JPS61289064A - アラキドン酸代謝経路の調節剤としてのヒドロキザメ−ト類 - Google Patents

アラキドン酸代謝経路の調節剤としてのヒドロキザメ−ト類

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JPS61289064A
JPS61289064A JP7566586A JP7566586A JPS61289064A JP S61289064 A JPS61289064 A JP S61289064A JP 7566586 A JP7566586 A JP 7566586A JP 7566586 A JP7566586 A JP 7566586A JP S61289064 A JPS61289064 A JP S61289064A
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JP
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lower alkyl
hydroxy
heterocycle
carbon atoms
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JP7566586A
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フウ−シー ハング
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Original Assignee
USV Pharmaceutical Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はすぐれた医薬活性を待つ看[焼化合物に関し、
特に抗炎症性及び高アレルギー性を待つリポキシゲナー
ゼ阻害剤として有用な化合物に関する。
本発明の新規化合物は式 %式% で示される化合物及びその塩である; 但しR2はH1低級アルキル、ホルミル、又はC2(l
l”l。
のアルカノイルであり; RとR1はそれぞれ独立に水素、低級シクロアルキル、
M合シクロアルキル又は低級アルキル置換縮合シクロア
ルキル、低級アルキル、フェニル、ナフチル、窒素ヘテ
ロ環、酸素ヘテロ環、硫黄ヘテロ環又はヘテロ環状低級
アルキルであり: ;Z、Z1及びZ、はそれぞれ化学結合、主鎖に炭素原
子6以下を持ち全炭素原子が約10以下のアルキレン鎖
又はモノ−もしくはジ−置換アルキレン鎖、低級シクロ
アルキル、窒素ヘテロ環、酸素ヘテロ環、硫黄ヘテロ環
、ペテロ環−低級アルキル、モノ−もし、くはジ−置換
低級シクロアルキル又はモノ−もしくはジ−置換ヘテロ
壌−低級アルキル(ここで置換基は水素、低級アルキル
、アリール、低級アラルキル、低級アルコキシ、ヒドロ
キシ、低級アラルコキシ、アリーロキシ、カルボキシ、
低級カルボアルコキシ、カルボアリーロキシ、低級カル
ボアラルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、アミノ
低級アルキル、ジ−低級アルキルアミノ又はシアノをい
う)であり;XとYはそれぞれ独立にO%S、CR3R
,又は化学結合であり: R5とR4はそれぞれ独立にH又は低級アルキルであり
;Arはフェニル、ナフチル、窒素ヘテロ環、醒累ヘテ
ロ項又は硫黄ヘテロ環であり: 各R1は水素、アリール、低級アルカノイル、ホルミル
、ニトロ、シアノ、アミノ、低級アミノアルキル、低級
アルキルアミノ、低級アラルキルアミノ、ハロ、トリハ
ロアルギルカルバモイル又はアロイルであり:nは0〜
2の整数であり; 7Ll は1〜2の整数である。
Ar、R%R1,1%Z、及びZ2におけるヘテロ環の
例は少なくとも1の酸素、硫黄又は窒素を含有する5〜
10員項であり、いわゆるベンゾヘテロ壊金含む。具体
例としては、フラン、チオフェン、ピロール、ピペリジ
ン、ジヒドロフラン、ピリジン、チアゾール、ピイラジ
ン、オキサゾール、ベンゾフラン、テトラヒドロキノン
、キノリン、インドール、ジヒドロインドール、ベンゾ
チオフェン、ジヒドロベンゾチオフェン、ベンゾキサゾ
ール等がある。好ましいヘテロ環はキノリンとピリジン
である。
ヘテロ環−低級アルキルとアリールシクロアルキル低級
アルキル基にはナフチルメチル、ピリジルエテル、イン
ドイルエチル、キノリニルメチル、ピロリルメチル、イ
ンダニルメチル、インダニルエチル等がある。
Rと81 と非ヘテロ項アリール基にはフェニル、α−
もしくはβ−ナフチル寺がある。
シクロアルキル及び縮合シクロアルキル基にはモノ又は
ボUs状物があり、炭素原子3〜20を有しつる。これ
らの基の例にはシクロプロピル、シクロペンチル、シク
ロヘキシル、シクロヘプチル、ホルニル、ノルボルニル
、インダニル等がある。これらの基は部分的に不飽和で
もよく置換基、たとえばハロゲン、ヒドロキシ、低級ア
ルキル、低級アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ
、シアノ、ジ・(低級アルキル)アミノ、チオール、低
級アルキルメルカプト、ニトロ、トリフルオロメチル、
低級アラルキル、アリールオキシ、低級アラルコキシ等
を有しつる。
アルカノイル基の例には、アセチル、プロピオニル、ブ
チリル、バレリル、インブチリル、ピバロイル、ネオペ
ンチルカルボニル、オクタノイル、デカノイル等がある
アルキル基(置換基をもつものも含め)として好ましい
ものは直鎖又は側鎖を持つ低級アルキル基であり、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、アミル、ヘキシル等がある。
ハロ及びトリハロメチルにおける八日原子ハCI 、 
Er 。
I及びFである。
;Z、Z1及びZ2におけるアルキレン鎖は主鎖に6以
下の炭素原子を持ち全炭素原子が10以下の直鎖又は側
鎖を持つものでありうる。Z、 K、 &び4.は独立
に化学結合(つまり単なる結合手)又は主鎖に5以下の
炭素原子を持つアルキレン鎖であることが好ましい。特
に好ましいのは、Zと21が独立に化学結合又は主鎖に
3以下の炭素原子を持つアルキレン鎖で% Z2が主鎖
に5以下の炭素原子を持つアルキレン鎖である場合であ
る。
好ましいRとR8は独立に水素、低級アルキヘフェニル
、ナフチル又はキノリルである。RとR1が水素以外の
場合、それらはいづれも置換基を有しつる。置換基とし
ては水素、低級アルキル、アリール、低級アラルキル、
ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アラルコキシ、了り
−ルオキシ、シアノ、カルボキシ、ハロゲン、アミノ、
低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、メルカプ
ト、低級アルキルチオ、低級カルボアルコキシ、カルボ
アリールオキシ、低級カルボアラルコキシ、ニトロ、低
級アルカノイル、ホルミル、トリハロメチル等がある。
RとR,はハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アル
コキシ、アミノ、シアノ、低級アルキルアミノ、低級ア
ラルキル、アリールオキシ、低級アラルコキシ、ニトロ
又はトリハロメチルで置換されることが好ましい。
好ましいXとYは酸素とCR3R4(R3、R4は前記
定義のとおり)である。特に好ましいXは酸素であり、
特に好ましいYはCR3R4である。R2は水素が好ま
しい。
本発明の好ましい化合物はルが0又は1、n! が1の
ものである。またR1がH又は低級アルキル、特にHで
あるものが好ましい。
特に好ましい化合物はArがフェニル又はナフチルであ
るものであり、最も好ましい化合物はArがフェニルで
あるものである。Arは3%OH,アルコキシ、ハロ、
アミノ、シアノ、トリハロアルキル又はアルキルで置換
していることが好ましい。
本発明化合物の構造式における史なる変化は治療上の性
質、たとえばリポキシゲナーゼ阻害性を本質的に変える
ことなく行ないつる。たとえば、アリール基、ヘテロ環
基は、アルキル、アリール、ハロゲン、とドロキシ、ア
ルコキシ、アリールオキシ、たとえばフェノキシ、ベン
ジルオキシ、カルボキシ、カルボアルコキシ、カルバモ
イル、ニトリロ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキル
アミノ、ホルミル、トリハロメチル、ニトロ等の1又は
それ以上で置換されう本発明化合物は1又はそれ以上の
不斉炭素をMしうる。
またラセミ体:光学活性形も存在しつる。これらはいづ
れも本発明に含まれる。
本発明の化合物は製造容易な中間体から公知の反応を利
用して製造しつる。本発明の有用な中間体は式Hのヒド
ロキザメートである: 但しR%R,、R,,2%2.、Z2、X%Y% n、
n。
及びArはrJil記のとおりであり、R4はアルキル
、アIJ−ル、アラルキル等の保護基である。式■の化
合物は、Hl。
Er等の酸又はEF8、BCI;3.AlICl3  
等のルイス酸の存在下に保護基、R8を除去することに
より、R2がHである式■の化合物に容易に変換する。
かがる保護基は当業者に周知であり、たとえば3級アル
キル基(3級ブチル、3級アミル等)、アラルキル基(
ベンジル等)がある。他の除去しつる基にはスルホネー
ト、ボレートエステル、ニトレートエステル、アルコキ
シアルキルエーテル、fcト;c−ばぺ/ジルオキシメ
チルエーテル% t−ブトキシメチルエーテル、エトキ
シエチルエーテル等、シリルエーテル、たとえば2−(
)リメチルシリル)エトキシメチルエーテル、トリーメ
チルシリルエーテル、テトラヒドロピラニルエーテル、
テトラエテルチオフラニルエーテル、t−y:チルエー
テル、ベンジルエーテル、エステル、タトエハホルメー
ト、ヘンシェード、及びカーボネート、たとえばアルキ
ルエチルカーボネート、アルキル5ンジルカーボネート
等がある。かかる基は公知の反応、たとえば3級ブチル
基、を−ブトキシメチルエーテル、テトラヒドロピラニ
ルエーテル、t−ブチルエーテル、ベンジルエーテル、
ボレート及びスルホネートに対する酸加水分解、シリル
エーテル、ホルメートエステル及びベンゾエートに対す
る温和な塩基加水分解、ベンジル基及びアルキルベンジ
ルカーボネートの除去のための接触水素化(たとえばP
dl矛用いての)等を用いて除去しうる。一般の有機反
応同様、溶媒を用いつる。溶媒には塩化メチレン、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、クロ
ロホルム等がある。反応は通常室温付近で行なわれるが
0℃から還流温度までの温度を用いつる。QEtが水素
である式■の化合物は公知の変換及びjυ置換反応よっ
て他の基に変換しつる。たとえばR2がアルコキシの化
合物は対応する0Hffiらウィリアムソン合成つまり
適宜のアルケンとの反応を経てつくられる。
R1がH又は低級アルキルである式Iの化合物は式■の
カルボン酸と式■のヒドロキシルアミノ誘導体との直接
縮合反応によってもつくられうる: (A’、 ) 、1〔R−Z−X ] nA r−Y−
ZICOOH■ +  RIZ、−N−OR,−一仝 ■■ 変換又は置換反応によって、式■の化合物は式Iの範囲
内にある別の化合物に変換しつる。たとえばR2がアル
カノイルである式■の化合物はR1が水素である式■の
化合物をアルカノン酸アシル化誘導体でアシル化してつ
くることができる。R,が水素である式Iの化合物は公
知の標準的ホルミル化反応でホルミル化してR2がホル
ミルである式■の化合物となる。
式「の化合物は式■のカルボン酸と式Vのヒドロキシル
アミノ誘導体とをアミド形成条件下に反応させて製造し
うる: (R−Z −X ) 、−Ar−Y−ZlCOOH■ +  R,2;tN  ORs  −−→ ■■ ここにいうアミド形成条件にはアシルハライド、無水物
、混合無水物、低級アルキルエステル、カルボジイミド
、カルボニルジイミダゾール等の前記酸の公知誘導体の
使用がある。この反応はアセトニトリル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、酢酸、塩化メチレン、塩化エチレ
ン等の有機浴媒中で行−なわれる。アミド形成反応は室
温でも加温下でも起こる。加温は反応時間短縮に有効で
ある。0℃から還a7AA度までの温度を用いうる。ア
ミド形成反応は、より好ましくは、塩基、たとえば3級
有機アミノ(トリメチルアミノ、ピリジン、ピコリン等
)の存在下に行なわれつる。
これは特にアミド形成反応、たとえばアシルハライドと
ヒドロキシアミノ、によってハロゲン化水素が生成する
場合に好ましい。もちろん、ハロゲン化水素が生成する
これらの反応では通常用いられるハロゲン化水素捕捉剤
も用いつる。
式Vの化合物は対応するヒドロキシルアミノからつくら
れる。R6は起こりつる副反応とカルボン酸値)のカル
ボキシル基と遊離ヒドロキシルアミノの水酸基との反応
からの0〜アシルヒドロキシルアミノの生成全最小にす
る保護基である。
不発明化合物の種々の置換基、たとえばAr、 R3R
,,2、2,及びZ2の置換基は出発物質中に存在して
もよく、また公知の反応金層いていづれかの中間体に付
加してもまたヒドロキザメート生成物の生成後に付加し
てもよい。置換基自体が反応性を有するときは、置換基
を公知の方法によって保護しつる。公知の種々の保護基
を用いつる。これら保護基の例はJohn WeLey
and 5onsが1981年に発行したT、W、Gt
”eeL著「有機合成における保護基」−Protec
tive GrotHys in Organic S
’/nthesis”に記載されている。たとえばニト
ロ基金ニトロ化によって芳香環に付加し、これを他の基
、たとえば還元によりアミノ基に、またアミノ基のジア
ゾ化とジアゾ苓の置換によりハロに変換しつる。アルカ
ノイル基はフリーデル−クラフッアシル化によってアリ
ール基に置換しつる。アシル基は次にウオルフーキシュ
ナー漿元やタレメンセン遺元等の種々の方法によって対
応するアルキル基に変換しつる。アミノ基はアルキル化
してモノ及びジアルキルアミノ基を形成しつる。またメ
ルカプトとヒドロキシ基はアルキル化に対応するエーテ
ルを形成しつる。1級アルコールは公知の酸化剤で酸化
してカルボン酸又はアルデヒド全形成しつる。
また2級アルコールは酸化してケトンを形成しつる。こ
のように出発物質、中間体又は最終生成物のいづれの段
階でも1δ換反応を利用しつる。
本発明化合物は、塩基性アミノ官能基が存在するときは
酸によりまた酸性官能基、たとえばカルボキシル基が存
在するときは塩基により塩を形成する。これら塩はいづ
れも本発明化合物の分離及び/又はfi#製に有用であ
る。特に製薬上許容しつる酸又は塩基塩は好ましい。好
ましい酸には。
たとえば塩酸、硫酸、硝酸、ベンゼンスルホン酸、トル
エンスルホン酸、酢酸、乳酸、酒石酸等がある。製薬上
用いうる塩基塩にはNα、K%Cα及びMQ塩がある。
本発明化合物は%経口的に、非経口的に、肉筋内又は皮
下に、局所又は吸入経路で等投与経路の選択に応じ種々
の形で宿主に投与しつる。
たとえば不活性希釈剤又は同化可食性担体と共に経口投
与しうる。また硬質又は軟質ゼラチンカプセルに入れて
もよく錠剤にしてもよく、ダイエツト賞品に直接入れて
もよい。経口には、本発明化合物を賦型剤と共に用いる
ことができ、また錠剤、トローチ、カプセル、エリキサ
−1懸濁液、シロップ、ウェーファー等の形で用いるこ
とができる。
これらにおいて本発明化合物は少なくとも0.1%含有
すべきである。組成物中の割合は変化しつるが通常ユニ
ット重量当り約2〜約60%である。これら組成物中の
本発明化合物量は適度の投与tを与える量である。経口
投与量単位は好ましくは本発明化合物量50〜300a
i7である。
錠剤、トローチ、ビル、カプセル等は次の成分を含みう
る:ガムトラガカンタ、アカシア、コーンスターチ、ゼ
ラチン等のバインダー、リン酸シカルシウム等の賦型剤
、コーンスターチ、ポテトスターチ、アルギン酸等の崩
解剤、ステアリン酸マグネシウム等の潤滑剤、蔗糖、ラ
クトース、サッカリン等の甘味剤、4パーミント、ウィ
ンターグリーン油、チェリー付香剤等の付香剤その他。
投与量単位形がカプセルの場合は、前記物質以外に、液
状キャリヤーを含みつる。種々の他の物質が皮膜として
又は投与量単位の物理的形態等を変える目的で加えられ
つる。たとえば、錠剤、ピル、カプセルはシェラツク、
砂糖又はこnら両者で被覆されつる。シロップ又はエリ
キサ−は本発明化合物、甘味剤としての蔗糖、防腐剤と
してのメチル及びプロピルパラベン、染料及びチェリー
又はオレンジ付香剤等の付香剤全會みうる。もちろん、
いづれかの投与を単位音つくる際に用いる物質は製梁的
に純粋で用いる童で冥貝上非毒性であるべきである。ま
た、不発明化合物に徐放性製剤中に加えつる。
不発明化合物はまた非畦口的又は腹腔内的に投与しつる
本発明化合物の遊離塩基又はg!楽上計容しつる塩の溶
液はヒドロキシプロピルセルロース等の界面活性剤と水
中で混合することによって製造しつる。グリセリン、液
状ポリエチレングリコール、それらの混合物、油中で分
散体をつくることもできる。保存及び使用の通常の条件
下で微生物の生長を抑えるため防腐剤を共有させつる。
注射用に好ましい形態は無菌水溶液又は分散体及びこれ
らを現場でつくるだめの無菌粉末である。いづれの場合
も無菌にして使用時流動性業有する必要がある。また製
造及び保存中安定にして、バクテリア、細菌等の微生物
の汚染作用から保護される必要がある。キャリヤーとし
ては、たとえば水、エタノール、ポリオール(たとえば
グリセリン、ポリプロピレングリコール、液状、ポリエ
チレングリコール等)、それらの混合物、植用油を含む
溶媒又は分散媒がある。適度の流・幼性は、たとえば、
レクチシン等。皮膜の使用により、また分散体の場合は
所望粒径の維持により、また界面活性剤の使用により、
維持さ几っる。微生物の作用の防護は種々の抗ff1l
l、たとえばパラベン、クロロブタノール、フェノール
、ソルビン酸、チメロサール等の使用で行ないつる。多
くの場合、砂糖や塩化ナトリウム等の等張剤を併用する
ことが好ましい。注射松成物の吸収時間延長は、たとえ
ばモノステアリン酸アルミニウムとゼラチン等の吸収遅
延剤の併用によって行ないつる。
無菌注射溶液は本発明化合物を前記した種々の他の成分
と共に適宜の溶媒に所望量加え、所望により濾過、滅萌
して製造しつる。一般に、分散体は種々の無η成分を塩
基性分散媒と前記したような所望成分なざひ無菌ビヒク
ルに加えて天遺しつる。無菌注射液用の無菌粉末の場合
は、真空乾燥、凍結乾燥技術により前記−したような無
菌p過液から本発明化合物と所望の付加成分を含む粉末
をつくることが好ましい。
次に実施例により不発明をさらに説明する。
実施例1゜ 50項のエタノール中の4yの0〜ベンジルヒドロキシ
ルアミノ、428gのぺ/ジルブロマイド、及び12p
のに、Co、の混合物を1晩撹拌した。有機溶媒除去後
、残・鼾に水を加えて次に混&物を酢酸エチルで抽出し
た。合併抽出液を乾燥、蒸発させて49の粗生成物を得
た。ドライカラムクロマトグラフィーに依る精製で1.
J/の油状生成物が得られた。
20ゴのCB、C1、中の、4−べ/ジルオキシフェニ
ル酢酸(x、2i)と0.9yの1,1′−カルボニル
ジイミダゾールの混合物を50℃で1h1−撹拌した。
次に1.17ON。
0〜ジベンジルヒドロキシルアミノを加えて、反応?!
lを50℃に1晩保った。溶媒蒸発後、浅漬をエーテル
抽出した。エーテル浴液を水、INHC2で洗浄、乾燥
して蒸発乾固した。ドライカラムクロマトグラフィーに
よる精製で1.22の油状生成物が得られた。
−80℃のBからの生成物の塩化メチレン浴gc30d
中1.2t)に4d(IM)の三塩化硼素のCH,C1
,溶液を摘部した。反応混合物を加温して室IHA番こ
3Ar保った。溶媒を蒸発し、残渣にメタノールを加え
て再び蒸発乾固した。
かくして得られた粗生成物をドライカラムクロマトグラ
フ法によシ精製し、500m9の固体を得、こnをエー
テル−ヘキサン溶液で洗浄して350〜の生成物を白色
固体として得た;mp142−148℃。
実施例2゜ 30Mの(1:1)のメタノール水浴液中の5gのフェ
ニルアセトアルデヒド、6.75の0〜ベンジルヒドロ
キシルアミノ、塩酸塩、及び8gの炭酸カルシウムの混
合物を2hr還流した。水溶液を酢酸エチルで抽出し、
有機溶液を乾燥、蒸発して8gの粗生成物を得、精製す
ること無く使用した。
S、0〜ヘンシル−N−フエネチルヒドロキシルアミノ
2Aの粗生成物のメタノール溶液(50/n/中8.9
)にlhrかけてNaCBBH9の5yを少i宛加えた
。反応溶液ヤ、ブロモクレゾールグリーンを指示薬とし
て、必要に応じ1ynctycg、on ma+こよッ
テ、pH31コ保った。仄をこ反応混合物を更にlhr
撹拌した。浴gをpH10に塩基性化して酢酸エチルで
抽出した。合併有機抽出gを乾燥、蒸発乾固して、残液
をドライカラムクロマトグラフィーで精製し5.51の
油状生成物を得た。
この化合物はIB及びIC4こ記載したのと同一の方法
で裏道した。固体を単離し友:”1)−114115℃
実施例8゜ 実施例13及びIC4こ記載された方法に従った、N、
0−ジベンジルヒドロキシルアミノとα−メチル−4〜
(2−メチルプロピル)フェニル酢酸との反応がこの生
成物を与えた;m、p。96−97℃。
実施例4゜ 4−ベンジルオキシフエニル酢酸を2− (6−メドキ
シー2−す7チル)プロピオン酸に代えた実施例IB及
びICの記載と同一の方法で、この化合物が製造された
; m、、 p。
162−168℃。
実施例5゜ 実施例2Cの方法による、α−メチル−4−(2−メチ
ルプロピル)フェニル酸pとo−ベンジル−N−フエネ
チルヒドロキシルアミノの反応で油状物が得られた。
実施例6゜ g−−ペンーン乞を先4乙もシリソむ11−フェニ/I
/7’この固体は、実施例IB及びICの方法に依り、
4−ベンジルオキシフエニル#R1o−ベンジル−N−
フエニルプロピルヒドロキシルアミノを反応させて得ら
れた;m、、p。
L(0−181’C0 実施例7゜ コ!u、、−4二盗ドーロl賢≧四4エモシとJ−二)
■、、=19−72とか二遁イー24→−アセトヒドロ
キサメーナ この生成物は、実施例IB及びICの方法に依り、4−
ヒドロキシフエニル酢酸と0〜ベンジル−N−α−メチ
ルベンジルヒドロキシルアミノを反応させて得られた;
yn、、p。
144−146℃。
実施例8゜ ルーn−(α−メチルベンジル)アセトヒドロキサメー
トこの固体は実施例IB及び1cの方法に依り、2−メ
チル−2−(4−(2−メチルプロピル)〕〕フェニル
酢酸ヲ0〜ベンジルーN〔α−メチルベンジル)ヒドロ
キシルアミノと反応させて得た。2組のジアステレオ異
性体が遊離された。カラムクロマトグラフィーを用いて
ジアステレオ異性体を分離した。(R3R)及び(S、
 S)のラセミ混合物、鏡像異性体及び(R,S)及び
(S、 R)鏡像異性体が遊離された。
(R3R) −(S、 S)混合物の乳p、:91−9
4℃。
(R,S) −(s、 R)混合物のm、 p、  :
 128−124℃。
実施例9゜ この固体は、実施例13及びICの方法に依り、4−フ
ェニルブタン酔を0〜ベンジル−N−フエネチルヒドロ
キシルアミノと反応させて得た;m、p、56−58℃
実施例10゜ 本生成物は実施例IB及び1cの方法に依り、4ベンジ
ルオキシフエニル酢eをo−ベンジル−N−α−メチル
ベンジルヒドロキシルアミノと反応させて製造した;m
、p。
140−141℃。
実施例11゜ 本生成物は実施例IB及び1cの方法に依り、4−ぺ/
ジルオキシフェニル酢酸を0〜ベンジル−#−1−(ベ
ンジルプロピル)ヒドロキシルアミノと反応させて製造
した;m、p、100−101℃。
実施例12゜ i 5 ml ノCH2(II’ l 2 中の、4−
ベンジルオキシフエニル酢酸(L6g )と1.19の
1.1−カルボニルジイミダゾールの混合物を50℃で
1んr撹拌した。次に0.55ソのN−メチルヒドロキ
シルアミノ・hcl と0.7gのトリエチルアミノの
C112C12(10a/)溶液を加えて、反応混合物
を50°Cで2日撹拌した。有機溶液を水洗、乾燥し、
蒸発乾固した。ドライカラムクロマトグラフィーに依る
精製で0.1gの白色固体生成物を得た;m、 p、 
94−96℃。
実施例13゜ 前述の諸実施例の方法に従い且つ適切な出発原料を用い
る類似の方法で、以下の化合物が製造された:N−ヒド
ロキシーN−メチルー3−((キノリ/−2−イル)メ
トキシンフェニルアセトアミド(m、 :Zl、 69
−70℃); N−ヒドロキシ−N−メチル−5−フエニルバレルアミ
ド(液体); N−ヒドロキシ−N−メチル−4−((キノリン−2−
イル)メトキシ)フェニルアセトアミド(m、p、 1
44℃);N−ヒドロキシ−N−メチル−4−(4−メ
トキシフエニル)ブチルアミド(m、 p、 74−7
5℃);N−ヒドロキシ−N−(2−フェニルエチル)
−2−(3−ベンジルオキシフエニル)プロピオンアミ
ド(液体):N−(8−カルボキシプロピル)−N−ヒ
ドロキシ−4−フエニルブチルアミド(液体)−; N−(2−フエネチル)−N−ヒドロキシ−5−7エニ
ルバレルアミド(m、、 p、 79−80℃);N−
ヒドロキシ−N−(2−メチル−2−(4−メトキシフ
エニル)エチル)4−ヒドロキシフエニルアセトアミド
(m、p、  148−146℃); N−ヒドロキシ−N−(2−フェニルエチル)−2−(
8−ベンゾイルフエニル)−フロビオ/yミ)”(W体
);N−ヒドロキシ−N−(4−クロロ7エネチル)−
4−ベンジルオキシフエニルアセトアミ)” (m、 
1.115−116℃); N−(8−カルボキシプロピル)−N−ヒドロキシ−4
−フエニルブチルアミド(rn、 p、 68−64°
C):N−ベンジル−N−ヒドロキシ−4−7エニルプ
チルアミド(m、 ?+、71−72℃); N−ヒドロキシ−N−(2−フエネチル)−2−フエノ
キシアセトアミド(m、p、  155−156℃);
N−ヒドロキシ−N−(2−メチル−2−(4−ベンジ
ルオキシフエニル)エチル)−4−ベンジルオキシフエ
ニルアセトアミド(ya、 p、131−184℃);
N−ヒドロキシ−N−(i−ベンジルプロピル)−4−
フエニルブチルアミド(m、 p、 71−72℃);
■−ヒドロキンーN−(3−:y−二ルプロピル)−3
−フエニルプロピオンアミド(包、、、6ロ一67°C
);N−ヒドロキシ−N−(2−−yエネチル)−3−
フエノキシプロピオンアミド<Sn、 p、 79−8
0°C);N−ヒドロキシ−N−(2−フエネチル)−
4−(4−メトキシフエニル)ブチルアミド(?ル、p
、5i−82℃);N−ヒドロキシ−N−(2−フエネ
チル)−2−(4−クロロイ/ジルオキシフェニル)ア
セトアミド(m、 7)。
146−150℃); N−ヒドロキシ−N−プロピル−2−(4−ベンジルオ
キシフエニル)アセトアミド(tn、、 p、  93
−94’C) ;N−ヒドロキシ−N−メチル−2−(
3−クロロ−4−ペンジルオキシフェニル)アセトアミ
ド責m1.109−111℃); N−ヒドロキシ−N−(2−フエネチル)−4−メトキ
シフエニルアセトアミド(m、 p、 87−88°C
):及びy−(t−7’チル)−N−ヒドロキシ−4−
ベンジルオキシフエニルアセトアミド(m、 p、  
128−180℃)。
上述の諸実施例の方法に従った類似の方法で、適切な出
発原料から以下の化合物が製造出来る:α−(8−(2
−キノリニルメトキシ)フェニル) −N−(2−フエ
ネチル)アセトヒドロキサメート;α−(5−ベンジル
オキシ−2−ピリジル)−N−ベンジルアセトヒドロキ
サメート; α−(4−フエノキシフエニル)−N−ペンチル−アセ
トヒドロキサメート; α−(4−ベンジルオキシフエニル)−N−<5−ペン
タン酸)−アセトヒドロキサメート; α−(4−ベンジルオキシベンジルi/V−(2−7エ
ネテル)アセトヒドロキサメート; α−(4−ベンジルオキシ−3−クロロフエニル)−N
−(2−フエネチル)アセトヒドロキサメート;α−(
4−ベンジルオキシ−8−クロロフエニル)−N−(1
−カルベトキシ−2−フェニルエチル)アセトヒドロキ
サメート; r;−(3−ベンジルオキシフエニル)−1/−(1−
メチル−2−フエネチル)アセトヒドロキサメート;α
−(2−ピリジル)−N−フエネチルアセトヒドロキサ
メート: α−(4−ベンジルオキシフエニル)−n−(2−ピリ
ジルメチル)アセトヒドロキサメート; α−(4−ベンジルオキシフエニル)−N−フエネチル
ー0〜アセチルアセトヒドロキサメート;及びN−ヒド
ロキシ−N−フエネチルー4−ベンジルオキシベンズア
ミド。
本発明の化合物は強力なりボキシゲナーゼ調節活性を有
し、且つ炎症条件及びアレルギ一応答例えば過敏症及び
喘息の処置で治療上の価値を有している。
哨乳類では、リポキシゲナーゼは肺、白血球中に見出さ
れている。それらはアラキドン酸を酵素作用により、ヒ
ドロペルオキシエイコサテトラエンH(HPETEs 
)及びその安定な生成物ヒドロキシエイコサテトラエフ
酸(11ETE8)に変換する能力を有する。リポキシ
ゲナーゼはアラキドン酸が酸化される位置によって分類
されており、血小板はアラキドン酸を12−11ETH
に代謝し、多形核(pus)白血球は5及び15リポキ
シゲナーゼを含んでいるっ12−HETI;及び5.1
2−diHETEはヒトの好中球及び好酸球に走化性で
あることが知られており、炎症過程に関与していよう。
5−BETEは遅反応性物質アナフラキシ−(SR3−
A)の前、躯体として知られている。分子のSR8族、
例えばロイコトリエンB、  C,及びDは強力な気管
支収縮剤であることが示されている(NATURF:2
88.484−486 (1980)h照)。
以Fのプロトコルはりボキシゲナーゼ(せ害剤検知用の
アッセイを記述したものである。か\る阻害剤はロイコ
トリエン類の生合成を変調し、その特性は喘漕及び炎症
性疾病状態の治療に有効であると考えられる。
無傷の血小板(12−LUX)による12−11ETE
の生合成 フード中に置いた大型ガラスデシケータ−中で4乃至5
匹のモルモット(sprague−Daw ley r
at)(200−a o o g)をそれぞれジエチル
エーテルで麻酔さる。工一チル飽和した綿をつめた10
0−ビーカーをモルモットの頭上に′s?き、遊離工程
中番こ意識をもどさせない様にする。
1.0−の3.8%クエン酸ソーダ溶液を入nた20−
シリンジを9−の血液を腹部大動脈から吸引するのに使
用する。
血g/クエン酸液をゆっくりと混合し、15−ポリプロ
ピレン製遠心分離管に移し、キャップをしてRTC室温
)に保つ。
血小板に満む血漿(PRP)はクエン酸化した血液を室
温で200?(ジ−、重力の単位)で10 sin D
arntsn卓上型遠心分劇機で遠心分1iiIUする
ことでつくる。血小板はPRP’f:1000rT1O
Nin、RTで遠心分1iiIIt、テ捕集する。血小
板懸濁液は血小板ペレットを使用した動物64番こつい
て(CcL2+又はu、 2+を用いずに〕2−のPB
Sに懸濁させてつくる。かくして得たこの血小板懸濁液
の200μtの一部t−20μtの試験化合物又は溶媒
(DMSO;最終濃度0,1チ)と5m1n、 30℃
で培養する。合計アッセイ容fRは244μ!である。
反応は20μlのカルシウム/ (14G) −,4,
4(アラキドン酸)溶液(それぞれ1.42m!!!及
び4μMの最終濃度)の添加によって始める。80℃で
8m1n 後、15 piのクエンM (I A/ )
及びNDGA(5yyiAりの添加でクエンチする。
放射化してない15−METE及び(”H)−12−B
ETEをクエン酸クエンチした試料に内部標準として加
えた。抽出生成物のシリカゲル上でのクロマトグラフ分
別抜、(”c)−12−Rx:rx:が(そのクロマト
グラフが同じの)添加した15−11ETEのUV吸光
度によってみつかり、シンチレーション分光法によって
定量される。
リポキシゲナーゼ経路阻害剤検知用プロトコルモルモッ
ト好中球の衝緩液中の懸濁体を8m1n、30℃で[1
4C−]−7ラキドン&(AA)及びカルシウムイオノ
フオア−(Ionovhore)  A 28187と
培養した。クエン酸(2M)を反応クエンチに使用する
。痕跡量の(”H)−5−METEと過剰の放射化して
ない5−METEとを6管に添加して後、混合物をクロ
ロホルム/メタノールで抽出する。有機層を稀酸で洗い
その一部をガラス管に移し乾固する。残渣を少量のクロ
ロホルムに溶かしその一部をシリカゲル・TLCシート
上に装置する、これを酢酸エチル/イソオクタン/水/
酢酸溶媒系で展開する。5−ノ1ETHのスポットを沃
素で可視化して、切出し、シンチレーション類に計数の
ために入れる。抽出効率を補正後、それぞれの管中のC
”C〕−5−EBTE(1”)量(pモル)を定量する
。正味のpモルは緩衝液と細胞(対照)を入れた管中の
5−METEのクモルから緩衝液単独(ブランク)の5
−EETEのp−モルを引いて求められる。試験化合物
のこの酵素の活性を変調する能力は生成した5−HET
Eの正味量の減少又は増加によって求められる。表1は
本発明による代表的化合物についての5−リポキシゲナ
ーゼの阻害に必要な濃度(5−LOX/1.ttm)を
示す。
表  1 1 0.8 0.12  I4.=802 0.30.
85 1・5 8 l 25 5 0.6 −− −− 出iスi!   人    ユーエスヴイー 7アーマ
シユーテイカルコーポレーシヨン

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される化合物及びその塩: 但しR_2はH、低級アルキル、ホルミル又はC_2−
    C_1_0のアルカノイルであり; RとR_1はそれぞれ独立に水素、低級シクロアルキル
    、縮合シクロアルキル又は低級アルキル置換縮合シクロ
    アルキル、低級アルキル、フエニル、ナフチル、窒素ヘ
    テロ環、酸素ヘテロ環、硫黄ヘテロ環又はヘテロ環状低
    級アルキルであり; Z、Z_1及びZ_2はそれぞれ化学結合、主鎖に炭素
    原子6以下を持ち全炭素原子が約10以下のアルキレン
    鎖又はモノ−もしくはジ−置換アルキレン鎖、低級シク
    ロアルキル、窒素ヘテロ環、酸素ヘテロ環、硫黄ヘテロ
    環、ヘテロ環−低級アルキル、モノ−もしくはジ−置換
    低級シクロアルキル又はモノ−もしくはジ−置換ヘテロ
    環−低級アルキル(ここで置換基は水素、低級アルキル
    、アリール、低級アラルキル、低級アルコキシ、ヒドロ
    キシ、低級アラルコキシ、アリーロキシ、カルボキシ、
    低級カルボアルコキシ、カルボアリーロキシ、低級カル
    ボアラルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、アミノ
    低級アルキル、ジ−低級アルキルアミノ又はシアノをい
    う)であり; XとYはそれぞれ独立にO、S、CR_3R_4又は化
    学結合であり; R_3とR_4はそれぞれ独立にH又は低級アルキルで
    あり; Arはフエニル、ナフチル、窒素ヘテロ環、酸素ヘテロ
    環又は硫黄ヘテロ環であり; 各R_5は水素、アリール、低級アルカノイル、ホルミ
    ル、ニトロ、シアノ、アミノ、低級アミノアルキル、低
    級アルキルアミノ、低級アラルキルアミノ、ハロ、トリ
    ハロアルキルカルバモイル又はアロイルであり; nは0〜2の整数であり; n_1は1〜2の整数である。 2、Arがフエニル、ナフチル又はピリジルである特許
    請求の範囲第1項の化合物。 3、YがO又はCR_3R_4である特許請求の範囲第
    1項の化合物。 4、XがO又はCR_3R_4である特許請求の範囲第
    1項の化合物。 5、ZとZ_1がそれぞれ化学結合又は主鎖に3以下の
    炭素原子を持つアルキレン鎖である特許請求の範囲第1
    項の化合物。 6、Z_2が主鎖に5以下の炭素原子を持つアルキレン
    鎖である特許請求の範囲第1項の化合物。 7、nが0又は1で、n_1が1である特許請求の範囲
    第1項の化合物。 8、RとR_1が独立に水素、低級アルキル、フエニル
    、ナフチル又はキノリルである特許請求の範囲第1項の
    化合物。 9、R_2が水素又は低級アルキルである特許請求の範
    囲第1項の化合物。 10、R_5が水素、ハロ又はベンゾイルで、n_1が
    1である特許請求の範囲第1項の化合物。 11、Arがフエニル又はナフチルであり;YがO又は
    CR_3R_4であり、XがO又はCR_3R_4であ
    り、ZとZ_1が独立に化学結合又は主鎖に炭素原子6
    以下を持ち全炭素原子が10以下であるアルキレン鎖も
    しくはモノ置換アルキレン鎖(ここで置換基は水素、低
    級アルキル、アリール、低級アラルキル、低級アルコキ
    シ、ヒドロキシ、低級アラルコキシ、アリーロキシ、カ
    ルボキシ、低級カルボアルコキシ、カルボアリーロキシ
    、低級カルボアラルコキシ、アミノ、低級アルキルアミ
    ノ、アミノ低級アルキル、ジ−低級アルキルアミノ又は
    シアノをいう)であり、RとR_1はそれぞれ独立に水
    素、低級アルキル、低級シクロアルキル、フエニル、ナ
    フチル又はキノリルであり、R_2、R_3及びR_4
    はそれぞれ水素又は低級アルキルであり、各R_5は水
    素、アリール、低級アルカノイル、ホルミル、ニトロ、
    シアノ、アミノ、低級アミノアルキル、低級アルキルア
    ミノ、低級アラルキルアミノ、ハロ、トリハロアルキル
    カルバモイル又はアロイルであり、そしてnは0〜2の
    整数である特許請求の範囲第1項の化合物。 12、YがO又はCR_3R_4である特許請求の範囲
    第11項の化合物。 13、XがO又はCR_3R_4である特許請求の範囲
    第11項の化合物。 14、ZとZ_1がそれぞれ化学結合又は主鎖に3以下
    の炭素原子を持つアルキレン鎖である特許請求の範囲第
    11項の化合物。 15、Z_2が主鎖に5以下の炭素原子を持つアルキレ
    ン鎖である特許請求の範囲第11項の化合物。 16、Rが低級アルキル、ヒドロキシ、カルボキシ、低
    級アルコキシ又はハロで置換されている特許請求の範囲
    第11項の化合物。 17、R_1がハロ、低級アルキル、低級アルコキシ又
    は低級アラルコキシで置換されている特許請求の範囲第
    11項の化合物。 19、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ を有する化合物又はその塩である特許請求の範囲第1項
    の化合物: 但しRとR_1はそれぞれ独立に水素、低級アルキル、
    フエニル、ナフチル、窒素ヘテロ環、酸素ヘテロ環又は
    硫黄ヘテロ環であり; ZとZ_1は独立に化学結合又は主鎖に6以下の炭素原
    子を持ち全炭素原子が10以下であるアルキレン鎖であ
    り; Z_2は独立に化学結合又は主鎖に炭素原子6以下を持
    ち全炭素原子が10以下であるアルキレン鎖もしくはモ
    ノ置換アルキレン鎖(ここで置換基は水素、低級アルキ
    ル、アリール、低級アラルキル、低級アルコキシ、ヒド
    ロキシ、低級アラルコキシ、アリーロキシ、カルボキシ
    、低級カルボアルコキシ、カルボアリーロキシ、低級カ
    ルボアラルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、アミ
    ノ低級アルキル、ジ−低級アルキルアミノ又はシアノを
    いう)であり、XとYはそれぞれ独立にO、S又はCR
    _3R_4であり; R_3とR_4はそれぞれ独立に水素又は低級アルキル
    であり; nは0、1又は2であり;そして 各R_5は水素、アリール、低級アルカノイル、ホルミ
    ル、ニトロ、シアノ、アミノ、低級アミノアルキル、低
    級アルキルアミノ、低級アラルキルアミノ、ハロ、トリ
    ハロアルキルカルバモイル又はアロイルである特許請求
    の範囲第1項の化合物。 20、YがO又はCR_3R_4である特許請求の範囲
    第19項の化合物。 21、XがO又はCR_3R_4である特許請求の範囲
    第19項の化合物。 22、RとR_1がそれぞれ独立にH、低級アルキル、
    フエニル、ナフチル又はキノリルである特許請求の範囲
    第19項の化合物。 23、ZとZ_1がそれぞれ化学結合、主鎖が炭素数3
    以下のアルキレン鎖である特許請求の範囲第19項の化
    合物。 24、Z_2が主鎖が炭素数5以下のアルキレン鎖であ
    る特許請求の範囲第19項の化合物。 25、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物又はその塩である特許請求の範囲第1項の化合
    物;但しnは0又は1であり; RとR_1はそれぞれ独立に水素、低級アルキル、低級
    シクロアルキル、フエニル、ナフチル又は窒素、酸素も
    しくは硫黄ヘテロ環であり; ZとZ_1は独立に化学結合又は主鎖に炭素数6以下を
    持ち全炭素数が10以下のアルキレン鎖であり、Z_2
    は化学詰合又は主鎖に炭素原子6以下を持ち全炭素原子
    が10以下であるアルキレン鎖もしくはモノ置換アルキ
    レン鎖(ここで置換基は水素、低級アルキル、アリール
    、低級アラルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、低級
    アラルコキシ、アリーロキシ、カルボキシ、低級カルボ
    アルコキシ、カルボアリーロキシ、低級カルボアラルコ
    キシ、アミノ、低級アルキルアミノ、アミノ低級アルキ
    ル、ジ−低級アルキルアミノ又はシアノをいう)であり
    ; Xは独立にO、S又はCR_3R_4であり; R_3は独立に水素又は低級アルキルであり; nは0、1又は2であり;そして 各R_5は水素、アリール、低級アルカノイル、ホルミ
    ル、ニトロ、シアノ、アミノ、低級アミノアルキル、低
    級アルキルアミノ、低級アラルキルアミノ、ハロ、トリ
    ハロアルキルカルバモイル又はアロイルである特許請求
    の範囲第1項の化合物。 26、XがO又はCR_3R_4である特許請求の範囲
    第25項の化合物。 27、ZとZ_1がそれぞれ化学結合又は主鎖に3以下
    の炭素原子を持つアルキレン鎖である特許請求の範囲第
    25項の化合物。 28、Z_2が主鎖に5以下の炭素原子を有するアルキ
    レン鎖である特許請求の範囲第25項の化合物。 29、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物又はその塩である特許請求の範囲第1項の化合
    物;但しRとR_1はそれぞれ独立に水素、低級アルキ
    ル、フエニル、ナフチル又は窒素、酸素もしくは硫黄ヘ
    テロ環であり; ZとZ_1は独立に化学結合又は主鎖に炭素数6以下を
    持ち全炭素数が10以下のアルキレン鎖であり; Z_2は化学結合又は主鎖に炭素原子6以下を持ち全炭
    素原子が10以下であるアルキレン鎖もしくはモノ置換
    アルキレン鎖(ここで置換基は水素、低級アルキル、ア
    リール、低級アラルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ
    、低級アラルコキシ、アリーロキシ、カルボキシ、低級
    カルボアルコキシ、カルボアリーロキシ、低級カルボア
    ラルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、アミノ低級
    アルキル、ジ−低級アルキルアミノ又はシアノをいう)
    であり; R_3は独立に水素又は低級アルキルであり; 各R_5は水素、アリール、低級アルカノイル、ホルミ
    ル、ニトロ、シアノ、アミノ、低級アミノアルキル、低
    級アルキルアミノ、低級アラルキルアミノ、ハロ、トリ
    ハロアルキルカルバモイル又はアロイルである特許請求
    の範囲第1項の化合物。 30、ZとZ_1がそれぞれ化学結合又は主鎖に3以下
    の炭素原子を有するアルキレン鎖である特許請求の範囲
    第29項の化合物。 31、Z_2が主鎖に5以下の炭素原子を有するアルキ
    レン鎖である特許請求の範囲第29項の化合物。 32、RとR_1がハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、
    低級アルコキシ、アミノ、シアノ、低級アラルキル、ア
    リールオキシ、低級アラルコキシ、ニトロ又はトリハロ
    メチルで置換されている特許請求の範囲第1項の化合物
    。 33、α−(4−ベンジロキシフエニル)−N−ベンジ
    ルアセトヒドロキサメートである特許請求の範囲第1項
    の化合物。 34、α−メチル−α−(4−(2−メチルプロピル)
    フエニル)−N−ベンジルアセトヒドロキサメートであ
    る特許請求の範囲第1項の化合物。 35、α−メチル−α−(2−(6−メトキシナフチル
    )−N−フエネチルアセトヒドロキサメートである特許
    請求の範囲第1項の化合物。 36、α−(4−ベンジロキシフエニル)−N−フエネ
    チルアセトヒドロキサメートである特許請求の範囲第1
    項の化合物。 37、α−(4−(2−メチルプロピル)フエニル−α
    −メチル−N−(2−フエネチル)アセトヒドロキサメ
    ートである特許請求の範囲第1項の化合物。 38、α−(4−ベンジロキシフエニル)−N−(3−
    フエニルプロピル)アセトヒドロキサメートである特許
    請求の範囲第1項の化合物。 39、α−(4−ベンジロキシフエニル)−N−(3−
    フエニルプロピル)アセトヒドロキサメートである特許
    請求の範囲第1項の化合物。 40、α−(4−ヒドロキシフエニル)−N−メチルア
    セトヒドロキサメートである特許請求の範囲第1項の化
    合物。 41、α−(4−(2−メチルプロピル)フエニル)−
    α−メチル−N−(α−メチルベンジル)アセトヒドロ
    キサメートである特許請求の範囲第1項の化合物。 42、α−フエネチル−N−フエネチルアセトヒドロキ
    サメートである特許請求の範囲第1項の化合物。 43、α−(4−ベンジロキシフエニル)−N−(α−
    メチルベンジル)アセトヒドロキサメートである特許請
    求の範囲第1項の化合物。 44、α−(4−ベンジロキシフエニル)−N−(1−
    ベンジルプロピル)アセトヒドロキサメートである特許
    請求の範囲第1項の化合物。 45、α−(3−(2−キノリニルメトキシ)フエニル
    )−N−(2−フエネチル)−アセトヒドロキサメート
    である特許請求の範囲第1項の化合物。 46、α−(5−ベンジロキシ−2−ピリジル)−N−
    ベンジル−アセトヒドロキサメートである特許請求の範
    囲第1項の化合物。 47、α−(4−フエノキシフエニル)−N−ペンチル
    −アセトヒドロキサメートである特許請求の範囲第1項
    の化合物。 48、α−(4−ベンジロキシフエニル)−N−(5−
    ペンタノン酸)−アセトヒドロキサメートである特許請
    求の範囲第1項の化合物。 49、α−(4−ベンジロキシベンジル)−N−(2−
    フエネチル)アセトヒドロキサメートである特許請求の
    範囲第1項の化合物。 50、α−(4−ベンジロキシ−3−クロロフエニル)
    −N−(2−フエネチル)−アセトヒドロキサメートで
    ある特許請求の範囲第1項の化合物。 51、α−(4−ベンジロキシ−3−クロロフエニル)
    −N−(1−カルベトキシ−2−フエネチル)−アセト
    ヒドロキサメートである特許請求の範囲第1項の化合物
    。 52、α−(3−ベンジロキシフエニル)−N−(1−
    メチル−2−フエネチル)−アセトヒドロキサメートで
    ある特許請求の範囲第1項の化合物。 53、α−(2−ピリジル)−N−フエネチルアセトヒ
    ドロキサメートである特許請求の範囲第4項の化合物。 54、α−(4−ベンジロキシフエニル)−N−(2−
    ピリジルメチル)アセトヒドロキサメートである特許請
    求の範囲第1項の化合物。 55、α−(4−ベンジロキシフエニル)−N−フエネ
    チル−O−アセチルアセトヒドロキサメートである特許
    請求の範囲第1項の化合物。 56、N−ヒドロキシ−N−フエネチル−4−ベンジロ
    キシ−ベンザミドである特許請求の範囲第1項の化合物
    。 57、N−ヒドロキシ−N−メチル−3−((キノリン
    −2−イル)メトキシ)フエニルアセトアミドである特
    許請求の範囲第1項の化合物。 58、N−ヒドロキシ−N−メチル−5−フエニルバレ
    ラミドである特許請求の範囲第1項の化合物。 59、N−ヒドロキシ−N−メチル−4−((キノリン
    −2−イル)メトキシフエニルアセトアミドである特許
    請求の範囲第1項の化合物。 60、N−ヒドロキシ−N−メチル−4−(4−メトキ
    シフエニル)ブチルアミドである特許請求の範囲第1項
    の化合物。 61、N−ヒドロキシ−N−(2−フエネチル)−2−
    (3−ベンゾイロキシフエニル)ブチルアミドである特
    許請求の範囲第1項の化合物。 62、N−(3−カルボキシプロピル)−N−ヒドロキ
    シ−4−フエニルブチルアミドである特許請求の範囲第
    1項の化合物。 63、N−(2−フエネチル)−N−ヒドロキシ−5−
    フエニルバレルアミドである特許請求の範囲第1項の化
    合物。 64、N−ヒドロキシ−N−(2−メチル−2−(4−
    メトキシフエニル)エチル−4−ヒドロキシフエニルア
    セトアミドである特許請求の範囲第1項の化合物。 65、N−ヒドロキシ−N−(2−フエニルエチル)−
    2−(3−ベンゾイルフエニル)プロピオンアミドであ
    る特許請求の範囲第1項の化合物。 66、N−ヒドロキシ−N−(4−クロロフエネチル)
    −4−ベンジルオキシフエニルアセトアミドである特許
    請求の範囲第1項の化合物。 67、N−(3−カルボキシプロピル)−N−ヒドロキ
    シ−4−フエニルブチルアミドである特許請求の範囲第
    1項の化合物。 68、N−ベンジル−N−ヒドロキシ−4−フエニルブ
    チルアミドである特許請求の範囲第1項の化合物。 69、N−ヒドロキシ−N−(2−フエネチル)−2−
    フエノキシアセトアミドである特許請求の範囲第1項の
    化合物。 70、N−ヒドロキシ−N−〔2−メチル−2−(4−
    ベンジルオキシフエニル)エチル〕−4−ベンジルオキ
    シフエニルアセトアミドである特許請求の範囲第1項の
    化合物。 71、N−ヒドロキシ−N−(1−ベンジルプロピル)
    −4−フエニルブチルアミドである特許請求の範囲第1
    項の化合物。 72、N−ヒドロキシ−N−(3−フエニルプロピル)
    −3−フエニルプロピオンアミドである特許請求の範囲
    第1項の化合物。 73、N−ヒドロキシ−N−(2−フエネチル)−3−
    フエノキシプロピオンアミドである特許請求の範囲第1
    項の化合物。 74、N−ヒドロキシ−N−(2−フエネチル)−4−
    (4−メトキシフエニル)ブチルアミドである特許請求
    の範囲第1項の化合物。 75、N−ヒドロキシ−N−プロピル−2−(4−ベン
    ジルオキシフエニル)アセトアミドである特許請求の範
    囲第1項の化合物。 76、N−ヒドロキシ−N−メチル−2−(3−クロロ
    −4−ベンジルオキシ)フエニル)アセトアミドである
    特許請求の範囲第1項の化合物。 77、N−ヒドロキシ−N−(2−フエネチル)−4−
    メトキシフエニルアセトアミドである特許請求の範囲第
    1項の化合物。 78、N−(t−ブチル)−N−ヒドロキシ−4−ベン
    ジルフエニルアセトアミドである特許請求の範囲第1項
    の化合物。 79、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される化合物又はその塩と製薬担体からなる治療用
    組成物: 但しR_2はH、低級アルキル、ホルミル又はC_2−
    C_1_0のアルカノイルであり; RとR_1はそれぞれ独立に水素、低級シクロアルキル
    、縮合シクロアルキル又は低級アルキル置換縮合シクロ
    アルキル、低級アルキル、フエニル、ナフチル、窒素ヘ
    テロ環、酸素ヘテロ環、硫黄ヘテロ環又はヘテロ環状低
    級アルキルであり; Z、Z_1及びZ_2はそれぞれ化学結合、主鎖に炭素
    原子6以下を持ち全炭素原子が約10以下のアルキレン
    鎖又はモノ−もしくはジ−置換アルキレン鎖、低級シク
    ロアルキル、窒素ヘテロ環、酸素ヘテロ環、硫黄ヘテロ
    環、ヘテロ環−低級アルキル、モノ−もしくはジ−置換
    低級シクロアルキル又はモノ−もしくはジ−置換ヘテロ
    環−低級アルキル(ここで置換基は水素、低級アルキル
    、アリール、低級アラルキル、低級アルコキシ、ヒドロ
    キシ、低級アラルコキシ、アリーロキシ、カルボキシ、
    低級カルボアルコキシ、カルボアリーロキシ、低級カル
    ボアラルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、アミノ
    低級アルキル、ジ−低級アルキルアミノ又はシアノをい
    う)であり; XとYはそれぞれ独立にO、S、CR_3R_4又は化
    学結合であり; R_3とR_4はそれぞれ独立にH又は低級アルキルで
    あり; Arはフエニル、ナフチル、窒素ヘテロ環、酸素ヘテロ
    環又は硫黄ヘテロ環であり; 各R_5は水素、アリール、低級アルカノイル、ホルミ
    ル、ニトロ、シアノ、アミノ、低級アミノアルキル、低
    級アルキルアミノ、低級アラルキルアミノ、ハロ、トリ
    ハロアルキルカルバモイル又はアロイルであり; nは0〜2の整数であり; n_1は1〜2の整数である。 80、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される化合物又はその塩を有効成分とする高血圧、
    炎症又はアレルギー治療剤; 但しR_2はH、低級アルキル、ホルミル又はC_2−
    C_1_0のアルカノイルであり; RとR_1はそれぞれ独立に水素、低級シクロアルキル
    、縮合シクロアルキル又は低級アルキル置換縮合シクロ
    アルキル、低級アルキル、フエニル、ナフチル、窒素ヘ
    テロ環、酸素ヘテロ環、硫黄ヘテロ環又はヘテロ環状低
    級アルキルであり; Z、Z_1及びZ_2はそれぞれ化学結合、主鎖に炭素
    原子6以下を持ち全炭素原子が約10以下のアルキレン
    鎖又はモノ−もしくはジ−置換アルキレン鎖、低級シク
    ロアルキル、窒素ヘテロ環、酸素ヘテロ環、硫黄ヘテロ
    環、ヘテロ環−低級アルキル、モノ−もしくはジ−置換
    低級シクロアルキル又はモノ−もしくはジ−置換ヘテロ
    環−低級アルキル(ここで置換基は水素、低級アルキル
    、アリール、低級アラルキル、低級アルコキシ、ヒドロ
    キシ、低級アラルコキシ、アリーロキシ、カルボキシ、
    低級カルボアルコキシ、カルボアリーロキシ、低級カル
    ボアラルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、アミノ
    低級アルキル、ジ−低級アルキルアミノ又はシアノをい
    う)であり; XとYはそれぞれ独立にO、S、CR_3R_4又は化
    学結合であり; R_3とR_4はそれぞれ独立にH又は低級アルキルで
    あり; Arはフエニル、ナフチル、窒素ヘテロ環、酸素ヘテロ
    環又は硫黄ヘテロ環であり; 各R_5は水素、アリール、低級アルカノイル、ホルミ
    ル、ニトロ、シアノ、アミノ、低級アミノアルキル、低
    級アルキルアミノ、低級アラルキルアミノ、ハロ、トリ
    ハロアルキルカルバモイル又はアロイルであり; 1は0〜2の整数であり; n_1は1〜2の整数である。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63264442A (ja) * 1986-12-29 1988-11-01 ブリストル―マイアーズ スクイブ コムパニー リポキシゲナーゼ阻害性化合物
WO1995013264A1 (en) * 1993-11-08 1995-05-18 Terumo Kabushiki Kaisha Hydroxamic acid derivative and medicinal preparation containing the same
JP2012508788A (ja) * 2008-11-17 2012-04-12 シンジェンタ パーティシペーションズ アクチェンゲゼルシャフト 植物の成長を制御する組成物

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JPS63264442A (ja) * 1986-12-29 1988-11-01 ブリストル―マイアーズ スクイブ コムパニー リポキシゲナーゼ阻害性化合物
WO1995013264A1 (en) * 1993-11-08 1995-05-18 Terumo Kabushiki Kaisha Hydroxamic acid derivative and medicinal preparation containing the same
JP2012508788A (ja) * 2008-11-17 2012-04-12 シンジェンタ パーティシペーションズ アクチェンゲゼルシャフト 植物の成長を制御する組成物

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