JPS6129048B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6129048B2 JPS6129048B2 JP53033253A JP3325378A JPS6129048B2 JP S6129048 B2 JPS6129048 B2 JP S6129048B2 JP 53033253 A JP53033253 A JP 53033253A JP 3325378 A JP3325378 A JP 3325378A JP S6129048 B2 JPS6129048 B2 JP S6129048B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic layer
- magnetic
- ion plating
- base film
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記録媒体の製造方法に関し、ベー
スとの密着性にすぐれかつ表面が平滑になつた磁
性層を有して磁気特性が安定になつた磁気記録媒
体を容易に提供できるようにすることを目的とす
る。
スとの密着性にすぐれかつ表面が平滑になつた磁
性層を有して磁気特性が安定になつた磁気記録媒
体を容易に提供できるようにすることを目的とす
る。
従来、イオンプレーテイングの方法を用い、磁
性材料を例えばベースフイルム上に被着すること
により磁性層を形成して作つた磁気記録媒体は塗
布法により磁性粉末を塗布して磁性層を形成した
ものにくらべ、高抗磁力で、かつ角型比の大きな
磁気特性が得られやすいということに加えて、メ
ツキ法あるいは単なる蒸着法で磁性層を形成した
ものより磁性層とベースフイルムとの接着性にす
ぐれるということから、高性能を要する用途に用
いることができるものとして注目されている。
性材料を例えばベースフイルム上に被着すること
により磁性層を形成して作つた磁気記録媒体は塗
布法により磁性粉末を塗布して磁性層を形成した
ものにくらべ、高抗磁力で、かつ角型比の大きな
磁気特性が得られやすいということに加えて、メ
ツキ法あるいは単なる蒸着法で磁性層を形成した
ものより磁性層とベースフイルムとの接着性にす
ぐれるということから、高性能を要する用途に用
いることができるものとして注目されている。
ところで上述のようなイオンプレーテイング法
により形成した磁性層は内部歪などの問題からい
たずらにその厚みを厚くすることができず精々
0.4μｍというように非常に薄く、したがつてこ
のようなことからも磁性層の表面平滑性はベース
フイルムの平滑性に大きく影響を受ける。たとえ
ば一般の磁気テープに用いられているベースフイ
ルムの表面は荒さ計で測定すると第１図のように
なつており、表面の凹凸の荒さは0.4μｍ程度も
ある。このようなベースフイルム上にイオンプレ
ーテイングで、磁性層を例えば0.1μｍ厚で形成
した場合、ベース表面の凹凸に沿つて磁性層がで
きるため、その磁性層の表面の荒さはベースフイ
ルムの荒さと変わりがなく、やはり0.4μｍ程度
の荒さとなる。したがつてこのような表面荒さを
有する記録媒体を用いて記録再生を行なうと、ド
ロツプアウトの発生が著しく、また出力も一定で
なく振幅が不安定な状態となる。
により形成した磁性層は内部歪などの問題からい
たずらにその厚みを厚くすることができず精々
0.4μｍというように非常に薄く、したがつてこ
のようなことからも磁性層の表面平滑性はベース
フイルムの平滑性に大きく影響を受ける。たとえ
ば一般の磁気テープに用いられているベースフイ
ルムの表面は荒さ計で測定すると第１図のように
なつており、表面の凹凸の荒さは0.4μｍ程度も
ある。このようなベースフイルム上にイオンプレ
ーテイングで、磁性層を例えば0.1μｍ厚で形成
した場合、ベース表面の凹凸に沿つて磁性層がで
きるため、その磁性層の表面の荒さはベースフイ
ルムの荒さと変わりがなく、やはり0.4μｍ程度
の荒さとなる。したがつてこのような表面荒さを
有する記録媒体を用いて記録再生を行なうと、ド
ロツプアウトの発生が著しく、また出力も一定で
なく振幅が不安定な状態となる。
またイオンプレーテイング法により、ベースフ
イルム上に直接磁性層を形成した場合、ベースフ
イルムが絶縁体であるため、ベースフイルムに付
着した荷電粒子により電荷が蓄積されて、磁性層
の付着状態にむらが生じる場合がしばしばあつ
た。さらには記録再生時におけるヘツドとの接触
による機械的刺激によつて磁性層の一部がベース
フイルムから剥離してドロツプアウトを生ずると
いうこともよくあつた。
イルム上に直接磁性層を形成した場合、ベースフ
イルムが絶縁体であるため、ベースフイルムに付
着した荷電粒子により電荷が蓄積されて、磁性層
の付着状態にむらが生じる場合がしばしばあつ
た。さらには記録再生時におけるヘツドとの接触
による機械的刺激によつて磁性層の一部がベース
フイルムから剥離してドロツプアウトを生ずると
いうこともよくあつた。
本発明は上述のような従来の欠点を除去しよう
とするもので、以下図面を用いてその実施例を説
明する。
とするもので、以下図面を用いてその実施例を説
明する。
第２図に示すように、例えばポリエチレンテレ
フタレートのような耐熱性のある高分子材料から
できたベースフイルム２０の面に磁性塗料を塗布
して第１磁性層２１を形成する。ここで磁性塗料
として、γ−Fe2O3，CrO2，Co含有酸化鉄ある
いは鉄コバルト合金等の磁性粉の樹脂などにより
なる結合剤、可塑材、湿潤剤、カーボン等の帯電
防止剤を混合したものが用いられる。第１磁性層
２１の厚みは一般の磁気テープの場合と同様１〜
10μｍ程度とし、塗布も一般の磁気テープと同様
な方法でおこなう。
フタレートのような耐熱性のある高分子材料から
できたベースフイルム２０の面に磁性塗料を塗布
して第１磁性層２１を形成する。ここで磁性塗料
として、γ−Fe2O3，CrO2，Co含有酸化鉄ある
いは鉄コバルト合金等の磁性粉の樹脂などにより
なる結合剤、可塑材、湿潤剤、カーボン等の帯電
防止剤を混合したものが用いられる。第１磁性層
２１の厚みは一般の磁気テープの場合と同様１〜
10μｍ程度とし、塗布も一般の磁気テープと同様
な方法でおこなう。
次にこのようにしてベースフイルム２０上に形
成した第１磁性層２１の上にイオンプレーテイン
グにより第２磁性層２２を形成する。ここで第３
図を用いて、イオンプレーテイング装置により第
２磁性層２２を形成するときの様子を説明する。
図において、１はイオンプレーテイング装置にお
ける真空容器、２は排気管、３はガス導入管、４
はヒータ用電極、５はヒータ電源、６はヒータ、
９はヒータ６に保持された蒸発源で第２磁性層２
２の形成に用いられる磁性材料からなる。ここ
で、上記磁性材料としては鉄と尼ツケルの合金あ
るいは鉄とコバルトの合金等が用いられる。１０
は陰極、１１は放電用電源でヒータ用電極４と陰
極１０との間に放電電圧を印加する。１５は前述
のようにしてベースフイルム２０に第１磁性層２
１が設けられたものからなる被着フイルムで、第
１磁性層２１の面が蒸着源９に向くようにして背
面側が陰極１０の先端面に接触支持されかつ両端
部がリール１３，１４に巻かれている。１６は蒸
発源９から蒸発した磁性材料が不必要な部分に付
着するのを防止するためのシールド、その中央附
近に穿設されたスリツト１７を備える。１８は先
端部が第１磁性層２１の面の磁性材料が付着しよ
うとする部分の近くに接触して、第１磁性層２
１、陰極１０を電気的に接続し、イオンプレーテ
イングにより第１磁性層２１が帯電するのを電気
的に中和する中和電極である。イオンプレーテイ
ングを行なうには、まず真空容器１内を
10-5Torr以下まで排気し、次に10-4〜10-1Torr程
度まで放電用ガスを導入する放電用ガスとしては
アルゴンガスを用いることが多く、ヒータ６と放
電用電極１０の間に数10V／cm〜数100V／cmの電
界を印加することによつてグロー放電を生じる。
グロー放電時にヒータ６に電流を流して蒸発源９
を加熱すると、蒸発源から磁性材料が蒸発し、蒸
発した磁性材料の粒子はグロー放電により荷電
し、上記電界により陰極１０に向つて加速された
状態で第１磁性層２１上に被着し、第２磁性層２
２を形成する。この間被着フイルム１５はリール
１３，１４により第１磁性層２１の新しい面がで
るように順次繰り出される。
成した第１磁性層２１の上にイオンプレーテイン
グにより第２磁性層２２を形成する。ここで第３
図を用いて、イオンプレーテイング装置により第
２磁性層２２を形成するときの様子を説明する。
図において、１はイオンプレーテイング装置にお
ける真空容器、２は排気管、３はガス導入管、４
はヒータ用電極、５はヒータ電源、６はヒータ、
９はヒータ６に保持された蒸発源で第２磁性層２
２の形成に用いられる磁性材料からなる。ここ
で、上記磁性材料としては鉄と尼ツケルの合金あ
るいは鉄とコバルトの合金等が用いられる。１０
は陰極、１１は放電用電源でヒータ用電極４と陰
極１０との間に放電電圧を印加する。１５は前述
のようにしてベースフイルム２０に第１磁性層２
１が設けられたものからなる被着フイルムで、第
１磁性層２１の面が蒸着源９に向くようにして背
面側が陰極１０の先端面に接触支持されかつ両端
部がリール１３，１４に巻かれている。１６は蒸
発源９から蒸発した磁性材料が不必要な部分に付
着するのを防止するためのシールド、その中央附
近に穿設されたスリツト１７を備える。１８は先
端部が第１磁性層２１の面の磁性材料が付着しよ
うとする部分の近くに接触して、第１磁性層２
１、陰極１０を電気的に接続し、イオンプレーテ
イングにより第１磁性層２１が帯電するのを電気
的に中和する中和電極である。イオンプレーテイ
ングを行なうには、まず真空容器１内を
10-5Torr以下まで排気し、次に10-4〜10-1Torr程
度まで放電用ガスを導入する放電用ガスとしては
アルゴンガスを用いることが多く、ヒータ６と放
電用電極１０の間に数10V／cm〜数100V／cmの電
界を印加することによつてグロー放電を生じる。
グロー放電時にヒータ６に電流を流して蒸発源９
を加熱すると、蒸発源から磁性材料が蒸発し、蒸
発した磁性材料の粒子はグロー放電により荷電
し、上記電界により陰極１０に向つて加速された
状態で第１磁性層２１上に被着し、第２磁性層２
２を形成する。この間被着フイルム１５はリール
１３，１４により第１磁性層２１の新しい面がで
るように順次繰り出される。
次に上述のようにして形成した第２磁性層２２
の表面状態について述べる。ベースフイルム２０
の表面の荒さは第１図に示したように、また第４
図にもベースフイルム２０の層において示すよう
に0.4μｍ程度の凹凸があり、現在のベースフイ
ルム製造技術では、これ以上に滑らかに作ること
は困難である。さて塗布型磁気記録媒体を作る通
常の技術によつて第１磁性層２１を塗布した後に
はその表面の凹凸は第４図に磁気記録媒体の断面
に対応させて示すように0.1μｍ以下の表面荒さ
になる。これは磁性塗料を塗つて形成した第１磁
性層２１がベースフイルム２０の凹凸を埋めてし
まう作用があるためである。一方第１磁性層２１
の上にイオンプレーテイングによつて形成した第
２磁性層２２の表面荒さは第１磁性層２１の表面
荒さで決まり、したがつて第４図に示すように
0.1μｍ以内の荒さに押さえることができる。こ
のようにベースフイルムの凹凸の影響をなくし表
面荒さを小さくした磁気記録媒体では表面凹凸に
よるドロツプアウトが、従来のようにベースフイ
ルム上に直接プレーテイング法によつて磁性層を
形成したものよりも著しく少なくなる。
の表面状態について述べる。ベースフイルム２０
の表面の荒さは第１図に示したように、また第４
図にもベースフイルム２０の層において示すよう
に0.4μｍ程度の凹凸があり、現在のベースフイ
ルム製造技術では、これ以上に滑らかに作ること
は困難である。さて塗布型磁気記録媒体を作る通
常の技術によつて第１磁性層２１を塗布した後に
はその表面の凹凸は第４図に磁気記録媒体の断面
に対応させて示すように0.1μｍ以下の表面荒さ
になる。これは磁性塗料を塗つて形成した第１磁
性層２１がベースフイルム２０の凹凸を埋めてし
まう作用があるためである。一方第１磁性層２１
の上にイオンプレーテイングによつて形成した第
２磁性層２２の表面荒さは第１磁性層２１の表面
荒さで決まり、したがつて第４図に示すように
0.1μｍ以内の荒さに押さえることができる。こ
のようにベースフイルムの凹凸の影響をなくし表
面荒さを小さくした磁気記録媒体では表面凹凸に
よるドロツプアウトが、従来のようにベースフイ
ルム上に直接プレーテイング法によつて磁性層を
形成したものよりも著しく少なくなる。
また、従来のようにベースフイルム上に、ある
いは非磁性基板上にイオンプレーテイング法によ
つて磁性層を付着させたものでは磁気ヘツドとの
接触による機械的刺激によりその磁性層が剥理し
た場合、ヘツド出力がその部分で全く零になるの
であるが、本発明の場合イオンプレーテイングに
よる第２磁性層の下に第１磁性層があるため、そ
の第１磁性層から再生信号を取り出せ、したがつ
て剥離によるドロツプアウトが軽減できる。
いは非磁性基板上にイオンプレーテイング法によ
つて磁性層を付着させたものでは磁気ヘツドとの
接触による機械的刺激によりその磁性層が剥理し
た場合、ヘツド出力がその部分で全く零になるの
であるが、本発明の場合イオンプレーテイングに
よる第２磁性層の下に第１磁性層があるため、そ
の第１磁性層から再生信号を取り出せ、したがつ
て剥離によるドロツプアウトが軽減できる。
上述のような効果に加え、さらに重要なことは
イオンプレーテイングにより磁性層を形成したに
もかかわらず、その磁性層が均一に形成されると
いうことにある。すなわち、イオンプレーテイン
グにより形成する第２磁性層の下地としてあらか
じめベースフイルム上に第１磁性層を設けている
が、この第１磁性層は適当な導電性を有するよう
に形成することが可能で、このようにすることに
よりイオンプレーテイングにおける局部的な電荷
蓄積を解消し、もつて均一な磁性層を形成せしめ
めることができることにある。塗布法により形成
する第１磁性層に、前述のようなカーボン等の帯
電防止剤あるいは導電性を有する磁性粉を含ませ
るようにしてやることにより、その第１磁性層は
導電性を有するようになる。このようにして、そ
の抵抗値が108オーム／平方インチ以下になるよ
うにしてやると、電荷の局部的な蓄積を充分防止
することができる。
イオンプレーテイングにより磁性層を形成したに
もかかわらず、その磁性層が均一に形成されると
いうことにある。すなわち、イオンプレーテイン
グにより形成する第２磁性層の下地としてあらか
じめベースフイルム上に第１磁性層を設けている
が、この第１磁性層は適当な導電性を有するよう
に形成することが可能で、このようにすることに
よりイオンプレーテイングにおける局部的な電荷
蓄積を解消し、もつて均一な磁性層を形成せしめ
めることができることにある。塗布法により形成
する第１磁性層に、前述のようなカーボン等の帯
電防止剤あるいは導電性を有する磁性粉を含ませ
るようにしてやることにより、その第１磁性層は
導電性を有するようになる。このようにして、そ
の抵抗値が108オーム／平方インチ以下になるよ
うにしてやると、電荷の局部的な蓄積を充分防止
することができる。
なおイオンプレーテイングにおいて、中和電極
による第１磁性層と陰極との電気的な接続は必ず
しも常に必要とするものではなく、第１磁性層の
抵抗値が上述のように低ければそれだけでもつて
電荷の局部的な蓄積は防止される。むろん第１磁
性層と陰極とを接続して被着成分に蓄積された電
荷をできるだけ中和してやれば電荷粒子が第１磁
性層にぶつかる際に有するエネルギーが失なわれ
ず、したがつて第１磁性層に対する第２磁性層の
密着性がすぐれたものとなることはいうまでもな
い。
による第１磁性層と陰極との電気的な接続は必ず
しも常に必要とするものではなく、第１磁性層の
抵抗値が上述のように低ければそれだけでもつて
電荷の局部的な蓄積は防止される。むろん第１磁
性層と陰極とを接続して被着成分に蓄積された電
荷をできるだけ中和してやれば電荷粒子が第１磁
性層にぶつかる際に有するエネルギーが失なわれ
ず、したがつて第１磁性層に対する第２磁性層の
密着性がすぐれたものとなることはいうまでもな
い。
以上のように本発明によれば、被着が均一にお
こなわれるようにして、表面がより平坦になつた
磁性層をイオンプレーテイングにより形成するこ
とができるので、イオンプレーテイングによる磁
性層が本来有するそのすぐれた磁性特性を充分に
発揮する磁気記録媒体を容易に得ることができ
る。
こなわれるようにして、表面がより平坦になつた
磁性層をイオンプレーテイングにより形成するこ
とができるので、イオンプレーテイングによる磁
性層が本来有するそのすぐれた磁性特性を充分に
発揮する磁気記録媒体を容易に得ることができ
る。
なおイオンプレーテイングによる磁性層の抗磁
力が塗布による磁性層の抗磁力よりも大きくなる
ようにしてやることにより、磁気ヘツドドには磁
性層のうちでも抗磁力の大きい部分が接触するこ
とになり、この結果高周波領域における磁気記録
特性がすぐれたものとすることができる。
力が塗布による磁性層の抗磁力よりも大きくなる
ようにしてやることにより、磁気ヘツドドには磁
性層のうちでも抗磁力の大きい部分が接触するこ
とになり、この結果高周波領域における磁気記録
特性がすぐれたものとすることができる。
第１図はベースフイルムの表面荒さを示す曲線
図、第２図は本発明の一実施例である製造方法に
より製造した磁気記録媒体の断面図、第３図は同
製造方法において用いるイオンプレーテイング装
置の断面図、第４図は上記磁気記録媒体を構成す
る各層の表面荒さを示す曲線図である。 １……真空容器、９……蒸着源、１０……陰
極、１１……放電用電極、１５……被着フイル
ム、１８……中和電極、２０……ベースフイル
ム、２１……第１磁性層、２２……第２磁性層。
図、第２図は本発明の一実施例である製造方法に
より製造した磁気記録媒体の断面図、第３図は同
製造方法において用いるイオンプレーテイング装
置の断面図、第４図は上記磁気記録媒体を構成す
る各層の表面荒さを示す曲線図である。 １……真空容器、９……蒸着源、１０……陰
極、１１……放電用電極、１５……被着フイル
ム、１８……中和電極、２０……ベースフイル
ム、２１……第１磁性層、２２……第２磁性層。
Claims (1)
- １ ベース体上に磁性粉及び帯電防止剤を含む磁
性塗料を塗布し、その塗布層の表面荒さを0.1μ
ｍ以内に押えた第１磁性層を形成し、前記第１磁
性層上にイオンプレーテイングにより第２磁性層
を形成する際に第１磁性層をイオンプレーテイン
グ装置の陰極に電気的に接続した状態でイオンプ
レーテイングを行うことを特徴とした磁気記録媒
体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3325378A JPS54125006A (en) | 1978-03-22 | 1978-03-22 | Production of magnetic recording media |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3325378A JPS54125006A (en) | 1978-03-22 | 1978-03-22 | Production of magnetic recording media |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54125006A JPS54125006A (en) | 1979-09-28 |
| JPS6129048B2 true JPS6129048B2 (ja) | 1986-07-04 |
Family
ID=12381327
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3325378A Granted JPS54125006A (en) | 1978-03-22 | 1978-03-22 | Production of magnetic recording media |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS54125006A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57179952A (en) * | 1981-04-24 | 1982-11-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method and apparatus for magnetic recording medium |
| JPS6134729A (ja) * | 1984-07-26 | 1986-02-19 | Nec Home Electronics Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5840248B2 (ja) * | 1976-05-20 | 1983-09-05 | 松下電器産業株式会社 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
-
1978
- 1978-03-22 JP JP3325378A patent/JPS54125006A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54125006A (en) | 1979-09-28 |
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