JPS6132606B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6132606B2 JPS6132606B2 JP53081868A JP8186878A JPS6132606B2 JP S6132606 B2 JPS6132606 B2 JP S6132606B2 JP 53081868 A JP53081868 A JP 53081868A JP 8186878 A JP8186878 A JP 8186878A JP S6132606 B2 JPS6132606 B2 JP S6132606B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- grating
- stage
- diffraction grating
- monochromator
- image
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/12—Generating the spectrum; Monochromators
- G01J3/18—Generating the spectrum; Monochromators using diffraction elements, e.g. grating
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
Description
常用の回折格子モノクロメータの場合、光源は
スリツトを通る光束を平行にして回折格子に向け
る凹面ミラーまたはレンズの焦点面に配置された
入口スリツトに結像される。格子からの回折光は
波長に応じて種々の方向に分散した種々の波長の
平行光束からなる。再結像レンズまたは凹面ミラ
ーは入口スリツトの回析光像を出口スリツトへ結
像するように配置され、回折光の選択された帯域
が出口スリツトを通過する。回折格子は一般に波
長駆動機構によつて入口スリツトと平行の軸を中
心に回転するように配置され、この駆動機構は出
口スリツトへ選択された狭いスペクトル帯域を投
影するように調節することができる。格子の回転
によつてスペクトルを出口スリツトに対し横方向
に移動することができ、全スペクトル帯域が走査
される。回転は一般に回転角のサインが波長駆動
機構の偏位に比例するように、サイン伝動機構を
介して行われる。回折格子モノクロメータに伴う
1つの困難は多数の次数の波長が同じ方向に回折
することにあり、それゆえ1次の光線のみなら
ず、2次の半波長、3次の1/3波長などが出口ス
リツトに重なる。この困難を避けるため一般には
高次の波長をろ過するように常用格子モノクロメ
ータの前方にフイルタが配置される。これらのフ
イルタは波長駆動機構と結合するフイルタ板に配
置され、このフイルタ板は入口スリツトを通過し
た後の光路に拡がる。 これらのシングルモノクロメータに生ずるもう
1つの問題は迷光に基因する。少量の異なる波長
の光線が入口スリツトから入り、系内の他の光路
に沿う散乱によつて出口スリツトに達するのを防
ぐことは不可能なので、分散しなかつた不所望の
光線が出口スリツトに現われる。この困難を除去
するもつとも有効な方法はモノクロメータから出
る光を同様のモノクロメータに通すことであり、
それによつて2ステージまたはダブルモノクロメ
ータが発生する。このようなダブルモノクロメー
タは公知であり、一般に2つの同じユニツトから
なり、第1ステージの出口スリツトが第2ステー
ジの入口スリツトを形成する。2つのステージの
同じ回折格子は平行光束内に配置され、各格子は
1つのサイン伝動機構を介して波長駆動機構によ
り同期的に駆動される。常用のシングルステージ
モノクロメータの場合のように、フイルタ板は一
般に入口スリツトの後方に配置され、高次の光線
が除かれる。 ダブルモノクロメータの場合、第1ステージに
よつて発生した狭いスペクトル帯域は第2ステー
ジを通つてさらに分散するので、不所望の光線は
第2ステージの出口スリツトに達しない。これら
公知のダブルモノクロメータは実際には機械的に
結合した波長駆動機構を有する2つの同じシング
ルステージユニツトが直列に配置されるので、価
格が2倍になり、全光学系の正しい整列が困難で
あり、系のサイズが大きく、不便となる欠点は明
らかである。 本発明の目的は第1ステージのスペクトル帯域
幅の適当な選択によつて構造を簡単にし、光学的
整列を容易にし、常用の高価な装置に比較しうる
効率と精度を有する取扱いの容易な小さい装置と
なるダブルモノクロメータを得ることである。 本発明のダブル回折格子モノクロメータは第1
ステージのスペクトル帯域幅が第2ステージのそ
れより著しく大きく、それによつて簡単な線形機
構による格子の波長調節が可能になる。帯域幅の
拡大により粗い回折格子の使用が可能になり、こ
の格子は発散または収れん光束内に配置され、格
子からの選択されたスペクトル帯域は凹面ミラー
によつて第2ステージの入口スリツトに結像され
る。物体距離および像距離は減少し、波長により
入口スリツトにおける焦点面はごく僅かに軸方向
に偏移するけれど、これは精度に悪影響を与えな
い。 次に本発明を図面により説明する。 第1図に示すように光源10の発する光線は凹
の球面ミラー12によつて回折格子14の表面を
介して以下に第2ステージと称する主モノクロメ
ータ18の入口スリツト16に結像する。第2ス
テージモノクロメータ18は凹のコリメーシヨン
ミラー20を有し、その焦点面は入口スリツト1
6の面内にある。ミラー20は入口スリツト16
の像を平行光束22の形で回折格子24の表面に
向ける。回折格子24は各回折波長の平行光束2
6をミラー20の表面、したがつて平面ミラー3
0および出口スリツト32へ向ける。フイルタ板
34は波長駆動機構36の制御下に回転可能であ
り、この機構は所望により適当な有歯ベルトであ
りうる線形駆動機構40を介して軸38を中心に
格子14を回転するためにも役立つ。波長駆動機
構36はさらにサイン伝動機構44を介して第2
ステージ回折格子24をその軸42の回りに回転
するためにも役立つ。サイン伝動機構は公知であ
り、一般に格子に固定されたレバーと結合する回
転可能のスピンドルおよびナツトを備えるので、
スピンドルの回転は格子24を格子の回転角のサ
インが波長駆動機構36の偏位に比例するように
回転する。 ダブルまたは2ステージモノクロメータの機能
は次のとおりである。光線10からの発散光線は
フイルタ板34を通過し、凹の球面ミラー12に
向い、このミラーは光束を回折格子14の表面に
向つて収れんし、回折格子は収れん光をその波長
に応じて分散する。波長駆動機構36によつて選
択された特殊な狭帯域波長はダブルモノクロメー
タの第2ステージ18の入口スリツトでもある第
1ステージの出口スリツト16に結像する。スリ
ツト16内の非常に狭い波長帯域はコリメーシヨ
ンミラー20により回折格子24の表面に向つて
反射され、回折格子は入射平行光束をその波長に
応じて分散する。格子24はサイン機構44によ
つて回転されるので、選択された波長がミラー2
0へ戻り、平面ミラー30によつて出口スリツト
32へ反射される。 有利な実施方式の場合第1ステージモノクロメ
ータ28の回折格子14は1/144mm離れた溝を有
し、第2ステージモノクロメータの回折格子24
は1/1440mm離れた溝を有する。このように格子1
4は本発明の重要な特徴により比較的粗い。粗い
格子から出る光線は後述のように波長と無関係に
比較的1定の像距離に留まる平面内に結像するこ
とができる。第2ステージ18の入口16はこの
固定した面に配置される。 第2図は回折格子14の表面の幅pのひとみか
ら距離bに配置された入口スリツト16の面内の
光源10の像の形成を示す。1組の収れん光線4
8および50はスペクトルの1端の波長で結像す
る光路を示し、収れん線52および54はスペク
トルの他端の波長の光路を示す。光路48および
50は光源像56の前方x1に結像し、光路52お
よび54は像56の後方x2に焦点を結ぶ。4つの
光路に共通のハツチ部はひとみのすべての点から
つねに照明され、最大強さの照明を受ける。この
ハツチ部の外側で照明の強さは光束の端縁に向つ
てゼロに低下する。それゆえ格子14の回転によ
つて種々の波長を走査する間、像距離bがハツチ
部の外側へ変化してはならないことは明らかであ
る。すなわち入口スリツト16はつねにハツチ部
内に配置され、格子14の設計は光源10の収れ
ん像が1つの走査端から他端までハツチ部内に入
るようでなければならない。 像距離bの最大許容変化は次のとおり計算する
ことができる: x1=sb/p+s x2=sb/p−s x1+x2=2sbp/p2−s2 しかしs2はp2に比して無視できるので、 x1+x2=2sb/p tanW=p/2b=W(小さい角の場合) ∴x1+x2=S/W この像距離変化S/Wは波長の両端の間を走査
する間、この値より小さくなければならず、粗い
回折格子によつてこれを容易に満足しうることは
次のとおり数学的に証明することができる。 a=光源10と格子14の物体距離(格子が収れ
ん光路内にあれば負であり、その値は格子と格
子後方の光源虚像の距離に等しい。) b=格子と光源像の像距離(格子が発散光路内に
あれば負であり、その値は格子後方の射出光束
の虚像の格子からの距離に等しい。) I=光束の軸と格子法線の間の入射角、 E=光束の軸と格子法線の間の射出角、 A=格子回転角、 f=格子の焦点距離、 g=格子定数(線間隔) m=回折次数 λ=波長(mm) とすれば b=−acos2E/cos2I f=−bcos2E/cos2I−cos2E=−bc
os2I/cos2I−cos2E ∴b/a=cos2E/cos2I 〔1〕 さらに sinE=mλ/g−sinI 〔2〕 上記〔1〕式で入射光線および射出光線は近軸
光線であると仮定する。光束の軸に対して有限の
角すなわち入射光束内でΔIおよび収れん光束内
でΔEを形成する軸外光線に対しては式は次のと
おりになる。 b/a=cos2E/cos2I・ΔI/
ΔE〔3〕 および sin(E+ΔE)=mλ/g−sin(I−ΔI)〔4〕 上式を利用してb/aの比を種々の波長に対し1/14 4mmの格子定数gを有する粗い格子14、1/1440
mmの格子定数gを有する微細格子24および種々
の軸外角度の場合に計算することができる。
スリツトを通る光束を平行にして回折格子に向け
る凹面ミラーまたはレンズの焦点面に配置された
入口スリツトに結像される。格子からの回折光は
波長に応じて種々の方向に分散した種々の波長の
平行光束からなる。再結像レンズまたは凹面ミラ
ーは入口スリツトの回析光像を出口スリツトへ結
像するように配置され、回折光の選択された帯域
が出口スリツトを通過する。回折格子は一般に波
長駆動機構によつて入口スリツトと平行の軸を中
心に回転するように配置され、この駆動機構は出
口スリツトへ選択された狭いスペクトル帯域を投
影するように調節することができる。格子の回転
によつてスペクトルを出口スリツトに対し横方向
に移動することができ、全スペクトル帯域が走査
される。回転は一般に回転角のサインが波長駆動
機構の偏位に比例するように、サイン伝動機構を
介して行われる。回折格子モノクロメータに伴う
1つの困難は多数の次数の波長が同じ方向に回折
することにあり、それゆえ1次の光線のみなら
ず、2次の半波長、3次の1/3波長などが出口ス
リツトに重なる。この困難を避けるため一般には
高次の波長をろ過するように常用格子モノクロメ
ータの前方にフイルタが配置される。これらのフ
イルタは波長駆動機構と結合するフイルタ板に配
置され、このフイルタ板は入口スリツトを通過し
た後の光路に拡がる。 これらのシングルモノクロメータに生ずるもう
1つの問題は迷光に基因する。少量の異なる波長
の光線が入口スリツトから入り、系内の他の光路
に沿う散乱によつて出口スリツトに達するのを防
ぐことは不可能なので、分散しなかつた不所望の
光線が出口スリツトに現われる。この困難を除去
するもつとも有効な方法はモノクロメータから出
る光を同様のモノクロメータに通すことであり、
それによつて2ステージまたはダブルモノクロメ
ータが発生する。このようなダブルモノクロメー
タは公知であり、一般に2つの同じユニツトから
なり、第1ステージの出口スリツトが第2ステー
ジの入口スリツトを形成する。2つのステージの
同じ回折格子は平行光束内に配置され、各格子は
1つのサイン伝動機構を介して波長駆動機構によ
り同期的に駆動される。常用のシングルステージ
モノクロメータの場合のように、フイルタ板は一
般に入口スリツトの後方に配置され、高次の光線
が除かれる。 ダブルモノクロメータの場合、第1ステージに
よつて発生した狭いスペクトル帯域は第2ステー
ジを通つてさらに分散するので、不所望の光線は
第2ステージの出口スリツトに達しない。これら
公知のダブルモノクロメータは実際には機械的に
結合した波長駆動機構を有する2つの同じシング
ルステージユニツトが直列に配置されるので、価
格が2倍になり、全光学系の正しい整列が困難で
あり、系のサイズが大きく、不便となる欠点は明
らかである。 本発明の目的は第1ステージのスペクトル帯域
幅の適当な選択によつて構造を簡単にし、光学的
整列を容易にし、常用の高価な装置に比較しうる
効率と精度を有する取扱いの容易な小さい装置と
なるダブルモノクロメータを得ることである。 本発明のダブル回折格子モノクロメータは第1
ステージのスペクトル帯域幅が第2ステージのそ
れより著しく大きく、それによつて簡単な線形機
構による格子の波長調節が可能になる。帯域幅の
拡大により粗い回折格子の使用が可能になり、こ
の格子は発散または収れん光束内に配置され、格
子からの選択されたスペクトル帯域は凹面ミラー
によつて第2ステージの入口スリツトに結像され
る。物体距離および像距離は減少し、波長により
入口スリツトにおける焦点面はごく僅かに軸方向
に偏移するけれど、これは精度に悪影響を与えな
い。 次に本発明を図面により説明する。 第1図に示すように光源10の発する光線は凹
の球面ミラー12によつて回折格子14の表面を
介して以下に第2ステージと称する主モノクロメ
ータ18の入口スリツト16に結像する。第2ス
テージモノクロメータ18は凹のコリメーシヨン
ミラー20を有し、その焦点面は入口スリツト1
6の面内にある。ミラー20は入口スリツト16
の像を平行光束22の形で回折格子24の表面に
向ける。回折格子24は各回折波長の平行光束2
6をミラー20の表面、したがつて平面ミラー3
0および出口スリツト32へ向ける。フイルタ板
34は波長駆動機構36の制御下に回転可能であ
り、この機構は所望により適当な有歯ベルトであ
りうる線形駆動機構40を介して軸38を中心に
格子14を回転するためにも役立つ。波長駆動機
構36はさらにサイン伝動機構44を介して第2
ステージ回折格子24をその軸42の回りに回転
するためにも役立つ。サイン伝動機構は公知であ
り、一般に格子に固定されたレバーと結合する回
転可能のスピンドルおよびナツトを備えるので、
スピンドルの回転は格子24を格子の回転角のサ
インが波長駆動機構36の偏位に比例するように
回転する。 ダブルまたは2ステージモノクロメータの機能
は次のとおりである。光線10からの発散光線は
フイルタ板34を通過し、凹の球面ミラー12に
向い、このミラーは光束を回折格子14の表面に
向つて収れんし、回折格子は収れん光をその波長
に応じて分散する。波長駆動機構36によつて選
択された特殊な狭帯域波長はダブルモノクロメー
タの第2ステージ18の入口スリツトでもある第
1ステージの出口スリツト16に結像する。スリ
ツト16内の非常に狭い波長帯域はコリメーシヨ
ンミラー20により回折格子24の表面に向つて
反射され、回折格子は入射平行光束をその波長に
応じて分散する。格子24はサイン機構44によ
つて回転されるので、選択された波長がミラー2
0へ戻り、平面ミラー30によつて出口スリツト
32へ反射される。 有利な実施方式の場合第1ステージモノクロメ
ータ28の回折格子14は1/144mm離れた溝を有
し、第2ステージモノクロメータの回折格子24
は1/1440mm離れた溝を有する。このように格子1
4は本発明の重要な特徴により比較的粗い。粗い
格子から出る光線は後述のように波長と無関係に
比較的1定の像距離に留まる平面内に結像するこ
とができる。第2ステージ18の入口16はこの
固定した面に配置される。 第2図は回折格子14の表面の幅pのひとみか
ら距離bに配置された入口スリツト16の面内の
光源10の像の形成を示す。1組の収れん光線4
8および50はスペクトルの1端の波長で結像す
る光路を示し、収れん線52および54はスペク
トルの他端の波長の光路を示す。光路48および
50は光源像56の前方x1に結像し、光路52お
よび54は像56の後方x2に焦点を結ぶ。4つの
光路に共通のハツチ部はひとみのすべての点から
つねに照明され、最大強さの照明を受ける。この
ハツチ部の外側で照明の強さは光束の端縁に向つ
てゼロに低下する。それゆえ格子14の回転によ
つて種々の波長を走査する間、像距離bがハツチ
部の外側へ変化してはならないことは明らかであ
る。すなわち入口スリツト16はつねにハツチ部
内に配置され、格子14の設計は光源10の収れ
ん像が1つの走査端から他端までハツチ部内に入
るようでなければならない。 像距離bの最大許容変化は次のとおり計算する
ことができる: x1=sb/p+s x2=sb/p−s x1+x2=2sbp/p2−s2 しかしs2はp2に比して無視できるので、 x1+x2=2sb/p tanW=p/2b=W(小さい角の場合) ∴x1+x2=S/W この像距離変化S/Wは波長の両端の間を走査
する間、この値より小さくなければならず、粗い
回折格子によつてこれを容易に満足しうることは
次のとおり数学的に証明することができる。 a=光源10と格子14の物体距離(格子が収れ
ん光路内にあれば負であり、その値は格子と格
子後方の光源虚像の距離に等しい。) b=格子と光源像の像距離(格子が発散光路内に
あれば負であり、その値は格子後方の射出光束
の虚像の格子からの距離に等しい。) I=光束の軸と格子法線の間の入射角、 E=光束の軸と格子法線の間の射出角、 A=格子回転角、 f=格子の焦点距離、 g=格子定数(線間隔) m=回折次数 λ=波長(mm) とすれば b=−acos2E/cos2I f=−bcos2E/cos2I−cos2E=−bc
os2I/cos2I−cos2E ∴b/a=cos2E/cos2I 〔1〕 さらに sinE=mλ/g−sinI 〔2〕 上記〔1〕式で入射光線および射出光線は近軸
光線であると仮定する。光束の軸に対して有限の
角すなわち入射光束内でΔIおよび収れん光束内
でΔEを形成する軸外光線に対しては式は次のと
おりになる。 b/a=cos2E/cos2I・ΔI/
ΔE〔3〕 および sin(E+ΔE)=mλ/g−sin(I−ΔI)〔4〕 上式を利用してb/aの比を種々の波長に対し1/14 4mmの格子定数gを有する粗い格子14、1/1440
mmの格子定数gを有する微細格子24および種々
の軸外角度の場合に計算することができる。
【表】
【表】
表1に示す結果を検討することによつて、1/14
40mmの線距離を有する格子24のような微細格子
は200−800nmの波長の間で約50%の比の変化ま
たはaが100mmで約50mmの変化を示すことが明ら
かである。それゆえ第1ステージに微細格子を使
用すれば、像距離bはスペクトル範囲にわたつて
大きく変化し、像距離を第2図のハツチ部内に維
持することは不可能でないとしても困難である。
さらに第1ステージの微細格子は精密な較正、お
よび入口スリツト16を適当な像距離に配置する
ため第1と第2ステージの間の分離を調節する高
価な補助機構を必要とする。 第1ステージ28の格子14に実際に備えられ
るような粗い回折格子は表2に示すように波長両
端の間で僅か約3%またはaが100mmで約3mm変
化するだけである。回折格子14に粗い格子を使
用することにより第1および第2ステージ間の複
雑高価な調節機構の必要がなくなり、像距離bが
波長両端にわたつて第2図のハツチ部内に留まる
ことが明らかである。 第1ステージモノクロメータ28の角分散は dλ/dE=g/mcosE 〔5〕 であり、凹面ミラー12による結像比1:1の線
分散は dλ/dx=1/bg/mcosE 〔6〕 であり、ここにxは入口スリツト16の面からス
リツトの方向に垂直の距離である。 次の表3に示すようにEがIより大きいか、ま
たは反対の場合、僅かに異なる数値が得られる。
40mmの線距離を有する格子24のような微細格子
は200−800nmの波長の間で約50%の比の変化ま
たはaが100mmで約50mmの変化を示すことが明ら
かである。それゆえ第1ステージに微細格子を使
用すれば、像距離bはスペクトル範囲にわたつて
大きく変化し、像距離を第2図のハツチ部内に維
持することは不可能でないとしても困難である。
さらに第1ステージの微細格子は精密な較正、お
よび入口スリツト16を適当な像距離に配置する
ため第1と第2ステージの間の分離を調節する高
価な補助機構を必要とする。 第1ステージ28の格子14に実際に備えられ
るような粗い回折格子は表2に示すように波長両
端の間で僅か約3%またはaが100mmで約3mm変
化するだけである。回折格子14に粗い格子を使
用することにより第1および第2ステージ間の複
雑高価な調節機構の必要がなくなり、像距離bが
波長両端にわたつて第2図のハツチ部内に留まる
ことが明らかである。 第1ステージモノクロメータ28の角分散は dλ/dE=g/mcosE 〔5〕 であり、凹面ミラー12による結像比1:1の線
分散は dλ/dx=1/bg/mcosE 〔6〕 であり、ここにxは入口スリツト16の面からス
リツトの方向に垂直の距離である。 次の表3に示すようにEがIより大きいか、ま
たは反対の場合、僅かに異なる数値が得られる。
【表】
表3を検討すればE<Iの場合に全スペクトル
範囲にわたつて分散が良好であることが明らかで
ある。b=100mmの場合1mm幅の光源像は69nm
〜63nmのスペクトル帯域幅を生ずる。 波長駆動機構36による粗い格子14のその軸
38を中心とする回転角は非常に小さく、200〜
800nmの波長に対して0.9〜3.4゜の間を変化し、
波長とともに線形に回転される。これに反し第2
ステージの格子24はその軸42を中心に sinA=mλ/2gcosB/2 〔7〕 となるように回転される。 回折格子は駆動機溝36により波長と線形関係
で回転されるので、 A=C+Dλ 〔8〕 ここにDは波長と第1ステージモノクロメータ
格子の角位置の間の換算比を表わし、Cは選択し
た波長において表4の値をゼロに調節する調節値
を表わす。したがつて第1ステージモノクロメー
タ28はそのスペクトル帯域の中心のλから少し
異なる波長λ′を与える。CおよびDの値を波長
帯域の端部でλ=λ′となるように選べば、B=
20゜に対して次表が得られる。 表 4 波長偏差 λ′−λ(nm) λ(nm) λ′−λ(nm) 200 0.00 300 0.05 400 0.09 500 0.14 600 0.13 700 0.09 800 0.00 この偏差はCおよびDの値を小さい負の偏差が
スペクトル帯域の各端部に現れるように選べばさ
らに均一に減少することができる。 波長偏差と像ハツチ部内の実際の像の偏位に関
する前記計算と説明は、第1ステージ格子14を
偏差および偏位が虚像で起こるように発散光路内
に配置する場合にも有効に適用される。 凹面ミラー12による入口スリツト16の結像
は符号の変化以外計算に影響しない。格子14を
発散光路に配置する場合、ミラーが格子から入射
する分散光線を入口スリツト16の面内に結像す
るように、格子は光源10と凹面ミラー12の間
に配置しなければならない。 前記計算の検討により下記が明らかである: (1) 比較的粗い回折格子14の使用によつて波長
に関係する像距離の変化は許容限内に留まり、
入口スリツト16はつねに完全に照明される。 (2) 光束の有限の開き角によつて生ずる小さい変
化または収差は無視可能である。 (3) 第1ステージモノクロメータ28のスペクト
ル帯域幅は第2モノクロメータのスペクトル帯
域幅より著しく大きい(69〜63nm)。 (4) 波長に比例する回折格子14の回転により、
第2ステージモノクロメータ微細格子24のサ
イン回転によつて生ずる波長からの偏差は無視
することができる。
範囲にわたつて分散が良好であることが明らかで
ある。b=100mmの場合1mm幅の光源像は69nm
〜63nmのスペクトル帯域幅を生ずる。 波長駆動機構36による粗い格子14のその軸
38を中心とする回転角は非常に小さく、200〜
800nmの波長に対して0.9〜3.4゜の間を変化し、
波長とともに線形に回転される。これに反し第2
ステージの格子24はその軸42を中心に sinA=mλ/2gcosB/2 〔7〕 となるように回転される。 回折格子は駆動機溝36により波長と線形関係
で回転されるので、 A=C+Dλ 〔8〕 ここにDは波長と第1ステージモノクロメータ
格子の角位置の間の換算比を表わし、Cは選択し
た波長において表4の値をゼロに調節する調節値
を表わす。したがつて第1ステージモノクロメー
タ28はそのスペクトル帯域の中心のλから少し
異なる波長λ′を与える。CおよびDの値を波長
帯域の端部でλ=λ′となるように選べば、B=
20゜に対して次表が得られる。 表 4 波長偏差 λ′−λ(nm) λ(nm) λ′−λ(nm) 200 0.00 300 0.05 400 0.09 500 0.14 600 0.13 700 0.09 800 0.00 この偏差はCおよびDの値を小さい負の偏差が
スペクトル帯域の各端部に現れるように選べばさ
らに均一に減少することができる。 波長偏差と像ハツチ部内の実際の像の偏位に関
する前記計算と説明は、第1ステージ格子14を
偏差および偏位が虚像で起こるように発散光路内
に配置する場合にも有効に適用される。 凹面ミラー12による入口スリツト16の結像
は符号の変化以外計算に影響しない。格子14を
発散光路に配置する場合、ミラーが格子から入射
する分散光線を入口スリツト16の面内に結像す
るように、格子は光源10と凹面ミラー12の間
に配置しなければならない。 前記計算の検討により下記が明らかである: (1) 比較的粗い回折格子14の使用によつて波長
に関係する像距離の変化は許容限内に留まり、
入口スリツト16はつねに完全に照明される。 (2) 光束の有限の開き角によつて生ずる小さい変
化または収差は無視可能である。 (3) 第1ステージモノクロメータ28のスペクト
ル帯域幅は第2モノクロメータのスペクトル帯
域幅より著しく大きい(69〜63nm)。 (4) 波長に比例する回折格子14の回転により、
第2ステージモノクロメータ微細格子24のサ
イン回転によつて生ずる波長からの偏差は無視
することができる。
第1図は本発明によるダブルモノクロメータの
光路を示す平面図、第2図は第1図の第2ステー
ジモノクロメータの入口スリツトに結像した光線
の光路を示す図である。 10……光源、12,20……凹面ミラー、1
4,24……回折格子、16……入口スリツト、
32……出口スリツト、34……フイルタ板、3
6……波長駆動機構、44……サイン伝動機構。
光路を示す平面図、第2図は第1図の第2ステー
ジモノクロメータの入口スリツトに結像した光線
の光路を示す図である。 10……光源、12,20……凹面ミラー、1
4,24……回折格子、16……入口スリツト、
32……出口スリツト、34……フイルタ板、3
6……波長駆動機構、44……サイン伝動機構。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 第1および第2ステージモノクロメータを有
するダブルモノクロメータにおいて、 格子の溝と平行の軸を中心に回転することがで
き、かつ光源からの光線を受けるように配置され
た第1ステージ内の第1回折格子、 第1回折格子からスペクトル帯域の1部を第2
ステージの入口スリツトの面に結像するように配
置した凹面ミラー、 入口スリツトからの光線を平行光線に変えるよ
うに配置した第2ステージ内のコリメーシヨンミ
ラー、 格子の溝と平行の軸を中心に回転することがで
き、かつコリメーシヨンミラーからの平行光線を
受けるように配置された第2回折格子、 第1および第2回折格子を同期的に回転しうる
波長駆動装置 を有し、その際第1ステージモノクロメータのス
ペクトル帯域幅が第2ステージモノクロメータの
それより大きく、かつ第1回折格子が前記波長駆
動装置により線形に駆動されることを特徴とする
ダブルモノクロメータ。 2 光源からの発散光線の光路に挿入され、かつ
前記第1および第2回折格子の調節とともに、回
転するため、前記波長駆動装置に結合された回転
可能のフイルタを有する特許請求の範囲第1項記
載のダブルモノクロメータ。 3 光源からの収れん光線を第1回折格子に向
け、かつ回折光線を第2ステージ入口スリツトに
結像するため、前記凹面ミラーが光源と第1回折
格子の間に挿入される特許請求の範囲第1項記載
のダブルモノクロメータ。 4 前記第1回折格子が前記光源からの発散光路
に配置され、前記凹面ミラーが前記格子から出る
発散光線を受け、この光線を収れんして前記第2
ステージ入口スリツトに結像させるように配置さ
れている特許請求の範囲第1項記載のダブルモノ
クロメータ。 5 第1回折格子および凹面ミラーが、第1回折
格子から第2ステージ入口スリツトへの像距離が
比S/W〔Sは光源の像の幅、Wは像面へ収れん
する光束の開き角を表わす。〕を超えない量で変
化するように第1ステージに配置されている特許
請求の範囲第3項または第4項記載のダブルモノ
クロメータ。 6 前記第1回折格子が前記第2回折格子の溝の
距離の約10倍の溝の距離を有するように形成され
る特許請求の範囲第5項記載のダブルモノクロメ
ータ。 7 前記第1回折格子の溝の距離が約1/144mmで
ある特許請求の範囲第6項記載のダブルモノクロ
メータ。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2730613A DE2730613C3 (de) | 1977-07-07 | 1977-07-07 | Doppelmonochromator |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5420749A JPS5420749A (en) | 1979-02-16 |
| JPS6132606B2 true JPS6132606B2 (ja) | 1986-07-28 |
Family
ID=6013306
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8186878A Granted JPS5420749A (en) | 1977-07-07 | 1978-07-05 | Double monochrometer |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4371263A (ja) |
| JP (1) | JPS5420749A (ja) |
| DE (1) | DE2730613C3 (ja) |
| FR (1) | FR2396962A1 (ja) |
| GB (1) | GB2000603B (ja) |
| NL (1) | NL7806587A (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5750623A (en) * | 1980-09-12 | 1982-03-25 | Hitachi Ltd | Spectral irradiation apparatus |
| JPS5756725A (en) * | 1980-09-22 | 1982-04-05 | Shimadzu Corp | Double monochromator |
| JPS5789585A (en) * | 1980-11-21 | 1982-06-03 | Hiroaki Funahashi | Flexible arm |
| JPS57161534A (en) * | 1981-03-31 | 1982-10-05 | Hitachi Ltd | Device for spectroscopic analysis |
| DE3113984C2 (de) * | 1981-04-07 | 1983-12-01 | Bodenseewerk Perkin-Elmer & Co GmbH, 7770 Überlingen | Doppelmonochromator |
| JPS5887431A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-25 | Hitachi Ltd | 複分光器 |
| FI75047C (sv) * | 1982-05-11 | 1988-04-11 | Scanoptics Oy | Anordning för utförande av spektralanalys. |
| DE3224736A1 (de) * | 1982-07-02 | 1984-01-05 | Bodenseewerk Perkin-Elmer & Co GmbH, 7770 Überlingen | Gitterspektrometer |
| JPS60207018A (ja) * | 1984-03-30 | 1985-10-18 | Shimadzu Corp | モノクロメ−タ |
| CA1229897A (en) * | 1984-12-03 | 1987-12-01 | Gilbert M. Levy | Optics system for emission spectrometer |
| JPS63144985A (ja) * | 1986-12-09 | 1988-06-17 | 工業技術院長 | 把持機構 |
| DE3937599C2 (de) * | 1989-11-11 | 2002-01-24 | Perkin Elmer Bodenseewerk Zwei | Doppelmonochromator |
| EP0558216A1 (en) * | 1992-02-24 | 1993-09-01 | Thermo Jarrell Ash Corporation | Spectrometry |
| US5515162A (en) * | 1992-06-26 | 1996-05-07 | Instruments Sa, Inc. | Low noise light source for forensic examination |
| US5455674A (en) * | 1992-06-26 | 1995-10-03 | Instruments Sa, Inc. | Method and apparatus for forensic examination of surfaces |
| GB9419757D0 (en) * | 1994-09-30 | 1994-11-16 | Lynxvale Ltd | Wavelength selective filter and laser including it |
| US6583874B1 (en) * | 1999-10-18 | 2003-06-24 | Komatsu, Ltd. | Spectrometer with holographic and echelle gratings |
| US11385101B2 (en) | 2018-04-25 | 2022-07-12 | National Research Council Of Canada | High resolution and high throughput spectrometer |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3418051A (en) * | 1964-09-08 | 1968-12-24 | Perkin Elmer Corp | Monochromator system with selective diffraction grating system |
| US3472595A (en) * | 1965-06-15 | 1969-10-14 | Shimadzu Corp | Diffraction grating spectrophotometer |
| GB1129685A (en) * | 1965-10-22 | 1968-10-09 | Parsons & Co Sir Howard G | Improvements in and relating to grating monochromators |
| US3431054A (en) * | 1965-10-29 | 1969-03-04 | Bausch & Lomb | Monochromator device |
| US3472596A (en) * | 1967-01-03 | 1969-10-14 | Hirsch I Mandelberg | Double monochromator |
| JPS5039693Y1 (ja) * | 1970-02-25 | 1975-11-14 | ||
| US3817633A (en) * | 1972-08-08 | 1974-06-18 | J White | Spectroradiometric apparatus and method for measuring radiation |
| GB1370414A (en) * | 1973-01-12 | 1974-10-16 | Zeiss Jena Veb Carl | Monochromators |
| JPS5028758U (ja) * | 1973-07-09 | 1975-04-02 | ||
| JPS5539677Y2 (ja) * | 1973-08-08 | 1980-09-17 | ||
| US3865490A (en) * | 1973-08-29 | 1975-02-11 | Mc Donnell Douglas Corp | Filter spectrograph |
-
1977
- 1977-07-07 DE DE2730613A patent/DE2730613C3/de not_active Expired
-
1978
- 1978-06-19 NL NL7806587A patent/NL7806587A/xx not_active Application Discontinuation
- 1978-06-23 GB GB7827690A patent/GB2000603B/en not_active Expired
- 1978-07-05 FR FR7820583A patent/FR2396962A1/fr active Granted
- 1978-07-05 JP JP8186878A patent/JPS5420749A/ja active Granted
- 1978-07-06 US US05/922,405 patent/US4371263A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2000603B (en) | 1982-03-03 |
| JPS5420749A (en) | 1979-02-16 |
| FR2396962B1 (ja) | 1983-02-11 |
| DE2730613A1 (de) | 1979-01-11 |
| DE2730613C3 (de) | 1980-04-03 |
| FR2396962A1 (fr) | 1979-02-02 |
| US4371263A (en) | 1983-02-01 |
| DE2730613B2 (de) | 1979-07-26 |
| NL7806587A (nl) | 1979-01-09 |
| GB2000603A (en) | 1979-01-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6132606B2 (ja) | ||
| US5285255A (en) | Optical system for spectral analysis | |
| US4634276A (en) | Slit imaging system using two concave mirrors | |
| US3011391A (en) | High speed plane grating spectrograph and monochromator | |
| US8873048B2 (en) | Spectrometer arrangement | |
| JPH04220537A (ja) | 2元分光計 | |
| US4455087A (en) | Monochromatic imaging apparatus | |
| US4690559A (en) | Optical system for spectral analysis devices | |
| JPS634127B2 (ja) | ||
| US3069967A (en) | Apparatus employing stationary optical means and diffraction grating | |
| US3306158A (en) | Grating spectroscopes | |
| US6646739B2 (en) | Four-stage type monochromator | |
| US3069966A (en) | Optical apparatus employing diffraction grating | |
| CN101802572B (zh) | 光谱计装置 | |
| US4850706A (en) | Low profile spectral analysis system | |
| US2874608A (en) | Monochromator optical system | |
| JPH02216019A (ja) | モノクロメータ | |
| JPH044537B2 (ja) | ||
| US4289401A (en) | Optical system for spectral devices | |
| US3567322A (en) | Spectrometer | |
| JPH08145795A (ja) | 複単色計 | |
| US2669899A (en) | Monochromator | |
| US4140399A (en) | Monochromator for simultaneous selection and utilization of two wave-lengths | |
| US3664742A (en) | Monochromator slit systems | |
| US3915571A (en) | Monochromator with rotatable lens |