JPS6129045A - 撮像管装置 - Google Patents
撮像管装置Info
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- JPS6129045A JPS6129045A JP14754084A JP14754084A JPS6129045A JP S6129045 A JPS6129045 A JP S6129045A JP 14754084 A JP14754084 A JP 14754084A JP 14754084 A JP14754084 A JP 14754084A JP S6129045 A JPS6129045 A JP S6129045A
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- Japan
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- cathode
- grating
- grid
- voltage
- aperture
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- Pending
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
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- H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
- H01J29/48—Electron guns
- H01J29/488—Schematic arrangements of the electrodes for beam forming; Place and form of the elecrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
- H01J29/52—Arrangements for controlling intensity of ray or beam, e.g. for modulation
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、憚像管装置に係り、特に通常動作では層流電
子ビームを発生し、必要に応じて大ビーム電流を確保で
きる撮像管装置に関する。
子ビームを発生し、必要に応じて大ビーム電流を確保で
きる撮像管装置に関する。
ビジコン形撮像管では、被写体照度に対応した電荷パタ
ーンを光導電膜上に発生させ、電子銃で、発生させた電
子ビームで光導電膜上を走査することにより、電荷パタ
ーンを順次放電し、この放電に対応した充電電流を信号
として外部に取り出している。被写体によυ１度発生し
た電荷は、通常は１回のビーム走査でその全量が完全に
放電されることはなく、この為に被写体がなくなっても
、次回以降の走査において残留電荷に対応した偽信号が
残像として発生し、動く被写体の画質を劣化させる。
ーンを光導電膜上に発生させ、電子銃で、発生させた電
子ビームで光導電膜上を走査することにより、電荷パタ
ーンを順次放電し、この放電に対応した充電電流を信号
として外部に取り出している。被写体によυ１度発生し
た電荷は、通常は１回のビーム走査でその全量が完全に
放電されることはなく、この為に被写体がなくなっても
、次回以降の走査において残留電荷に対応した偽信号が
残像として発生し、動く被写体の画質を劣化させる。
特に、阻止形光導電膜を使用した撮像管においては、光
導電膜の有する静電容量と、走査電子ビームの有するビ
ーム抵抗との積で定まる時定数を持つ容量性残像が主体
である。ビーム抵抗は電子ビームを形成する電子群の速
度分布と等価であり、低残像を実現する電子ビームは、
電子群の速度分布が狭いことが必要条件となる。
導電膜の有する静電容量と、走査電子ビームの有するビ
ーム抵抗との積で定まる時定数を持つ容量性残像が主体
である。ビーム抵抗は電子ビームを形成する電子群の速
度分布と等価であり、低残像を実現する電子ビームは、
電子群の速度分布が狭いことが必要条件となる。
陰極から放出される電子群はマックスウェル分布をした
速度分布をしているが、細いビームを形成する過程にお
いてビームの電流密度が上昇し、電子相互のクーロン力
によるエネルギ緩和現象によ多速度分布が拡大されるこ
とが知られている。
速度分布をしているが、細いビームを形成する過程にお
いてビームの電流密度が上昇し、電子相互のクーロン力
によるエネルギ緩和現象によ多速度分布が拡大されるこ
とが知られている。
この現象はベージュ効果と呼ばれ、速度分布の拡大率は
ビームの軸上電流密度Ｊ （Ｚ）に対し、はぼＪ （Ｚ
）１Ａに比例することが知られている。
ビームの軸上電流密度Ｊ （Ｚ）に対し、はぼＪ （Ｚ
）１Ａに比例することが知られている。
したがって、低残像を目的とする撮像管では、できる限
シビームの′電流密度上昇を抑える必要がある。このだ
め、陰極に対向する第１格子を陰極に対し正電圧で動作
させ、陰極から管軸に平行に電子を放出させ、電流密度
の高いクロスオーバを形成しない層流ビームを発生する
２極形電子銃が提案されている。（例えば特開昭５０−
３９８６９号公報、特開昭５４−１２９８７１号公報を
参照のこと。）しかしながら、このような層流形の２極
電子銃においては、ビーム電流量は陰極の放出電流密度
に比例するため大きなビーム電流を得るには陰極の電流
密度が極めて大きくなり、ビーム電流量のダイナミック
レンジを拡大し被写体照度に対応させてビーム量を制御
する自動ビーム量最適化Ａｕｔｏｍａｔｉｃ Ｂｅａｍ
Ｏｐｔｉｍｉｚｅｒ（ＡＢＯと略する）を行うととは
困難であった。
シビームの′電流密度上昇を抑える必要がある。このだ
め、陰極に対向する第１格子を陰極に対し正電圧で動作
させ、陰極から管軸に平行に電子を放出させ、電流密度
の高いクロスオーバを形成しない層流ビームを発生する
２極形電子銃が提案されている。（例えば特開昭５０−
３９８６９号公報、特開昭５４−１２９８７１号公報を
参照のこと。）しかしながら、このような層流形の２極
電子銃においては、ビーム電流量は陰極の放出電流密度
に比例するため大きなビーム電流を得るには陰極の電流
密度が極めて大きくなり、ビーム電流量のダイナミック
レンジを拡大し被写体照度に対応させてビーム量を制御
する自動ビーム量最適化Ａｕｔｏｍａｔｉｃ Ｂｅａｍ
Ｏｐｔｉｍｉｚｅｒ（ＡＢＯと略する）を行うととは
困難であった。
本発明の目的は、かかる層流形２極電子銃の欠点を除去
し、ビーム電流量のダイナミックレンジを拡大してＡＢ
Ｏ動作を可能にすると共に低残像を達成し得る撮像管装
置を提供することにある。
し、ビーム電流量のダイナミックレンジを拡大してＡＢ
Ｏ動作を可能にすると共に低残像を達成し得る撮像管装
置を提供することにある。
口を有する第１格子および微小開口を有する第２格子で
構成すると共に、第１格子に陰極に対し正電圧を印加し
、第２格子に第１格子よυ高い正電圧を印加して第１格
子の微小開口部近傍に集束電子レンズを形成し、この集
束レンズの強度を第１格子に印加する電圧により制御し
て第２格子の微小開口を通過する電子ビームの電流量を
制御することを特徴とする。即ち、通常の動作時（１イ
ンチサイズの高精細用撮像管においては、基準信号電流
量は０．４μＡ〜０．５μＡであシ、ビーム電流はこの
２倍〜３倍に設定される）には、第１格子の印加電圧を
陰極に対し数１０Ｖと高く設定し、もって第１格子開口
部の集束レンズ作用を弱くして電子軌道が管軸にほぼ平
行な層流ビームを発生させる。次に被写体照度が上昇し
、大きなビーム電流を必要とするＡＢＯ動作時（１イン
チサイズのｊ最像管では３〜４μＡの電流量が必要であ
る）には、第１格子の印加電圧を低くシ、もって第１格
子開口部の集束レンズ作用を強くして電子をクロスオー
バさせることによシ大きなビーム電流を得るものである
。このように本発明の撮像管装置では、第１格子の印加
電圧を従来とは逆に、大きなビーム電流を発生する時に
低くする逆スイング１ｅｙｅｒｓｅ Ｓｗｉｎｇ 形（
Ｒ８形と略す）動作を行なうことが特徴である。
構成すると共に、第１格子に陰極に対し正電圧を印加し
、第２格子に第１格子よυ高い正電圧を印加して第１格
子の微小開口部近傍に集束電子レンズを形成し、この集
束レンズの強度を第１格子に印加する電圧により制御し
て第２格子の微小開口を通過する電子ビームの電流量を
制御することを特徴とする。即ち、通常の動作時（１イ
ンチサイズの高精細用撮像管においては、基準信号電流
量は０．４μＡ〜０．５μＡであシ、ビーム電流はこの
２倍〜３倍に設定される）には、第１格子の印加電圧を
陰極に対し数１０Ｖと高く設定し、もって第１格子開口
部の集束レンズ作用を弱くして電子軌道が管軸にほぼ平
行な層流ビームを発生させる。次に被写体照度が上昇し
、大きなビーム電流を必要とするＡＢＯ動作時（１イン
チサイズのｊ最像管では３〜４μＡの電流量が必要であ
る）には、第１格子の印加電圧を低くシ、もって第１格
子開口部の集束レンズ作用を強くして電子をクロスオー
バさせることによシ大きなビーム電流を得るものである
。このように本発明の撮像管装置では、第１格子の印加
電圧を従来とは逆に、大きなビーム電流を発生する時に
低くする逆スイング１ｅｙｅｒｓｅ Ｓｗｉｎｇ 形（
Ｒ８形と略す）動作を行なうことが特徴である。
以下、本発明を実施例を参照して詳細に説明する。
第１図は本発明に係るビジコン形撮像管装置の概略構成
を示す。図において１は陰極、２はヒータ、３は第１格
子、４は第２格子、５は第３格子、６はメツシュ状電極
を有する第４格子、７は光導電膜ターゲットであυ、こ
れらは真空外管８の内部に設置される。９は集束コイル
、１０は偏向コイル、１１はアライメントコイルである
。陰極１から放出された電子ビーム１２は、第１格子３
、第２格子４で構成される電子銃で細く成形され、集束
コイル９で発生する磁界レンズによシターゲット７上に
結像され、偏向コイル１０で発生する磁界によシ走査さ
れる。各電極への印加電圧は、真空外管８の一端に設け
られたステム１３を介して外部から供給される。尚、こ
こでは電磁集束・電磁偏向形撮像管装置を例として示し
たが、本発明はビーム集束・偏向方式には関係なく、電
磁集束・静電偏向あるいは静電集束・電磁偏向等のどの
ような方式の撮像管装置にでも適用できる。
を示す。図において１は陰極、２はヒータ、３は第１格
子、４は第２格子、５は第３格子、６はメツシュ状電極
を有する第４格子、７は光導電膜ターゲットであυ、こ
れらは真空外管８の内部に設置される。９は集束コイル
、１０は偏向コイル、１１はアライメントコイルである
。陰極１から放出された電子ビーム１２は、第１格子３
、第２格子４で構成される電子銃で細く成形され、集束
コイル９で発生する磁界レンズによシターゲット７上に
結像され、偏向コイル１０で発生する磁界によシ走査さ
れる。各電極への印加電圧は、真空外管８の一端に設け
られたステム１３を介して外部から供給される。尚、こ
こでは電磁集束・電磁偏向形撮像管装置を例として示し
たが、本発明はビーム集束・偏向方式には関係なく、電
磁集束・静電偏向あるいは静電集束・電磁偏向等のどの
ような方式の撮像管装置にでも適用できる。
第２図及び第３図は本発明に用いられる２極形電子銃の
要部を示す拡大断面図である。２３は第１格子３に設け
られた微小開口（アパーチャ）であり、陰極１から対照
された電子ビームの径を制限するものである。２４は第
２格子４の開口であシ、３４は第２格子４に設けられた
微小開口（アパーチャ）であシ、このアパーチャ３４に
よシ次段の集束系へ放射される電子ビームの径及び発散
角が制御される。
要部を示す拡大断面図である。２３は第１格子３に設け
られた微小開口（アパーチャ）であり、陰極１から対照
された電子ビームの径を制限するものである。２４は第
２格子４の開口であシ、３４は第２格子４に設けられた
微小開口（アパーチャ）であシ、このアパーチャ３４に
よシ次段の集束系へ放射される電子ビームの径及び発散
角が制御される。
陰極１としては、高い放出電流密度が得られるバリウム
含浸形陰極を用いると好適である。この陰極は多孔質タ
ングステンベレットにＢａｄ。
含浸形陰極を用いると好適である。この陰極は多孔質タ
ングステンベレットにＢａｄ。
Ｃａ、、 ０ 、 ｋｔｚ Ｏｓ （標準的な成分比４
：１：１）を含浸させ、タンタル等のスリーブ上端にベ
レットを溶着したものである。更に電子放出特性を向見 上する為にＩｒ、Ｏ８等のｊ素をベレット表面にと高い
。第１格子３は対向する陰Ｉｌ！ｉ１の温度が高いこと
と、電極への流入電流が大きいことから、タンタル等の
高融点材料を用いるのが好適である。
：１：１）を含浸させ、タンタル等のスリーブ上端にベ
レットを溶着したものである。更に電子放出特性を向見 上する為にＩｒ、Ｏ８等のｊ素をベレット表面にと高い
。第１格子３は対向する陰Ｉｌ！ｉ１の温度が高いこと
と、電極への流入電流が大きいことから、タンタル等の
高融点材料を用いるのが好適である。
陰極を基準として、第２格子４にはＢｃｘ−３００■、
が印加される。第１格子３には基準直流電圧と被写体照
度に対応したＡＢＯ動作用の電圧とが重ねて印加される
。これらの電圧の和Ｅｃ１を変化させることによシ、第
１格子のアパーチャ２３近傍のレンズ作用が変化し、層
流ビーム１２０、クロスオーバビーム１−棒選択的に発
生させることができる。
が印加される。第１格子３には基準直流電圧と被写体照
度に対応したＡＢＯ動作用の電圧とが重ねて印加される
。これらの電圧の和Ｅｃ１を変化させることによシ、第
１格子のアパーチャ２３近傍のレンズ作用が変化し、層
流ビーム１２０、クロスオーバビーム１−棒選択的に発
生させることができる。
第３図は第２図に示した電子銃の電極寸法を示した図で
ある。陰極１と第１格子３０間隙をｔｌ、第１格子３と
第２格子４０間隙をｔｌ、第１格子３の板厚を１１、第
２格子４の実効的板厚をｔ６、第２格子のアパーチャ３
４の形成された部分の板厚をｔ３、アパーチャ２３の直
径をｄ１１第２格子開口２４の直径をｄ２、第２格子の
アノく−チャ３４の直径をｄ３とする。
ある。陰極１と第１格子３０間隙をｔｌ、第１格子３と
第２格子４０間隙をｔｌ、第１格子３の板厚を１１、第
２格子４の実効的板厚をｔ６、第２格子のアパーチャ３
４の形成された部分の板厚をｔ３、アパーチャ２３の直
径をｄ１１第２格子開口２４の直径をｄ２、第２格子の
アノく−チャ３４の直径をｄ３とする。
第２格子４への印加電圧Ｅｃ２は３００■とし、アパー
チャ３４の直径ｄ３は１０μｍ１陰極−第１格子間隙Ｌ
１ ｉｄ、 ｏ、 １ ｍｍとする。これらの値は、
第７図に示す従来形電子銃において、第１格子印加電圧
が約３０Ｖにてビーム電流として０．８μＡ（基準信号
電流０．４μＡの２倍に相当する）が得られる寸法構造
である。他の寸法は第１格子板厚ｔＩ＝０．１■、第２
格子板厚１２＝Ｑ、５關、第２格子アパーチャ部の板厚
ｔ ３ ＝ ０．０３ ｔｒａｎ 、第１格子−第２格
子間隙１Ｂ ＝ ０．２１１１ｍ、第１格子のアパーチ
ャ直径ｄＩ＝０．３ｍｍとし、第２格子開口直径ｄ２は
０．５ ｔｔｒｍ （実施例１）及びＯ，：１ｍ（実施
例２）とした。
チャ３４の直径ｄ３は１０μｍ１陰極−第１格子間隙Ｌ
１ ｉｄ、 ｏ、 １ ｍｍとする。これらの値は、
第７図に示す従来形電子銃において、第１格子印加電圧
が約３０Ｖにてビーム電流として０．８μＡ（基準信号
電流０．４μＡの２倍に相当する）が得られる寸法構造
である。他の寸法は第１格子板厚ｔＩ＝０．１■、第２
格子板厚１２＝Ｑ、５關、第２格子アパーチャ部の板厚
ｔ ３ ＝ ０．０３ ｔｒａｎ 、第１格子−第２格
子間隙１Ｂ ＝ ０．２１１１ｍ、第１格子のアパーチ
ャ直径ｄＩ＝０．３ｍｍとし、第２格子開口直径ｄ２は
０．５ ｔｔｒｍ （実施例１）及びＯ，：１ｍ（実施
例２）とした。
本発明装置で用いられる電子銃は、上記実施例に何等限
定されるものではないが、隘極−第１格子間隙ｔ１を０
．０５〜０．１５咽、アパーチャ３４の直径ｄ３をｏ、
ｏ ｏ ｓ〜０．０１５＋１１１１ｓアパーチヤ２３
の直径ｄ１を０．１〜０．５調とするのが好ましい。
定されるものではないが、隘極−第１格子間隙ｔ１を０
．０５〜０．１５咽、アパーチャ３４の直径ｄ３をｏ、
ｏ ｏ ｓ〜０．０１５＋１１１１ｓアパーチヤ２３
の直径ｄ１を０．１〜０．５調とするのが好ましい。
第４図は第１格子の電圧Ｅｃ＋に対して、第２格子のア
パーチャ３４を通過する発生ビーム電流量１と、陰極中
心点の放出電流密度（陰極負荷と呼ばれる）ρＣとを上
記の実施例１、実施例２及び従来例について各々示した
ものである。ここで発生ビーム電流量１は、実際の撮像
動作に利用されるビーム電流量の約４倍に相当する。こ
れは第１図に示したメツシュ状電極６の透過率が約５０
％、更に光導電膜ターゲット７でのビーム利用率が５０
％であることに起因している。従って基準信号電流量を
０．４μＡとすると、通常動作時のビーム電流を０．８
μＡ（２倍ビーム設定）％ＡＢＯ動作時動作−ム電流を
４μＡ（１０倍ビーム設定）得るのに必要な電子銃で発
生すべきビーム電流量■慕は０．８ Ｘ ４ ＝ ３．
２μＡおよび４Ｘ４＝１６μＡとなる。
パーチャ３４を通過する発生ビーム電流量１と、陰極中
心点の放出電流密度（陰極負荷と呼ばれる）ρＣとを上
記の実施例１、実施例２及び従来例について各々示した
ものである。ここで発生ビーム電流量１は、実際の撮像
動作に利用されるビーム電流量の約４倍に相当する。こ
れは第１図に示したメツシュ状電極６の透過率が約５０
％、更に光導電膜ターゲット７でのビーム利用率が５０
％であることに起因している。従って基準信号電流量を
０．４μＡとすると、通常動作時のビーム電流を０．８
μＡ（２倍ビーム設定）％ＡＢＯ動作時動作−ム電流を
４μＡ（１０倍ビーム設定）得るのに必要な電子銃で発
生すべきビーム電流量■慕は０．８ Ｘ ４ ＝ ３．
２μＡおよび４Ｘ４＝１６μＡとなる。
図中にて実線は発生ビーム電流りを、点線は陰極負荷ρ
Ｃを示す。
Ｃを示す。
第７図に示した従来例においては、陰極１と第１格子３
との間隙をｔ！とじ、第１格子の印加電圧をＥｃｌとす
ると、陰極負荷ρＣは平行平板電極に対するＣｈｉｌｄ
−Ｉ、ａｎｇｍｕｉｒ （７）式で与えられる。
との間隙をｔ！とじ、第１格子の印加電圧をＥｃｌとす
ると、陰極負荷ρＣは平行平板電極に対するＣｈｉｌｄ
−Ｉ、ａｎｇｍｕｉｒ （７）式で与えられる。
従って第１格子微小開口１４の直径をｄ斗とすれば、発
生ビーム電流は １”＝′・７ｄ４′ で与えられる。このように従来例は、ρｃＣｘＥｃＩ３
／２Ｉ ｍ Ｃ１Ｅｃｌ ””となシ、１１増大は直接
ρＣ増大をまねくことになる。第４図には＠極−第１格
子間隙Ｌ １ ＝ ０．１ ｍｍ、第１格子微小開口直
径ｄ４ ＝１０μｍとした場合の従来例を示してあり、
発生ビーム電流ｌｍ＝３．２μＡを得るためＫは第１格
子の印加電圧Ｅｃ１は約３０Ｖとなり、この時の陰極負
荷ρＣは４ Ａ ／ ｃｄｌに上昇している。この特性
図から、従来例では大きなビーム電流量を必要とするＡ
ＢＯ動作が困難であることが分る。
生ビーム電流は １”＝′・７ｄ４′ で与えられる。このように従来例は、ρｃＣｘＥｃＩ３
／２Ｉ ｍ Ｃ１Ｅｃｌ ””となシ、１１増大は直接
ρＣ増大をまねくことになる。第４図には＠極−第１格
子間隙Ｌ １ ＝ ０．１ ｍｍ、第１格子微小開口直
径ｄ４ ＝１０μｍとした場合の従来例を示してあり、
発生ビーム電流ｌｍ＝３．２μＡを得るためＫは第１格
子の印加電圧Ｅｃ１は約３０Ｖとなり、この時の陰極負
荷ρＣは４ Ａ ／ ｃｄｌに上昇している。この特性
図から、従来例では大きなビーム電流量を必要とするＡ
ＢＯ動作が困難であることが分る。
これに対し、第２図及び第３図に示した電子銃では実施
例１，２ともに、第１格子電圧Ｅｃｌ≧１５Ｖで発生ビ
ーム電流■１がピーク値をとっておシ、この値は２０μ
Ａ以上の大きな値となシＡＢＯ動作が可能なことを示し
ている。実施例１を例にとってみると、発生ビーム電流
ｌｍ＝３．２μ人を得るためには、第１格子電圧Ｅｃ１
χ３０Ｖに設定すればよく、この時陰極負荷ρｃさ２．
５Ａ／／ ｔｅｌｌであ多層流ビーム電流量する。次に
第１格子−電圧Ｅｃ１を逆スイングし１７Ｖに設定すれ
ばクロスオーバビームが形成され発生ビーム電流はｌ５
ｚ１６μＡとな！ＤＡＢＯ動作を行なうことができる。
例１，２ともに、第１格子電圧Ｅｃｌ≧１５Ｖで発生ビ
ーム電流■１がピーク値をとっておシ、この値は２０μ
Ａ以上の大きな値となシＡＢＯ動作が可能なことを示し
ている。実施例１を例にとってみると、発生ビーム電流
ｌｍ＝３．２μ人を得るためには、第１格子電圧Ｅｃ１
χ３０Ｖに設定すればよく、この時陰極負荷ρｃさ２．
５Ａ／／ ｔｅｌｌであ多層流ビーム電流量する。次に
第１格子−電圧Ｅｃ１を逆スイングし１７Ｖに設定すれ
ばクロスオーバビームが形成され発生ビーム電流はｌ５
ｚ１６μＡとな！ＤＡＢＯ動作を行なうことができる。
この時陰極負荷ρＣは１．５ Ａ ／ｃｒ／ｌと通常動
作実施例２（’ｇ＝ｏ、ｓ閣）について、ビーム発散角
特性を第５図に、電子軌道を第６図に示す。
作実施例２（’ｇ＝ｏ、ｓ閣）について、ビーム発散角
特性を第５図に、電子軌道を第６図に示す。
第５図には第２格子の微小開口３４を通過する□
ビームの発散角（熱分散効果を含む）を第１格子電圧Ｅ
ｃＩに対して示した。Ｅｃｌ ’：＝ ４０ Ｖでは約
１度の発散角を持つ層流ビームとなっている。この１度
という値は熱分散効果によるビーム発散角に相当し、陰
極面から初速度零で出射した主軌道は、はとんど管軸に
平行な層流となっている。これは第６図（ａ）に示され
ている。一方、Ｅｃｔ：＝ １５ ■テは約７度の発散
ビームとなっていることが分る。
ｃＩに対して示した。Ｅｃｌ ’：＝ ４０ Ｖでは約
１度の発散角を持つ層流ビームとなっている。この１度
という値は熱分散効果によるビーム発散角に相当し、陰
極面から初速度零で出射した主軌道は、はとんど管軸に
平行な層流となっている。これは第６図（ａ）に示され
ている。一方、Ｅｃｔ：＝ １５ ■テは約７度の発散
ビームとなっていることが分る。
第６図は、第１グリツド電圧Ｅｃｒを（ａ）４０Ｖ。
（ｂ）１５ Ｖ、 （Ｃ）５ Ｖとしたときの電子軌道
を示す。
を示す。
図において、１２は主軌道電子ビーム、１５は等電位線
を示す。Ｂｃ＋＝４０Ｖ（第６図（ａ））では電子軌道
が管軸にほぼ平行な層流ビームが形成され、Ｅｃ１＝
１５ Ｖ （第６図（ｂ））では第２格子ノアバーチヤ
近傍にクロスオーバが形成され、Ｅｃ１＝５Ｖ（第６図
（Ｃ））では第２格子の入口部にクロスオーバが形成さ
れており、第４図に示したビーム電流特性が得られる。
を示す。Ｂｃ＋＝４０Ｖ（第６図（ａ））では電子軌道
が管軸にほぼ平行な層流ビームが形成され、Ｅｃ１＝
１５ Ｖ （第６図（ｂ））では第２格子ノアバーチヤ
近傍にクロスオーバが形成され、Ｅｃ１＝５Ｖ（第６図
（Ｃ））では第２格子の入口部にクロスオーバが形成さ
れており、第４図に示したビーム電流特性が得られる。
このように本実施例によれば、陰極の放出電流密度（陰
極負荷）を逆に低下させる方向に第１格予電圧を逆スイ
ングすることによＪ、ＡＢＯ動作に必要な大ビーム電流
を安定に発生することができる。しかも通常動作時には
第１格子電圧を高く保つことで層流ビームを発生してお
シ、低残像。
極負荷）を逆に低下させる方向に第１格予電圧を逆スイ
ングすることによＪ、ＡＢＯ動作に必要な大ビーム電流
を安定に発生することができる。しかも通常動作時には
第１格子電圧を高く保つことで層流ビームを発生してお
シ、低残像。
高解像度特性を達成できる。更に他の利点として、含浸
形陰極からのバリウム蒸発による微小開口の実効的直径
が変動して発生ビーム電流量が低下することが極めて少
なくなる。
形陰極からのバリウム蒸発による微小開口の実効的直径
が変動して発生ビーム電流量が低下することが極めて少
なくなる。
以上説明したごとく、本発明によれはビーム電流が基準
信号電流の数倍に設定される通常動作時には第１格子電
圧を高くして層流ビームを発生し、大ビーム電流を必要
とするＡＢＯ動作時には第１格子電圧を逆スイングして
低くすることによシ低い陰極負荷で大ビーム電流を発生
でき、陰極の寿命信頼性、撮像管の解像度向上、残像低
減の点から極めて有利な撮像管装置を実現できる。
信号電流の数倍に設定される通常動作時には第１格子電
圧を高くして層流ビームを発生し、大ビーム電流を必要
とするＡＢＯ動作時には第１格子電圧を逆スイングして
低くすることによシ低い陰極負荷で大ビーム電流を発生
でき、陰極の寿命信頼性、撮像管の解像度向上、残像低
減の点から極めて有利な撮像管装置を実現できる。
第１図は本発明の撮像管装置の概略構成を示す図、′−
１１に大−Ｈｒ４訂図；、第２図及び第３図は本発明の
撮像管装置で用いられる電子銃の要部を示す拡大断面図
、第４図は本発明の実施例と従来例のビーム特性を比較
して示す図、第５図は本発明のビーム発散角特性の一例
を示す図、第６図は本発明の電子軌道の一例を示す図、
第７図は従来の２極電子銃の要部を示す拡大断面図であ
る。 ■・・・陰極、２・・・ヒータ、３・・・第１格子、４
・・・第２格子、５・・・第３格子、６・・・第４格子
、７・・・光導電膜、１２・・・電子ビーム、１５・・
・等電位線、２３・・・第１格子のアパーチャ、３４・
・・第２格子のアバ−第 １ 図 第２図 第 ３ 図 冨 ４ 図 矛ｌ搭チ電屓 Ｅｃｔ （Ｖ） χ ５ 図 特開昭Ｇ１−２９０４５（６） 扁 乙 図
撮像管装置で用いられる電子銃の要部を示す拡大断面図
、第４図は本発明の実施例と従来例のビーム特性を比較
して示す図、第５図は本発明のビーム発散角特性の一例
を示す図、第６図は本発明の電子軌道の一例を示す図、
第７図は従来の２極電子銃の要部を示す拡大断面図であ
る。 ■・・・陰極、２・・・ヒータ、３・・・第１格子、４
・・・第２格子、５・・・第３格子、６・・・第４格子
、７・・・光導電膜、１２・・・電子ビーム、１５・・
・等電位線、２３・・・第１格子のアパーチャ、３４・
・・第２格子のアバ−第 １ 図 第２図 第 ３ 図 冨 ４ 図 矛ｌ搭チ電屓 Ｅｃｔ （Ｖ） χ ５ 図 特開昭Ｇ１−２９０４５（６） 扁 乙 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、少なくとも、電子を放出する陰極と、その後段に配
置され陰極に対し正の電圧を印加した第１の微小開口を
有する第１格子と、その後段に配置され第１格子に対し
正の電圧を印加した第２の微小開口を有する第２格子と
を具備し、小ビーム電流時に上記第１格子に印加する電
圧を高く設定して層流ビームを形成し、この印加電圧を
減少させることにより上記第２の微小開口を通過する電
子ビームの電流量を増大させることを特徴とする撮像管
装置。 ２、上記陰極は含浸形陰極等の高放出電流密度陰極であ
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の撮像管
装置。 ３、上記第１格子への印加電圧は最大５０Ｖであること
を特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の
撮像管装置。 ４、上記陰極と第１格子との間隙が０．０５〜０．１５
ｍｍであることを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至
第３項のいずれかに記載の撮像管装置。 ５、上記第２の微小開口の直径が０．００８〜０．０１
５ｍｍであり、第１格子の上記第１の微小開口の直径が
０．１〜０．５ｍｍであることを特徴とする特許請求の
範囲第４項記載の撮像管装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14754084A JPS6129045A (ja) | 1984-07-18 | 1984-07-18 | 撮像管装置 |
| US06/755,014 US4682077A (en) | 1984-07-18 | 1985-07-15 | Television camera tube device |
| KR1019850005029A KR900001713B1 (ko) | 1984-07-18 | 1985-07-15 | 텔레비젼카메라 튜우브장치 |
| EP85108886A EP0169480B1 (en) | 1984-07-18 | 1985-07-16 | Television camera tube device |
| DE8585108886T DE3570801D1 (en) | 1984-07-18 | 1985-07-16 | Television camera tube device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14754084A JPS6129045A (ja) | 1984-07-18 | 1984-07-18 | 撮像管装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6129045A true JPS6129045A (ja) | 1986-02-08 |
Family
ID=15432625
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14754084A Pending JPS6129045A (ja) | 1984-07-18 | 1984-07-18 | 撮像管装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4682077A (ja) |
| EP (1) | EP0169480B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6129045A (ja) |
| KR (1) | KR900001713B1 (ja) |
| DE (1) | DE3570801D1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3545638A1 (de) * | 1985-12-21 | 1987-06-25 | Bosch Gmbh Robert | Abgleichverfahren zur automatischen einstellung des elektronenstrahls in fernsehaufnahmeroehren |
| TW388048B (en) * | 1997-04-30 | 2000-04-21 | Hitachi Ltd | Cathode-ray tube and electron gun thereof |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5669755A (en) * | 1979-11-08 | 1981-06-11 | Sony Corp | Electron gun |
| JPS5875742A (ja) * | 1981-10-30 | 1983-05-07 | Hitachi Ltd | 電子銃 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3740607A (en) * | 1971-06-03 | 1973-06-19 | Watkins Johnson Co | Laminar flow electron gun and method |
| JPS5236648B2 (ja) * | 1973-03-09 | 1977-09-17 | ||
| US3894261A (en) * | 1973-07-09 | 1975-07-08 | Hughes Aircraft Co | No-crossover electron gun |
| US3980919A (en) * | 1974-12-20 | 1976-09-14 | Watkins-Johnson Company | Rectangular beam laminar flow electron gun |
| US4388556A (en) * | 1978-02-13 | 1983-06-14 | U.S. Philips Corporation | Low noise electron gun |
| JPS6021512B2 (ja) * | 1979-01-17 | 1985-05-28 | ソニー株式会社 | 撮像管の電子ビ−ム量制御装置 |
| US4237491A (en) * | 1979-03-21 | 1980-12-02 | Rca Corporation | Television camera highlight discharge apparatus |
| JPS5652835A (en) * | 1979-10-01 | 1981-05-12 | Hitachi Ltd | Impregnated cathode |
| JPS5688240A (en) * | 1979-12-19 | 1981-07-17 | Hitachi Ltd | Camera tube |
| JPS577679A (en) * | 1980-06-17 | 1982-01-14 | Sony Corp | Beam control circuit for image pickup tube |
| JPS5774948A (en) * | 1980-10-29 | 1982-05-11 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | Electron gun |
| US4549113A (en) * | 1981-02-06 | 1985-10-22 | U.S. Philips Corporation | Low noise electron gun |
| US4540916A (en) * | 1981-10-30 | 1985-09-10 | Nippon Hoso Kyokai | Electron gun for television camera tube |
| JPS58154131A (ja) * | 1982-03-10 | 1983-09-13 | Hitachi Ltd | 含浸形陰極 |
| US4593230A (en) * | 1982-03-29 | 1986-06-03 | Litton Systems, Inc. | Dual-mode electron gun |
-
1984
- 1984-07-18 JP JP14754084A patent/JPS6129045A/ja active Pending
-
1985
- 1985-07-15 KR KR1019850005029A patent/KR900001713B1/ko not_active Expired
- 1985-07-15 US US06/755,014 patent/US4682077A/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-07-16 EP EP85108886A patent/EP0169480B1/en not_active Expired
- 1985-07-16 DE DE8585108886T patent/DE3570801D1/de not_active Expired
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5669755A (en) * | 1979-11-08 | 1981-06-11 | Sony Corp | Electron gun |
| JPS5875742A (ja) * | 1981-10-30 | 1983-05-07 | Hitachi Ltd | 電子銃 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0169480A2 (en) | 1986-01-29 |
| KR900001713B1 (ko) | 1990-03-19 |
| DE3570801D1 (en) | 1989-07-06 |
| KR860001665A (ko) | 1986-03-20 |
| US4682077A (en) | 1987-07-21 |
| EP0169480B1 (en) | 1989-05-31 |
| EP0169480A3 (en) | 1986-08-20 |
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