空冷却室とガス冷却室と置換室とを示す
縦断面図、第３図は第１図における■−■線断面図、第
４図は第１図におけるＩＶ−ｒＶ線位置での断面状態を
示す部分図。 ２・・・真空容器、９・・・入口、ｌＯ・・・出口、５
０・・・台、２０・・・搬送手段、３０・・・局部加熱
室、３８・・・上昇手段。 第３図 第４図
ける脱ワツクス室と焼結室を示す縦断面図、第２図は焼
結炉における真空冷却室とガス冷却室と置換室とを示す
縦断面図、第３図は第１図における■−■線断面図、第
４図は第１図におけるＩＶ−ｒＶ線位置での断面状態を
示す部分図。 ２・・・真空容器、９・・・入口、ｌＯ・・・出口、５
０・・・台、２０・・・搬送手段、３０・・・局部加熱
室、３８・・・上昇手段。 第３図 第４図
Claims (1)
- 入口と出口を有する中空の真空容器と、上記真空容器内
において被処理物を乗載させた台を上記入口から出口へ
向けて搬送する為の搬送手段と、上記真空容器内におい
て上記搬送手段による台の搬送軌跡に沿ってその上方に
夫々配設され、しかも各々は内部に被処理物を存置させ
るに充分な空間と被処理物の加熱手段とを有しかつ下面
が開放されている複数の局部加熱室と、上記各局部加熱
室の下方に夫々配設されしかも各々は上記台を上記局部
加熱室の下面の開放部と重合する位置まで持上げるよう
にした複数の上昇手段とから成り、上記の台は上記上昇
手段により持上げられた場合に上記局部加熱室の開放部
を断熱的に塞ぐに充分な面積を有していることを特徴と
する局部加熱室を有する真空炉。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12785285A JPS61285381A (ja) | 1985-06-12 | 1985-06-12 | 局部加熱室を有する真空炉 |
| DE19863619343 DE3619343A1 (de) | 1985-06-12 | 1986-06-09 | Warmbehandlungsofen mit lokalen erwaermungskammern |
| ES555949A ES8703615A1 (es) | 1985-06-12 | 1986-06-11 | Horno de tratamiento termico dotado de camaras de calentamiento local |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12785285A JPS61285381A (ja) | 1985-06-12 | 1985-06-12 | 局部加熱室を有する真空炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61285381A true JPS61285381A (ja) | 1986-12-16 |
| JPH0517472B2 JPH0517472B2 (ja) | 1993-03-09 |
Family
ID=14970258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12785285A Granted JPS61285381A (ja) | 1985-06-12 | 1985-06-12 | 局部加熱室を有する真空炉 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61285381A (ja) |
| DE (1) | DE3619343A1 (ja) |
| ES (1) | ES8703615A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH024197U (ja) * | 1988-06-22 | 1990-01-11 | ||
| JP2014220283A (ja) * | 2013-05-01 | 2014-11-20 | アキム株式会社 | 熱処理装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4103454C2 (de) * | 1991-02-06 | 1993-10-21 | Nassheuer Loi Industrieofenanl | Verfahren und Durchlaufofen zum Wärmebehandeln von Werkstückchargen |
| DE19647248C2 (de) * | 1996-11-15 | 2002-05-08 | Aichelin Gmbh | Anlage zur Wärmebehandlung von Werkstücken |
| DE19702469A1 (de) * | 1997-01-24 | 1998-07-30 | Reinhardt Gmbh Ernst | Rotationsformanlage |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5812983A (ja) * | 1981-07-15 | 1983-01-25 | 株式会社ヤマザキ電機 | 連続加熱炉 |
-
1985
- 1985-06-12 JP JP12785285A patent/JPS61285381A/ja active Granted
-
1986
- 1986-06-09 DE DE19863619343 patent/DE3619343A1/de not_active Withdrawn
- 1986-06-11 ES ES555949A patent/ES8703615A1/es not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5812983A (ja) * | 1981-07-15 | 1983-01-25 | 株式会社ヤマザキ電機 | 連続加熱炉 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH024197U (ja) * | 1988-06-22 | 1990-01-11 | ||
| JP2014220283A (ja) * | 2013-05-01 | 2014-11-20 | アキム株式会社 | 熱処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0517472B2 (ja) | 1993-03-09 |
| ES555949A0 (es) | 1987-03-01 |
| ES8703615A1 (es) | 1987-03-01 |
| DE3619343A1 (de) | 1986-12-18 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |