JPS6134861B2 - - Google Patents

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JPS6134861B2
JPS6134861B2 JP57150174A JP15017482A JPS6134861B2 JP S6134861 B2 JPS6134861 B2 JP S6134861B2 JP 57150174 A JP57150174 A JP 57150174A JP 15017482 A JP15017482 A JP 15017482A JP S6134861 B2 JPS6134861 B2 JP S6134861B2
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organic
weight
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carbonyl
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JP57150174A
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Erupenbatsuha Haintsu
Geeruman Kurausu
Rooku Uinfuriito
Purintsu Peetaa
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Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
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Publication of JPS6134861B2 publication Critical patent/JPS6134861B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、周期律第族の貴金属のカルボニル
鎖体、有機活性剤として第4ヘテロ環式芳香族窒
素化合物または第4有機リン化合物、場合により
無機活性剤としてカルボニル形成性非貴金属の化
合物、蒸溜不可能な有機不純物並びに酢酸、無水
酢酸およびエチリデンジアセテートを含有する、
酢酸メチルおよび/またはジエチルエーテルのカ
ルボニル化の際に生じる汚染した触媒溶液を精製
し、かつ回収する方法に関する。
残分で汚染された触媒系または塔底製品からロ
ジウム−もしくはロジウムカルボニル錯体を回収
することは主としてヒドロホルミル化法で公知で
ある。西ドイツ国特許第1290535号明細書ではヒ
ドロホルミル化のロジウム含有塔底製品を高めた
温度で水性有機酸で処理し、その際ロジウム錯体
は溶液となり、かつ有機相と分離される。その際
ロジウム収率82〜94%が達成される。
西ドイツ国特許出願公告第1295537号明細書で
はロジウム含有反応塔底製品が2〜31バールおよ
び100〜250℃の水蒸気で処理される。この手段に
より触媒が分解され、かつ生じるロジウムスラツ
ジ(これ自体ではカルボニル化工程で再使用でき
ない)が加圧濾過により得られる。
ロジウム回収もしくは触媒再生の他の方法は西
ドイツ特許出願公開第2448005号および同第
2614799号明細書に記載されている。その際ヒド
ロホルミル化からの汚染した塔底製品はロジウム
−もしくはイリジウムカルボニル錯体の破壊およ
び残分の分解のために先ず酸素含有鉱鉄およびペ
ルオキシドの処理にかけられる。過剰のペルオキ
シドの分解後金属塩水溶液は様々に後処理され
る。西ドイツ国特許出願公開第2448005号明細書
によれば、金属は水性ロジウム−もしくはイリジ
ウム塩溶液に水溶性有機溶剤、ハロゲン化水素酸
またはアルカリハロゲン化物並びに第3ホスフイ
ンを添加後0〜150℃で一酸化炭素で1〜250バー
ルでまたは付加的に水素化条件下においてロジウ
ム−もしくはイリジウムカルボニル錯体として溶
液から析出される。西ドイツ国特許出願公開第
2614799号明細書によれば水溶液からロジウム+++
がカチオン交換体に吸着され、次いで塩酸で脱着
される。塩酸溶液から第3ホスフインの添加およ
びCOおよび場合により水素での処理後ロジウム
がカルボニル錯体として沈澱する。
前記の方法は酢酸メチルまたはジメチルエーテ
ルのカルボニル化(例えば西ドイツ国特許出願公
開第2450965号、同第2836084号、同第2939839号
または同第2941232号明細書の方法による)の際
に生じる汚染した触媒溶液を精製し、これから貴
金属カルボニル錯体(Rh、Ir、Pd、Rn)および
その活性剤を回収するために使用することができ
ない。前記のカルボニル化反応で使用される触媒
溶液は貴金属カルボニル錯体0.1〜10重量%、有
機活性剤40〜70重量%、蒸溜不可能な有機不純物
1〜10重量%および酢酸、無水酢酸およびエチリ
デンジアセテート20〜40重量%から成る。この組
成は触媒溶液が80重量%までの蒸溜不可能な物質
を含有する場合があることを示す。揮発性成分の
蒸溜による貴金属カルボニル錯体の酸化分解は同
時に前記の有機活性剤分の分解を意味しようか
ら、これにより触媒後処理の利用は初めから疑問
視されよう。
残分の水性有機酸での処理も不利である、それ
というのもこの場合貴金属カルボニル錯体の他に
大量の蒸溜不可能な有機不純物も溶液になり、触
媒と活性剤を分離できないからである。
高温での水蒸気による触媒の分解は元素の形状
の貴金属を与え、これは高い経費をかけてのみ活
性の触媒錯体に戻すことができる。しかしその上
に同時に水に不溶の有機残分も析出し、これは元
素の貴金属から分離できない。
本発明は前記の欠点を回避し、蒸溜法および抽
出法を用いて酢酸メチルおよび/またはジメチル
エーテルのカルボニル化の際に使用され、かつ工
程の経過で汚染された触媒溶液を、蒸溜不可能な
有機不純物の除去下に貴金属カルボニル錯体並び
にその活性剤を触媒循環に再供給し得るように後
処理することを可能にする方法を記載する。それ
と並んで公知の後処理方法に比べて後処理に使用
される抽出剤の循環により廃物による大きな環境
汚染が回避される。単に工程中で反応経過によつ
て形成される蒸溜不可能な不純物のみが取出さ
れ、かつ公知技術により、例えば焼却により除く
ことができる。
本発明による方法は、触媒溶液から揮発性成分
を溜去し、残留する固体の蒸溜残分から各アルキ
ル基が炭素原子1〜4個を有するアルキルエーテ
ルで抽出することにより有機不純物を除き、かつ
溶けずに残つた、貴金属カルボニル錯体および有
機活性剤から成り、無機活性剤を含有していても
よい混合物を濾取し、乾燥し、かつカルボニル化
反応に戻すことにより成る。
本発明の方法は更に有利に、かつ選択的に次の
実施形より成る: (a) 蒸溜残分のエーテルでの処理を30〜90℃で行
なう; (b) 蒸溜残分重量部当りエーテル50〜200重量部
を使用する: (c) 固体の蒸溜残分をジエチルエーテルまたはジ
イソプロピルエーテルまたはジブチルエーテル
で抽出する。
汚染した触媒溶液の由来については次のことが
いえる:カルボニル化反応器から出た反応混合物
は蒸溜により一方において所望の最終生成物、特
に無水酢酸、酢酸および/またはエチリデンジア
セテートおよび未反応の循環で案内される出発物
質並びに他方において塔底製品とて生じる触媒溶
液に分離される。時間経過とともに汚染される触
媒溶液の部分流を循環から取出し、かつ本発明に
より蒸溜により有利に100〜120℃および1〜100
ミリバールで揮発性成分、例えば酢酸、無水酢酸
およびエチリデンジアセテートを除く。
汚染した触媒溶液は貴金属として一般にロジウ
ム、イリジウム、パラジウムおよび/またはルテ
ニウムを含み、これらはカルボニル錯体、例えば
〔CH3P(O4H932Rh(CO)I5またはCH3P
4H93Rh(CO)2I2として存在する。更に触媒溶
液は有機活性剤として有利に次のヘテロ環式芳香
族窒素化合物または有機リン化合物1種以上を含
有する: 1 N−メチルピリジニウムヨージド、N・N−
ジメチルイミダゾリウムヨージド、N−メチル
−3−ピコリニウムヨージド、N−メチル−
2・4−ルチジニウムヨージド、N−メチル−
3・4−ルチジニウムヨージド、N−メチル−
キノリニウムヨージド; 2 トリ−n−ブチル−メチルホスホニウムヨー
ジド、トリオクチル−メチル−ホスホニウムヨ
ージド、トリラウリル−メチル−ホスホニウム
ヨージド、トリフエニル−メチル−ホスホニウ
ムヨージド。
最後に触媒溶液は無機活性剤としてカルボニル
形成性非貴金属Ce、Ti、Zr、Hf、Ge、Sn、Pb、
V、Nb、Ta、Ag、Sb、Bi、Cr、Mo、W、Mn、
Re、Fe、Co、Niの化合物を含んでいてよい。
次いで残留蒸溜残分を各アルキル基が炭素原子
1〜4個を有するアルキルエーテルで30〜90℃で
抽出する。その際反応で形成される蒸溜不可能な
有機不純物が蒸溜残分から唯一の方法工程で溶出
し、他方貴金属カルボニル錯体は活性剤とともに
溶けずに残分として残る。貴金属カルボニル錯体
および活性剤は付着しているエーテル除去後予め
蒸溜により除去した揮発性成分、すなわち酢酸、
無水酢酸及びエチリデンジアセテートと再び一緒
にして同成分中に溶かし、次に精製触媒溶液とし
て再びカルボニル化工程に戻す。もちろんまた精
製触媒の付加的溶剤として例えば酢酸メチルも使
用してよい。エーテル相に溶けた蒸溜不可能な有
機不純物はエーテル除去後燃焼装置で焼却し、他
方エーテルは次の抽出に再使用することができ
る。本発明の方法は連続的並び非連続的な操作方
法で実施することができる。
例 1 酢酸メチルカルボニル化の、ロジウムカルボニ
ル錯体:[CH3P(C4H932Rh(CO)I5、有機
活性剤としてトリ−n−ブチルメチルホスホニウ
ムヨージド、無水酢酸、酢酸並びにエチリデンジ
アセテートおよび有機不純物から成る触媒循環か
ら触媒溶液250gを取出し、かつ約2ミリバール
の減圧下並びに120℃までの缶温度で蒸溜可能な
部分を除く。その際溜出物(酢酸25.8重量%、無
水酢酸73.8重量%およびエチリデンジアセテート
0.4重量%)81.5(32.6重量%)およびロジウム
0.433gおよびトリ−n−ブチルメチルホスホニ
ウムヨージド(触媒溶液250gに対してRh−カル
ボニル錯体2重量%およびTBMPJ58.3重量%)
145.71gを有する蒸溜残分168.5gが得られる。
蒸溜残分を磨砕し、かつ蒸溜不可能な有機不純物
を除去するためにソツクスレー装置(soxhlet−
Apparat)でジイソプロピルエーテル500mlを用
いてエーテルの沸騰温度で抽出する。3〜5時間
の抽出および引続く乾燥の後エーテルに不溶の残
分は152gと測定される。そのロジウム含量は
0.430gである。したがつてエーテルに不溶の残
分は精製工程で使用されるロジウムカルボニル錯
体殆ど全量並びに有機活性剤を含有し、かつそれ
自体として再び反応に使用することができる。ジ
イソプロピルエーテル相を蒸発濃縮し、その際ロ
ジウムを0.012重量%含有し、有機活性剤を含ま
ない、蒸溜不可能な有機不純物16g(触媒溶液
250gに対して6.4重量%)がフラスコ中に残留
し、これから精製工程に関してロジウム収率99.5
%が計算される。溜去されたエーテルは次の精製
に再使用される。
例 2 ジメチルエーテルカルボニル化の、無水酢酸、
酢酸、エチリデンジアセテート、ロジウムカルボ
ニル錯体:[CH3P(C4H93]Rh(CO)2I2、トリ
−n−ブチルメチルホスホニウムヨージドおよび
蒸溜不可能な有機不純物から成る触媒循環から触
媒溶液250gを取出す。2ミリバールの減圧下お
よび120℃までの缶温度で蒸溜可能な部分を分離
する。その際使用された触媒溶液から溜出物72g
(28.8重量%)(酢酸31重量%、無水酢酸68.6重量
%およびエチリデンジアセテート0.4重量%)お
よびロジウム1.718およびトリ−n−ブチルメチ
ルホスホニウムヨージド156.3gを有する蒸溜残
分178g(触媒溶液250gに対してロジウムカルボ
ニル錯体4.35重量%およびTBMPJ62.5重量%)
が得られる。蒸溜残分を粉砕し、かつ蒸溜不可能
な有機不純物を除くためにソツクスレー装置内で
ジエチルエーテル500mlを用いてエーテルの沸点
で抽出する。3〜5時間の抽出、引続き乾燥後エ
ーテルに不溶の残分167.5gが得られる。ロジウ
ム含量は1.70gであり、収率99.0%に相当する。
エーテルに不溶の残分は精製工程で使用されたロ
ジウムカルボニル錯体殆ど全量並びに有機活性剤
を含有し、かつ反応に戻す。
ジエチルエーテル相を蒸発濃縮し、その際蒸溜
不可能な有機不純物10.29g(触媒溶液250gに対
して4.12重量%)がフラスコに残留する。分析に
よればこの残分は更にロジウム0.09重量%を含有
する。溜去したジエチルエーテルは次の試験で再
使用することができる。
例 3 酢酸メチルカルボニル化の、ロジウムカルボニ
ル錯体: N・N−ジメチルイミダゾリウムヨージド、蒸溜
不可能な有機不純物、酢酸、無水酢酸およびエチ
リデンジアセテートから成る触媒循環から触媒溶
液250gを取出す。2ミリバールの減圧下および
120℃までの缶温度で蒸溜可能な部分を除く。そ
の際使用した触媒溶液から溜出物64g(25.6重量
%)(酢酸29.3重量%、無水酢酸70.3重量%およ
びエチリデンジアセテート0.4重量%)並びにロ
ジウム0.525gおよびN・N−ジメチルイミダゾ
リウムヨージド161gを有する蒸溜残分186g(触
媒溶液250gに対してRh−カルボニル錯体1.96重
量%およびDMIJ64.4重量%が得られる。蒸溜残
分を粉砕し、かつ蒸溜不可能な有機不純物を除く
ためにソツクスレー装置でジエチルエーテル500
mlを用いてエーテルの沸点で抽出する。3〜5時
間の抽出および引続き乾燥の後エーテルに不溶の
残分167gが得られる。ロジウム含量は0.520gで
あり、収率99%に相当する。エーテルに不溶の残
分は精製工程で使用されたロジウムカルボニル錯
体の殆ど全量並びに有機活性剤を含み、かつ反応
に再び戻す。
ジエチルエーテル相を蒸発濃縮し、その際蒸溜
不可能な有機不純物19g(触媒溶液250gに対し
て7.6重量%)がフラスコに残留する。分析によ
ればこの残分はまだロジウム0.026重量%を含有
する。溜去されたエーテル相は次の抽出に利用さ
れる。
例 4 酢酸メチルカルボニル化の、パラジウムカルボ
ニル錯体:[CH3P(C4H93][Pd(CO)2I2]、有
機活性剤としてトリ−n−ブチルメチルホスホニ
ウムヨージド、蒸溜不可能な有機不純物、酢酸、
無水酢酸およびエチリデンジアセテートから成る
触媒循環から触媒溶液250gを取出し、かつ2ミ
リバールの減圧下並びに120℃までの缶温度で蒸
溜可能な部分を除く。その際溜出物80g(32重量
%)(酢酸51.9重量%、無水酢酸10重量%および
エチリデンジアセテート38.1重量%)およびパラ
ジウム0.85gおよびトリ−n−ブチルメチルホス
ホニウムヨージド152g(触媒溶液250gに対して
Pb−カルボニル錯体2重量%およびTBMPJ60.8
重量%)を有する蒸溜残分170gが得られる。蒸
溜残分を細砕し、かつ蒸溜不可能な有機不純物を
除去するためにソツクスレー装置でジイソプロピ
ルエーテル500mlを用いてエーテルの沸点で抽出
する。4時間の抽出および引続く乾燥の後エーテ
ルに不溶の残分159gが得られる。そのパラジウ
ム含量は0.84gであり、これは収率98.8%に相当
する。エーテルに不溶の残分は精製工程で使用さ
れたパラジウムカルボニル錯体殆ど全量並びに有
機活性剤を含み、かつ反応に再び使用される。
ジイソプロピルエーテル相を蒸発濃縮し、その
際Pb−含量0.03重量%を有する蒸溜不可能な有機
不純物11g(触媒溶液250gに対して4.4重量%)
がフラスコ中に残留する。溜去されたエーテルは
次の抽出に利用される。
例 5 ロジウムカルボニル錯体:〔CH3P(C4H93
〔Rh(CO)2I2〕、クロムヘキサカルボニルCr
(CO)6、トリ−n−ブチルメチルホスホニウムヨ
ージド、酢酸、無水酢酸、エチリデンジアセテー
ト及び蒸溜不可能な有機不純物から成るジメチル
エーテルカルボニル化触媒循環から、触媒溶液
250gを取出す。2ミリバールの圧力下及び120℃
までの缶温度で蒸溜可能な部分を除く。この際使
用した触媒溶液から、溜出物(酢酸28.2重量%、
無水酢酸71.2重量%およびエチリデンジアセテー
ト0.6重量%)59g(23.6重量%)、およびロジウ
ム2.06g、クロム8.21gおよびトリ−n−ブチル
メチルホスホニウムヨージド(=触媒溶液250g
に対して5.04重量%のRh−カルボニル錯体、13.9
重量%のクロムヘキサカルボニルおよび53.0重量
%のトリ−n−ブチルメチルホスホニウムヨージ
ド)132.5gが得られる。蒸溜残分を磨砕し、蒸
溜不可能な有機不純物を除去するために40℃でジ
ブチルエーテル500mlと接触させる。濾別および
濾過残分の乾燥後にエーテルに不溶の残分179.9
gが得られる。ロジウム含量は2.04gであり、ク
ロム含量は8.20gであつて、それぞれ99.0%およ
び99.9%の収率に相当する。エーテルに不溶の残
分は精製工程で使用されるほぼ全量のロジウムお
よびクロムならびに有機活性剤を含有する。前記
残分を、精製のために使用した汚染触媒溶液から
予め得られた蒸溜可能な部分59gと一緒にして、
80℃に加熱しながら同部分に溶かし、次いで反応
循環に再び戻す。ジブチルエーテル相を蒸発濃縮
すると、残分として、Rh0.10重量%およびクロ
ム0.03重量%を含有する蒸溜不可能な有機不純物
11.1g(触媒溶液250gに対して4.4重量%)が残
存する。溜去されたエーテルは新たな抽出のため
に使用する。本例によつて、蒸溜不可能な有機残
分で汚染されたロジウム−クロム−トリ−n−ブ
チルメチルホスホニウムヨージド−触媒系中のカ
ルボニリル形成性非貴金属クロム、ジブチルエー
テルでの抽出精製の際にエーテル相中に溶解しな
いことが判る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 周期律第族の貴金属のカルボニル錯体、有
    機活性剤として第4ヘテロ環式芳香族窒素化合物
    または第4有機リン化合物、蒸溜不可能な有機不
    純物並びに酢酸、無水酢酸およびエチリデンジア
    セテートを含有し、かつ無機活性剤としてカルボ
    ニル形成性非貴金属の化合物を含有していてもよ
    い、酢酸メチルおよび/またはジメチルエーテル
    のカルボニル化の際に生じる汚染した触媒溶液を
    精製し、かつ回収する方法において、触媒溶液か
    ら揮発性成分を溜去し、残留する固体の蒸溜残分
    から各アルキル基が炭素原子1〜4個を有するア
    ルキルエーテルで抽出することにより有機不純物
    を除き、かつ溶けずに残つた、貴金属カルボニル
    錯体および有機活性剤から成り、無機活性剤を含
    有していてもよい混合物を濾取し、乾燥し、かつ
    カルボニル化反応に戻すことを特徴とする、酢酸
    メチルおよび/またはジメチルエーテルのカルボ
    ニル化の際に生じる汚染した触媒溶液を精製し、
    かつ回収する方法。 2 蒸溜残分のエーテルでの処理を30〜90℃で行
    なう、特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 蒸溜残分重量部当りエーテル50〜200重量部
    使用する、特許請求の範囲第1項または第2項記
    載の方法。 4 固体の蒸溜残分をジエチルエーテルまたはジ
    イソプロピルエーテルまたはジブチルエーテルで
    抽出する、特許請求の範囲第1項から第3項まで
    のいずれか1項記載の方法。
JP57150174A 1981-08-31 1982-08-31 酢酸メチルおよび/またはジメチルエ−テルのカルボニル化の際に生じる汚染した触媒溶液を精製し、かつ回収する方法 Granted JPS5845743A (ja)

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DE3134347.3 1981-08-31

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