JPS6134094A - ガス噴射装置 - Google Patents

ガス噴射装置

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JPS6134094A
JPS6134094A JP10806985A JP10806985A JPS6134094A JP S6134094 A JPS6134094 A JP S6134094A JP 10806985 A JP10806985 A JP 10806985A JP 10806985 A JP10806985 A JP 10806985A JP S6134094 A JPS6134094 A JP S6134094A
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inner liner
injection device
gas injection
high pressure
parallel
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JP10806985A
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アナタリー・エイブラハム・オストローヴ
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KUULE UOOTAA KOOLE GASUIFUIKEI
KUULE UOOTAA KOOLE GASUIFUIKEISHIYON PUROGURAMU
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KUULE UOOTAA KOOLE GASUIFUIKEI
KUULE UOOTAA KOOLE GASUIFUIKEISHIYON PUROGURAMU
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明のＷ、Ω］ 本発明の分野は、ガス噴射装置、より詳細には内張り槽
内にクエンチガスを噴射するためのガス＠射装詔に係る
。
高温ガスを処理ツる際には、高温ガス流内にクエンチガ
スを鳴＠づ゛ることがしばしば必要である。
クエンチガスの噴射が必要なプロセスの一例は、〜ノ 石炭ガス化プロセスである。６友化プロセスでは、耐火
性内張りガス槽内で石炭スラリを部分的に酸化し、ガス
と、１１及び溶融スラグがら構成される残留物とを生成
する。耐火内張りガス化槽から放出された高温ガスは、
溶融スラグが少なくとも部分的に凝固し且つまだ粘＠性
であるような点まで輻射ボイラ内で冷却される。クエン
チガスは、粘着性残留物が石炭ガスから容易に分離され
得る温度まで該残留物　　　　　　　　　−−゛　　を
冷却するために使用される。
クエンチガスは、微粒子状残留物の分離を助長する以外
に、ガス自体の温度を低下させる機能をも持っている。
石炭ガスの温度が８００°Ｆから２５００下の範囲なの
で、このプロセスで使用される槽及びダクトはいずれも
、ガス化槽では耐火材、輻射冷却器では氷壁により内張
すされている。内張り槽内へのクエンチガスの噴射に伴
う問題により、石炭ガス製造業者にとってこのステップ
をブ［１セスに加えることは困難ｃあった。
該梢にライナを設ける目的のひとつは、槽壁が石灰ガス
に付随する高温を受けないようにすることである。従っ
て、ライナは必然的にｊ／ａ壁よりも高い２！！痕と広
い温度変化とを受・プる。このため、ライナは、内側ラ
イナが槽壁と無関係に膨張及び収縮できるように配置さ
れる。独立した熱膨張及び収縮を畳るためには、高温気
体流にクエンチガスを噴射するための１段を備えるとい
う問題が生じる。、噴射を行うためには、ダクトを槽壁
に関連させ、槽壁と内側ライナとの間の間隙にダクトを
架渡し、該ダクトを内側ライナに装着する必要がある。
この構成において、供給ダクトは、槽壁から独立した内
側ライナの収縮及び膨張により生じた外部熱応力を加え
られ、更に、ライナが槽壁よりも高温ぐあるためにダク
トの一端が他端より高ｒ＝ｉになると、該ダクトは内部
熱応力を受ける。
クエンチガスを高温石車ガス内に噴射させる過程で、別
の問題が生じる。クエンチガスを有効に噴射させるため
には、クエンチガスと高温石車ガスとが適当に混合され
るようにガスを噴射しなければならない。高温石炭ガス
流に垂直にクエンチガスを噴射することをにより最良の
混合が管られると認められている。高温石炭ガスを処１
’ｌ！づる槽が内張すされているので、径方向に噴射す
ると、−・般に内側ライナの一体性の破壊が生じる。Ｌ
１泉ガス内にガスを噴射できるようにライナ内に間隙が
形成されるので、−・体性は破壊される。噴射点に間隙
を形成するか又は噴射点のライナな除去すると、槽壁が
高温粗石炭ガスを受けるので、この解決法は不適当であ
る。間隙を最小化し、ライフの−・体性を保持しようと
すると、取付部品及びヘッダの個数が増加する。余分な
取付部品及びヘッダは内側ライナの位置欠陥点を増加さ
せるので、ライナの取付部品及びヘッダの個数の増加は
、適当な解決法ではない。
これらの問題により、石灰ガス製造業者は、操作上の問
題となるクエンチガスの噴射を〕］程から除去するか、
又は高保守性をもたらす内側ライナを除去するような噴
射方法を採用している。
１発明の要約］ 本発明は、内側ライナを有する槽内で処理されている高
温気体流内にクエンチガスを噴射する型のガス噴射装置
に係る。
内側シイナを有する槽にクエンチガスを径り向に噴射さ
せるために、装置は内側ライナの独立した膨張及び収縮
を可能にし、しかも内側ライブの一体性を維持できるよ
うに構成する必要がある。
本発明のガス噴射装置は、上記目的を達成するために、
膨張性供給ダクトと高圧アセンブリとを使用する。膨張
個供給ダクｌ〜は、内側ライナの独立した熱膨張及び収
縮が、ダクトに過度の内部及び外部熱応力を加えないよ
うに、構成されている。
膨張性供給ダクトと内側ライナとの間に界面を形成する
高圧アセンブリは、内側ライナに封着されている。高圧
アセンブリの直下のライナに開口部を設けることにより
、クエンチガスを石炭ガス流に垂直に噴射することがで
きる。該装着方法及び開口部の配置により、ライナにヘ
ッダ又は取付部品を伺加する必要なしに、内側ライナの
一体性を保持することが可能になる。
該装置は、石炭ガス化プｎセスで利用りる場合、石炭ガ
ス及び粒子残留物を冷却Ｊるクエンチガスを噴射するこ
とができ、内側ライナの−・体ヤ１を保持しながら、プ
ロセスの操作性を向上することができる。従って、クエ
ンチガス（よ、装置に加えられる有害な熱応力を避は且
つ槽壁を保護しながら、内張り槽の内側ライナ壁に垂直
に噴射され得る。
従って、本発明の目的は、装置に加わる熱応力を最小化
し且つ内側ライナの−・体性を保持づるような、内張り
槽内にクエンチガスを噴ｔｓｔｔ’るためのガス嗅ｔＡ
装置を提供することにある。他の目的及び利点は、以下
に明示される。
［好適具体例の詳細な説明コ 第１図は、高温ガスを処理するための槽の一部を示して
おり、該部分は、槽壁１０と、所定の間隔を隔てて配置
された内側ライナ２０とから構成されている。内側ライ
ナ２０は、シリンダ２３（第２図）を形成しているウェ
ブ部ｖＪ２２により径方向ｔこ相互に結合された一連の
平行管２１から構成されている。
図例のガス唱ｎ−１装冒は、水平方向に流れるガス流に
クエンチガスを噴＠するｌこめに使用される場合を丞し
ているが、該装置（よ任意の方向に流れるガス流にクエ
ンチガスを噴射するために使用され得る。１もに、高温
ガス及び伴出粒子固体流が部用冷却器内を下方向に流れ
ている間、及びガスが後述Ｊる水平方向チャネルに転向
される依然に、該高温ガス及び伴出粒子固体を冷）Ａ　
ｌ、ようとする場合、ガス唱用装置（ま、鉛直方向ガス
流システムの幾何学的要請により必要に応じて変更され
るが実質的には以下に記載するように、放射状断面の底
部に近接しで配置され得る。
高圧アセンブリ３０は、内側ライナ２０の一体性が保た
れるように内側ライナ２０の外側表面２５に１・１名さ
れている。高圧アレンブリ３０の下方領域には、間口部
又は本具体例ではスロワ］〜２４が、内側ライナ２０の
ウェブ部（第２２に形成されている。箆・２１にｉ１７
行に配置されているスロット２４は、クエンチガスが低
い差圧で高温ガス流に垂直に噴射されａするように段目
されている。高圧アセンブリ３０は、シリンダ２３の外
側表面２５の曲率に従って形成された頂部３１を備えて
いる。頂部３１は、側壁を介してライナ２０に装着され
ている。
第１の２個の側壁３１（第１図）は相互に平行であり、
平行管２１の長手方向軸に垂直な外側表面に装着された
２個の側壁である。第１の２個の側壁３７は、好ましく
は各素子のアセンブリから構成されでいる。バー３３は
、頂部３１に溶着された一端部と、」−谷部３４に溶着
された他端部とを右している。
上唇部３４は、下唇部３５に固定されている。下唇部３
５は、スノノラツブ形セグメント３６に溶着されている
。スカラップ形しグメントホ３６は、内側ライナ２０の
外側表面２５に適合するべく形成された］・縁部を右す
る弓形セグメントである。このために、スカラップ形セ
グメン１−３６の底縁部に沿って、平行管２１と同一の
半径を右する半円が裁断されている。
該底縁部は更に、内側ライナ２０の外側表面２５に溶ｒ
１され、高圧アレンブリ３０を内側ライナ２０に封着し
ている。
高圧アレンブリ３０がシリンダ２３を完全に包囲しない
場合、第２の２個の側壁３２（ｉ）が必要である。第２
の２個の側壁３２は、スカラップ形セグメン１−３６が
不要であるという相違点を除いて第１の２個の側壁３７
と同様の各素子のアセンブリがら構成されている。第２
の２個の側壁３２は、平行管２１の長手方向軸と平行に
配置されており、相ｎに平行である。第２の２個の側壁
３２が平行管２１の長手方向軸に平行に配置されている
ので、下唇部３５は、スカラップ形セグメント３６の必
要なしに高圧アセンブリ３０の周囲に必要なシールを形
成覆る２個の隣接管２６及び２７の頂部に直接溶着され
得る。
高圧アセンブリ３０及び槽壁１０には、膨張ゼＩ供給ダ
クト４０が装着されている。膨張性供給ダクト４０の内
側端部４１は、高圧アセンブリ３０の頂部３１及び内側
ライナ２０に垂直に封着されている。膨張性供給ダクト
４０の外側端部４２は、槽壁１０を型内方向に貫通して
おり、槽壁１０に永久的に装着されたノズル１１の内側
に永久的に装着される。次に、ノズル１１にはガス噴射
口１２が取外し可能に装着され得る。
膨張性供給ダクト４０は、内側ライナ２０と槽壁１０と
の間のスペースに配置されている。外側端部４２ど内側
部４１どはスプール部材Ｃ４３により連結されている。
スプール部材４３の長手り内軸は、内側ライブ２０及び
槽壁１０に平行である。この構成は、それぞれ膨張＋１
供給ダクト４０の内側端部４１及び外側端部４２に２個
の直角曲管を形成することにより得られる。
スプール部材４３は、２個のベローズ部分４４から構成
されでいる。ベローズ部分４４は、ガスケット式−」ネ
クタ４５により内側端部４１及び外側端部４２に装着さ
れている。該ガスケツ１〜式コネクタ４５は、２個のフ
ランジ間の熱抵抗性ガスケットから構成されている。
従って、本願は、内張り槽内の高温ガス流にりＪンチガ
スを噴射するためのガス噴）］装装置を開示するもので
ある。当業省であれば、図示及び上記記載の本発明の具
体例及び適用例が、本発明開示の概念から逸脱せずに可
能な多くの変型のごく一部に過ぎないものと理解されよ
う。従って゛、本発明は、特許請求の範囲の記載以外に
よつＣ限定されることはない。
【図面の簡単な説明】
第１図はガス噴射装置の概略図、第２図は２個のガス娼
射装置を示づｍｍ１図の２−２８の断面図である。 １０・・・・・・槽壁、１１・・・・・・ノズル、２０
・・・・・・内側ライナ、２１・・・・・・平行管、２
２・・・・・・ウェブ部材、２３・・・・・・シリンダ
、２４・・・・・・スロット、３０・・・・・・高圧ア
センブリ、４０・・・・・・供給ダクト、４３・・・・
・・スプール部材。 ＄１１人　　？−１しヤイ−７−コー１し　リ）耐７１
γイシタ／７１０γう４電人弁理士川　口　義　雄

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）槽壁を有する内張り槽に使用されるガス噴射装置
    であつて、槽壁から間隔を設けて配置された内側ライナ
    と、内側ライナに封着された少なくとも１個の高圧アセ
    ンブリと、内側ライナの面と垂直にガスを噴射するため
    に高圧アセンブリの下方領域に設けられた該内側ライナ
    の開口部と、槽壁及び高圧アセンブリに装着された膨張
    性供給ダクトとを備えて成るガス噴射装置。
  2. （２）内側ライナが、シリンダを形成するべくウェブ部
    材により径方向に相互に結合された一連の平行管を備え
    ている特許請求の範囲第１項に記載のガス噴射装置。
  3. （３）膨張性供給ダクトが、外側端部と内側端部とスプ
    ール部材とを含んでおり、外側部が槽壁を貫通しており
    、内側端部が高圧アンプリに流体的に装着されており、
    スプール部材が外側端部と内側端部とを連結している特
    許請求の範囲第１項に記載のガス噴射装置。
  4. （４）膨張性供給ダクトが、外側端部が槽壁を垂直方向
    に貫通するように形成されており、スプール部材の長手
    方向軸が内側ライナに平行であり、内側端部が内側ライ
    ナに対して垂直となるように高圧アセンブリに装着され
    ている特許請求の範囲第３項に記載のガス噴射装置。
  5. （５）槽壁を有する内張り槽で使用されるガス噴射装置
    であつて、槽壁から間隔を設けて配置されており、外側
    表面を有するシリンダを形成するべくウェブ部材により
    径方向に相互に結合された一連の平行管を含んでいる内
    側ライナと、該外側表面に封着された少なくとも１個の
    高圧アセンブリと、ガスが内側ライナの面に垂直に噴射
    され得るように高圧アセンブリの下方領域に設けられた
    該内側ライナの開口部と、横壁を貫通しており、外側端
    部と、高圧アセンブリに垂直に封着された内側端部と、
    長手方向軸が内側ライナに平行になるように外側端部と
    内側端部とを連結しており、少なくも１個のベローズ部
    分を含むスプール部材とを有する膨張性供給ダクトとを
    備えて成るガス噴射装置。
  6. （６）高圧アセンブリが、内側ライナの外側表面と同一
    の曲率を有しており、平行管の長手方向軸に垂直な該外
    側表面に装着された少なくとも２個の側壁により内側ラ
    イナに封着された頂部を備えている特許請求の範囲第５
    項に記載のガス噴射装置。
  7. （７）側壁が相互に平行に配置されており、下唇部に取
    外し可能に装置された上唇部と、頂部と上唇部との間に
    永久的に装着されたバーと、内側ライナの外側表面の周
    囲に適合するように形成されており、下唇部と内側ライ
    ナの外側表面との間に永久的に装着されたスカラップ形
    セグメントとを備えている特許請求の範囲第６項に記載
    のガス噴射装置。
  8. （８）高圧アセンブリが、内側ライナの外側表面と同一
    の曲率を有しており且つ第１の２個の側壁と第２の２個
    の側壁とにより内側ライナに封着されている頂部を備え
    ている特許請求の範囲第５項に記載のガス噴射装置。
  9. （９）第１の２個の側壁が、相互に平行に配置されてお
    り、平行管の長手方向軸に垂直な外側表面に装置されて
    おり、下唇部に取外し可能に装着された上唇部と、頂部
    と上唇部との間に永久的に装着されたバーと、内側ライ
    ナの外側表面の周囲に適合するべく形成されており且つ
    下唇部と内側ライナの外側表面との間に永久的に装着さ
    れたスカラップ形セグメントとを備えている特許請求の
    範囲第８項に記載のガス噴射装置。
  10. （１０）第２の２個の側壁が、相互に平行に配置されて
    おり、平行管の長手方向軸に平行な該外側表面に装置さ
    れており、内側ライナの外側表面に封着された下唇部に
    取外し可能に装着された上唇部と、頂部と上唇部との間
    に永久的に装着されたバーとを備えている特許請求の範
    囲第８項に記載のガス噴射装置。
  11. （１１）外側端部がノズルに永久的に装着されており、
    該ノズルが槽壁に永久的に装着されている特許請求の範
    囲第５項に記載のガス噴射装置。
  12. （１２）ベローズ部分が、ガスケット式コネクタにより
    第１及び第２の端部に取外し可能に装着されている特許
    請求の範囲第５項に記載のガス噴射装置。
  13. （１３）開口部が、内側ライナの面に垂直となるように
    シリンダにガスを噴射するべく平行管に平行な高圧アセ
    ンブリの下方のウェブ部材に設けられたスロットである
    特許請求の範囲第５項に記載のガス噴射装置。
JP10806985A 1984-05-21 1985-05-20 ガス噴射装置 Pending JPS6134094A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
US612549 1984-05-21
US06/612,549 US4584180A (en) 1984-05-21 1984-05-21 Gas injection apparatus

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JPS6134094A true JPS6134094A (ja) 1986-02-18

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10806985A Pending JPS6134094A (ja) 1984-05-21 1985-05-20 ガス噴射装置

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US (1) US4584180A (ja)
JP (1) JPS6134094A (ja)
DE (1) DE3518061A1 (ja)

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