JPH0790585A - 薄膜形成装置 - Google Patents
薄膜形成装置Info
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- JPH0790585A JPH0790585A JP23758493A JP23758493A JPH0790585A JP H0790585 A JPH0790585 A JP H0790585A JP 23758493 A JP23758493 A JP 23758493A JP 23758493 A JP23758493 A JP 23758493A JP H0790585 A JPH0790585 A JP H0790585A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 膜が均一に形成できる技術を提供することで
ある。 【構成】 ドラムに案内されて走行する支持体上に粒子
を堆積させて薄膜を形成する装置であって、前記ドラム
に圧着するローラが設けられてなり、前記ドラムとロー
ラとの協同作用によって支持体に起きる皺を除去するよ
う構成されてなる薄膜形成装置。
ある。 【構成】 ドラムに案内されて走行する支持体上に粒子
を堆積させて薄膜を形成する装置であって、前記ドラム
に圧着するローラが設けられてなり、前記ドラムとロー
ラとの協同作用によって支持体に起きる皺を除去するよ
う構成されてなる薄膜形成装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜（特に、金属薄膜
型の磁性膜など）形成装置に関するものである。
型の磁性膜など）形成装置に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気テープ等の磁気記録媒体において
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されている。すなわち、真空蒸着、スパッタリング
あるいはイオンプレーティングといった乾式メッキ手段
により磁性層を構成した磁気記録媒体が提案されている
ことは周知の通りである。そして、この種の磁気記録媒
体は磁性体の充填密度が高いことから、高密度記録に適
したものである。
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されている。すなわち、真空蒸着、スパッタリング
あるいはイオンプレーティングといった乾式メッキ手段
により磁性層を構成した磁気記録媒体が提案されている
ことは周知の通りである。そして、この種の磁気記録媒
体は磁性体の充填密度が高いことから、高密度記録に適
したものである。
【０００３】このような乾式メッキ手段による磁気記録
媒体の製造装置は、図４のように構成されているものが
一般的である。尚、図４中、２１は冷却キャン、２２ａ
はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム２３
の供給側ロール、２２ｂはＰＥＴフィルム２３の巻取側
ロール、２４はルツボ、２５は磁性金属、２６は真空容
器である。そして、真空容器２６内を所定の真空度のも
のに排気した後、電子銃を作動させてルツボ２４内の磁
性金属２５を蒸発させ、ＰＥＴフィルム２３に対して磁
性金属２５の蒸発粒子を堆積（蒸着）させることによっ
て磁気記録媒体が製造されている。
媒体の製造装置は、図４のように構成されているものが
一般的である。尚、図４中、２１は冷却キャン、２２ａ
はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム２３
の供給側ロール、２２ｂはＰＥＴフィルム２３の巻取側
ロール、２４はルツボ、２５は磁性金属、２６は真空容
器である。そして、真空容器２６内を所定の真空度のも
のに排気した後、電子銃を作動させてルツボ２４内の磁
性金属２５を蒸発させ、ＰＥＴフィルム２３に対して磁
性金属２５の蒸発粒子を堆積（蒸着）させることによっ
て磁気記録媒体が製造されている。
【０００４】しかしながら、このような装置によって磁
性膜を構成していると、磁性膜が良好に形成されないこ
とが有った。すなわち、出力変動が大きな不良品が出来
る割合が高く、製造歩留りが低かったのである。
性膜を構成していると、磁性膜が良好に形成されないこ
とが有った。すなわち、出力変動が大きな不良品が出来
る割合が高く、製造歩留りが低かったのである。
【０００５】
【発明の開示】前記の問題点についての検討を鋭意押し
進めて行った結果、出力変動の原因は磁性膜が均一に形
成されていないことにあることが判って来た。そして、
この磁性膜の不均一性は、磁性膜は走行する支持体に磁
性粒子を堆積させることによって形成されている訳であ
るが、この走行している時に支持体に皺が発生し、この
為磁性粒子の付着条件が微妙に変動しているからである
ことが究明されるに至った。
進めて行った結果、出力変動の原因は磁性膜が均一に形
成されていないことにあることが判って来た。そして、
この磁性膜の不均一性は、磁性膜は走行する支持体に磁
性粒子を堆積させることによって形成されている訳であ
るが、この走行している時に支持体に皺が発生し、この
為磁性粒子の付着条件が微妙に変動しているからである
ことが究明されるに至った。
【０００６】このような知見を基にして本発明が達成さ
れたものであり、本発明の目的は、膜が均一に形成でき
る技術を提供することである。この本発明の目的は、ド
ラムに案内されて走行する支持体上に粒子を堆積させて
薄膜を形成する装置であって、前記ドラムに圧着するロ
ーラが設けられてなり、前記ドラムとローラとの協同作
用によって支持体に起きる皺を除去するよう構成されて
なることを特徴とする薄膜形成装置によって達成され
る。
れたものであり、本発明の目的は、膜が均一に形成でき
る技術を提供することである。この本発明の目的は、ド
ラムに案内されて走行する支持体上に粒子を堆積させて
薄膜を形成する装置であって、前記ドラムに圧着するロ
ーラが設けられてなり、前記ドラムとローラとの協同作
用によって支持体に起きる皺を除去するよう構成されて
なることを特徴とする薄膜形成装置によって達成され
る。
【０００７】尚、この薄膜形成装置におけるローラは、
粒子堆積位置より前の段階、あるいは粒子堆積位置より
後の段階、又は粒子堆積位置の前後の段階に設けられ
る。そして、このようなローラ、特に粒子堆積位置の前
の段階にあるローラによって走行する支持体には斜め後
方に力が作用するよう、又、粒子堆積位置の後の段階に
あるローラによって走行する支持体には斜め前方に力が
作用するようローラが設けられてなることが好ましい。
粒子堆積位置より前の段階、あるいは粒子堆積位置より
後の段階、又は粒子堆積位置の前後の段階に設けられ
る。そして、このようなローラ、特に粒子堆積位置の前
の段階にあるローラによって走行する支持体には斜め後
方に力が作用するよう、又、粒子堆積位置の後の段階に
あるローラによって走行する支持体には斜め前方に力が
作用するようローラが設けられてなることが好ましい。
【０００８】ここで、本発明における特徴は、支持体の
皺を単になくす手段を設けたと言うだけではなく、堆積
膜となる粒子が付着する前／後の段階、つまりドラムに
添接されている状態において皺をなくすようにしたこと
である。すなわち、皺をなくす手段を粒子が付着する前
後の段階より離れた位置に設けていても、つまりドラム
から離れた位置に設けていても、これでは粒子の付着段
階において皺が起きていることも有り、奏される特長は
極めて低く、意味がないものであった。
皺を単になくす手段を設けたと言うだけではなく、堆積
膜となる粒子が付着する前／後の段階、つまりドラムに
添接されている状態において皺をなくすようにしたこと
である。すなわち、皺をなくす手段を粒子が付着する前
後の段階より離れた位置に設けていても、つまりドラム
から離れた位置に設けていても、これでは粒子の付着段
階において皺が起きていることも有り、奏される特長は
極めて低く、意味がないものであった。
【０００９】そして、上記のようにローラを設けてなる
装置を用いて金属薄膜型の磁気記録媒体を作成すると、
出力変動の少ないものが得られ、すなわち高性能な磁気
記録媒体が製造歩留り良く得られた。本発明で用いられ
る支持体としては非磁性のものが代表的なものとして挙
げられ、例えばＰＥＴ等のポリエステル、ポリアミド、
ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、ポリ
プロピレン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系の樹
脂、塩化ビニル系の樹脂といった高分子材料、ガラスや
セラミック等の無機系材料、アルミニウム合金などの金
属材料が用いられる。
装置を用いて金属薄膜型の磁気記録媒体を作成すると、
出力変動の少ないものが得られ、すなわち高性能な磁気
記録媒体が製造歩留り良く得られた。本発明で用いられ
る支持体としては非磁性のものが代表的なものとして挙
げられ、例えばＰＥＴ等のポリエステル、ポリアミド、
ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、ポリ
プロピレン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系の樹
脂、塩化ビニル系の樹脂といった高分子材料、ガラスや
セラミック等の無機系材料、アルミニウム合金などの金
属材料が用いられる。
【００１０】そして、支持体上に設けられる薄膜が磁性
膜である場合には、その構成材料として、例えばＦｅ，
Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐ
ｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ
−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合
金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、ある
いはこれらにＡｌ等の金属を含有させたもの等が用いら
れる。
膜である場合には、その構成材料として、例えばＦｅ，
Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐ
ｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ
−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合
金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、ある
いはこれらにＡｌ等の金属を含有させたもの等が用いら
れる。
【００１１】以下、具体的な実施例を挙げて説明する。
【００１２】
〔実施例１〕図１〜図３は本発明になる薄膜形成装置の
一実施例を示すもので、図１は全体の概略正面図、図２
は粒子堆積位置の前段階における近傍の要部側面図、図
３は粒子堆積位置の後段階における近傍の要部側面図で
ある。
一実施例を示すもので、図１は全体の概略正面図、図２
は粒子堆積位置の前段階における近傍の要部側面図、図
３は粒子堆積位置の後段階における近傍の要部側面図で
ある。
【００１３】各図中、１は冷却キャン、２ａは支持体３
の供給側ロール、２ｂは支持体３の巻取側ロール、４は
防着板、５はルツボ、６は磁性金属、７は真空容器であ
る。８ａ，８ｂは、金属あるいはゴム等の弾性材料、好
ましくは弾性材料で構成されたローラである。このロー
ラ８ａ，８ｂは、図１及び図２から判る通り、ルツボ５
から飛来して来た磁性金属粒子が冷却キャン１に案内さ
れて走行している支持体３に付着する前の段階において
設けられたものであり、特に冷却キャン１に対して圧着
する如く、かつ、逆ハ字形状のように設けられたもので
ある。
の供給側ロール、２ｂは支持体３の巻取側ロール、４は
防着板、５はルツボ、６は磁性金属、７は真空容器であ
る。８ａ，８ｂは、金属あるいはゴム等の弾性材料、好
ましくは弾性材料で構成されたローラである。このロー
ラ８ａ，８ｂは、図１及び図２から判る通り、ルツボ５
から飛来して来た磁性金属粒子が冷却キャン１に案内さ
れて走行している支持体３に付着する前の段階において
設けられたものであり、特に冷却キャン１に対して圧着
する如く、かつ、逆ハ字形状のように設けられたもので
ある。
【００１４】９ａ，９ｂは、金属あるいはゴム等の弾性
材料、好ましくは弾性材料で構成されたローラである。
このローラ９ａ，９ｂは、図１及び図３から判る通り、
ルツボ５から飛来して来た磁性金属粒子が冷却キャン１
に案内されて走行している支持体３に付着した後の段階
において設けられたものであり、特に冷却キャン１に対
して圧着する如く、かつ、逆ハ字形状のように設けられ
たものである。
材料、好ましくは弾性材料で構成されたローラである。
このローラ９ａ，９ｂは、図１及び図３から判る通り、
ルツボ５から飛来して来た磁性金属粒子が冷却キャン１
に案内されて走行している支持体３に付着した後の段階
において設けられたものであり、特に冷却キャン１に対
して圧着する如く、かつ、逆ハ字形状のように設けられ
たものである。
【００１５】すなわち、バツクテンションを懸けられた
状態で供給側ロール２ａから巻取側ロール２ｂに向かっ
て冷却キャン１に沿って走行している支持体３を間に挟
んでローラ８ａ，８ｂ及びローラ９ａ，９ｂが冷却キャ
ン１に圧着しており、そしてローラ８ａ，８ｂとローラ
９ａ，９ｂとはルツボ５から飛来して来た磁性金属粒子
が支持体３に付着する位置を境に略対称な位置に設けら
れており、しかもこれらのローラ８ａ，８ｂ及びローラ
９ａ，９ｂは支持体に対して矢印方向の力を作用させる
よう回転させられるよう構成されている。この為、支持
体に堆積した粒子によって静電気が帯電し、皺が引き起
こされるようになっても、走行している支持体３には常
に引っ張り方向の力が作用し、皺を引き延ばして無くす
ような力が効果的に作用しており、粒子が堆積する近傍
の位置では皺が常にないようになっている。
状態で供給側ロール２ａから巻取側ロール２ｂに向かっ
て冷却キャン１に沿って走行している支持体３を間に挟
んでローラ８ａ，８ｂ及びローラ９ａ，９ｂが冷却キャ
ン１に圧着しており、そしてローラ８ａ，８ｂとローラ
９ａ，９ｂとはルツボ５から飛来して来た磁性金属粒子
が支持体３に付着する位置を境に略対称な位置に設けら
れており、しかもこれらのローラ８ａ，８ｂ及びローラ
９ａ，９ｂは支持体に対して矢印方向の力を作用させる
よう回転させられるよう構成されている。この為、支持
体に堆積した粒子によって静電気が帯電し、皺が引き起
こされるようになっても、走行している支持体３には常
に引っ張り方向の力が作用し、皺を引き延ばして無くす
ような力が効果的に作用しており、粒子が堆積する近傍
の位置では皺が常にないようになっている。
【００１６】上記のように構成させた装置において、真
空容器７内を１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空度のも
のに排気した後、抵抗加熱、高周波加熱、電子ビーム加
熱などによりルツボ５内の磁性金属６を蒸発させ、ＰＥ
Ｔフィルム等の支持体３に対して０．０４〜１μｍ厚さ
磁性金属６を蒸着させることによって金属薄膜型の磁気
記録媒体が製造される。尚、磁性薄膜の形成に際して、
蒸着部分に酸素を供給し、強制酸化させることによって
磁性薄膜の表層部分を酸化させ、酸化膜による保護層が
形成されるようになっている。
空容器７内を１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空度のも
のに排気した後、抵抗加熱、高周波加熱、電子ビーム加
熱などによりルツボ５内の磁性金属６を蒸発させ、ＰＥ
Ｔフィルム等の支持体３に対して０．０４〜１μｍ厚さ
磁性金属６を蒸着させることによって金属薄膜型の磁気
記録媒体が製造される。尚、磁性薄膜の形成に際して、
蒸着部分に酸素を供給し、強制酸化させることによって
磁性薄膜の表層部分を酸化させ、酸化膜による保護層が
形成されるようになっている。
【００１７】この後、巻取側ロール２ｂを取り出し、そ
して平均粒径２０ｎｍのカーボンブラック及び塩化ビニ
ル系樹脂とウレタンプレポリマーとからなるバインダ樹
脂を分散させてなるバックコート用の塗料をダイレクト
グラビア法により磁性層とは反対側の支持体３に塗布
し、乾燥厚さが０．５μｍのバックコート層を設ける。
そして、パーフルオロポリエーテル（グレード：ＦＯＭ
ＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＡＣ カルボキシル基変性、日本モ
ンテジソン社製）をフッ素不活性液体（フロリナート、
ＦＣ−８４、住友スリーエム社製）に０．１％となるよ
う希釈・分散させた塗料をダイ塗工方式により乾燥後の
厚さが２０Å程度となるよう磁性面に塗布し、７０℃で
乾燥させる。
して平均粒径２０ｎｍのカーボンブラック及び塩化ビニ
ル系樹脂とウレタンプレポリマーとからなるバインダ樹
脂を分散させてなるバックコート用の塗料をダイレクト
グラビア法により磁性層とは反対側の支持体３に塗布
し、乾燥厚さが０．５μｍのバックコート層を設ける。
そして、パーフルオロポリエーテル（グレード：ＦＯＭ
ＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＡＣ カルボキシル基変性、日本モ
ンテジソン社製）をフッ素不活性液体（フロリナート、
ＦＣ−８４、住友スリーエム社製）に０．１％となるよ
う希釈・分散させた塗料をダイ塗工方式により乾燥後の
厚さが２０Å程度となるよう磁性面に塗布し、７０℃で
乾燥させる。
【００１８】この後、所定の幅にスリットし、８ｍｍＶ
ＴＲ用磁気テープを得た。ところで、本発明にあって
は、ルツボ５から飛来して来る磁性粒子が支持体３に蒸
着する段階において、走行力及びローラ８ａ，８ｂ，ロ
ーラ９ａ，９ｂと冷却キャン１との協同作用により、支
持体３には常にテンションが作用していて皺が引き起こ
されないようになっている。この為、支持体３には均一
な磁性膜が形成されていた。
ＴＲ用磁気テープを得た。ところで、本発明にあって
は、ルツボ５から飛来して来る磁性粒子が支持体３に蒸
着する段階において、走行力及びローラ８ａ，８ｂ，ロ
ーラ９ａ，９ｂと冷却キャン１との協同作用により、支
持体３には常にテンションが作用していて皺が引き起こ
されないようになっている。この為、支持体３には均一
な磁性膜が形成されていた。
【００１９】〔実施例２〕実施例１においてはローラ８
ａ，８ｂ及びローラ９ａ，９ｂを共に作動させた場合で
あったが、本実施例ではローラ８ａ，８ｂを作動させ、
ローラ９ａ，９ｂは作動させず、そして実施例１と同様
にして磁気テープを得た。 〔比較例１〕実施例１において、ローラ８ａ，８ｂ及び
ローラ９ａ，９ｂを共に作動させず、そして実施例１と
同様にして磁気テープを得た。
ａ，８ｂ及びローラ９ａ，９ｂを共に作動させた場合で
あったが、本実施例ではローラ８ａ，８ｂを作動させ、
ローラ９ａ，９ｂは作動させず、そして実施例１と同様
にして磁気テープを得た。 〔比較例１〕実施例１において、ローラ８ａ，８ｂ及び
ローラ９ａ，９ｂを共に作動させず、そして実施例１と
同様にして磁気テープを得た。
【００２０】〔特性〕上記各例で得た磁気テープについ
て、市販の８ｍｍＶＴＲを改造した装置で５ＭＨｚの輝
度出力の出力変動を調べたので、その結果を表−１に示
す。 表−１ 平均出力（ｄＢ） 出力変動（ｄＢ） 実施例１ ０ ０ 実施例２ −０．１ ０．３ 比較例１ −０．８ ２．４ ＊平均出力は６０分間走行させた場合の平均値で、実施
例１を０とし、相対値で表示 ＊出力変動は６０分間走行させた場合の最大出力と最小
出力との差で、実施例１を０とし、相対値で表示 これによれば、本発明になる磁気記録媒体は、磁性膜が
均一に形成されており、高性能な磁気記録媒体を歩留り
良く得られることが判る。
て、市販の８ｍｍＶＴＲを改造した装置で５ＭＨｚの輝
度出力の出力変動を調べたので、その結果を表−１に示
す。 表−１ 平均出力（ｄＢ） 出力変動（ｄＢ） 実施例１ ０ ０ 実施例２ −０．１ ０．３ 比較例１ −０．８ ２．４ ＊平均出力は６０分間走行させた場合の平均値で、実施
例１を０とし、相対値で表示 ＊出力変動は６０分間走行させた場合の最大出力と最小
出力との差で、実施例１を０とし、相対値で表示 これによれば、本発明になる磁気記録媒体は、磁性膜が
均一に形成されており、高性能な磁気記録媒体を歩留り
良く得られることが判る。
【００２１】
【効果】均一な膜が得られる。この為、出力変動が少な
い磁気記録媒体を製造歩留り良く得られる。
い磁気記録媒体を製造歩留り良く得られる。
【図１】本発明になる薄膜形成装置全体の概略正面図
【図２】本発明になる薄膜形成装置の粒子堆積位置の前
段階近傍の要部側面図
段階近傍の要部側面図
【図３】本発明になる薄膜形成装置の粒子堆積位置の後
段階近傍の要部側面図
段階近傍の要部側面図
【図４】従来の磁気記録媒体製造装置の概略図
１ 冷却キャン（ドラム） ２ａ 供給側ロール ２ｂ 巻取側ロール ３ 支持体 ５ ルツボ ６ 磁性金属 ７ 真空容器 ８ａ，８ｂ ローラ ９ａ，９ｂ ローラ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内
Claims (6)
- 【請求項１】 ドラムに案内されて走行する支持体上に
粒子を堆積させて薄膜を形成する装置であって、前記ド
ラムに圧着するローラが設けられてなり、前記ドラムと
ローラとの協同作用によって支持体に起きる皺を除去す
るよう構成されてなることを特徴とする薄膜形成装置。 - 【請求項２】 ローラが粒子堆積位置より前の段階に設
けられてなることを特徴とする請求項１の薄膜形成装
置。 - 【請求項３】 ローラが粒子堆積位置より後の段階に設
けられてなることを特徴とする請求項１の薄膜形成装
置。 - 【請求項４】 ローラが粒子堆積位置の前後の段階に設
けられてなることを特徴とする請求項１の薄膜形成装
置。 - 【請求項５】 粒子堆積位置の前の段階にあるローラに
よって走行する支持体には斜め後方に力が作用するよう
ローラが設けられてなることを特徴とする請求項１の薄
膜形成装置。 - 【請求項６】 粒子堆積位置の後の段階にあるローラに
よって走行する支持体には斜め前方に力が作用するよう
ローラが設けられてなることを特徴とする請求項１の薄
膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23758493A JPH0790585A (ja) | 1993-09-24 | 1993-09-24 | 薄膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23758493A JPH0790585A (ja) | 1993-09-24 | 1993-09-24 | 薄膜形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0790585A true JPH0790585A (ja) | 1995-04-04 |
Family
ID=17017489
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23758493A Pending JPH0790585A (ja) | 1993-09-24 | 1993-09-24 | 薄膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0790585A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005001157A3 (en) * | 2003-06-30 | 2005-04-14 | Sidrabe Inc | Device and method for coating roll substrates in vacuum |
| WO2005045093A1 (en) * | 2003-11-05 | 2005-05-19 | Emanuele Cecchi | Apparatus and method for the vacuum metallization of textile materials and the like |
| JP2012062553A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | キャンロール上でのシワ伸ばし方法とその装置 |
| JP2012132080A (ja) * | 2010-12-24 | 2012-07-12 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | キャンロール上でのシワ伸ばし方法及びシワ伸ばし装置、並びにこれを備えた成膜装置 |
-
1993
- 1993-09-24 JP JP23758493A patent/JPH0790585A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005001157A3 (en) * | 2003-06-30 | 2005-04-14 | Sidrabe Inc | Device and method for coating roll substrates in vacuum |
| WO2005045093A1 (en) * | 2003-11-05 | 2005-05-19 | Emanuele Cecchi | Apparatus and method for the vacuum metallization of textile materials and the like |
| JP2012062553A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | キャンロール上でのシワ伸ばし方法とその装置 |
| JP2012132080A (ja) * | 2010-12-24 | 2012-07-12 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | キャンロール上でのシワ伸ばし方法及びシワ伸ばし装置、並びにこれを備えた成膜装置 |
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